JPH0774230A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH0774230A JPH0774230A JP15557093A JP15557093A JPH0774230A JP H0774230 A JPH0774230 A JP H0774230A JP 15557093 A JP15557093 A JP 15557093A JP 15557093 A JP15557093 A JP 15557093A JP H0774230 A JPH0774230 A JP H0774230A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cassette
- wafer
- semiconductor substrate
- light
- boat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 カセットからの半導体基板飛び出しを検出し
て、半導体基板の搬送が確実に適切に行なえるように対
処し、半導体基板とボート又はカセットの接触に起因す
るパーティクルの発生を防止する。 【構成】 カセット７の設置ベースの前部に、透過式物
体検出センサを構成する投光部４及び受光部５を対向し
て設ける。
て、半導体基板の搬送が確実に適切に行なえるように対
処し、半導体基板とボート又はカセットの接触に起因す
るパーティクルの発生を防止する。 【構成】 カセット７の設置ベースの前部に、透過式物
体検出センサを構成する投光部４及び受光部５を対向し
て設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カセットに収納された
半導体基板のカセットからの飛び出しを検知する手段を
備えた半導体製造装置に関する。
半導体基板のカセットからの飛び出しを検知する手段を
備えた半導体製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は本発明に係る半導体製造装置の１
例の構成を示す斜視図であって、縦型炉を有する。この
縦型炉にはウェーハ３を水平姿勢で多段に保持するボー
ト２，このボート２に対向してカセットストッカ６，バ
ッファストッカ８が上下に設けられ、前記ボート２と前
記カセットストッカ６との間には基板移載機１が設けら
れている。基板移載機１はカセットストッカ６のカセッ
トに収納されたウェーハ３をボート２へ、またはボート
２に保持されたウェーハ３をカセットストッカ６のカセ
ットへ１枚ずつ或いは所要枚数一括して移載する。
例の構成を示す斜視図であって、縦型炉を有する。この
縦型炉にはウェーハ３を水平姿勢で多段に保持するボー
ト２，このボート２に対向してカセットストッカ６，バ
ッファストッカ８が上下に設けられ、前記ボート２と前
記カセットストッカ６との間には基板移載機１が設けら
れている。基板移載機１はカセットストッカ６のカセッ
トに収納されたウェーハ３をボート２へ、またはボート
２に保持されたウェーハ３をカセットストッカ６のカセ
ットへ１枚ずつ或いは所要枚数一括して移載する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例にあって
は、ウェーハ搬送の過程において、搬送中及び機構上で
の振動等の原因によって生じる累積誤差により、カセッ
ト内でウェーハの位置ずれ、つまりウェーハの飛び出し
が生じる可能性があり、また、そのような事が起こる
と、適切な搬送が行われず、ボートに移載されたウェー
ハの位置がずれ、ウェーハとボート又はカセットの接触
に起因してパーティクルが発生するという課題がある。
は、ウェーハ搬送の過程において、搬送中及び機構上で
の振動等の原因によって生じる累積誤差により、カセッ
ト内でウェーハの位置ずれ、つまりウェーハの飛び出し
が生じる可能性があり、また、そのような事が起こる
と、適切な搬送が行われず、ボートに移載されたウェー
ハの位置がずれ、ウェーハとボート又はカセットの接触
に起因してパーティクルが発生するという課題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明装置は、上記の課
題を解決するため、図１に示すようにカセット７の前部
に、半導体基板３の搬入出方向に対し垂直方向に透過式
物体検出センサを設けたことを特徴とする。
題を解決するため、図１に示すようにカセット７の前部
に、半導体基板３の搬入出方向に対し垂直方向に透過式
物体検出センサを設けたことを特徴とする。
【０００５】
【作用】このような構成とすることにより半導体基板３
がカセット７より飛び出すと、この飛び出した半導体基
板３が透過媒体を遮断することで、透過式物体検出セン
サにより半導体基板３がカセット７より飛び出したこと
が検出できることになる。
がカセット７より飛び出すと、この飛び出した半導体基
板３が透過媒体を遮断することで、透過式物体検出セン
サにより半導体基板３がカセット７より飛び出したこと
が検出できることになる。
【０００６】
【実施例】図１（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明装置の
１実施例の要部の構成を示す側面図及び平面図で、１は
ボート２とカセット棚６のカセット７との間に設置され
た基板移載機、３はカセット７に収納され又はボート２
に載置されているウェーハ、４，５はそれぞれカセット
７の設置ベースの前部に対向して配置された投光部及び
受光部で、透過式物体検出センサを構成する。本実施例
は上記のような構成であるから、ウェーハ３がカセット
７より飛び出すと、投光部４より受光部５に投光される
光ビームが飛び出したウェーハ３により遮光されるの
で、受光部５からの受光信号が停止し、受光部５に接続
された信号処理部（図示せず）が受光信号遮断を検知
し、ウェーハ３の飛び出し（位置ずれ）を確実に検出す
ることになる。また、振動により、カセット７でウェー
ハ３の位置ずれが生じ、エラーが検知されたら、作業者
がカセットローダ等の調整をし直し、ずれをなくすこと
により、ウェーハ３がカセット７やボート２等に接触す
ることがなくなる。本発明においては、透過的物体検出
センサとして光センサのみならず、超音波センサであっ
てもよいなど、特に限定されない。
１実施例の要部の構成を示す側面図及び平面図で、１は
ボート２とカセット棚６のカセット７との間に設置され
た基板移載機、３はカセット７に収納され又はボート２
に載置されているウェーハ、４，５はそれぞれカセット
７の設置ベースの前部に対向して配置された投光部及び
受光部で、透過式物体検出センサを構成する。本実施例
は上記のような構成であるから、ウェーハ３がカセット
７より飛び出すと、投光部４より受光部５に投光される
光ビームが飛び出したウェーハ３により遮光されるの
で、受光部５からの受光信号が停止し、受光部５に接続
された信号処理部（図示せず）が受光信号遮断を検知
し、ウェーハ３の飛び出し（位置ずれ）を確実に検出す
ることになる。また、振動により、カセット７でウェー
ハ３の位置ずれが生じ、エラーが検知されたら、作業者
がカセットローダ等の調整をし直し、ずれをなくすこと
により、ウェーハ３がカセット７やボート２等に接触す
ることがなくなる。本発明においては、透過的物体検出
センサとして光センサのみならず、超音波センサであっ
てもよいなど、特に限定されない。
【０００７】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、カセット
前部に、半導体基板の搬入出方向に対し垂直方向に透過
式物体検出センサを設けたので、半導体基板がカセット
より飛び出すと、この飛び出した半導体基板を直ちに透
過媒体を遮断することで、透過式物体検出センサにより
確実に検出することができるため、半導体基板の搬送が
確実に適切に行なえるように対処することができ、ウェ
ーハとボート又はカセットの接触に起因するパーティク
ルの発生を防止することができる。又、透過式物体検出
センサを用いることで、半導体基板に非接触でカセット
からの半導体基板飛び出しを検出することが出来るの
で、半導体基板にダメージを与えることがないばかりで
なく、半導体基板へのパーティクルの付着を防止するこ
とができる。従って、半導体基板の歩留りを向上させる
ことができると共に確実な半導体基板搬送を行うことが
できる。
前部に、半導体基板の搬入出方向に対し垂直方向に透過
式物体検出センサを設けたので、半導体基板がカセット
より飛び出すと、この飛び出した半導体基板を直ちに透
過媒体を遮断することで、透過式物体検出センサにより
確実に検出することができるため、半導体基板の搬送が
確実に適切に行なえるように対処することができ、ウェ
ーハとボート又はカセットの接触に起因するパーティク
ルの発生を防止することができる。又、透過式物体検出
センサを用いることで、半導体基板に非接触でカセット
からの半導体基板飛び出しを検出することが出来るの
で、半導体基板にダメージを与えることがないばかりで
なく、半導体基板へのパーティクルの付着を防止するこ
とができる。従って、半導体基板の歩留りを向上させる
ことができると共に確実な半導体基板搬送を行うことが
できる。
【図１】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明装置の１実施
例の要部の構成を示す側面図及び平面図である。
例の要部の構成を示す側面図及び平面図である。
【図２】本発明に係る半導体製造装置の１例の構成を示
す斜視図である。
す斜視図である。
１ 基板移載機 ２ ボート ３ 半導体基板（ウェーハ） ４ 投光部 ５ 受光部 ６ カセット棚 ７ カセット
Claims (1)
- 【請求項１】 カセット前部に、半導体基板の搬入出方
向に対し垂直方向に透過式物体検出センサを設けたこと
を特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15557093A JPH0774230A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15557093A JPH0774230A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0774230A true JPH0774230A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=15608934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15557093A Pending JPH0774230A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774230A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040003268A (ko) * | 2002-07-02 | 2004-01-13 | 동부전자 주식회사 | 웨이퍼 이상적재 감지 기능을 가지는 웨이퍼 소팅 장치 |
| CN113725135A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种半导体反应设备及其位置校准方法 |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP15557093A patent/JPH0774230A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040003268A (ko) * | 2002-07-02 | 2004-01-13 | 동부전자 주식회사 | 웨이퍼 이상적재 감지 기능을 가지는 웨이퍼 소팅 장치 |
| CN113725135A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种半导体反应设备及其位置校准方法 |
| CN113725135B (zh) * | 2021-08-30 | 2023-08-25 | 上海华力微电子有限公司 | 一种半导体反应设备及其位置校准方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2009200063A (ja) | 基板の変形検出機構，処理システム，基板の変形検出方法及び記録媒体 | |
| TWI425590B (zh) | 基板處理裝置及其基板搬送方法 | |
| JP2007234936A (ja) | ウェハ搬送アーム及びウェハ搬送装置 | |
| JPH0774230A (ja) | 半導体製造装置 | |
| US6950181B2 (en) | Optical wafer presence sensor system | |
| JPH06345261A (ja) | 自動搬送装置の搬送用ハンド | |
| JPH09272095A (ja) | 板状物搬送用ロボット | |
| KR100652286B1 (ko) | 웨이퍼 카세트캐리어 이송시스템 | |
| JPH0611069B2 (ja) | ウエハ整列装置 | |
| KR20060011671A (ko) | 파티클 감지수단을 갖는 노광설비의 얼라인장치 | |
| JPH07147314A (ja) | ウェーハ搬送装置 | |
| JP2001313327A (ja) | ウェーハ支持プレート | |
| KR100342397B1 (ko) | 에스엠아이에프 장치의 웨이퍼 수량 산출장치 및 방법 | |
| JPH0475362A (ja) | ウエハ搬送装置 | |
| JPH0410639A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR100748731B1 (ko) | 반도체 제조용 웨이퍼 인스펙션 장치 및 인터락 방법 | |
| JPS6356935A (ja) | 半導体ウエハカセツト | |
| JPH05238513A (ja) | 半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置決め方法 | |
| KR20040021985A (ko) | 자동이송장치의 카세트 로딩상태 감지구조 | |
| JPH03280447A (ja) | 基板有無検出方法 | |
| JP2000252335A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2000124290A (ja) | ウエハ搬送装置および半導体製造装置 | |
| KR20060040272A (ko) | 웨이퍼 이송 장치 | |
| KR19990031417U (ko) | 반도체 웨이퍼 이송용 로봇암 | |
| KR20000021291A (ko) | 웨이퍼 로딩 핀 |