JP2007059640A - 外観検査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板の観察を容易に行うことができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】 XYθステージ14は、半導体ウェハ1を回転可能に保持するミクロウェハ保持部13を備えている。アライメント用センサ11は、基準位置に対する半導体ウェハ1の位置ずれ量を検出する。この位置ずれ量に基づいて、半導体ウェハ1とXYθステージ14の相対的な位置関係が補正され、半導体ウェハ1が回転中心に設置される。半導体ウェハ1を回転させても、偏芯による観察対象部位の移動が発生しないので、半導体ウェハ1の観察を容易に行うことができる。
【選択図】 図1
【解決手段】 XYθステージ14は、半導体ウェハ1を回転可能に保持するミクロウェハ保持部13を備えている。アライメント用センサ11は、基準位置に対する半導体ウェハ1の位置ずれ量を検出する。この位置ずれ量に基づいて、半導体ウェハ1とXYθステージ14の相対的な位置関係が補正され、半導体ウェハ1が回転中心に設置される。半導体ウェハ1を回転させても、偏芯による観察対象部位の移動が発生しないので、半導体ウェハ1の観察を容易に行うことができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体ウェハ等の基板の外観を検査するための外観検査装置に関する。
半導体装置等の製造工程においては、従来より半導体ウェハ等の基板を検査する外観検査が行われている(例えば特許文献1〜特許文献2参照)。また近年、半導体ウェハの大型化・薄型化に伴い、周縁部の欠けやひびを原因とするウェハ割れによる損害を防ぐため、基板を回転させて観察位置を変更しながら、基板の周縁部を検査することが行われている。
半導体ウェハの外観検査に用いられる外観検査装置は、例えば以下のようなものが知られている。半導体ウェハが収納されるカセットから半導体ウェハが搬送ロボットによって取り出されて搬送される。搬送ロボットから検査部に半導体ウェハが渡される前にプリアライメントが行われ、カセット内で発生した位置ずれが概略補正される。ミクロ検査部において、基準位置に対する中心ずれや角度ずれが高精度にアライメントされ、半導体ウェハ表面の拡大観察検査が行われる。検査が終了すると、半導体ウェハが搬送ロボットとの受け渡し位置まで搬送され、搬送ロボットによってカセットに収納される(例えば特許文献3参照)。
プリアライメントによって半導体ウェハの位置ずれを補正する場合、検査部でのアライメントが可能な範囲になる程度の位置補正が行われるが、半導体ウェハの位置ずれがmmオーダで残る可能性がある。ミクロ検査部においては、半導体ウェハが、回転可能な検査ステージ上に載置された後、回転され、ウェハ周縁部に配置されたセンサにより検査ステージの回転中心とウェハの中心との位置ずれ量と基準方向からの角度ずれ量が検出される。この高精度のアライメントが行われた後、検査が行われる。すなわち、検査ステージをXY平面内で移動させて半導体ウェハの主面を検査する場合には、アライメントによって、検査ステージを回転させることにより角度ずれを回転補正し、観察位置座標と半導体ウェハ中心座標との相対的な位置補正が行われているため、問題なく検査することが可能である。
特開2001−221749号公報
特開2003−243465号公報
特開2004−96078号公報
しかし、検査ステージを回転させて、ミクロ検査部で半導体ウェハの周縁部を検査する場合には、検査ステージの回転中心と半導体ウェハの中心との間に中心ずれが残っている状態では、偏芯によって半導体ウェハの観察対象部位が回転と共に様々な方向に移動してしまう。その結果、観察対象部位の拡大倍率を高くするためには、観察対象部位の移動に追従するように観察系を移動させなければならなかったり、高度な制御が必要となったりするという問題があった。
本発明は、上述した問題点に鑑みてなされたものであって、回転する基板周縁部の観察を容易に行うことができる外観検査装置を提供することを目的とする。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、基板を回転可能に保持するステージと、前記基板の表面を拡大観察するための観察手段と、基準位置に対する前記基板の位置ずれ量を検出する検出手段と、前記基板を保持および搬送し、前記ステージとの間で前記基板の受け渡しを行う基板搬送手段とを備え、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて、前記基板と前記ステージの相対的な位置関係を補正して、前記基板を回転中心に設置することを特徴とする外観検査装置である。
また、本発明の外観検査装置において、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて、前記基板が前記基板搬送手段によって保持された状態で前記ステージを移動させることを特徴とする。
また、本発明の外観検査装置において、前記ステージとの間で前記基板の受け渡しを行い、前記基板が載置される仮置き部をさらに備え、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて、前記基板が前記仮置き部に載置された状態で前記ステージを移動させることを特徴とする。
また、本発明の外観検査装置において、前記検出手段は、前記基板が前記基板搬送手段から前記ステージへ渡された状態で前記位置ずれ量を検出し、前記基板搬送手段は、前記検出手段によって前記位置ずれ量が検出された後に前記ステージから前記基板を受け取り、前記ステージは、前記基板搬送手段に前記基板を渡した後、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて移動し、前記基板搬送手段から前記基板を受け取ることを特徴とする。
また、本発明の外観検査装置において、前記検出手段は、前記基板が前記基板搬送手段によって保持されている状態で前記位置ずれ量を検出し、前記ステージは、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて移動し、前記基板搬送手段から前記基板を受け取ることを特徴とする。
本発明によれば、基板を回転させても、偏芯による観察対象部位の移動が発生しないので、基板周縁部の観察を容易に行うことができるという効果が得られる。
以下、図面を参照し、本発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態による外観検査装置の構成を示している。この外観検査装置は、半導体ウェハ1に対するマクロ検査およびミクロ検査を行うための検査部2と、検査部2に対して未検査の半導体ウェハ1を供給すると共に、検査部2によって検査が行われて検査済みとなった半導体ウェハ1を排出するために半導体ウェハ1を搬送する搬送部3(ローダ)とを有している。
搬送部3に隣接してウェハカセット4が搭載されている。搬送部3は、2つのウェハカセット4を着脱可能に取り付けられるように構成されている。ウェハカセット4内には複数の半導体ウェハ1が上下方向に所定ピッチで収納されている。搬送部3には、ウェハ搬送ロボット5が設けられている。ウェハ搬送ロボット5は、ウェハカセット4に収納されている未検査の半導体ウェハ1を取り出して検査部2に渡し、検査部2から検査済みの半導体ウェハ1を受け取ってウェハカセット4内に収納する。
ウェハ搬送ロボット5は、半導体ウェハ1を吸着保持する3つの連結アーム(多関節アーム51〜53)を有する多関節型のロボットである。ハンド54は、多関節アーム51〜53の先端側に連結される。複数の吸着孔54aがハンド54に設けられている。ハンド54は半導体ウェハ1を吸着保持する。ハンド54は、多関節アーム51〜53の伸縮動作によって、前進および後退する。多関節アーム51〜53の根元側は、回転軸55に対して軸方向を中心に矢印A方向に回転可能である。また、搬送部3は、ウェハカセット4との間で半導体ウェハ1の受け渡しを行う位置、および検査部2との間で半導体ウェハ1の受け渡しを行う位置の間でウェハ搬送ロボット5を一方向(矢印B方向)に往復運動させるシフト機構56を備えている。
検査部2のベース上にはウェハ搬送装置6(基板搬送手段)およびプリセンタリングユニット7が設けられている。このウェハ搬送装置6には、回転軸を中心に3本の搬送アーム6a,6b,6cが等角度(例えば120度)毎に設けられている。各搬送アーム6a〜6cの先端には、それぞれL字状に形成されたハンド(載置部)が設けられており、複数の吸着孔(ウェハチャック)が形成されている。各吸着孔は吸引ポンプ等の吸引装置に連結されている。搬送アーム6a〜6cの先端に半導体ウェハ1が載置された状態で吸引装置を動作させた際には、吸引装置の吸引力によって、半導体ウェハ1が搬送アーム6a〜6cの先端に吸着保持される。
ウェハ搬送装置6が回転軸を中心に例えば図面上左回りに回転すると、各搬送アーム6a,6b,6cはそれぞれウェハ受け渡し位置P1、マクロ検査位置P2、ウェハ受け渡し位置P3のいずれかに位置するようになっている。また、ウェハ搬送装置6は、各搬送アーム6a〜6cが一体的に昇降可能となっている。
ウェハ受け渡し位置P1は、ウェハ搬送ロボット5とウェハ搬送装置6との間で半導体ウェハ1の受け渡しが行われる位置である。マクロ検査位置P2は、半導体ウェハ1に対するマクロ検査が行われる位置である。ウェハ受け渡し位置P3は、各搬送アーム6a〜6cのうちいずれか1つの搬送アームとXYθステージ14上のミクロウェハ保持部13との間で半導体ウェハ1の受け渡しが行われる位置である。ここで、XYθステージ14は、直交する2軸ステージと、その上に設置された回転ステージから構成される。ウェハ受け渡し位置P1の中心位置は、ウェハ搬送ロボット5の搬送ストローク範囲内になるように形成されている。
プリセンタリングユニット7はウェハ受け渡し位置P1に配置されている。このプリセンタリングユニット7は、ミクロ検査部10における正確なアライメントが可能な程度の精度で半導体ウェハ1の中心ずれを補正するために、ウェハ搬送ロボット5が半導体ウェハ1をウェハカセット4から取り出して、検査部2のウェハ受け渡し位置P1に受け渡す動作中に、半導体ウェハ1のエッジ(周縁部)を検出するものである。プリセンタリングユニット7は、半導体ウェハ1と同じ大きさの同心円上に配置された複数(例えば4つ)の位置検出センサ(例えばCCDカメラ)を備えている。
検査部2のベース上にはマクロ検査部9およびミクロ検査部10も設けられている。マクロ検査部9のマクロ検査位置P2には、検査員8の目視により半導体ウェハ1の表面(裏面を含む)を検査するためのマクロ検査用揺動機構9aが設けられている。マクロ検査用揺動機構9aによって、半導体ウェハ1は揺動可能に保持される。マクロ検査においては、半導体ウェハ1を照明して、その散乱光を観察する目視によって、半導体ウェハ1上の膜ムラや大きな欠陥部分等が検出される。
ミクロ検査部10はアライメント用センサ11(検出手段)、顕微鏡12(観察手段)、ミクロウェハ保持部13、XYθステージ14、および周縁側面部観察ユニット15を備えている。アライメント用センサ11は、例えば2次元のCCDカメラで構成されており、ウェハ搬送装置6によって半導体ウェハ1がウェハ受け渡し位置P3に移動し、ミクロウェハ保持部13に渡された後、アライメント基準位置、すなわちXYθステージ14の回転ステージの回転中心、およびウェハの方向を示すノッチまたはオリフラの予め定められた角度方向に対する半導体ウェハ1の中心ずれおよび角度ずれを補正するために、半導体ウェハ1の周縁端面部を検出するものである。
顕微鏡12は半導体ウェハ1の像を拡大する。ミクロウェハ保持部13はXYθステージ14と一体的に構成されており、半導体ウェハ1を保持して回転させる回転機構と、顕微鏡12での観察における焦点合わせのための昇降機構とを有している。XYθステージ14はウェハ受け渡し位置P1と顕微鏡12の所定の観察位置との間でミクロウェハ保持部13を移動させるため、XY平面内で移動可能である。周縁側面部観察ユニット15は、半導体ウェハ1の周縁側面部を観察するためのCCDカメラ等を備えている。
ウェハ受け渡し位置P3に移動した搬送アーム6a、6b、または6c上に保持されている半導体ウェハ1は、ミクロウェハ保持部13によって受け取られ、この際にアライメント用センサ11によって位置ずれが検出される。この位置ずれは、後述する図2の制御部21によって中心ずれおよび角度ずれとして算出される。算出結果に基づいて、制御部21によって、XYθステージ14がX軸およびY軸方向に移動制御され、ミクロウェハ保持部13がθ方向に回転制御される。
ミクロ検査部10においては、顕微鏡12で拡大された半導体ウェハ1の像をCCDカメラ等によって撮像したり、接眼レンズ16を通して観察したりできるようになっている。また、周縁側面部観察ユニット15によって、半導体ウェハ1の周縁端面部を撮像して観察できるようにもなっている。
検査部2の前面には、ウェハ搬送ロボット5およびウェハ搬送装置6の動作や、検査部2でのマクロ検査およびミクロ検査等の各種操作を検査員8が行うための操作部17が設けられている。この操作部17の左側には、ミクロ検査において、顕微鏡12を通して撮像された半導体ウェハ1の拡大画像等を映し出すモニタ18が設けられている。
図2は、本実施形態による外観検査装置の機能構成を示している。制御部21は、演算を含む各種の情報処理を行い、外観検査装置の各部を制御するためのCPU等を備えている。記憶部22は、半導体ウェハ1に関する情報や、検査部2および搬送部3における各種動作を行うためのプログラム等を記憶するための記録媒体等を備えている。
次に、本実施形態による外観検査装置の動作を説明する。ウェハ搬送ロボット5は多関節アーム51〜53およびハンド54を図1の矢印C方向に伸ばして、ウェハカセット4内に収納されている半導体ウェハ1を吸着保持し、多関節アーム51〜53およびハンド54を縮めながら、ウェハ受け渡し位置P1に移動して停止する。続いて、ウェハ搬送ロボット5は多関節アーム51〜53およびハンド54を矢印D方向に伸ばし、吸着保持している半導体ウェハ1を搬送アーム6aの上方に移動する。
プリセンタリングユニット7は半導体ウェハ1のエッジ位置を検出し、検出結果を示す信号を制御部21へ出力する。制御部21は、この信号に基づいて、ウェハ搬送ロボット5の位置を制御するための信号をウェハ搬送ロボット5へ出力する。この信号に基づいてウェハ搬送ロボット5が移動することによって、ミクロ検査部10での正確なアライメントが可能な程度の精度で半導体ウェハ1の中心位置が概略補正(プリアライメント)される。
続いて、ウェハ搬送装置6(搬送アーム6a,6b,6cのいずれかでよい)は半導体ウェハ1をウェハ搬送ロボット5から受け取り、回転して、半導体ウェハ1をウェハ受け渡し位置P1からマクロ検査位置P2まで搬送する。半導体ウェハ1はウェハ搬送装置6からマクロ検査用揺動機構9aに渡され、検査員8が半導体ウェハ1を揺動しながら目視するマクロ検査が行われる。マクロ検査の終了後、ウェハ搬送装置6はマクロ検査用揺動機構9aから半導体ウェハ1を受け取り、回転して、半導体ウェハ1をウェハ受け渡し位置P3まで移動する。搬送アーム6a〜6cが下降し、半導体ウェハ1はミクロウェハ保持部13上に載置される。
ミクロ検査部10においては、図3に示される手順で半導体ウェハ1の周縁部のミクロ検査が行われる。制御部21はミクロ検査部10に指令し、ミクロウェハ保持部13を回転させる。アライメント用センサ11は半導体ウェハ1の周縁端面部の回転時の信号を検出し、検出結果を示す信号を制御部21へ出力する。制御部21は、この信号に基づいて半導体ウェハ1の位置ずれ量(アライメント補正量)と、ノッチやオリフラを基準とした角度ずれ量とを算出して記憶部22に格納すると共に、その角度ずれ量に対応した角度でミクロウェハ保持部13を回転させ、予め設定された基準方向に一致させるための信号をXYθステージ14へ出力する。XYθステージ14は、この信号に基づいてミクロウェハ保持部13を回転させる。これによって半導体ウェハ1の角度のアライメントと共に位置のずれ量検出が行われる(ステップS301)。この状態では、XYθステージ14をXY方向に走査させるのみの検査が行われる場合には問題ないが、ミクロウェハ保持部13を回転させながらの周縁部の検査が行われる場合には、偏芯によって半導体ウェハ1の観察対象部位が移動してしまう。そこで、以下のようにしてこの問題が解決されている。
角度のアライメントと位置ずれ量検出に続いて、搬送アーム6a〜6cが上昇し、半導体ウェハ1が再度ウェハ搬送装置6に渡される(ステップS302)。制御部21は、記憶部22に格納された位置ずれ量分の半導体ウェハ1の位置ずれを補正するための信号をXYθステージ14へ出力する。XYθステージ14は、この信号に基づいて、位置ずれ量検出で検出された、回転中心に対する半導体ウェハ1の中心位置のずれを補正する方向に位置ずれ量分だけ移動する(ステップS303)。
続いて、搬送アーム6a〜6cが下降し、半導体ウェハ1がミクロウェハ保持部13上に再び載置される(ステップS304)。半導体ウェハ1がミクロウェハ保持部13に渡された後、半導体ウェハ1の周縁部が観察位置に来るようにXYθステージ14が移動する(ステップS305)。
検査員8が操作部17を介して入力する指示に基づいて、半導体ウェハ1が回転しながら、その像が顕微鏡12で拡大され、周縁部の上面像がCCDカメラ等によって撮像されてモニタ18に表示される。あるいは、周縁部の上面像が、接眼レンズ16を通して観察される。さらに、半導体ウェハ1の周縁側面部が周縁側面部観察ユニット15の観察位置に来るようにXYθステージ14が移動する。半導体ウェハ1が回転しながら、その周縁側面部の像がCCDカメラ等によって撮像されてモニタ18に表示される(ステップS306)。上記のようにして、ミクロ検査が行われる。なお、ウェハ搬送装置6とミクロウェハ保持部13との間での半導体ウェハ1の受け渡しの際には、ウェハ搬送装置6およびミクロウェハ保持部13のどちらが上昇あるいは下降してもよい。
ミクロ検査が終了すると、ミクロウェハ保持部13がウェハ受け渡し位置P3に来るようにXYθステージ14が移動する。搬送アーム6a〜6cが上昇し、半導体ウェハ1はウェハ搬送装置6に渡される。ウェハ搬送装置6が回転し、半導体ウェハ1がウェハ受け渡し位置P1に移動する。半導体ウェハ1はウェハ搬送ロボット5に渡され、ウェハ搬送ロボット5によってウェハカセット4の所望の位置に収納される。以後、上記と同様にウェハカセット4内に収納されている未検査の半導体ウェハ1が順次運び出され、マクロ検査およびミクロ検査が行われて、ウェハカセット4内に収納される。
上述したように、本実施形態においては、プリセンタリング補正(プリアライメント)によって、ミクロ検査部10での正確なアライメントが可能な程度の精度で中心ずれが概略補正された状態で、半導体ウェハ1がミクロ検査部10に搬送される。ミクロ検査部10において、回転中心の位置ずれ検出と角度のアライメント処理が行われた後、半導体ウェハ1がミクロウェハ保持部13からウェハ搬送装置6に再度、移動する。この状態で、XYθステージ14が、回転中心の位置ずれ量検出の際に得られた半導体ウェハ1の中心ずれを補正する方向に移動した後、半導体ウェハ1がミクロウェハ保持部13に再度移動し、検査が行われる。
これによって、半導体ウェハ1とXYθステージ14との相対的な位置関係が補正され、半導体ウェハ1の中心位置がミクロウェハ保持部13の回転中心と一致するように、半導体ウェハ1がミクロウェハ保持部13上に載置される。プリセンタリング補正で補正しきれなかった位置ずれを正確に補正することができるため、半導体ウェハ1の中心とミクロウェハ保持部13の回転中心との間にずれが無い状態で半導体ウェハ1の検査を行うことができる。したがって、半導体ウェハ1を回転させても、偏芯による観察対象部位の移動は発生せず、半導体ウェハ1の観察を容易に行うことができる。
なお、本実施形態では、ウェハ受け渡し位置P3の近傍にアライメント用センサ11が配置されているが、必ずしもこの位置にある必要はなく、XYθステージ14の移動が必要な少し離れた位置であってもよい。例えばアライメント用センサ11がミクロ検査部10のミクロ検査位置(ミクロ検査部10が顕微鏡であれば対物レンズ)に近い位置にあれば、もし位置ずれがなかった場合には検査時間を短縮することができる。また、位置ずれがあった場合にはウェハ受け渡し位置P3に戻ればよい。
次に、本発明の第2の実施形態を説明する。図4は、本実施形態による外観検査装置の構成を示している。図1と同一の構成には同一の符号を付与し、説明を省略する。ミクロ検査部10には半導体ウェハ1が一時的に載置される仮置き部20が設けられている。仮置き部20の上面は、ミクロウェハ保持部13のミクロウェハ吸着部面より下側に配置されている。仮置き部20に半導体ウェハ1を受け渡し可能な位置に半導体ウェハ1が位置している状態で、ミクロウェハ保持部13が昇降動作を行うことによって、ミクロウェハ保持部13と仮置き部20との間で半導体ウェハ1の受け渡しが行われる。
以下、図5を参照し、ミクロ検査部10におけるミクロ検査の手順を説明する。まず、第1の実施形態と同様に、半導体ウェハ1の回転中心の位置ずれ量と角度ずれ量が算出され、半導体ウェハ1の角度のアライメントが行われる(ステップS501)。続いて、半導体ウェハ1の周縁側面部が周縁側面部観察ユニット15の観察位置に来るように、XYθステージ14が移動する。XYθステージ14のZ方向の昇降機構により、ミクロウェハ保持部13が下降し、半導体ウェハ1が仮置き部20に載置される(ステップS502)。
この状態で、制御部21からの指示に基づいて、位置ずれ量の検出処理で検出された、回転中心に対する半導体ウェハ1の中心位置のずれを補正する方向にXYθステージ14が位置ずれ量分だけ移動する(ステップS503)。続いて、XYθステージ14のZ方向の昇降機構により、ミクロウェハ保持部13が上昇し、ミクロウェハ保持部13が仮置き部20から半導体ウェハ1を受け取る(ステップS504)。なお、ステップS501では角度のアライメントを行っているが、ステップS501で角度ずれ量検出を行い、ステップS504の後、XYθステージ14のミクロウェハ保持部13を回転させて角度ずれを補正してもよい。
ステップS503でのXYθステージ14の移動に伴って、半導体ウェハ1が移動したため、半導体ウェハ1の周縁側面部が周縁側面部観察ユニット15の観察位置に再度来るように、XYθステージ14が移動する(ステップS505)。半導体ウェハ1が回転しながら、その周縁側面部の像がCCDカメラ等によって撮像されてモニタ18に表示される(ステップS506)。なお、仮置き部20にZ方向の昇降機構を設けてもよく、ミクロウェハ保持部13と仮置き部20との間での半導体ウェハ1の受け渡しの際には、ミクロウェハ保持部13および仮置き部20のどちらが上昇あるいは下降してもよい。また、仮置き部20の配置位置は周縁側面部観察ユニット15の近傍に限定されず、周縁側面部観察ユニット15から離れた位置に配置されていてもよい。
上述したように、本実施形態においては、プリセンタリング補正によって、ミクロ検査部10での正確なアライメントが可能な程度の精度で中心ずれが概略補正された状態で、半導体ウェハ1がミクロ検査部10のミクロウェハ保持部13に搬送される。ミクロ検査部10において位置ずれ量検出と角度のアライメント処理が行われた後、半導体ウェハ1がミクロウェハ保持部13から仮置き部20に一旦移動する。この状態で、XYθステージ14が、アライメントの際に得られた半導体ウェハ1の中心ずれを補正する方向に移動した後、半導体ウェハ1がミクロウェハ保持部13に再度移動し、検査が行われる。これによって、第1の実施形態と同様に、半導体ウェハ1を回転させても、偏芯による観察対象部位の移動が発生しないので、複雑な制御を行うことなく半導体ウェハ1の観察を容易に行うことができる。特に本実施形態では、仮置き部20が周縁側面部観察ユニット15の近傍にあれば、すぐに周縁部の検査が開始でき、検査時間の短縮を図ることができる。
また、周縁側面部観察ユニット15にアライメント用センサ11の機能を持たせてもよい。例えば、周縁側面部観察ユニット15の光学系にズーム機能を設け、低倍率で観察し、位置および角度のずれを検出してから仮置き部20に半導体ウェハ1を受け渡し、回転中心位置と角度のアライメントを行ってもよい。
次に、本発明の第3の実施形態を説明する。図6は、本実施形態による外観検査装置の構成を示している。図1と同一の構成には同一の符号を付与し、説明を省略する。ウェハ受け渡し位置P3には詳細位置合わせ部30a,30b,30cが設けられている。詳細位置合わせ部30a,30b,30cは、例えば半導体ウェハ1と同じ大きさの同心円上に等間隔に配置されている。この詳細位置合わせ部30a〜30cは、周縁側面部観察ユニット15でのウェハ周縁側面部の観察の際に、ミクロウェハ保持部13の回転による半導体ウェハ1の偏芯が観察に影響しない程度に半導体ウェハ1の中心を回転中心に合わせるため、半導体ウェハ1のエッジを検出する。詳細位置合わせ部30a〜30cは、例えば国際公開第02/23623号パンフレットに記載されている複数のCCDカメラ、あるいは特開平11−54595号公報に記載されている複数の発光素子と受光素子の組合せ等の光学的センサで構成されていればよい。詳細位置合わせ部30a〜30cの動作も、制御部21によって制御される。
回転中心に対する半導体ウェハ1の位置補正は以下のようにして行われる。第1および第2の実施形態と同様にして、半導体ウェハ1を保持したままウェハ搬送装置6が回転し、半導体ウェハ1がウェハ受け渡し位置P3まで搬送される。半導体ウェハ1がウェハ受け渡し位置P3に移動した直後、半導体ウェハ1が搬送アーム6a〜6cのいずれかの先端に載置されたままの状態で、詳細位置合わせ部30a〜30cは検出信号を制御部21へ出力する。
制御部21は、詳細位置合わせ部30a〜30cから出力された信号に基づいて、詳細位置合わせ部30a〜30cの各々の上での半導体ウェハ1のエッジ位置を検出し、それらのエッジ位置に基づいて半導体ウェハ1の中心位置を算出すると共に、規定の中心位置からの位置ずれ量を算出する(ステップS701)。続いて、ウェハ搬送装置6から半導体ウェハ1を受け取るため、XYθステージ14が移動し、ミクロウェハ保持部13がウェハ受け渡し位置P3に移動する。この際に、制御部21は、算出した位置ずれ量に基づいて、規定の停止位置から位置ずれ量分だけ離れた位置にミクロウェハ保持部13が停止するように、XYθステージ14の移動を制御する(ステップS702)。続いて、搬送アーム6a〜6cが下降し、ミクロウェハ保持部13が半導体ウェハ1を受け取る(ステップS703)。さらに、アライメント用センサ11によって角度ずれのみが検出され、ミクロウェハ保持部13の角度位置のみが補正された後(ステップS704)、ミクロウェハ保持部13(XYθステージ14)がミクロ検査位置へ移動し(ステップS705)、検査が行われる(ステップS706)。
上述したように、本実施形態においては、プリセンタリング補正によって、ミクロ検査部10での正確なアライメントが可能な程度の精度で中心ずれが概略補正された状態で、半導体ウェハ1がミクロ検査部10に搬送される。ミクロ検査部10において、半導体ウェハ1の中心ずれが検出され、その中心ずれを補正するようにXYθステージ14の移動が制御され、回転中心位置のアライメント処理が行われた後、半導体ウェハ1がミクロウェハ保持部13に載置される。これによって、第1および第2の実施形態と同様に、半導体ウェハ1を回転させても、偏芯による観察対象部位の移動が発生しないので、半導体ウェハ1の観察を容易に行うことができる。
また、半導体ウェハ1がウェハ受け渡し位置P3に搬送された直後に、半導体ウェハ1がウェハ搬送装置6によって保持されたままの状態で半導体ウェハ1の中心位置が検出されて補正される。これによって、半導体ウェハ1の中心位置を回転中心に一致させるために半導体ウェハ1をウェハ搬送装置6または仮置き部20に一旦載置する仮置きが不要となるので、一連の検査時間を短縮することができる。
以上、図面を参照して本発明の実施形態について詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。例えば、上記の実施形態では、半導体ウェハ1の中心位置の補正が行われてからミクロ検査が行われるが、ミクロ検査シーケンスで半導体ウェハ1の周縁部検査を行うか否かが事前に分かっている場合には、周縁部検査を行うときだけ中心位置の補正が行われてから、ミクロ検査が行われるようにしてもよい。あるいは、中心位置の補正が行われずにミクロ検査が行われ、引き続き周縁部検査を行う場合にのみ、XYθステージ14がウェハ受け渡し位置P3に移動し、中心位置の補正が行われた後、周縁部検査が開始されるようにしてもよい。いずれにおいても、本発明の効果が得られ、周縁部検査が少ない場合には、スループットの向上にも繋がる。また、各実施形態におけるミクロ検査の手順は、半導体ウェハ1の周縁部を観察することを想定したものとなっているが、通常の主面に形成されたパターン部分のミクロ観察を行う場合も、角度のアライメントと位置ずれ量検出を行った後で適宜実施することができる。
1・・・半導体ウェハ、2・・・検査部、3・・・搬送部、4・・・ウェハカセット、5・・・搬送ロボット、6・・・ウェハ搬送装置、6a,6b,6c・・・搬送アーム、7・・・プリセンタリングユニット、9・・・マクロ検査部、9a・・・マクロ検査用揺動機構、10・・・ミクロ検査部、11・・・アライメント用センサ、12・・・顕微鏡、13・・・ミクロウェハ保持部、14・・・XYθステージ、15・・・周縁側面部観察ユニット、16・・・接眼レンズ、17・・・操作部、18・・・モニタ、20・・・仮置き部、21・・・制御部、22・・・記憶部、30a,30b,30c・・・詳細位置合わせ部、51,52,53・・・多関節アーム、54・・・ハンド、54a・・・吸着孔、55・・・回転軸、56・・・シフト機構
Claims (5)
- 基板を回転可能に保持するステージと、
前記基板の表面を拡大観察するための観察手段と、
基準位置に対する前記基板の位置ずれ量を検出する検出手段と、
前記基板を保持および搬送し、前記ステージとの間で前記基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、
を備え、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて、前記基板と前記ステージの相対的な位置関係を補正して、前記基板を回転中心に設置することを特徴とする外観検査装置。 - 前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて、前記基板が前記基板搬送手段によって保持された状態で前記ステージを移動させることを特徴とする請求項1に記載の外観検査装置。
- 前記ステージとの間で前記基板の受け渡しを行い、前記基板が載置される仮置き部をさらに備え、
前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて、前記基板が前記仮置き部に載置された状態で前記ステージを移動させることを特徴とする請求項1に記載の外観検査装置。 - 前記検出手段は、前記基板が前記基板搬送手段から前記ステージへ渡された状態で前記位置ずれ量を検出し、
前記基板搬送手段は、前記検出手段によって前記位置ずれ量が検出された後に前記ステージから前記基板を受け取り、
前記ステージは、前記基板搬送手段に前記基板を渡した後、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて移動し、前記基板搬送手段から前記基板を受け取る
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の外観検査装置。 - 前記検出手段は、前記基板が前記基板搬送手段によって保持されている状態で前記位置ずれ量を検出し、
前記ステージは、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて移動し、前記基板搬送手段から前記基板を受け取る
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の外観検査装置。
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