JP5544414B2 - センサキャリアにより基板処理システム内の物体の位置を自動的に測定して教示する方法および関連するセンサキャリア - Google Patents
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Claims (10)
- キャリア板(1a)を有し、形状および寸法が、処理すべき基板の形状および寸法に実質的に対応する、基板処理システム(20、26)内の物体(11)のロケーション位置を自動的に測定して教示する可動式無線センサキャリア(1)において、
− 前記キャリア板(1a)上に取り付けられ、物体表面(13)に垂直な移動直線(B1)上での前記センサキャリア(1)の移動中、前記物体(11)の第1の物体縁部(10a)と第2の物体縁部(10b)を検出するように配置された少なくとも1つの第1のセンサユニット(4、5a、5b)、および
− 前記キャリア板(1a)上に取り付けられ、前記物体表面(13)に平行な移動直線(B2)上での前記センサキャリア(1)の移動中、前記物体(11)の物体縁部(10a,10b)の少なくとも1つを検出するように構成された少なくとも1つの第2のセンサユニット(2、3)を特徴とし、
− 前記センサユニット(2、3、4;5a、5b)のそれぞれから、物体縁部(10a、10b)に達した際に信号変更を示すセンサ信号を出力することができ、
前記センサユニット(2、3、4、5a、5b)が、前記キャリア板(1a)の、前記物体(11)に向けられた前領域の縁に配置されていることを特徴とする、センサキャリア(1)。 - 前記第1のセンサユニット(4、5a、5b)が、検出範囲が前記物体表面(13)に略平行な向きであるように、前記キャリア板(1a)上に取り付けられた1つあるいは2つ以上のセンサを備えることを特徴とする、請求項1に記載のセンサキャリア(1)。
- 前記第2のセンサユニット(2、3)が、検出範囲が前記物体表面(13)に略垂直な向きであるように、前記キャリア板(1a)上に取り付けられた1つあるいは2つ以上のセンサを備えることを特徴とする、請求項1または2に記載のセンサキャリア(1)。
- 前記第1のセンサユニットの1つまたは複数のセンサ(4、5a、5b)および/または前記第2のセンサユニットの1つまたは複数のセンサ(2、3)が、1つまたは複数の光学反射センサであることを特徴とする、請求項2または3に記載のセンサキャリア(1)。
- 前記第1のセンサユニット(4、5a)が、送信ユニット(4)、受信ユニット(5a)およびそれらの間を進む光線とを有する光バリアであり、その送信ユニット(4)および受信ユニット(5a)が、前記光バリアの光線が、前記キャリア板(1a)の縁部側に配置され前記物体(11)を内へ移動可能とする凹部(9)に平行して進むように、前記凹部(9)を横方向に縁取るサイドウィング(12)上に取り付けられることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のセンサキャリア(1)。
- 前記第2のセンサユニットのセンサ(2、3)毎に、前記キャリア板(1a)が開口部を有し、前記開口部を使用して、前記センサ(2、3)のそれぞれが、検出範囲が前記開口部を通って延びるように位置合わせされることを特徴とする、請求項3〜5のいずれか一項に記載のセンサキャリア(1)。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の無線センサキャリア(1)が、ロボットエンドエフェクタ(24)により移動する、基板処理システム(20、26)内の物体(11)のロケーション位置を自動的に測定して教示する方法にして、センサユニット(2、3、4、5a、5b)が、前記物体(11)の縁部(10a、10b)を横切って移動直線(B1、B2、B3)に沿って移動し、前記センサユニット(2、3、4、5a、5b)のそれぞれが、縁部(10a、10b)の検出時に値を変更する少なくとも1つのセンサ信号を出力し、前記移動直線(B1、B2、B3)のそれぞれに沿った信号変更の位置から、前記物体(11)の前記ロケーション位置が決定され、
前記センサキャリア(1)の第1のセンサユニット(4、5a、5b)が、前記物体(11)の前記表面(13)に垂直な第1の移動方向(B1)に沿って、かつ前記物体(11)の前記前面(14)を縁取る前記2つの縁部(10a、10b)を横切って移動し、前記第1のセンサユニット(4、5a、5b)が、縁部の検出時に値を変更する少なくとも1つのセンサ信号を出力し、前記第1の移動直線に沿った信号変更の位置から、厚さ方向での前記前面(14)を縁取る第1の輪郭の中心が決定され、
前記センサキャリア(1)の第2のセンサユニット(2、3)が、前記物体(11)の前記表面(13)に平行な第2の移動直線(B2)に沿って、かつ前記表面(13)を縁取る1つの前記縁部(10b)または複数の縁部(10a、10b)を横切って移動し、前記第2のセンサユニット(2、3)が、前記縁部(10a,10b)の1つの検出時に値を変更する少なくとも1つのセンサ信号を出力し、前記第2の移動直線(B2)に沿った前記信号変更の位置から、前記物体(11)の幅方向または直径方向での前記表面を縁取る第2の輪郭の中心が決定される、上記方法において、
曲線によって画定された湾曲した輪郭である前記第2の輪郭の中心を決定する場合、少なくとも1つのセンサ(2、3)が、前記湾曲した輪郭を形成する前記縁部(10b)を横切って第1の移動直線(B2)に沿って移動し、前記センサ(2、3)が、縁部(10b)の検出時に値を変更するセンサ信号を出力し、続けて前記移動直線(B2)が平行に変位し、前記センサ(2、3)が、前記縁部(10b)を横切る前記第2の移動直線(B5)に沿って移動し、最新の信号変更の位置と最新から1つ前の信号変更の位置とが互いに比較され、これら信号変更の位置差から、前の移動直線に対して平行に変位した新しい移動直線が計算され、前記新しい移動直線に沿って前記センサが再び移動し、前記最新と前記最新から1つ前の信号変更の相互比較、新しい移動直線の計算、および前記新しい移動直線に沿った移動が、各移動直線に沿った前記2つの信号変更の位置差が指定の閾値未満になるまで、繰り返され、前記2つの移動直線(B2、B5)に沿った前記2つの信号変更の位置から、前記輪郭の中心が計算されることを特徴とする、方法。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の無線センサキャリア(1)が、ロボットエンドエフェクタ(24)により移動する、基板処理システム(20、26)内の物体(11)のロケーション位置を自動的に測定して教示する方法にして、センサユニット(2、3、4、5a、5b)が、前記物体(11)の縁部(10a、10b)を横切って移動直線(B1、B2、B3)に沿って移動し、前記センサユニット(2、3、4、5a、5b)のそれぞれが、縁部(10a、10b)の検出時に値を変更する少なくとも1つのセンサ信号を出力し、前記移動直線(B1、B2、B3)のそれぞれに沿った信号変更の位置から、前記物体(11)の前記ロケーション位置が決定され、
前記センサキャリア(1)の第1のセンサユニット(4、5a、5b)が、前記物体(11)の前記表面(13)に垂直な第1の移動方向(B1)に沿って、かつ前記物体(11)の前記前面(14)を縁取る前記2つの縁部(10a、10b)を横切って移動し、前記第1のセンサユニット(4、5a、5b)が、縁部の検出時に値を変更する少なくとも1つのセンサ信号を出力し、前記第1の移動直線に沿った信号変更の位置から、厚さ方向での前記前面(14)を縁取る第1の輪郭の中心が決定され、
前記センサキャリア(1)の第2のセンサユニット(2、3)が、前記物体(11)の前記表面(13)に平行な第2の移動直線(B2)に沿って、かつ前記表面(13)を縁取る1つの前記縁部(10b)または複数の縁部(10a、10b)を横切って移動し、前記第2のセンサユニット(2、3)が、前記縁部(10a,10b)の1つの検出時に値を変更する少なくとも1つのセンサ信号を出力し、前記第2の移動直線(B2)に沿った前記信号変更の位置から、前記物体(11)の幅方向または直径方向での前記表面を縁取る第2の輪郭の中心が決定される、上記方法にして、
湾曲した輪郭の測定に使用される前記センサキャリアのセンサユニットが、縁部の検出時に値を変更する信号をそれぞれ出力する2つのセンサを有し、前記センサ(2、3)が、前記湾曲した輪郭を形成する前記縁部(10b)を横切って第1の移動直線(B2)に沿って移動し、前記センサ(2、3)の前記2つの信号変更の位置が互いに比較され、これら信号変更の位置差から、前の移動直線(B2)から平行に変位した新しい移動直線(B5)が計算され、前記新しい移動直線に沿って前記センサ(2、3)が再び移動し、前記2つのセンサ(2、3)の信号変更の相互比較、前記新しい移動直線の計算、および前記新しい移動直線に沿った移動が、前記最新の移動直線に沿った前記2つの信号変更の位置差が指定の閾値未満になるまで、繰り返され、最新の移動直線に沿った前記2つの信号変更の位置から、前記輪郭の中心が計算される、上記方法。 - 前記物体(11)の前記第1の輪郭の中心および前記第2の輪郭の中心ならびに前記物体(11)から基準点までの距離が決定され、これらの値から、前記物体(11)のオフセットおよび/または既知の寸法を加えることにより、前記物体(11)のロケーション位置、特に、前記物体(11)の中心点が決定されることを特徴とする、請求項7または8に記載の方法。
- 前記センサキャリア(1)が先ず、空間中の指定の開始座標に従って前記物体(11)の前に安全な隙間を置いて配置され、基準点として、前記開始座標が使用され、前記物体(1)から前記開始座標までの距離を決定するために、前記センサキャリアのセンサユニットが、移動直線に沿って前記第2の輪郭の中心に向かい、かつ前記物体(11)の前面の前記表面(13)を縁取る前記縁部(10a、10b)を横切って移動し、この縁部(10a、10b)により開始される信号変更の位置および前記開始座標から、前記距離が決定されることを特徴とする、請求項7〜9のいずれか一項に記載の方法。
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US20220013388A1 (en) * | 2018-12-03 | 2022-01-13 | Lam Research Corporation | Pin-lifter test substrate |
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US11295975B2 (en) * | 2019-09-13 | 2022-04-05 | Brooks Automation Us, Llc | Method and apparatus for substrate alignment |
CN113394152B (zh) * | 2021-06-15 | 2022-09-20 | 深圳市创一智能装备有限公司 | 一种载板的定位装置 |
JP7472095B2 (ja) | 2021-12-23 | 2024-04-22 | キヤノントッキ株式会社 | 動作設定装置、動作設定方法及び電子デバイスの製造方法 |
CN115546172B (zh) * | 2022-10-19 | 2023-06-30 | 广州纳动半导体设备有限公司 | 基于机器视觉的芯片载板-基板近零间隙测量方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE429583B (sv) * | 1982-09-14 | 1983-09-12 | Lidkoepings Mekaniska Verkstad | Sett att bestemma leget av mittpunkten pa ett cirkulert foremal |
JP2683208B2 (ja) * | 1993-01-28 | 1997-11-26 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ロボット機構を用いた搬入および搬出のためのワークピース位置合わせ方法および装置 |
TW319751B (ja) * | 1995-05-18 | 1997-11-11 | Toshiba Co Ltd | |
JPH10233426A (ja) * | 1997-02-20 | 1998-09-02 | Tokyo Electron Ltd | 自動ティ−チング方法 |
JPH11176907A (ja) * | 1997-12-05 | 1999-07-02 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ウエハ移載装置 |
IL143467A (en) * | 1998-12-02 | 2005-05-17 | Newport Corp | Specimen holding robotic arm and effector |
JP3905659B2 (ja) * | 1999-02-09 | 2007-04-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 動作検査システム |
US6591160B2 (en) * | 2000-12-04 | 2003-07-08 | Asyst Technologies, Inc. | Self teaching robot |
CN100431806C (zh) * | 2001-09-07 | 2008-11-12 | 株式会社安川电机 | 晶片位置教示方法和教示用夹具 |
US7289230B2 (en) | 2002-02-06 | 2007-10-30 | Cyberoptics Semiconductors, Inc. | Wireless substrate-like sensor |
TW558058U (en) * | 2002-05-03 | 2003-10-11 | Nanya Technology Corp | Wafer carrying apparatus |
JP2005032913A (ja) | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置の調整方法、ならびにそれに用いる調整治具および組み合わせ治具 |
US8016541B2 (en) * | 2003-09-10 | 2011-09-13 | Brooks Automation, Inc. | Substrate handling system for aligning and orienting substrates during a transfer operation |
JP4279101B2 (ja) * | 2003-09-22 | 2009-06-17 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 搬送装置、基板処理装置、ジグ、及びティーチング方法 |
JP4524132B2 (ja) * | 2004-03-30 | 2010-08-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
US20060245871A1 (en) * | 2005-03-10 | 2006-11-02 | Wen-Ming Lo | Wafer transfer system, wafer transfer method, cassette exchange system and cassette exchange method |
DE102005035199A1 (de) * | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Mattson Thermal Products Gmbh | Verfahren zum Ermitteln der Ist-Lage einer Drehachse eines Transportmechanismus |
US20090196717A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Holden Scott C | Apparatus for Handling a Substrate and a Method Thereof |
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