JP2005333111A - 半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置及びその方法 - Google Patents

半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置及びその方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005333111A
JP2005333111A JP2005083886A JP2005083886A JP2005333111A JP 2005333111 A JP2005333111 A JP 2005333111A JP 2005083886 A JP2005083886 A JP 2005083886A JP 2005083886 A JP2005083886 A JP 2005083886A JP 2005333111 A JP2005333111 A JP 2005333111A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
wafer cassette
guide
wafer
stepping motor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005083886A
Other languages
English (en)
Inventor
Jong-Haw Lee
鍾華 李
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2005333111A publication Critical patent/JP2005333111A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67775Docking arrangements
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/14Wafer cassette transporting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】 カセット支持部材にウェハカセットがローディングされるとき、ウェハが積載されたカセットのポジションを調節することができるウェハカセットポジション調節装置を提供する。
【解決手段】 半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置において、ウェハカセット20のローディング状態を感知して前記ウェハカセット20を指定された位置に移動させるためのモータ駆動信号を発生し出力する制御部と、前記制御部から出力されたモータ駆動信号により前記ウェハカセット20を指定された位置に移動させるカセット位置移動部と、を備える。
【選択図】 図2

Description

本発明は、半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置及びその方法に係るものであり、特に、カセット支持部材にウェハカセットがローディングされるとき、ウェハが積載されたカセットのポジションを調節するウェハカセットポジション調節装置及びその方法に関する。
一般に、枚葉式の半導体製造装置は、ウェハカセットと処理チャンバとの間でウェハ搬送ロボットによりウェハを1枚ずつ自動に搬送するようにしている。具体的には、プロセス開始のときにはウェハカセット支持部材上に載置されたウェハカセット内の各スロットからウェハを取り出して処理チャンバ内に搬入し、プロセス終了の時には処理済みのウェハを処理チャンバ内から搬出しウェハカセット中の各スロットに戻す。このようなウェハ搬送ロボットによるウェハの自動搬送をスムーズに行うため、ウェハカセット支持部材内にウェハカセットが所望の位置に正しく置かれたかどうかを検出する検出器を設置する。このような検出器としては接触スイッチなどのようにウェハカセットの有無を機械的に検出するものが一般的である。
しかし、接触スイッチなどのような機械的動作を伴う検出器は多少の発塵の可能性がある。ウェハカセット支持部材がクリーンルーム内に設置されることを考慮すると、そのような機器を使用するに当たってウェハカセットの有無などを高精密に検出することが好ましい。このようなウェハカセットの有無を高精密に検出する技術は特許文献1に開示されている。特許文献1に開示された技術を図4から図6に示す。
図4は一般のウェハカセット支持部材の一実施例を示す斜視図であり、図5は図4のウェハカセットの底面図であり、図6は図4のウェハカセット支持部材にカセットが載置された状態を示す平面図である。
図4から図6を参照すると、ウェハカセットの支持部材1は多数のウェハを収容したウェハカセット2を支持する。ウェハカセット2は人の手及びウェハの搬送ロボットにより運搬され、ウェハカセット支持部材1に載置される。
ウェハカセット2は一側(前方側)に開口部2aが形成された箱型形状を有し、前記開口部2aからウェハWが出し入れされる。ウェハカセット2の両内部壁には複数のウェハ支持用突出部3が上下方向に一定した間隔で設けられ、このウェハ支持用突出部3の上にウェハWのエッジ部が支持される。そして、各ウェハ支持用突出部3でウェハWを収容する複数のスロット4が形成される。ウェハカセット2の後面には1対の突出部5が設けられる。また、ウェハカセット2の下面には左右方向に延びる水平突起6が設けられる。
ウェハカセット支持部材1はステンレス鋼及びアルミニウムなどで形成されたベースプレート7を有する。前記ベースプレート7の上面にはウェハカセット2をベースプレート7上の所望の位置に位置決めするための樹脂製の四つの位置決め用ガイド部8が設けられる。
各位置決め用ガイド部8は、図6に示すように、ウェハカセット2における前方左端部の内壁面F1、前方右端部の両壁面Fr、後方左端部(左側の突出部5)の内壁面R1、後方右端部(右側の突出部5)の内壁面Rrをそれぞれガイドするように構成される。このように四つの位置決め用ガイド部8でウェハカセット2をガイドすることで、ベースプレート7のスペース効率を損なうことなく、ウェハカセット2をベースプレート7上の所定位置に位置決めできる。
各位置決め用ガイド部8の外側(ウェハカセット2をガイドする側)の上部角部には面取り部8aが形成され、ウェハカセット2をガイドしやすい構造となっている。また、そのような面取り部8aを設けることで、ウェハカセット2をベースプレート7上に置く時にウェハカセット2が位置決め用ガイド部8に当たって損傷することを防止できる。
また、ベースプレート7の上面の中央部にはカセット拘束用ガイド部9が設けられている。このカセット拘束用ガイド部9にはウェハカセット2の下面に設けられた線状突起6と係合する坐繰り10が形成される。この坐繰り10にウェハカセット2の線状突起6が嵌まり込むようにウェハカセット2をプレート上に置くと、ウェハカセット2の前後方向の移動が拘束される。これにより、各位置決め用ガイド部8によりガイドされたウェハカセット2の前後方向の位置ずれが防止される。
四つの位置決め用ガイド部8のうち対角線上に位置する二つの位置決め用ガイド部8S(ここでは、ウェハカセット2における前方左端部の内壁面F1及び後方右端部の内壁面Rrをガイドする位置決め用ガイド部とする)には、光を通過させるためのスリット11が形成される。また、その二つの位置決め用ガイド部8Sの近傍にはウェハカセット2がベースプレート7上の所望位置に置かれたかどうかを検出する光学式検出スイッチ12が設けられる。
この光学式検出スイッチ12は、可視光などの光を発光する発光部12Aと、この発光部12Aから照射された光を受光する受光部12Bとからなる。発光部12Aとしては発光ダイオード(LED)やレーザダイオード(LD)などが使用され、受光部12Bとしてはフォトダイオード(PD)などが使用される。これらの発光部12Aと受光部12Bは位置決め用ガイド部8Sのスリット11を挟んで対向して配置されるようにベースプレート7の上面に設けられる。
このような光学式検出スイッチ12においては、発光部12Aからの光が受光部12Bで受光されるか否かで、ウェハカセット2がベースプレート7上の所定位置に置かれているかどうかを検出する。つまり、ウェハカセット2がベースプレート7上の所定位置にないときは、発光部12Aからの光が位置決め用ガイド部8Sのスリット1を通って受光部12Bに到達する。一方、ウェハカセット2がベースプレート7上の所定位置にあるときは、発光部12Aからの光がスリット11を通って受光部12Bに向っても、その光がウェハカセット2で遮断されるため、受光部12Bには到達しない。
ここで、位置決め用ガイド部8Sに形成されるスリット11は、位置決め用ガイド部8Sの下面に開口し、位置決め用ガイド部8Sの上面には開口しないトンネル状であることが望ましい。
スリット11を位置決め用ガイド部8Sの下面に開口するように形成することで、ウェハカセット2がベースプレート7上に置かれたときにウェハカセット2の前後方向の一端側がわずかに浮いた状態でも、発光部12Aからの光が、スリット11及びウェハカセット2の下方を通って受光部12Bに確実に到達する。従って、この場合には、ウェハカセット2がベースプレート7上の所定位置に正確に置かれていないと検出される。
また、発光部12Aは、位置決め用ガイド部8Sの内側、つまりウェハカセット2をガイドする側とは反対側に配置し、受光部12Bは位置決め用ガイド部8Sの外側、つまりウェハカセット2をガイドする側に配置するのが好ましい。これにより、発光部12Aを位置決め用ガイド部8Sに接近させることができる。この場合には、発光部12Aとして上記のLEDを用いたときに発光部12Aからの光が大きく広がることなく、効率良くスリット11に入射するようになる。
上記のようなカセットガイド装置では、四つの位置決め用ガイド部8が固定され、ベースプレート7上にウェハカセット2を載置するときに位置決め用ガイド部8内側にウェハカセット2を配置する。ところが、位置決め用ガイド部8はウェハカセット2を載置するときにウェハカセット2の外壁に密着せずに一定の隙間がある。それゆえ、ウェハカセット2をベースプレート7に載置するたびごとにウェハカセット2の位置が異なってきて、カセットステーションARMがウェハをローディングまたはアンローディングするときにウェハを正常にセンディング(sending)できずウェハ損傷が発生する問題点がある。
特開平2002−313868号公報
そこで、本発明の目的は、半導体製造設備においてウェハカセットをベースプレートに載置するときにウェハカセットの位置が恒常になるようにウェハカセットの位置を調節することができるウェハカセットポジション調節装置及びその方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、半導体製造設備においてウェハ損傷を防止できるウェハカセットポジション調節装置及びその方法を提供することにある。
このような目的を達成するため本発明による半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置は、ウェハカセットのローディング状態を感知して前記ウェハカセットを指定された位置に移動させるためのモータ駆動信号を発生し出力する制御部と、前記制御部から出力されたモータ駆動信号により前記ウェハカセットを指定された位置に移動させるカセット位置移動部と、を備えることを特徴とする。
また、本発明による半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置は、ステピングモータと、ステピングモータに連結されたボルスクリューと、ボルスクリューに挿入されて前記ステピングモータの逆方向及び正方向駆動に従い第1カセットガイドを移動させるためのLMガイドと、ウェハカセットの位置を固定するための第2カセットガイドと、前記LMガイドに固定され、前記ウェハカセットを移動させて前記第2カセットガイドに密着させる第1カセットガイドと、前記ウェハカセットがカセット支持部材に安着した状態を検出するフォトセンサと、前記ウェハカセットが前記カセット支持部材に安着した状態が前記フォトセンサで検出されるときに前記ステピングモータを正方向に駆動し、ウェハカセットの指定された位置への移動が完了するときにステピングモータの駆動を停止させた後、前記ステピングモータを逆方向に駆動させて前記第1カセットガイドを復帰させるように制御するコントローラーと、前記LMガイドに固定されて前記LMガイドの移動距離制限を検出するためのブラケットと、前記ブラケットの動きにより接触して前記第1カセットガイドの前進制限位置と後進制限位置をそれぞれ検出する第1リミットセンサ及び第2リミットセンサと、前記第2カセットガイドに設置されて前記ウェハカセットの密着状態を検出する第1ガイドセンサ及び第2ガイドセンサと、を備える。
また、本発明によるウェハカセットポジション調節方法は、ウェハカセットをローディングする段階と、前記ウェハカセットがローディングされた後に前記ウェハカセットが安着したかどうかをフォトセンサで検出する段階と、前記ウェハカセットが前記カセット支持部材に安着する際にステピングモータを正方向に駆動させて前記カセットガイドにより前記ウェハカセットを前進させる段階と、前記ウェハカセットを前進させた後にガイドセンサにより指定された位置への移送完了状態をセンシングする段階と、前記移送完了状態がセンシングされるときに前記ステピングモータの駆動を停止させる段階と、前記ステピングモータの駆動を停止させてから設定時間の経過後に前記ステピングモータを逆方向に駆動させて前記カセットガイドを復帰させる段階と、を含む。
本発明は、カセット支持部材にウェハカセットをローディングした後に、ウェハカセットを指定した位置に移動させ、恒常的な位置でウェハをローディング及びアンローディングすることによりウェハ損傷を防止することができる効果がある。
以下、本発明による好ましい実施例を添付図を用いて詳しく説明する。そして、本発明を説明するにあたって、関連の公知機能或いは構成に対する具体的な説明が本発明の要旨を不必要に濁すと判断される場合、その詳しい説明を省略する。
図1は本発明の実施例による半導体製造設備のウェハ支持部材とウェハカセットを示す斜視図である。
多数のウェハを収容したウェハカセット20と、前記ウェハカセット20をローディングするカセット支持部材30と、から構成される。
ウェハカセット20は一側(前方側)に開口部20aが形成された箱型形状を有し、該開口部20aからウェハWが出し入れされる。ウェハカセット20の両内部壁には複数のウェハ支持用突出部22が上下方向に一定した間隔で設けられ、このウェハ支持用突出部22上にウェハWのエッジ部が支持される。そして、各ウェハ支持用突出部22でウェハWを収容する複数のスロット4が形成される。ウェハカセット20の後面には突出部26が設けられる。また、ウェハカセット20の下面には左右方向に延びる水平突起(図示せず)が設けられる。
カセット支持部材30は、例えば、ステンレス鋼及びアルミニウムなどで形成されたベースプレート32を有する。前記ベースプレート32の上面にはカセットの位置を決めるための第1カセットガイド34、第2カセットガイド36が設けられ、前記ベースプレート32の中央部には前記ウェハカセット20を固定するための第3カセットガイド38が設けられる。前記第3カセットガイド38の中央にはウェハカセット20に形成されたウェハ支持用突出部22を嵌込むためのガイド溝40が設けられ、前記ガイド溝40の中央部にはウェハカセット20の安着状態を検出するためのフォトセンサ(図示せず)が設けられる。第1カセットガイド34はカセット支持部材30にウェハカセット20が載置された後、ウェハカセット20が第2カセットガイド36に密着するようにウェハカセット20を移送する。前記ベースプレート30の一側には前記第1カセットガイド34が移動するようにする通路を提供するガイドホール41が設けられる。
図2は本発明の実施例による半導体製造設備のカセットポジション調節装置の構造図である。
ステピングモータ44と、前記ステピングモータ44に連結されたボルスクリュー56と、前記ボルスクリュー56に挿入されて前記ステピングモータ44の逆方向及び正方向の駆動に従い第1カセットガイド34を移動させるためのLMガイド(Liner Movement Guide)54と、複数のウェハを収容したウェハカセット20と、前記ウェハカセット20の下面に形成されて左右方向に延びる水平突起と、前記LMガイド54に固定され、前記ウェハカセット20を移動させて第2カセットガイド36に密着させる第1カセットガイド34と、前記LMガイド54に固定されて前記LMガイド54の移動距離制限を検出するためのブラケット58と、前記ブラケット58の動きにより接触して前記第1カセットガイド34の前進制限位置と後進制限位置をそれぞれ検出する第1及リミットセンサ46及び第2リミットセンサ48と、カセット支持部材30に形成されて前記ウェハカセット20の水平突起60によりカセットが載置された状態を検出するフォトセンサ62と、ウェハカセット20の位置を固定するための第2カセットガイド36と、前記第2カセットガイド36に設置されて前記ウェハカセット20の密着状態を検出する第1ガイドセンサ50及び第2ガイドセンサ52と、前記フォトセンサ62でウェハカセット20の安着状態が検出されるときにステピングモータ44を正方向に駆動し、前記第2リミットセンサ48で前進制限位置(指定された位置への移送完了状態)が検出されるかまたは前記第1ガイドセンサ50及び第2ガイドセンサ52でウェハカセット20の密着状態が検出されるときにステピングモータ44の駆動を停止させてから前記ステピングモータ44を逆方向に駆動させ、前記第1リミットセンサ46で後進制限位置(指定された位置への移送完了状態)が検出されるときにステピングモータ44の駆動を停止させるコントローラー42と、から構成される。
ステピングモータ44と、前記ステピングモータの回転軸に結合されるボルスクリュー56と、前記ボルスクリュー56に挿入されて前記ボルスクリュー56の回転運動を水平運動に変換するLMガイド54と、前記LMガイド54に連結されて前記LMガイド54の移動に従い前記ウェハカセット20を指定された位置に移動させる第1カセットガイド34とからなった部分がカセット位置移動部になる。
図3は本発明の一実施例によるカセットポジションを調節するための制御フローチャートである。
図1から図3を参照して本発明の好ましい実施例の動作を詳しく説明する。
101段階でウェハカセット20をローディングする。即ち、ウェハカセット20は人の手及びウェハ搬送ロボット(図示せず)により運搬され、且つカセット支持部材30に載置される。以後、102段階でコントローラー42はフォトセンサ62でウェハカセット20の安着状態が検出されたかどうかを検査し、ウェハカセット20の安着状態が検出されないと103段階に進行する。前記103段階でコントローラー42はアラムを発生して警報し、設備が動作しないように停止させる。一方、前記102段階でウェハカセット20の安着状態が検出されると104段階に進行し、コントローラー42はステピングモータ44を正方向に駆動させる。前記ステピングモータ44が正方向に駆動されると、ボルスクリュー56が回転し、LMガイド54が水平運動に変化して第1カセットガイド34を前進させる。このとき、前記第1カセットガイド34はウェハカセット20を移動させて第2カセットガイド36に密着させる。このようにウェハカセット20が第2カセットガイド36に密着するように移動すると、第2カセットガイド36に設置された第1ガイドセンサ50、第2ガイドセンサ52により密着状態を検出する。第1ガイドセンサ50、第2ガイドセンサ52には例えば近接センサ或いはタッチセンサ、またはリミットスイッチなどを用いることができる。
一方、ステピングモータ44が正方向に駆動されながら第1カセットガイド34が移動するとき、LMガイド54に付着したブラケット58は第2リミットセンサ48にタッチする。第2リミットセンサ48がタッチされると、コントローラー42はこれを感知してステピングモータ44の駆動を停止させる。
そして、104段階でステピングモータ44を正方向に駆動し、コントローラー42は第2リミットセンサ48で前進制限位置が検出されたかどうかを検査し、前進制限位置が検出されると106段階に進行する。前記106段階でコントローラー42はアラムを発生しステピングモータ44の駆動を停止させる。このとき、アラムを発生するのは作業者に第1ガイドセンサ50、第2ガイドセンサ52の固定状態を通報するためである。105段階で第2リミットセンサ48によって前進制限位置が検出されないと、107段階に進行し、コントローラー42は第1ガイドセンサ50、第2ガイドセンサ52でウェハカセット20の第2カセットガイド36への密着状態を検出する。密着状態が検出されないと前記105段階に戻り、密着状態が検出されると108段階に進行し、ステピングモータ44の駆動を停止させる。以後、109段階に進行し、コントローラー42は設定時間(例えば2秒)が経過したかどうかを検査し、設定時間が経過すると110段階に進行する。前記110段階でコントローラー42はステピングモータ44を逆方向に駆動させる。前記ステピングモータ44が逆方向に駆動されると、ボルスクリュー56が逆回転し、LMガイド54が水平運動に変化して第1カセットガイド34を後進させる。このとき、前記第1カセットガイド34が後進し、第1カセットガイド34に付着したブラケット58が第1リミットセンサ46にタッチして後進制限位置を検出する。このとき、111段階でコントローラー42は第1リミットセンサ46から後進制限位置が検出されたかどうかを検査し、後進制限位置が検出されないと110段階に戻り続いてステピングモータ44を逆方向に駆動させ、後進制限位置が検出されると112段階に進行する。前記112段階でコントローラー42はステピングモータ44の駆動を停止させて、次のウェハカセット20のローディングの際にウェハカセット20の位置を調節できるように待機状態に入る。
本発明の一実施例では、コントローラー42はウェハカセット20がローディングすることを感知し、ステピングモータ44を駆動させ第1カセットガイド34を移動させてウェハカセット20を第2カセットガイド36に密着させ、第1ガイドセンサ50、第2ガイドセンサ52から移動完了状態を感知しステピングモータ44を停止するようにした。本発明の他の実施例として、ウェハカセット20がローディングされることを感知してステピングモータ44を一定時間駆動させた後に停止するようにして、ウェハカセット20の位置を調節することも本発明の範囲を外れずに実施可能である。即ち、第1ガイドセンサ50、第2ガイドセンサ52によりウェハカセット20の指定位置を感知せずに、ステピングモータ44を設定された時間の間のみ駆動させた後に停止するようにしたものである。
上述のように本発明は、ウェハカセットがカセット支持部材にローディングされるたびごとにウェハカセットを指定された位置に移動させて、恒常的な位置でウェハをローディング及びアンローディングすることにより、ウェハ損傷を防止することができる特長がある。
本発明の実施例による半導体製造設備のウェハ支持部材とウェハカセットを示す斜視図である。 本発明の実施例による半導体製造設備のカセットポジション調節装置を示す構造図である。 本発明の実施例によるカセットポジションを調節するための制御フローチャートである。 一般のウェハカセット及びウェハカセット支持部材の一実施形態を示す斜視図である。 図4のウェハカセットを示す底面図である。 図4のウェハカセット支持部材にカセットが載置された状態を示す平面図である。
符号の説明
20 ウェハカセット、22 ウェハ支持用突出部、24 スロット、26 突出部、30 カセット支持部材、32 ベースプレート、34 第1カセットガイド、36 第2カセットガイド、38 第3カセットガイド、40 ガイド溝、41 ホール、42 コントローラー、44 ステピングモータ、46 第1リミットセンサ、48 第2リミットセンサ、50 第1ガイドセンサ、52 第2ガイドセンサ、54 LMガイド、56 ボルスクリュー、58 ブラケット、60 水平突起、62 フォトセンサ

Claims (12)

  1. 半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置において、
    ウェハカセットのローディング状態を感知して前記ウェハカセットを指定された位置に移動させるためのモータ駆動信号を発生し出力する制御部と、
    前記制御部から出力されたモータ駆動信号により前記ウェハカセットを指定された位置に移動させるカセット位置移動部と、
    を備えることを特徴とするウェハカセットポジション調節装置。
  2. 前記カセット位置移動部は、
    ステピングモータと、
    前記ステピングモータの回転軸に結合するボルスクリューと、
    前記ボルスクリューに挿入されて前記ボルスクリューの回転運動を水平運動に変換するLMガイドと、
    前記LMガイドに連結されて前記LMガイドの移動に従い前記ウェハカセットを指定された位置に移動させる第1カセットガイドと、
    を有することを特徴とする請求項1に記載のウェハカセットポジション調節装置。
  3. 前記LMガイドに連結されて前記第1カセットガイドの前進制限位置及び後進制限位置を検出可能に移動するブラケットと、
    前記ブラケットの移動により接触して後進制限位置を検出する第1リミットセンサと、
    前記ブラケットの移動により接触して前進制限位置を検出する第2リミットセンサと、
    を備えることを特徴とする請求項2に記載のウェハカセットポジション調節装置。
  4. 半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置において、
    ステピングモータと、
    前記ステピングモータに連結されたボルスクリューと、
    前記ボルスクリューに挿入されて前記ステピングモータの逆方向及び正方向駆動に従い第1カセットガイドを移動させるLMガイドと、
    ウェハカセットの位置を固定するための第2カセットガイドと、
    前記LMガイドに固定され、前記ウェハカセットを移動させて前記第2カセットガイドに密着させる第1カセットガイドと、
    前記ウェハカセットがカセット支持部材に安着した状態を検出するフォトセンサと、
    前記ウェハカセットが前記カセット支持部材に安着した状態が前記フォトセンサで検出されるとき、前記ステピングモータを駆動させるコントローラーと、
    を備えることを特徴とするウェハカセットポジション調節装置。
  5. 前記コントローラーは、前記フォトセンサで前記ウェハカセットの安着状態が検出されるときに前記ステピングモータを正方向に駆動し、前記ウェハカセットの指定された位置への移動が完了するときに前記ステピングモータの駆動を停止させた後、前記ステピングモータを逆方向に駆動させて前記第1カセットガイドを復帰させるように制御することを特徴とする請求項4に記載のウェハカセットポジション調節装置。
  6. 前記LMガイドに固定されて前記LMガイドの移動距離制限位置を検出するように移動するブラケットと、
    前記ブラケットの移動により接触して前記第1カセットガイドの前進制限位置及び後進制限位置をそれぞれ検出する第1リミットセンサ及び第2リミットセンサと、
    を備えることを特徴とする請求項5に記載のウェハカセットポジション調節装置。
  7. 前記コントローラーは前記第1リミットセンサで後進制限位置が検出されるときに前記ステピングモータの駆動を停止させることを特徴とする請求項6に記載のウェハカセットポジション調節装置。
  8. 前記第2カセットガイドに設置されて前記ウェハカセットの密着状態を検出する第1ガイドセンサ及び第2ガイドセンサをさらに備えることを特徴とする請求項7に記載のウェハカセットポジション調節装置。
  9. 前記コントローラーは前記第1ガイドセンサ及び前記第2ガイドセンサで指定された位置移動完了状態を感知することを特徴とする請求項8に記載のウェハカセットポジション調節装置。
  10. 半導体製造設備のウェハカセットポジション調節方法において、
    ウェハカセットをローディングする段階と、
    前記ウェハカセットをローディングした後にカセットガイドを前進させて前記ローディングされたウェハカセットを指定された位置に移動させる段階と、
    を含むことを特徴とするウェハカセットポジション調節方法。
  11. 前記ウェハカセットを指定された位置に移動する段階は、
    前記ウェハカセットがローディングされた後に、前記ウェハカセットがカセット支持部材に安着したかどうかをフォトセンサにより検出する段階と、
    前記ウェハカセットが前記カセット支持部材に安着したときにステピングモータを正方向に駆動させて前記カセットガイドにより前記ウェハカセットを前進させる段階と、
    前記ウェハカセットを前進させた後にガイドセンサにより指定された位置への移送完了状態をセンシングする段階と、
    前記移送完了状態がセンシングされるときに前記ステピングモータの駆動を停止させる段階と、
    を含むことを特徴とする請求項10に記載のウェハカセットポジション調節方法。
  12. 前記ステピングモータの駆動を停止させてから設定時間の経過後に前記ステピングモータを逆方向に駆動させて前記カセットガイドを復帰させる段階をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載のウェハカセットポジション調節方法。
JP2005083886A 2004-05-17 2005-03-23 半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置及びその方法 Pending JP2005333111A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040034724A KR100568869B1 (ko) 2004-05-17 2004-05-17 반도체 제조설비의 카세트 포지션 조절장치 및 그 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005333111A true JP2005333111A (ja) 2005-12-02

Family

ID=35423599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005083886A Pending JP2005333111A (ja) 2004-05-17 2005-03-23 半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置及びその方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7275905B2 (ja)
JP (1) JP2005333111A (ja)
KR (1) KR100568869B1 (ja)
CN (1) CN100481367C (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101093178B1 (ko) * 2010-02-10 2011-12-13 송진한 밸브 작동 액츄에이터
WO2021187340A1 (ja) * 2020-03-17 2021-09-23 日本電産リード株式会社 ロードポート用アダプタ

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100652286B1 (ko) * 2004-12-24 2006-11-30 동부일렉트로닉스 주식회사 웨이퍼 카세트캐리어 이송시스템
JP2007251088A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Tokyo Electron Ltd 縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置における移載機構の制御方法
CN102087987B (zh) * 2009-12-08 2012-08-29 上海微电子装备有限公司 一种垂向升降片库的定位装置和控制方法
JP5617708B2 (ja) * 2011-03-16 2014-11-05 東京エレクトロン株式会社 蓋体開閉装置
US10115616B2 (en) * 2013-07-18 2018-10-30 Applied Materials, Inc. Carrier adapter insert apparatus and carrier adapter insert detection methods
CN104733361B (zh) * 2013-12-18 2017-08-08 上海华虹宏力半导体制造有限公司 半导体芯片生产设备的机械手传送装置
TWI571951B (zh) * 2014-09-17 2017-02-21 華亞科技股份有限公司 晶圓傳送盒底座檢查裝置及方法
US9786530B2 (en) * 2014-10-20 2017-10-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Wafer transfer method and system
US10566226B2 (en) * 2014-11-11 2020-02-18 Applied Materials, Inc. Multi-cassette carrying case
CN106531659A (zh) * 2015-10-22 2017-03-22 安徽超元半导体有限公司 一种自动晶圆转换器
KR101924783B1 (ko) * 2016-08-31 2018-12-04 (사)성창에너지연구소 브레이크 기능을 가지는 태양광 트랙커
CN108107812A (zh) * 2016-11-24 2018-06-01 沈阳芯源微电子设备有限公司 基于plc控制的晶片盒中晶圆位置状态检测装置及方法
US11031266B2 (en) * 2018-07-16 2021-06-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Wafer handling equipment and method thereof
KR102359522B1 (ko) * 2021-05-20 2022-02-08 김태민 풉고정장치
CN113838791A (zh) * 2021-08-30 2021-12-24 威科赛乐微电子股份有限公司 晶片取片、圆心定位装置、方法、系统及可读存储介质
CN113851155B (zh) * 2021-09-17 2023-08-22 苏州浪潮智能科技有限公司 一种存储设备和控制存储器锁紧的方法
CN114426139A (zh) * 2021-11-05 2022-05-03 宁波润华全芯微电子设备有限公司 一种可以防止运送过程中放置产品脱落的片盒
CN114188253B (zh) * 2021-12-03 2022-12-09 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体设备的片舟暂存装置及半导体设备
CN114330602A (zh) * 2021-12-30 2022-04-12 广州卓腾科技有限公司 临时身份证制机的存卡机构
CN114724981B (zh) * 2022-03-10 2023-02-28 江苏亚电科技有限公司 一种晶圆片数片装置及数片方法
CN115547900A (zh) * 2022-10-08 2022-12-30 合肥开悦半导体科技有限公司 一种具有自动调平功能的智能硅片盒
CN116825687A (zh) * 2023-06-29 2023-09-29 江苏弘琪工业自动化有限公司 一种适用于8寸晶圆的晶圆盒(smif)装载装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0353543A (ja) * 1989-07-21 1991-03-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体ウエハ移替方法および装置
JPH10144755A (ja) * 1996-11-07 1998-05-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd キャリア載置台
JPH11145244A (ja) * 1997-11-13 1999-05-28 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2002313868A (ja) * 2001-04-06 2002-10-25 Applied Materials Inc ウェハカセット支持部材
JP2003007805A (ja) * 2001-06-20 2003-01-10 Shinko Electric Co Ltd 基板処理装置および基板検出装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR940006241A (ko) * 1992-06-05 1994-03-23 이노우에 아키라 기판이재장치 및 이재방법
JP3998418B2 (ja) 1998-01-16 2007-10-24 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド 半導体ウエファーカセットの位置決め及び検知機構
JPH11288991A (ja) * 1998-04-03 1999-10-19 Shinko Electric Co Ltd ロードポート
US6178361B1 (en) * 1998-11-20 2001-01-23 Karl Suss America, Inc. Automatic modular wafer substrate handling device
US6775918B2 (en) * 2002-02-06 2004-08-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Wafer cassette pod equipped with position sensing device
US7074000B2 (en) * 2002-12-31 2006-07-11 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for undocking substrate pod with door status check

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0353543A (ja) * 1989-07-21 1991-03-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体ウエハ移替方法および装置
JPH10144755A (ja) * 1996-11-07 1998-05-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd キャリア載置台
JPH11145244A (ja) * 1997-11-13 1999-05-28 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2002313868A (ja) * 2001-04-06 2002-10-25 Applied Materials Inc ウェハカセット支持部材
JP2003007805A (ja) * 2001-06-20 2003-01-10 Shinko Electric Co Ltd 基板処理装置および基板検出装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101093178B1 (ko) * 2010-02-10 2011-12-13 송진한 밸브 작동 액츄에이터
WO2021187340A1 (ja) * 2020-03-17 2021-09-23 日本電産リード株式会社 ロードポート用アダプタ

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050109723A (ko) 2005-11-22
US20050262716A1 (en) 2005-12-01
CN1702850A (zh) 2005-11-30
CN100481367C (zh) 2009-04-22
US7275905B2 (en) 2007-10-02
KR100568869B1 (ko) 2006-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005333111A (ja) 半導体製造設備のウェハカセットポジション調節装置及びその方法
US20070140826A1 (en) Wafer positioning systems and methods thereof
TWI778274B (zh) 開啟器設備
EP0448316B1 (en) Substrate holding device
JP2010219209A (ja) 基板検出装置およびそれを備えた基板搬送装置
WO2007136066A1 (ja) 基板の変形検出システムおよび変形検出方法
JP2002145445A (ja) ワーク搬送装置
JP2008290877A (ja) 部品検出方法、部品検出装置、及び、icハンドラ
JP5662734B2 (ja) 研削装置
JP2005064463A (ja) マッピング装置及びその制御方法
JP2688554B2 (ja) ウェハ異常検知装置及びウェハ検査方法
JP3017186B1 (ja) ウエハ搬送装置および半導体製造装置
JPH04154144A (ja) 基板入出機構
JPS62106641A (ja) ウエハ整列装置
JPH10308438A (ja) キャリア及びキャリア内のウエハ検出方法
JPH05291382A (ja) 薄板収納装置
JP2000114350A (ja) ウェーハの検出装置及び検出方法
JPH10321706A (ja) キャリア載置機構
JPH0774230A (ja) 半導体製造装置
JPH09259503A (ja) カートリッジ搬送装置の位置決め装置
JPH0717621A (ja) 反転缶蓋の除去装置
KR20080033003A (ko) 웨이퍼의 돌출에러방지장치
KR19980014084A (ko) 이온주입설비의 웨이퍼 위치 감지시스템 및 웨이퍼 감지방법
JP2005338326A (ja) トナー残量検出装置
JP2004022807A (ja) 半導体処理装置およびその調整方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080319

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110201

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110425

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111018

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120511

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120809

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120814

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120910

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121004

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130305