JPH05238513A - 半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置決め方法 - Google Patents
半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置決め方法Info
- Publication number
- JPH05238513A JPH05238513A JP3121692A JP3121692A JPH05238513A JP H05238513 A JPH05238513 A JP H05238513A JP 3121692 A JP3121692 A JP 3121692A JP 3121692 A JP3121692 A JP 3121692A JP H05238513 A JPH05238513 A JP H05238513A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- storage cassette
- semiconductor wafer
- cassette
- wafer storage
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー
搬送機構との位置ずれをなくし、搬送機構によるウェハ
ー収納カセットへのウェハーの取り出し、収納の際の位
置決め精度の向上を図る。 【構成】半導体ウェハー収納カセット１の外面にこの外
面とは異なる反射率を有する金属辺２−１〜２−２５を
埋め込み、半導体ウェハーベルト搬送機構４に備えられ
た反射型フォトセンサ８により前記金属片を検知するよ
うカセットステージ５を上下方向に移動させて、半導体
ウェハー収納カセット１と半導体ウェハーベルト搬送機
構４との位置決めを行う。
搬送機構との位置ずれをなくし、搬送機構によるウェハ
ー収納カセットへのウェハーの取り出し、収納の際の位
置決め精度の向上を図る。 【構成】半導体ウェハー収納カセット１の外面にこの外
面とは異なる反射率を有する金属辺２−１〜２−２５を
埋め込み、半導体ウェハーベルト搬送機構４に備えられ
た反射型フォトセンサ８により前記金属片を検知するよ
うカセットステージ５を上下方向に移動させて、半導体
ウェハー収納カセット１と半導体ウェハーベルト搬送機
構４との位置決めを行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウェハー収納カセ
ットに対して半導体ウェハーの取り出し及び収納を行う
際の半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー収納
カセット搬送機構との位置決め方法に関する。
ットに対して半導体ウェハーの取り出し及び収納を行う
際の半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー収納
カセット搬送機構との位置決め方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＬＳＩの製造工程は一般に前工
程、後工程と呼ばれる２つの工程に大きく分けることが
でき、そのうちの前工程では、ＬＳＩは半導体ウェハー
（以下、ウェハーと称する）の形態で主々の処理や検査
を受ける。ウェハーは通常２５枚をひとまとめにして半
導体ウェハー収納カセット（以下、ウェハー収納カセッ
トと称する）に収納され運搬される。ウェハー処理装置
や検査装置には、ウェハー収納カセットを載せるための
カセットステージと、ウェハー搬送機構が装備されてお
り、カセットステージに載せられたウェハー収納カセッ
トよりウェハー搬送機構がウェハーを順次取り出して処
理室または検査ステージまで搬送し、処理または検査終
了後、再びウェハー収納カセットへ戻している。ウェハ
ー収納カセットに対してウェハー搬送機構がウェハーの
取り出し及び収納を行う際には、両者の位置決めが行わ
れるが、この位置決めにはウェハー収納カセットが載せ
られるカセットステージを移動させる場合と、カセット
ステージは固定としウェハー搬送機構を移動させる場合
の２通りがある。
程、後工程と呼ばれる２つの工程に大きく分けることが
でき、そのうちの前工程では、ＬＳＩは半導体ウェハー
（以下、ウェハーと称する）の形態で主々の処理や検査
を受ける。ウェハーは通常２５枚をひとまとめにして半
導体ウェハー収納カセット（以下、ウェハー収納カセッ
トと称する）に収納され運搬される。ウェハー処理装置
や検査装置には、ウェハー収納カセットを載せるための
カセットステージと、ウェハー搬送機構が装備されてお
り、カセットステージに載せられたウェハー収納カセッ
トよりウェハー搬送機構がウェハーを順次取り出して処
理室または検査ステージまで搬送し、処理または検査終
了後、再びウェハー収納カセットへ戻している。ウェハ
ー収納カセットに対してウェハー搬送機構がウェハーの
取り出し及び収納を行う際には、両者の位置決めが行わ
れるが、この位置決めにはウェハー収納カセットが載せ
られるカセットステージを移動させる場合と、カセット
ステージは固定としウェハー搬送機構を移動させる場合
の２通りがある。
【０００３】前者の場合の従来の方法を図４（ａ）の側
面図に示す。図４（ａ）において、３はウェハー処理装
置、４はウェハーベルト搬送機構、１はウェハー収納カ
セット、５はカセットステージである。カセットステー
ジ５はボールねじ６とモータ７により上下方向に直線運
動が可能であり、その移動量はモータ７の回転数により
制御される。ウェハー収納カセット１の寸法及びウェハ
ーが収納されるスリットの間隔は既知であるので、カセ
ットステージ５をあらかじめ設定された距離ずつ移動さ
せて行くことにより、ウェハー収納カセット１とウェハ
ーベルト搬送機構４との位置決めが行われる。
面図に示す。図４（ａ）において、３はウェハー処理装
置、４はウェハーベルト搬送機構、１はウェハー収納カ
セット、５はカセットステージである。カセットステー
ジ５はボールねじ６とモータ７により上下方向に直線運
動が可能であり、その移動量はモータ７の回転数により
制御される。ウェハー収納カセット１の寸法及びウェハ
ーが収納されるスリットの間隔は既知であるので、カセ
ットステージ５をあらかじめ設定された距離ずつ移動さ
せて行くことにより、ウェハー収納カセット１とウェハ
ーベルト搬送機構４との位置決めが行われる。
【０００４】一方、後者の場合の従来の方法を図４
（ｂ）に示す。図４（ｂ）において、１２はウェハーハ
ンドリングアームである。ウェハー収納カセット１が載
せられるカセットステージ５は固定となっており、ウェ
ハーハンドリングアーム１２をあらかじめ設定された位
置へ移動させて行くことにより、ウェハー収納カセット
１との位置決めが行われる。
（ｂ）に示す。図４（ｂ）において、１２はウェハーハ
ンドリングアームである。ウェハー収納カセット１が載
せられるカセットステージ５は固定となっており、ウェ
ハーハンドリングアーム１２をあらかじめ設定された位
置へ移動させて行くことにより、ウェハー収納カセット
１との位置決めが行われる。
【０００５】以上のように従来の位置決め方法は、ウェ
ハー収納カセットが載せられるカセットステージかもし
くはウェハー搬送機構を、ウェハー収納カセットの寸法
及びウェハーが収納されるスリットの間隔よりあらかじ
め導かれた各設定位置まで移動させるという方法であっ
た。
ハー収納カセットが載せられるカセットステージかもし
くはウェハー搬送機構を、ウェハー収納カセットの寸法
及びウェハーが収納されるスリットの間隔よりあらかじ
め導かれた各設定位置まで移動させるという方法であっ
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のウェハ
ー収納カセットとウェハー搬送機構との位置決め方法で
は、故障時の修理や保守のためにウェハー搬送機構やカ
セットステージを取り外した後の再組立時の組立精度、
あるいはカセットステージやウェハー搬送機構が長時間
にわたって動作することにより生じる経時的な位置変化
の時の要因により、カセットステージとウェハー搬送機
構との相対的な位置関係が設計位置よりずれてしまい、
両者の位置決めができずにウェハーの取り出し、収納を
失敗するという問題点があった。
ー収納カセットとウェハー搬送機構との位置決め方法で
は、故障時の修理や保守のためにウェハー搬送機構やカ
セットステージを取り外した後の再組立時の組立精度、
あるいはカセットステージやウェハー搬送機構が長時間
にわたって動作することにより生じる経時的な位置変化
の時の要因により、カセットステージとウェハー搬送機
構との相対的な位置関係が設計位置よりずれてしまい、
両者の位置決めができずにウェハーの取り出し、収納を
失敗するという問題点があった。
【０００７】また、カセットステージとウェハー搬送機
構とが正規の設計位置を保っている場合でも、ウェハー
収納カセットの寸法のばらつきや衝撃、熱、薬品等によ
る変形、さらにはカセットステージ上にウェハー収納カ
セットを固定する際の位置再現性の欠如等の要因により
ウェハー収納カセットとウェハー搬送機構との相対的な
位置関係が設計位置よりずれてしまい、両者の位置決め
ができなくなるという欠点も有していた。
構とが正規の設計位置を保っている場合でも、ウェハー
収納カセットの寸法のばらつきや衝撃、熱、薬品等によ
る変形、さらにはカセットステージ上にウェハー収納カ
セットを固定する際の位置再現性の欠如等の要因により
ウェハー収納カセットとウェハー搬送機構との相対的な
位置関係が設計位置よりずれてしまい、両者の位置決め
ができなくなるという欠点も有していた。
【０００８】以上説明したように、従来のウェハー収納
カセットとウェハー搬送機構との位置決め方法が、両者
の間にカセットステージを介して位置決めするという間
接的な方法であるのに対し、本発明の目的はウェハー収
納カセットとウェハー搬送機構とを直接的に位置決めす
る方法を提供することにある。
カセットとウェハー搬送機構との位置決め方法が、両者
の間にカセットステージを介して位置決めするという間
接的な方法であるのに対し、本発明の目的はウェハー収
納カセットとウェハー搬送機構とを直接的に位置決めす
る方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のウェハー収納カ
セットとウェハー搬送機構との位置決め方法は、ウェハ
ー収納カセットの外面にこの外面とは異なる反射率を有
する物体を貼付もしくは埋め込み、またウェハー搬送機
構にはウェハー収納カセットの外面と物体との間で反射
率の大小を識別するためのセンサを備え、センサからの
信号によりウェハー収納カセット又はウェハー搬送機構
の動作を停止させることによって位置決めを行う方法で
ある。
セットとウェハー搬送機構との位置決め方法は、ウェハ
ー収納カセットの外面にこの外面とは異なる反射率を有
する物体を貼付もしくは埋め込み、またウェハー搬送機
構にはウェハー収納カセットの外面と物体との間で反射
率の大小を識別するためのセンサを備え、センサからの
信号によりウェハー収納カセット又はウェハー搬送機構
の動作を停止させることによって位置決めを行う方法で
ある。
【００１０】
【作用】ウェハー収納カセットの外面に貼付もしくは埋
め込まれる物体の位置は、ウェハー搬送機構がウェハー
収納カセット内のそれぞれのウェハーを取り出したりあ
るいは収納する時の各位置に対応する位置となってお
り、ウェハー搬送機構に備えられたセンサがウェハ収納
カセットの外面を走査し、その反射率の変化を識別する
ことによりウェハー収納カセットの外面に貼付もしくは
埋め込まれた物体の位置が検出され、両者の位置決めが
行われる。
め込まれる物体の位置は、ウェハー搬送機構がウェハー
収納カセット内のそれぞれのウェハーを取り出したりあ
るいは収納する時の各位置に対応する位置となってお
り、ウェハー搬送機構に備えられたセンサがウェハ収納
カセットの外面を走査し、その反射率の変化を識別する
ことによりウェハー収納カセットの外面に貼付もしくは
埋め込まれた物体の位置が検出され、両者の位置決めが
行われる。
【００１１】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の第１実施例に用いるウェハー収納カ
セットの外観図である。図１に示すように、ウェハー収
納カセット１の側面には２５枚の金属片２−１〜２−２
５が埋め込んであり、各金属片２−１〜２−２５の反射
率はウェハー収納カセット１の側面の反射率よりも高く
なっている。また、各金属片２−１〜２−２５の間隔は
ウェハー収納カセット１に設けられているスリットの間
隔と同一に設定されている。
る。図１は本発明の第１実施例に用いるウェハー収納カ
セットの外観図である。図１に示すように、ウェハー収
納カセット１の側面には２５枚の金属片２−１〜２−２
５が埋め込んであり、各金属片２−１〜２−２５の反射
率はウェハー収納カセット１の側面の反射率よりも高く
なっている。また、各金属片２−１〜２−２５の間隔は
ウェハー収納カセット１に設けられているスリットの間
隔と同一に設定されている。
【００１２】図２（ａ），（ｂ）の側面図および平面図
にウェハー収納カセットとウェハー搬送機構との位置決
め方法を示している。図２（ａ），（ｂ）において、３
はウェハー処理装置、４はウェハーベルト搬送機構、５
はウェハー収納カセット１が載せられるカセットステー
ジであり、カセットステージ５はボールねじ６とモータ
７により上下方向に直線運動することが可能となってい
る。また、ウェハーベルト搬送機構には反射型のフォト
センサ８が備えられており、この反射型フォトセンサ８
によりカセットステージ５に載せられたウェハー収納カ
セット１の側面の反射率の大小を識別する。
にウェハー収納カセットとウェハー搬送機構との位置決
め方法を示している。図２（ａ），（ｂ）において、３
はウェハー処理装置、４はウェハーベルト搬送機構、５
はウェハー収納カセット１が載せられるカセットステー
ジであり、カセットステージ５はボールねじ６とモータ
７により上下方向に直線運動することが可能となってい
る。また、ウェハーベルト搬送機構には反射型のフォト
センサ８が備えられており、この反射型フォトセンサ８
によりカセットステージ５に載せられたウェハー収納カ
セット１の側面の反射率の大小を識別する。
【００１３】作業者によりカセットステージ５の上にウ
ェハー収納カセット１が載せられた後、カセットステー
ジ５を下降させて行く。この間、ウェハーベルト搬送機
構４に備えられた反射型フォトセンサ８により、ウェハ
ー収納カセット１の側面の反射率をモニターする。ウェ
ハー収納カセット１の側面に埋め込まれた各金属片２−
１〜２−２５の位置は、ウェハーベルト搬送機構４に備
えられた反射型フォトセンサ８が金属片２−１〜２−２
５を検知した時に、ウェハーベルト搬送機構４によりウ
ェハー収納カセット１内のウェハー９の取り出し及び収
納が行われる位置に設定されている。
ェハー収納カセット１が載せられた後、カセットステー
ジ５を下降させて行く。この間、ウェハーベルト搬送機
構４に備えられた反射型フォトセンサ８により、ウェハ
ー収納カセット１の側面の反射率をモニターする。ウェ
ハー収納カセット１の側面に埋め込まれた各金属片２−
１〜２−２５の位置は、ウェハーベルト搬送機構４に備
えられた反射型フォトセンサ８が金属片２−１〜２−２
５を検知した時に、ウェハーベルト搬送機構４によりウ
ェハー収納カセット１内のウェハー９の取り出し及び収
納が行われる位置に設定されている。
【００１４】このため、カセットステージ５を下降させ
て行き、反射型フォトセンサ８の出力レベルが上昇した
時、すなわち金属片２−１を検知した時、カセットステ
ージを停止させ、ウェハーベルト搬送機構４によりウェ
ハー９をウェハー収納カセット１から処理室１０へ送り
込むことができる。以降、順次カセットステージ５を下
降させ、金属片２−２〜２−２５を検知して行くことに
より、ウェハー収納カセット１とウェハーベルト搬送機
構４との位置決めが行われる。
て行き、反射型フォトセンサ８の出力レベルが上昇した
時、すなわち金属片２−１を検知した時、カセットステ
ージを停止させ、ウェハーベルト搬送機構４によりウェ
ハー９をウェハー収納カセット１から処理室１０へ送り
込むことができる。以降、順次カセットステージ５を下
降させ、金属片２−２〜２−２５を検知して行くことに
より、ウェハー収納カセット１とウェハーベルト搬送機
構４との位置決めが行われる。
【００１５】図３（ａ），（ｂ）は本発明の第２の実施
例におけるウェハー処理装置１１の側面図及び平面図で
ある。ウェハー収納カセット１が載せられるカセットス
テージ５は移動せず固定となっており、ウェハーハンド
リングアーム１２の方が上下方向に移動する。この第２
の実施例では、ウェハー収納カセット１の両方の側面に
金属片１３ａ−１〜１３ａ−２５，１３ｂ−１〜１３ｂ
−２５が埋め込まれており、また、ウェハーハンドリン
グアーム１２には２個の反射型フォトセンサ１４ａ，１
４ｂが取付けられている。ウェハーハンドリングアーム
１２は上下方向及び水平方向の運動に加えて、さらに先
端のウェハー支持部１５を軸Ａを中心として回転運動さ
せる機能も有している。
例におけるウェハー処理装置１１の側面図及び平面図で
ある。ウェハー収納カセット１が載せられるカセットス
テージ５は移動せず固定となっており、ウェハーハンド
リングアーム１２の方が上下方向に移動する。この第２
の実施例では、ウェハー収納カセット１の両方の側面に
金属片１３ａ−１〜１３ａ−２５，１３ｂ−１〜１３ｂ
−２５が埋め込まれており、また、ウェハーハンドリン
グアーム１２には２個の反射型フォトセンサ１４ａ，１
４ｂが取付けられている。ウェハーハンドリングアーム
１２は上下方向及び水平方向の運動に加えて、さらに先
端のウェハー支持部１５を軸Ａを中心として回転運動さ
せる機能も有している。
【００１６】これにより、ウェハー収納カセット１の両
側面に埋め込まれた金属片１３ａ−１と１３ｂ−１をそ
れぞれ２個の反射型フォトセンサ１４ａ及び１４ｂで検
知し、ウェハーハンドリングアーム１２の高さ、ならび
にウェハー支持部の傾きを制御することにより、ウェハ
ー収納カセットとウェハーハンドリングアームの高さ方
向の位置決めだけでなく、両者の間の傾きも補正するこ
とができる。
側面に埋め込まれた金属片１３ａ−１と１３ｂ−１をそ
れぞれ２個の反射型フォトセンサ１４ａ及び１４ｂで検
知し、ウェハーハンドリングアーム１２の高さ、ならび
にウェハー支持部の傾きを制御することにより、ウェハ
ー収納カセットとウェハーハンドリングアームの高さ方
向の位置決めだけでなく、両者の間の傾きも補正するこ
とができる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、ウェハ
ー収納カセットとウェハー搬送機構との位置決めを、カ
セットステージを介すことなくウェハー収納カセットに
設けた位置検出部により直接行う方法としたので、カセ
ットステージとウェハー搬送機構との位置関係がずれた
り、あるいはウェハー収納カセットをカセットステージ
に固定する際の位置再現性が乏しい場合でも、両者の位
置決めを高精度にかつ再現性良く行うことができるとい
う効果を有する。
ー収納カセットとウェハー搬送機構との位置決めを、カ
セットステージを介すことなくウェハー収納カセットに
設けた位置検出部により直接行う方法としたので、カセ
ットステージとウェハー搬送機構との位置関係がずれた
り、あるいはウェハー収納カセットをカセットステージ
に固定する際の位置再現性が乏しい場合でも、両者の位
置決めを高精度にかつ再現性良く行うことができるとい
う効果を有する。
【図１】本発明の第１の実施例に用いるウェハー収納カ
セットの外観図である。
セットの外観図である。
【図２】本発明の第１の実施例を説明する図で、同図
（ａ）はウェハー処理装置の側面図、同図（ｂ）はその
平面図である。
（ａ）はウェハー処理装置の側面図、同図（ｂ）はその
平面図である。
【図３】本発明の第２の実施例を説明する図で、同図
（ａ）はウェハー処理装置の側面図、同図（ｂ）はその
平面図である。
（ａ）はウェハー処理装置の側面図、同図（ｂ）はその
平面図である。
【図４】従来の位置決め方法を説明する図で、同図
（ａ），（ｂ）はそれぞれウェハー処理装置の側面図で
ある。
（ａ），（ｂ）はそれぞれウェハー処理装置の側面図で
ある。
１，１ａ ウェハー収納カセット ２−１，２−２５ 金属片 ３ ウェハー処理装置 ４ ウェハーベルト搬送機構 ５ カセットステージ ６ ボールねじ ７ モータ ８ 反射型フォトセンサ ９ ウェハー １０ 処理室 １１ ウェハー処理装置 １２ ウェハーハンドリングアーム １３ａ−１〜１３ａ−２５，１３ｂ−１〜１３ｂ−２５
金属片 １４ａ，１４ｂ 反射型フォトセンサ １５ ウェハー支持部
金属片 １４ａ，１４ｂ 反射型フォトセンサ １５ ウェハー支持部
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体ウェハー収納カセットに対して半
導体ウェハーの取り出し及び収納を行なう際の半導体ウ
ェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置
決め方法において、前記半導体ウェハー収納カセットの
外面に、この外面とは異なる反射率を有する物体を設
け、また前記半導体ウェハー搬送機構には、前記半導体
ウェハー収納カセット外縁と前記物体との反射率の大小
を識別するためのセンサを備え、センサからの信号によ
り半導体ウェハー収納カセット又は半導体ウェハー搬送
機構の動作を停止させ、位置決めを行うことを特徴とす
る半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機
構との位置決め方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3121692A JPH05238513A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置決め方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3121692A JPH05238513A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置決め方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05238513A true JPH05238513A (ja) | 1993-09-17 |
Family
ID=12325241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3121692A Withdrawn JPH05238513A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置決め方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05238513A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100252711B1 (ko) * | 1995-09-04 | 2000-04-15 | 이시다 아키라 | 기판 이송방법 및 인터페이스장치 |
| US6066210A (en) * | 1995-08-05 | 2000-05-23 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate processing apparatus with a processing chamber, transfer chamber, intermediate holding chamber, and an atmospheric pressure section |
| WO2002052616A1 (en) * | 2000-12-22 | 2002-07-04 | Infineon Technologies Sc300 Gmbh & Co. Kg | Semiconductor product container and equipment for handling a semiconductor product container |
| US6887026B1 (en) | 2000-12-22 | 2005-05-03 | Infineon Technologie Sc300 Gmbh & Co. Kg | Semiconductor product container and system for handling a semiconductor product container |
-
1992
- 1992-02-19 JP JP3121692A patent/JPH05238513A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6066210A (en) * | 1995-08-05 | 2000-05-23 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate processing apparatus with a processing chamber, transfer chamber, intermediate holding chamber, and an atmospheric pressure section |
| US6143083A (en) * | 1995-08-05 | 2000-11-07 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate transferring mechanism |
| KR100310249B1 (ko) * | 1995-08-05 | 2001-12-17 | 엔도 마코토 | 기판처리장치 |
| KR100252711B1 (ko) * | 1995-09-04 | 2000-04-15 | 이시다 아키라 | 기판 이송방법 및 인터페이스장치 |
| WO2002052616A1 (en) * | 2000-12-22 | 2002-07-04 | Infineon Technologies Sc300 Gmbh & Co. Kg | Semiconductor product container and equipment for handling a semiconductor product container |
| US6887026B1 (en) | 2000-12-22 | 2005-05-03 | Infineon Technologie Sc300 Gmbh & Co. Kg | Semiconductor product container and system for handling a semiconductor product container |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |