JP2008260599A - 半導体ウェハ搬送システムの搬送面調整方法及びそれを使った半導体ウェハ搬送システム及び半導体製造装置 - Google Patents

半導体ウェハ搬送システムの搬送面調整方法及びそれを使った半導体ウェハ搬送システム及び半導体製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】作業者の視覚に拠らないでロボットの搬送面とステーションの搬送面との傾斜ずれを精度良く、自動的に計測する方法及びそれを使った半導体ウェハ搬送システムを提供する。
【解決手段】ロボットのウェハ把持部の先端に設けた透過式センサで搬送面検出治具11の被検出部である三角柱13や14の傾斜部をセンサで検出し、そのときのセンシング点15aを搬送面検出治具11の表面上に正射影した正射影点16を算出し、少なくとも3点の正射影点16bによって治具11の表面の式を算出し、この式が表す傾きをステーションとロボットのウェハ搬送面との傾きとして検出するようにした。
【選択図】図7

Description

本発明は、半導体ウェハ搬送システム及び半導体処理装置において、ウェハの収納容器や処理装置及びロボットなどのウェハ保持面の傾斜を調整する方法に関するものである。
半導体処理装置に使用される半導体ウェハの搬送システムは、例えばフロントエンドモジュールやローダと呼ばれている。搬送システムは複数のフレームによって筐体の構造をなしており、システムの上部にフィルタなどを搭載して、搬送システム内が清浄な空間となるように形成される。この空間には、ウェハを搬送するロボットのほか、半導体ウェハの方向を位置決めするアライナと呼ばれる装置や、半導体ウェハを収納するカセットを搭載してカセットの封止蓋を開閉するロードポート(カセットオープナ)といった装置も搭載されている。こういった搬送システムは、半導体製造装置のフロント(あるいはエンド)側に載置され、半導体ウェハに例えばエッチングなどの処理を行う半導体処理装置に接続されている。無論、搬送システムによってはアライナが備えられておらず、代わりに他の機能を備えた装置がロボットとともに設けられるなどして、半導体ウェハの処理に適した搬送システムが構築されている。
このような搬送システムにおいて、特にロボットは、カセットからピックアップしたウェハをアライナに搬送し、位置決めの完了したウェハを処理装置側に搬送し、処理装置で処理が終了したウェハを再びカセットに戻す、といったウェハを搬送する能動的な役割を担っている。そして、昨今のロボットには、カセット内に収容されているウェハの位置や誤挿入を検知するため、そのウェハ把持部にマッピングセンサとよばれるセンサが搭載されていて、このセンサによってウェハの厚み方向を検知することでその位置や誤挿入などの情報を把握するのが一般的になってきている。
以上で説明した搬送システムにおいては、カセットやアライナといった、ロボットがウェハを搬送するステーションが、ロボットと相対的に微小に傾いて設置されてしまう。これは、機械的誤差の累積である。この傾きを修正するため、通常、各ステーションやロボットの載置面には傾き調整機構が備えられている。この傾き調整機構によって、これらの互いの傾きを減少させ、ロボットによってウェハがステーションに搬送されるときのステーション部材とウェハとの干渉やウェハの踊り、ステーションに載置されたときのすべり、落下を防止している。
このように、従来、半導体ウェハ搬送システムにおいて、ロボットのウェハ把持面と各ステーション(収納容器や処理装置など、ロボットによってウェハを設置する場所)とのウェハ保持面の傾斜ずれの調整作業は、搬送システムのフレームに対するロボット、収納容器、処理装置の設置精度をメカ的に確保(調整)することで実現している。この調整では、ウェハを保持させたロボットによって、実際にウェハを各ステーションに載置しながら、人が目視によってウェハが傾いて載置されないか、各ステーションの部材と干渉しないか、などをチェックしつつ、ロボットと各ステーションとの相対的な傾きを調整している。
また、この調整の際にチェックする傾きを定量的に測定する技術として、ロボット外部に設けたセンサによって、ロボットがステーションにアクセスした際のウェハ把持部の傾斜度を測定するものが開示されている。そして、その傾斜度に応じてステーションのウェハ保持面とのずれを調整する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、ロボットに設けたセンサを使って、ウェハを設置する位置(x、y、z)を自動で算出する方法いわゆるオートティーチングも提案されている(例えば、特許文献2や3参照)。
特開平9−232404 特開平8−335622 特許第3247495号
ところが、従来の搬送システムにおける、フレームに対するロボット、収納容器、処理装置の設置精度を人手により測定する方法では時間がかかり、品質も安定しないといった問題があった。また、搬送システム内は一般的に狭所であり、さらにステーションの高層化が進んでいるので、高所作業を強いられ、人間にとって危険な作業であるといった問題もある。
また、特許文献1記載の手法をウェハ保持面調整に応用した場合、ステーション毎にセンサを設ける必要があり、コスト高になるといった問題がある。
また、特許文献2記載の手法をウェハ保持面調整に応用することは可能であるが、ロボットのハンドにティーチングと傾き測定のためのセンサを保持しておく必要があり、ティーチングや傾き測定後に不必要となるセンサをロボットハンドに搭載したまま通常の搬送を行うことになってしまう。仮に、ティーチングと傾き測定後に当該センサをハンドから取り外し可能に構成しても、これらをハンドに搭載するような機構が必要である。
また、特許文献3記載の手法をウェハ保持面調整に応用することは不可能である。なぜならセンシングによりステーションの位置を測定することは可能であるが、ウェハ保持面の傾斜、特にピッチ方向の検出ができないからである。
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、ステーションに置いた搬送面検出治具をロボットのウェハ把持部に設けたセンサでセンシングすることにより、ロボット把持面に対する各ステーションのウェハ保持面の傾斜ずれ(ロールとピッチ)を人手によらず自動で計測することができる方法を提供することを目的とする。
上記問題を解決するため、本発明は、次のようにしたのである。
請求項1に記載の発明は、半導体ウェハを搭載して搬送するロボットと、前記半導体ウェハが載置されるステーションとを備え、前記半導体ウェハが前記ロボットによって前記ステーションに載置される際の、前記ロボットのウェハ搬送面と前記ステーションとの相対的な傾きを調整可能な半導体ウェハ搬送システムにおいて、前記ロボットは、そのウェハ把持部に前記半導体ウェハのエッジを検出可能なセンサ部を備え、前記ステーションに、前記センサ部の被検出部を有する搬送面検出治具を準備し、前記ロボットを動作させることによって前記被検出部を前記センサ部で検出させ、そのときの少なくとも3点のセンシング点を、前記搬送面検出治具の表面にそれぞれ正射影した正射影点の位置を算出し、前記正射影点の位置から前記搬送面検出治具の表面の式を算出し、前記表面の式が表す前記搬送面検出治具の傾きを、前記ウェハ搬送面と前記ステーションとの前記相対的な傾きとし、該相対的な傾きが低減されるよう調整されたことを特徴とする半導体ウェハ搬送システムとした。
請求項2に記載の発明は、前記センサ部は、略Y字状の前記ウェハ把持部の先端に備えられたマッピングセンサであることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ搬送システムとした。
請求項3に記載の発明は、前記センサ部は、略Y字状の前記ウェハ把持部の先端の一端に設けられた投光側センサと、他端に設けられた受光側センサとから構成された透過式センサであることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ搬送システムとした。
請求項4に記載の発明は、前記搬送面検出治具は、前記半導体ウェハと同径を有する円盤形状であることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ搬送システムとした。
請求項5に記載の発明は、前記被検出部は、直角三角柱の傾斜部であって、前記ウェハ搬送面に沿って前記センサ部の光軸を走査させるよう前記ロボットを動作させたとき、前記傾斜部が検出され始めた点または前記傾斜部が検出されなくなった点を、前記センシング点とすることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ搬送システムとした。
請求項6に記載の発明は、前記直角先角柱は、同一形状である第1及び第2の直角三角柱からなり、前記第1及び第2の直角三角柱の長辺が、前記搬送面検出治具の中心からそれぞれ一定の距離で離間するとともに、前記傾斜部が互いに反対方向に向くように設置されていることを特徴とする請求項5記載の半導体ウェハ搬送システムとした。
請求項7に記載の発明は、請求項1記載の半導体ウェハ搬送システムを備えたことを特徴とする半導体製造装置とした。
請求項8に記載の発明は、半導体ウェハを搬送するロボットと、前記半導体ウェハが搭載されるステーションとの相対的な搬送面調整方法であって、平面を有する薄板に被検出部を搭載し、これを前記ステーションに載置し、前記ロボットのウェハ把持部に搭載したセンサ部で前記被検出部を検出して少なくとも3点のセンシング点を取得し、前記少なくとも3点のセンシング点を前記平面にそれぞれ正射影したときの正射影点から前記平面の式を算出し、前記平面の式が表す前記平面の傾きを、前記ロボットの前記半導体ウェハの搬送面と前記平面との相対的な傾きとして検出し、前記相対的な傾きを低減させるよう前記ロボット或いは前記ステーションの設置の傾きを調整することを特徴とする搬送面調整方法とした。
請求項1及び8に記載の発明によると、簡単な治具によってウェハ搬送面とステーションとの相対的な傾きを人手を必要とせずに、定量的に自動で計測できる。
請求項2に記載の発明によると、昨今のロボットに備えられているマッピングセンサを用いることで上記傾きが測定できるので、治具以外特別な装置が必要なく、安価に目的を達成できる。
請求項3に記載の発明によると、センサ部に透過式センサを用いるので、反射式センサにみられるような被検出部周辺での乱反射による誤動作を少なくでき、確実に傾きを測定できる。
請求項4に記載の発明によると、治具を半導体ウェハと同径にすることによって、ロボットが通常のウェハを掴む或いは搭載するのと同じ要領で搬送することができるので、ロボット自身が治具をステーションに設置したり、ステーションから回収したりできるので、本発明の全工程を自動化できるといった効果がある。
請求項5に記載の発明によると、直角三角柱の傾斜部をセンシングした点をセンシング点とすれば、治具の表面にそれらを正射影してその表面上の位置を算出する際に、計算が簡単になる。
請求項6に記載の発明によると、この条件で設置された2つの直角三角柱をセンサ部で1回センシングするだけで、2点のセンシング点が取得できて、さらに最低1回のセンシングを行えば、合計4点のセンシング点が獲得できるので、治具の表面の式を短時間で求めることができる。
請求項7に記載の発明によると、半導体ウェハをステーションで踊らせたりずらしたりすることが無い搬送システムを備えた半導体製造装置とすることができ、粉塵や誤動作による歩留まりが低下しない装置を構築できる。
以下、本発明の方法の具体的実施例について、図に基づいて説明する。
図1および図2は本発明の実施例に適用されるロボットの平面図である。図1は上面図、図2は図1におけるロボットの動作を示す上面図である。図3は図1におけるロボットの側面図である。
図1乃至3において、1は半導体ウェハ搬送用の水平多関節型ロボットであり、Wはロボット1の搬送対象である半導体ウェハである。ロボット1は、昇降自在な円柱状の支柱部2のロボット旋回中心軸7回りに水平面内で旋回する第1アーム3と、第1アーム3の先端に水平面内で旋回自在に取り付けられた第2アーム4と、第2アーム4の先端に水平面内で旋回自在に取り付けられたウェハ把持部5を備えている。ウェハ把持部5は半導体ウェハWを載置しうる略Y字形のハンドであって、Y字形の先端に後述する1組の透過式センサ6を備えている。
図1に示すように、ロボット1は、第1アーム3、第2アーム4およびウェハ把持部5の相対的な角度を保ったまま、第1アーム3を支柱部2の中心軸7回りに旋回させるθ軸動作(旋回)が可能であり、また、図2に示すように、、第1アーム3、第2アーム4およびウェハ把持部5を一定の速度比を保って旋回させることにより、ウェハ把持部5を支柱部2の半径方向に伸縮させるR軸動作(伸縮)が可能であり、また、図3に示すように、支柱部2を昇降させるZ軸動作(昇降)が可能である。すなわち、ロボット1は、これら3自由度を有している。
ここで、θ軸は反時計回りをプラス方向とし(図1参照)、R軸はウェハ把持部5を支柱部2から遠ざける方向、つまりアームを伸ばす方向をプラス方向とし(図2参照)、Z軸は支柱部2を上昇させる方向をプラス(図3参照)とする。
図4は透過式センサ6を説明するためのウェハ把持部5先端の拡大図である。図において、8は略Y字形のウェハ把持部5の一方の端に取り付けられた発光部であり、9は他方の端に発光部8に対向するように取り付けられた受光部である。発光部8と受光部9で透過式センサ6を構成している。10は発光部8から受光部9に向かう光軸であり、透過式センサ6は光軸10を遮る物体を検出することができる。
このようにロボット1はウェハ把持部5に物体を検出するセンサが設けられている。通常、このセンサは、半導体ウェハWが多段に収納されるカセットにおいてウェハの厚み方向を走査するように動作され、ウェハWの存在位置を確認したり、誤挿入されていないか確認したりするのに使用されていて、このセンサの配置及びそれを使用したロボットの動作は上述のように公知である。
図5は本発明の、ロボットのウェハ搬送面を測定するための治具(搬送面検出治具11)の実施例を示す図である。搬送面検出治具11はウェハを収納するカセットなど、ロボット1がウェハを搬送するステーションに載置されるものである。(a)がその正面図、(b)がその立面図(上面図)である。図5において、12は大円板部で、ウェハと同径に形成されている円盤状のものである。
13と14は大円板部12に搭載され、固定されている直角三角柱であり、後述するように透過式センサ6による被検出部でもある。直角三角形の斜辺ではない長辺にあたる部分が大円板部12に固着されていて、その長辺が互いに平行となるように設けられている。また、2つの直角三角形の斜辺の傾斜方向が、それぞれ反対を向くように設けられていて、一定の距離で離間している。
ここで説明のため、ロボット1の旋回中心軸7からのR軸が大円板部12の中心を通るように仮想したときの、大円板部12の円周部との交点であって、かつ治具の表面上の点をエッジ点17とし、このエッジ点17を原点としたXYZ座標を設定しておく。Z軸方向はロボット1のZ軸方向と同一でに天に向かう(上昇する方向)座標であり、Y軸方向がR軸に沿った座標であり、X軸方向がロボットのθ軸に対応した座標である。
ここでは図5(b)における13を左三角柱、14を右三角柱とする。また、三角柱のY(R)軸方向の長さをLy、Z軸方向の高さをLzとする。左三角柱13と右三角柱14の大円板部に対する取り付け位置は、R軸方向はエッジ点17からRofstオフセットし、X軸方向は中心からLx/2オフセットした位置とする。これはウェハ把持部5との干渉を避けるために決めた寸法であり、Lx、Ly、Lzは可能な限り大きくとった方が望ましい。本治具は実物の半導体ウェハと全く同一の外径を有するから、ウェハ収納容器等の位置決めガイド等により、搬送面検出治具11は正しく位置決めされる。なお、大円板部12の厚さは約2mmであり、実物の半導体ウェハの厚さ約0.7mmより大きいが、これは強度上の制約から決められたものであり、実物の半導体ウェハの厚さと同一にしたほうが望ましいことは言うまでもない。
図6は搬送面検出治具11の被検出部である上記三角柱の傾斜部と、透過式センサ6との位置関係を説明した図である。(a)が上面図、(b)がその側面図である。透過式センサ6で検出するのは、2つの三角柱13、14の傾斜部である。ウェハ把持部5を搬送面検出治具11の手前から、R軸方向に伸ばすと、最初センサの状態はOn(左三角柱を検出状態)で、左三角柱の傾斜部を通り過ぎた時にOffとなる。また、さらにR軸方向に伸ばすと、センサの状態はOffからOn(右三角柱を検出状態)になる。本発明では、これらセンサの出力が変化したときのロボット1の座標値(R,Z)を記憶しておき、その値を元に、ステーションに載置している搬送面検出治具11すなわち目的のステーションのロボットのウェハ把持部5に対する傾きを求めるのである。ステーションとは、収納容器や処理装置のウェハをセットする場所のことである。
図7(a)は、図6で説明したようにロボット1が三角柱13、14を検出したセンシング点15とそれらを大円板部12へ正射影した正射影点16の関係を示したものである。理論的には正射影点16は大円板部12の平面上にのっている。式(1)はこの平面を表す式である。本平面上の3点の位置情報があれば本式を解くことができる。従ってセンシングした結果の3点以上のデータを用いて、最小2乗法で式(1)を解くことによりA、B、Cの係数を求めることができる。本実施例では、最低2回センシングを行えば、1回のセンシングで左右の三角柱から計測データが各2個得られるので、計4点のデータが得られることになり、測定点が3点以上であることの条件を満たす。また、求まったA、B、Cは各X、Y、Z軸回りの傾きを表しているので、式(2)、(3)によって搬送面検出治具11すなわちステーションのpitch方向とroll方向の傾斜が求まる。X軸回りをピッチ、Y軸回りをロール、Z軸回りをヨーと呼ぶことにする。


式(1)で表す平面のxyz空間の座標原点を図7(a)のエッジ点17の位置にとる。この座標系は上記で説明したように、ロボットのθ軸に対応した向きをX軸、ロボットのR軸に対応した方向をY軸、ロボットのZ軸に対応した方向をZ軸とする。左三角柱13のセンシング点15aのデータ(Rli,Zli)を大円板部12へ正射影した正射影点16aのデータを(xli,yli,zli)とし、右三角柱14のセンシング点15bのデータ(Rri,Zri)を大円板部12へ正射影した正射影点16bのデータを(xri,yri,zri)とする。また、Reはロボット1の旋回中心軸7からエッジ点17までのR軸(Y軸)における距離とする。また、Zeは同じくロボット1の旋回中心軸7からエッジ点17までのZ軸における距離とする。
また、図7(b)は各三角柱を透過式センサ6がセンシングするときの、三角柱におけるセンシング高さについて説明する図である。18は透過式センサ6によって三角柱を複数回センシングする際のセンシングラインを示している。このとき、N回センシングする場合のi回目のセンシングラインにおけるセンシング点15の搬送面検出治具11からの長さをΔZとすると、このΔZは式(4)のようにあらわせる。

以上のように定義したとき、図7において左三角柱13をC方向から見たときを示す図が図9である。図9を用い、左三角柱13の測定点について説明する。
ここでは、図9において、搬送面検出治具11のY軸に対する傾きをθとし、センシング点15aからXY平面に降ろした補助線と搬送面検出治具11の面との交点15a’を設定し、交点15a’から搬送面検出治具11までの長さをd’、交点15a’からXY平面までの長さをdとし、さらに上記ΔZ≒d’であると仮定すると、
d=(Zli−Ze)−ΔZ,tanθ=d/Rli−Reとなるので、
θ=arctan(d/Rli−Re)にて角度θが求められ、センシング点15aを搬送面検出治具11に正射影した正射影点16aの座標について、以下の式(5)(6)(7)の通り求めることができる。
さらに、式(8)(9)(10)で示すように、同時にセンシングした右三角柱14の正射影点16bを求めればよく、1回のセンシングで正射影点16が2点求められることがわかる。
さらに、最低もう1回のセンシングで同様に2点の正射影点16を求め、搬送面検出治具11上の合計4つの点を用いて上記式(1)であらわす平面を求めることができる。





次に、以上で説明した本発明の処理手順の全体の流れについて図8に示す。以下、この処理手順をステップを追って説明する。
(ステップ1)傾斜ずれを計測するステーションに搬送面検出治具11をセットする。この時、三角柱13と14がロボットのR軸方向とほぼ平行になるように設置する。本発明の対象はウェハ搬送面のロールとピッチ方向の傾斜ずれの検出であるので、搬送面検出治具11のヨー方向の設置精度は特には不要である。
(ステップ2)ロボット1から見て搬送面検出治具11の手前のエッジ点17(Re,Ze)を透過式センサ6によって検出する。
(ステップ3)ロボット1の動作によって透過式センサ6の光軸10を(Re+Rofst, Ze+ΔZ)の位置へ移動する。iは実行カウンタである。初めはi=1とする。この位置は、ウェハ把持部5を前進(前進とはR軸の+方向を指す)させたときに、透過式センサ6の光軸10が三角柱13と14の斜辺を検出できる高さである。
(ステップ4)ロボット1のR軸を動作させて、ウェハ把持部5を前進させて、三角柱13と14にゆっくり接近させ、透過式センサ6が三角柱13と14を検出した時のR軸とZ軸の座標(Rli,Zli)または(Rri,Zri)を記録する。前述したように最初センサの状態はOn(左三角柱を検出状態)で、左三角柱の傾斜部を通り過ぎた時にOffとなる。さらにR軸方向に伸ばすと、センサの状態はOffからOn(左三角柱を検出状態)になる。つまり最初のOnからOffへの変化が左三角柱のエッジを検出したものであり、これを(Rli,Zli)として記憶する。その後のOffからOnへの変化が右三角柱のエッジを検出したものであり、これを(Rri,Zri)として記憶する。
(ステップ5)i=Nの場合はステップ6へ、そうでない場合はi=i+1としてステップ3へ遷移する。
(ステップ6)ロボットアームを最小旋回姿勢に移動する。
(ステップ7)搬送面検出治具11の傾斜を求めるために、ステップ4でセンシングしたデータの前処理を行う。前述したN個の(xli,yli,zli)とN個の(xri,yri,zri)を式5〜10を用いて計算する。
(ステップ8)ステップ7で求めた2N個の位置データ(x,y,z)を式(1)にあてはめ、最小2乗法を用いて係数A,B,Cを求める。求まったA,Bより式(2),(3)によって搬送面検出治具11すなわちステーションの傾斜が求まる。
また、ステップ2からステップ8までの操作を予め、ロボット1の図示しない制御装置にプログラムしておけば、ステーションの傾斜ずれを、作業者の操作に拠らず、自動的に行うことができる。あるいは、制御装置とは別の計算機を準備してもよい。ただし、ステップ1の作業などは一部人手が必要な作業も含まれる。ステップ1は、人手で操作する代わりに、事前に教示が完了しているケースであれば、その値を用いて治具をロボット自身で載置させることも可能である。また本センシング終了後、治具をロボット自身で回収することも可能である。
以上により、求まった傾斜角Δpitch、Δrollを元にステーション側もしくはロボットの搬送面をメカ的に調整すれば、精度のよいウェハ搬送が可能となり、ステーションでのウェハのすべり、落下、粉塵の発生、ステーション部材との干渉を避けることができる。。
本検出方法は、自動で行えるため、搬送面のメカ調整後の評価にも適用できる。さらにあらかじめ全ステーションに治具を置いておき、ロボットにより全ステーション自動でセンシングすることにより、システムの経年変化を定量的に評価するための自動計測手段としても利用できる。本調整によりロボットの搬送面と、ステーション側の搬送面の傾斜ずれが低減できると、ロボットがウェハをステーションにput/getする際の、Z軸方向のストローク量を抑えることができ、ひいてはロボットによる搬送スピードの軽減にもつながる。
本発明に使用するロボットの平面図 図1のロボットの動作を説明する平面図 図1のロボットの側面図 図1のロボットのウェハ把持部の先端の拡大図 本発明の搬送面検出治具の説明図 図1のロボットによって図5の治具を検出する方法を示す説明図 図1のロボットが図5の治具を検出したときの検出点を説明する図 本発明における搬送面調整方法の全体の流れを示すフローチャート図 ロボットの搬送面に対する治具の傾きを求める手順を説明する図
符号の説明
W.半導体ウェハ
1.ロボット
2.支柱部
3.第1アーム
4.第2アーム
5.ウェハ把持部
6.透過式センサ
7.ロボット旋回中心
8.発光部
9.受光部
10.光軸
11. 搬送面検出治具
12.大円板部
13.左三角柱
14.右三角柱
15.センシング点
16.正射影点
17.エッジ点
18.センシングライン

Claims (8)

  1. 半導体ウェハを搭載して搬送するロボットと、前記半導体ウェハが載置されるステーションとを備え、前記半導体ウェハが前記ロボットによって前記ステーションに載置される際の、前記ロボットのウェハ搬送面と前記ステーションとの相対的な傾きを調整可能な半導体ウェハ搬送システムにおいて、
    前記ロボットは、そのウェハ把持部に前記半導体ウェハのエッジを検出可能なセンサ部を備え、
    前記ステーションに、前記センサ部の被検出部を有する搬送面検出治具を準備し、
    前記ロボットを動作させることによって前記被検出部を前記センサ部で検出させ、そのときの少なくとも3点のセンシング点を、前記搬送面検出治具の表面にそれぞれ正射影した正射影点の位置を算出し、
    前記正射影点の位置から前記搬送面検出治具の表面の式を算出し、
    前記表面の式が表す前記搬送面検出治具の傾きを、前記ウェハ搬送面と前記ステーションとの前記相対的な傾きとし、該相対的な傾きが低減されるよう調整されたことを特徴とする半導体ウェハ搬送システム。
  2. 前記センサ部は、略Y字状の前記ウェハ把持部の先端に備えられたマッピングセンサであることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ搬送システム。
  3. 前記センサ部は、略Y字状の前記ウェハ把持部の先端の一端に設けられた投光側センサと、他端に設けられた受光側センサとから構成された透過式センサであることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ搬送システム。
  4. 前記搬送面検出治具は、前記半導体ウェハと同径を有する円盤形状であることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ搬送システム。
  5. 前記被検出部は、直角三角柱の傾斜部であって、前記ウェハ搬送面に沿って前記センサ部の光軸を走査させるよう前記ロボットを動作させたとき、前記傾斜部が検出され始めた点または前記傾斜部が検出されなくなった点を、前記センシング点とすることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ搬送システム。
  6. 前記直角先角柱は、同一形状である第1及び第2の直角三角柱からなり、前記第1及び第2の直角三角柱の長辺が、前記搬送面検出治具の中心からそれぞれ一定の距離で離間するとともに、前記傾斜部が互いに反対方向に向くように設置されていることを特徴とする請求項5記載の半導体ウェハ搬送システム。
  7. 請求項1記載の半導体ウェハ搬送システムを備えたことを特徴とする半導体製造装置。
  8. 半導体ウェハを搬送するロボットと、前記半導体ウェハが搭載されるステーションとの相対的な搬送面調整方法であって、
    平面を有する薄板に被検出部を搭載し、これを前記ステーションに載置し、
    前記ロボットのウェハ把持部に搭載したセンサ部で前記被検出部を検出して少なくとも3点のセンシング点を取得し、
    前記少なくとも3点のセンシング点を前記平面にそれぞれ正射影したときの正射影点から前記平面の式を算出し、
    前記平面の式が表す前記平面の傾きを、前記ロボットの前記半導体ウェハの搬送面と前記平面との相対的な傾きとして検出し、
    前記相対的な傾きを低減させるよう前記ロボット或いは前記ステーションの設置の傾きを調整することを特徴とする搬送面調整方法。
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JP2015153809A (ja) * 2014-02-12 2015-08-24 株式会社ダイヘン 搬送ロボット、ティーチングシステム、および、治具
CN110034047A (zh) * 2018-01-05 2019-07-19 东京毅力科创株式会社 基片抓持机构、基片输送装置和基片处理系统

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