JP5132904B2 - 基板位置決め方法,基板位置検出方法,基板回収方法及び基板位置ずれ補正装置 - Google Patents
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Description
まず,本発明の方法を実施可能な装置についての実施形態を図面を参照しながら説明する。図1は各装置の設置例を説明するための斜視図であり,図2は図1に示す各装置の側面を示す図である。本実施形態では,図示しない搬送アームと載置台112との間で基板例えば半導体ウエハ(以下,単に「ウエハ」とも称する)Wを受け渡しする基板受け渡し装置130を利用して,載置台に載置するウエハWの位置ずれ補正を行う場合の実施形態について説明する。従って,本実施形態における基板受け渡し装置130は基板位置ずれ補正装置としても機能する。
ここで,基板位置ずれ補正装置としての基板受け渡し装置130の構成について図1,図3を参照しながら詳細に説明する。図3は,図1から基板受け渡し装置のみを取り出して図示したものである。なお,図3では基板受け渡し装置の構成を分りやすくするため,載置台112を省略して載置台112の支持軸114のみを2点鎖線で示している。
次に,基板位置検出装置150について図1,図4を参照しながら詳細に説明する。図4は基板位置検出装置の構成を説明するための斜視図である。図4では,基板位置検出装置の構成を説明し易くするために,図1に示す取付台156や載置台ユニット110を省略している。
ここで,上述したウエハWの受け渡し処理の具体例について図面を参照しながら説明する。図18は,搬送アーム上のウエハを受け取って載置台に載置させる際の受け渡し処理の具体例を示すフローチャートである。また,図19A〜図19Eは,受け渡し処理における基板受け渡し装置130の動作例を説明するための作用説明図である。なお,図19A〜図19Eにおいて,CwはウエハWの中心を示し,Ctは上述した基準位置Wstのウエハの中心を示す。
これに対して,基準位置Wstからの位置ずれが生じている場合には,図19Cに示すように基板受け渡し装置130で支持ピン132A〜132Cを水平方向へ移動させて位置ずれを補正する。
次に,上記ウエハ位置決め処理(ステップS200)について詳細に説明する。本実施形態にかかるウエハ位置決め処理では,ウエハWの位置ずれの程度に応じた処理を行う。ウエハWの位置ずれの程度によってはすべての撮像手段152A〜152CでウエハWの周縁部を検出できない場合があるので,その場合にもすべての撮像手段152A〜152CでウエハWの周縁部を検出できる位置までウエハWを移動させることができればウエハWの位置を正確に検出できるため,結果としてウエハの正確な位置決めができるからである。
上記ウエハWの位置ずれ補正は,例えば図21に示すフローチャートに基づいて実行される。なお,この位置ずれ補正は1回だけ行うようにしてもよく,またリトライ可能にしてもよい。図21では予め設定された所定回数だけリトライ可能に構成した場合である。
上記ウエハ位置のラフ補正は,例えば図22に示すフローチャートに基づいて実行される。なお,このラフ補正は1回だけ行うようにしてもよく,またリトライ可能にしてもよい。図22では,予め設定された所定回数だけリトライ可能に構成した場合である。
上記ウエハ位置の調整は,例えば図23に示すフローチャートに基づいて実行される。なお,このウエハ位置の調整は少なくとも1つ以上の撮像手段でウエハ周縁部を検出できるまでリトライするようにしてもいが,リトライ回数に制限を設けるようにしてもよい。図23では,予め設定された所定回数だけリトライ可能に構成した場合である。
次に,本実施形態にかかるウエハ回収処理(ステップS400)の具体例について図面を参照しながら説明する。図27はウエハ回収処理の具体例を示すフローチャートである。ここでは,上記したようなグレー判定や白黒判定を利用してウエハWの位置調整を行うことによって,搬送アームで回収可能な位置までウエハWを移動させるウエハ回収処理について説明する。
112,116 載置台
113A〜113C 貫通孔
114 支持軸
130 基板受け渡し装置
132A〜132C 支持ピン
134 基台
135 取付板
136 支持板
138 支持ピン駆動機構
138X X方向駆動手段
138Y Y方向駆動手段
138Z Z方向駆動手段
150 基板位置検出装置
152A〜152C 撮像手段
153A〜153C 測定視野
153a〜153e 測定領域
154A〜154C 照明用光源
156 取付台
157,158 ブラケット
200 制御部
W ウエハ
Claims (20)
- 搬送アームと載置台との間で前記基板の受け渡しを行う基板受け渡し装置と,基板の周縁部形状に沿って配設された複数の撮像手段とを利用して,前記基板の水平方向の位置決めを行う基板位置決め方法であって,
前記基板受け渡し装置は,前記基板をその下面で支持する複数の支持ピンを上下駆動可能に構成するとともに水平駆動可能に構成し,
前記支持ピンを上昇させて,前記搬送アームから前記基板を受け取る工程と,
前記搬送アームから受け取った前記基板の周縁部を,前記各撮像手段からの出力画像に基づいてそれぞれ検出する工程と,
前記基板の周縁部を検出する工程において,少なくとも1つ以上の撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,その周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には,前記支持ピンを水平方向に移動させて前記基板の位置ずれを補正する工程と,
前記基板の周縁部を検出する工程において,いずれの撮像手段によっても前記基板の周縁部を検出できなかった場合は,前記各撮像手段からの出力画像によって検出される前記基板の有無状態の組合せに応じて前記基板の位置を調整する方向を求め,少なくとも1つ以上の撮像手段によって前記基板の周縁部を検出できるまで前記支持ピンを前記位置調整方向に移動させて前記基板の位置を調整する工程と,
を有することを特徴とする基板位置決め方法。 - 前記基板の位置を調整する工程において,少なくとも1つ以上の撮像手段によって前記基板の周縁部を検出できるまで前記基板を支持したまま前記支持ピンを前記位置調整方向に移動させて前記基板の位置を調整することを特徴とする請求項1に記載の基板位置決め方法。
- 前記搬送アームから前記基板を受け取る工程では,前記支持ピンを上昇させた状態で,前記搬送アームを下降させて前記基板を受け取ることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板位置決め方法。
- 基板の周縁部形状に沿って配設された複数の撮像手段からの出力画像に基づいて前記基板の水平方向の位置ずれを補正する基板位置ずれ補正装置であって,
前記基板をその下面で支持する複数の支持ピンを備え,これらの支持ピンは制御部によって上下駆動可能に構成されるとともに水平駆動可能に構成され,
前記制御部は,
前記各撮像手段の出力画像に基づいてそれぞれ,前記支持ピン上に支持された前記基板の周縁部を検出する基板周縁部検出工程と,
前記基板周縁部検出工程において,少なくとも1つ以上の撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,その周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には,前記支持ピンで前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正する基板位置ずれ補正工程と,
前記基板周縁部検出工程において,いずれの撮像手段によっても前記基板の周縁部を検出できなかった場合は,前記各撮像手段からの出力画像によって検出される前記基板の有無状態の組合せに応じて前記基板の位置を調整する方向を求め,前記支持ピンで前記基板をその方向に移動させることによって基板位置の調整を行う基板位置調整工程と,
位置調整された前記基板を,前記支持ピンを下降させることによって前記載置台に載置する工程と,
を実行することによって前記基板の位置ずれを補正することを特徴とする基板位置ずれ補正装置。 - 前記制御部は,前記基板位置調整工程によって,少なくとも1つ以上の撮像手段によって前記基板の周縁部を検出できるようになった場合には,その周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には,前記支持ピンで前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正することを特徴とする請求項4に記載の基板位置ずれ補正装置。
- 前記制御部は,前記基板位置調整工程において,前記各撮像手段からの出力画像により得られる前記基板の有無状態として,基板有り状態とされる撮像手段があった場合にはその撮像手段設置部位から基板中心が遠ざかる方向であって,基板無し状態とされる撮像手段があった場合にはその撮像手段の設置部位から基板中心が近づく方向に,前記位置調整方向を定めることを特徴とする請求項4に記載の基板位置ずれ補正装置。
- 前記制御部は,前記基板位置調整工程において,前記支持ピンで前記基板を前記位置調整方向へ移動させる際に,前記基板を所定の移動量ずつ複数回にわたって移動させることを特徴とする請求項4に記載の基板位置ずれ補正装置。
- 前記制御部は,前記基板位置調整工程において,いずれの撮像手段によっても前記基板の周縁部を検出できないまま,前記基板の移動回数が予め設定された所定回数を超えた場合には,前記基板を搬送アームによって回収することを特徴とする請求項7に記載の基板位置ずれ補正装置。
- 前記制御部は,前記基板位置ずれ補正工程においてさらに,
前記基板周縁部検出工程において,すべての撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,そのすべての周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には,前記支持ピンで前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正する工程と,
前記基板周縁部検出工程において,一部の撮像手段でしか前記基板の周縁部を検出できない場合は,検出した周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向のラフ位置に基づいて所定の基準位置からのラフ位置ずれを求め,その位置ずれを補正するように前記支持ピンで前記基板を移動させる工程と,
前記ラフ位置ずれを補正することによって,すべての撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,そのすべての周縁部の形状に基づいて前記基板の水平方向の位置を検出し直して,前記所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には前記支持ピンで前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正する工程と,
を有することを特徴とする請求項4に記載の基板位置ずれ補正装置。 - 複数の照明用光源をそれぞれ前記各撮像手段に向けて光が照射されるように配置し,
前記制御部は,前記撮像手段と照明用光源との間に基板があるとその部分の撮像手段の出力画像は暗くなり,前記撮像手段と照明用光源との間に基板がないとその部分の撮像手段の出力画像は明るくなることを利用して,前記各撮像手段の出力画像における基板の周縁部及び基板の有無状態を検出することを特徴とする請求項4に記載の基板位置ずれ補正装置。 - 前記制御部は,前記各撮像手段の測定視野に複数の検出領域を設定し,各検出領域の明暗状態に応じて基板の周縁部及び基板の有無状態を検出することを特徴とする請求項10に記載の基板位置ずれ補正装置。
- 基板の周縁部形状に沿って配設された複数の撮像手段からの出力画像に基づいて前記基板の水平方向の位置決めを行う基板位置決め方法であって,
前記各撮像手段の出力画像に基づいてそれぞれ,位置検出の対象となる基板の周縁部を検出する基板周縁部検出工程と,
前記基板周縁部検出工程において,少なくとも1つ以上の撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,その周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には,前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正する基板位置ずれ補正工程と,
前記基板周縁部検出工程において,いずれの撮像手段によっても前記基板の周縁部を検出できなかった場合は,前記各撮像手段からの出力画像によってその測定視野に前記基板が有るか無いかの有無状態を検出して,基板有り状態を検出した撮像手段についてはその設置部位から遠ざかる方向を調整方向とするとともに基板無し状態を検出した撮像手段についてはその設置部位に近づく方向を調整方向としたときに,前記各撮像手段ごとに得られる前記調整方向を合成した方向を前記基板の位置調整方向とし,その方向に前記基板を移動させることによって基板位置の調整を行う基板位置調整工程と,
を有し,
複数の照明用光源をそれぞれ前記各撮像手段に向けて光が照射されるように配置し,前記撮像手段と照明用光源との間に基板があるとその部分の撮像手段の出力画像は暗くなり,前記撮像手段と照明用光源との間に基板がないとその部分の撮像手段の出力画像は明るくなることを利用して,前記各撮像手段の出力画像における基板の周縁部及び基板の有無状態を検出し,
前記各撮像手段の測定視野に複数の検出領域を設定し,各検出領域の明暗状態に応じて基板の周縁部及び基板の有無状態を検出するとともに前記基板の調整方向を決定することを特徴とする基板位置決め方法。 - 前記基板位置調整工程によって,少なくとも1つ以上の撮像手段によって前記基板の周縁部を検出できるようになった場合には,その周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には,前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正することを特徴とする請求項12に記載の基板位置決め方法。
- 前記基板位置調整工程において,前記基板を前記位置調整方向へ移動させる際に,前記基板を所定の移動量ずつ複数回にわたって移動させることを特徴とする請求項12に記載の基板位置決め方法。
- 前記基板位置調整工程において,いずれの撮像手段によっても前記基板の周縁部を検出できないまま,前記基板の移動回数が予め設定された所定回数を超えた場合には,前記基板を回収することを特徴とする請求項14に記載の基板位置決め方法。
- 前記基板位置ずれ補正工程はさらに,
前記基板周縁部検出工程において,すべての撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,そのすべての周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には,前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正する工程と,
前記基板周縁部検出工程において,一部の撮像手段でしか前記基板の周縁部を検出できない場合は,検出した周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向のラフ位置に基づいて所定の基準位置からのラフ位置ずれを求め,その位置ずれを補正するように前記基板を移動させる工程と,
前記ラフ位置ずれを補正することによって,すべての撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,そのすべての周縁部の形状に基づいて前記基板の水平方向の位置を検出し直して,前記所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが許容範囲を超える場合には前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正する工程と,
を有することを特徴とする請求項12に記載の基板位置決め方法。 - 基板の周縁部形状に沿って配設された複数の撮像手段からの出力画像に基づいて前記基板の水平方向の位置を検出する基板位置検出方法であって,
前記各撮像手段の出力画像に基づいてそれぞれ,位置検出の対象となる基板の周縁部を検出する基板周縁部検出工程と,
前記基板周縁部検出工程において,少なくとも1つ以上の撮像手段で前記基板の周縁部を検出できたと判断した場合は,その周縁部の形状に基づいて前記基板の水平方向の位置を検出する基板位置検出工程と,
前記基板周縁部検出工程において,いずれの撮像手段によっても前記基板の周縁部を検出できなかったと判断した場合は,前記各撮像手段からの出力画像によってその測定視野に前記基板が有るか無いかの有無状態を検出して,基板有り状態を検出した撮像手段についてはその設置部位から遠ざかる方向を調整方向とするとともに基板無し状態を検出した撮像手段についてはその設置部位に近づく方向を調整方向としたときに,前記各撮像手段ごとに得られる前記調整方向を合成した方向を前記基板の位置調整方向とし,その方向に前記基板を移動させることによって基板位置の調整を行う基板位置調整工程と,
を有し,
複数の照明用光源をそれぞれ前記各撮像手段に向けて光が照射されるように配置し,前記撮像手段と照明用光源との間に基板があるとその部分の撮像手段の出力画像は暗くなり,前記撮像手段と照明用光源との間に基板がないとその部分の撮像手段の出力画像は明るくなることを利用して,前記各撮像手段の出力画像における基板の周縁部及び基板の有無状態を検出し,
前記各撮像手段の測定視野に複数の検出領域を設定し,各検出領域の明暗状態に応じて基板の周縁部及び基板の有無状態を検出するとともに前記基板の調整方向を決定することを特徴とする基板位置検出方法。 - 前記基板位置検出工程はさらに,
前記基板周縁部検出工程において,すべての撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,そのすべての周縁部の形状に基づいて前記基板の水平方向の位置を検出する工程と,
前記基板周縁部検出工程において,一部の撮像手段でしか前記基板の周縁部を検出できない場合は,検出した周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向のラフ位置に基づいて所定の基準位置からのラフ位置ずれを求め,その位置ずれを補正するように前記基板を移動させる工程と,
前記ラフ位置ずれを補正することによって,すべての撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,そのすべての周縁部の形状に基づいて前記基板の水平方向の位置を検出し直す工程と,
を有することを特徴とする請求項17に記載の基板位置検出方法。 - 搬送アームで基板を回収する基板回収方法であって,
基板の周縁部形状に沿って配設された複数の撮像手段からの出力画像に基づいてそれぞれ,回収の対象となる基板の周縁部を検出する基板周縁部検出工程と,
前記基板周縁部検出工程において,少なくとも1つ以上の撮像手段で前記基板の周縁部を検出できた場合は,その周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが回収可能範囲を超える場合には前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正する基板位置ずれ補正工程と,
前記位置ずれが前記回収可能範囲を超えない場合又は前記位置ずれ補正により前記回収可能範囲を超えなくなった場合には,前記搬送アームによって前記基板を回収する基板回収工程と,
前記基板周縁部検出工程において,いずれの撮像手段によっても前記基板の周縁部を検出できなかった場合は,前記各撮像手段からの出力画像によってその測定視野に前記基板が有るか無いかの有無状態を検出して,基板有り状態を検出した撮像手段についてはその設置部位から遠ざかる方向を調整方向とするとともに基板無し状態を検出した撮像手段についてはその設置部位に近づく方向を調整方向としたときに,前記各撮像手段ごとに得られる前記調整方向を合成した方向を前記基板の位置調整方向とし,その方向に前記基板を移動させることによって基板位置の調整を行う基板位置調整工程と,
を有し,
複数の照明用光源をそれぞれ前記各撮像手段に向けて光が照射されるように配置し,前記撮像手段と照明用光源との間に基板があるとその部分の撮像手段の出力画像は暗くなり,前記撮像手段と照明用光源との間に基板がないとその部分の撮像手段の出力画像は明るくなることを利用して,前記各撮像手段の出力画像における基板の周縁部及び基板の有無状態を検出し,
前記各撮像手段の測定視野に複数の検出領域を設定し,各検出領域の明暗状態に応じて基板の周縁部及び基板の有無状態を検出するとともに前記基板の調整方向を決定することを特徴とする基板回収方法。 - 前記基板位置調整工程によって,少なくとも1つ以上の撮像手段によって前記基板の周縁部を検出できるようになった場合には,その周縁部の形状から得られる前記基板の水平方向の位置に基づいて所定の基準位置からの位置ずれを求め,その位置ずれが回収可能範囲を超える場合には前記基板を水平方向に移動させて位置ずれを補正し,前記位置ずれが前記回収可能範囲を超えない場合又は前記位置ずれ補正により前記回収可能範囲を超えなくなった場合には,前記搬送アームによって前記基板を回収することを特徴とする請求項19に記載の基板回収方法。
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Families Citing this family (49)
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JP6167622B2 (ja) * | 2013-04-08 | 2017-07-26 | オムロン株式会社 | 制御システムおよび制御方法 |
CN104425304B (zh) * | 2013-09-09 | 2018-05-25 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶片位置检测装置 |
KR102053082B1 (ko) * | 2014-02-17 | 2020-01-08 | (주)테크윙 | 반도체소자 테스트용 핸들러 및 반도체소자 테스트용 핸들러의 작동 방법 |
JP5893695B1 (ja) * | 2014-09-10 | 2016-03-23 | ファナック株式会社 | 物品搬送システム |
CN105603383B (zh) * | 2014-11-24 | 2017-12-29 | 中晟光电设备(上海)股份有限公司 | 托盘晶圆定位系统、方法及mocvd设备 |
US9841299B2 (en) * | 2014-11-28 | 2017-12-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Position determining device, position determining method, lithographic apparatus, and method for manufacturing object |
CN105762101B (zh) * | 2014-12-19 | 2019-02-19 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶片定位装置及方法 |
EP3082155B1 (en) * | 2015-04-14 | 2023-08-30 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
US9405287B1 (en) * | 2015-07-22 | 2016-08-02 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for optical calibration of wafer placement by a robot |
JP6432742B2 (ja) * | 2015-09-30 | 2018-12-05 | 信越半導体株式会社 | エピタキシャル成長装置及びエピタキシャルウェーハの製造方法 |
JP6671993B2 (ja) * | 2016-02-01 | 2020-03-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板受け渡し位置の教示方法及び基板処理システム |
CN105824200B (zh) * | 2016-05-31 | 2017-08-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板支撑结构及曝光机 |
US11156993B2 (en) * | 2016-06-02 | 2021-10-26 | Universal Instruments Corporation | Semiconductor die offset compensation variation |
CN107946227B (zh) * | 2017-02-08 | 2018-12-18 | 中晟光电设备(上海)股份有限公司 | 一种基于托盘的晶圆定位方法及系统 |
JP6276449B1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-02-07 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体 |
CN109103122B (zh) * | 2017-06-20 | 2020-10-16 | 梭特科技股份有限公司 | 影像校准的置晶方法及置晶设备 |
JP2019011961A (ja) * | 2017-06-29 | 2019-01-24 | セイコーエプソン株式会社 | 電子部品搬送装置および電子部品検査装置 |
CN107195571A (zh) * | 2017-07-03 | 2017-09-22 | 上海华力微电子有限公司 | 一种侦测系统 |
JP2019021747A (ja) * | 2017-07-14 | 2019-02-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板位置調整方法、記憶媒体及び基板処理システム |
JP6881188B2 (ja) * | 2017-09-27 | 2021-06-02 | オムロン株式会社 | 位置検出装置およびプログラム |
CN109767998B (zh) * | 2017-11-09 | 2021-11-23 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 处理腔室、半导体制造设备以及其校正方法 |
JP7097691B2 (ja) * | 2017-12-06 | 2022-07-08 | 東京エレクトロン株式会社 | ティーチング方法 |
JP7030497B2 (ja) | 2017-12-13 | 2022-03-07 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体 |
US10984524B2 (en) * | 2017-12-21 | 2021-04-20 | Advanced Ion Beam Technology, Inc. | Calibration system with at least one camera and method thereof |
US11468590B2 (en) * | 2018-04-24 | 2022-10-11 | Cyberoptics Corporation | Wireless substrate-like teaching sensor for semiconductor processing |
JP7008609B2 (ja) * | 2018-10-18 | 2022-01-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、及び搬送位置補正方法 |
JP7446714B2 (ja) * | 2019-02-01 | 2024-03-11 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、および基板処理方法 |
CN111645064A (zh) * | 2019-03-04 | 2020-09-11 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 机械手位置校准装置及方法、机械手控制系统 |
JP6709316B1 (ja) * | 2019-07-16 | 2020-06-10 | Dmg森精機株式会社 | 測定装置 |
JP7372078B2 (ja) * | 2019-08-19 | 2023-10-31 | 株式会社Screenホールディングス | 基板の偏芯低減方法およびティーチング装置 |
CN110729216A (zh) * | 2019-10-21 | 2020-01-24 | 华虹半导体(无锡)有限公司 | 晶圆位置检测装置、晶圆位置检测方法 |
CN113120596B (zh) * | 2019-12-31 | 2022-11-22 | 旺矽科技股份有限公司 | 物料移载状态侦测系统及方法 |
JP7357549B2 (ja) * | 2020-01-07 | 2023-10-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の位置ずれ検出方法、基板位置の異常判定方法、基板搬送制御方法、及び基板の位置ずれ検出装置 |
CN113675123B (zh) * | 2021-07-29 | 2024-01-05 | 长鑫存储技术有限公司 | 一种晶圆校准装置、方法及系统 |
US20230036587A1 (en) * | 2021-07-29 | 2023-02-02 | Changxin Memory Technologies, Inc. | Wafer alignment device, wafer alignment method and wafer alignment system |
CN113725136A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-30 | 长江存储科技有限责任公司 | 晶圆的对准方法、系统、计算机可读存储介质及处理器 |
CN113467199B (zh) * | 2021-09-06 | 2021-11-12 | 宁波润华全芯微电子设备有限公司 | 一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置 |
CN116995024A (zh) * | 2022-04-26 | 2023-11-03 | 重庆康佳光电科技有限公司 | 晶圆取放装置及刻蚀设备、晶圆拾取方法 |
CN116864417B (zh) * | 2023-07-19 | 2024-03-08 | 大连皓宇电子科技有限公司 | 一种对晶圆位置进行校准的装置及方法 |
CN117038495B (zh) * | 2023-10-10 | 2024-01-30 | 浙江果纳半导体技术有限公司 | 晶圆检测机构、检测方法及晶圆传输装置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0244202B1 (en) * | 1986-04-28 | 1994-09-21 | Varian Associates, Inc. | Wafer transfer system |
JPH06181251A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-06-28 | Ebara Corp | 位置合わせ装置 |
US6225012B1 (en) * | 1994-02-22 | 2001-05-01 | Nikon Corporation | Method for positioning substrate |
JP2602415B2 (ja) * | 1994-06-16 | 1997-04-23 | 山形日本電気株式会社 | ウェーハ位置決め装置 |
US5759006A (en) * | 1995-07-27 | 1998-06-02 | Nitto Denko Corporation | Semiconductor wafer loading and unloading apparatus, and semiconductor wafer transport containers for use therewith |
JPH09181154A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板熱処理装置 |
KR100257279B1 (ko) * | 1996-06-06 | 2000-06-01 | 이시다 아키라 | 주변노광장치 및 방법 |
JP4063921B2 (ja) * | 1997-08-07 | 2008-03-19 | オリンパス株式会社 | 基板中心位置検出装置及び方法 |
JP3468056B2 (ja) | 1997-09-23 | 2003-11-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板検出装置 |
KR20010032714A (ko) * | 1997-12-03 | 2001-04-25 | 오노 시게오 | 기판 반송방법 및 기판 반송장치, 이것을 구비한 노광장치및 이 노광장치를 이용한 디바이스 제조방법 |
JP2000021861A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Sony Corp | ドライエッチング装置 |
US6690473B1 (en) * | 1999-02-01 | 2004-02-10 | Sensys Instruments Corporation | Integrated surface metrology |
JP2001318470A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-11-16 | Nikon Corp | 露光装置、マイクロデバイス、フォトマスク、及び露光方法 |
TW512478B (en) | 2000-09-14 | 2002-12-01 | Olympus Optical Co | Alignment apparatus |
US6853874B2 (en) * | 2000-12-08 | 2005-02-08 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Variable-width substrate conveyor, method of changing width of the same, and method of matching widths of two adjacent substrate conveyors |
JP2002280287A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-27 | Nikon Corp | 位置検出方法、位置検出装置、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP3795820B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2006-07-12 | 株式会社東芝 | 基板のアライメント装置 |
JP4128540B2 (ja) * | 2003-06-05 | 2008-07-30 | 株式会社新川 | ボンディング装置 |
US7110106B2 (en) * | 2003-10-29 | 2006-09-19 | Coretech Optical, Inc. | Surface inspection system |
KR20070048650A (ko) * | 2004-08-31 | 2007-05-09 | 가부시키가이샤 니콘 | 위치 맞춤 방법, 처리 시스템, 기판의 투입 재현성 계측방법, 위치 계측 방법, 노광 방법, 기판 처리 장치, 계측방법 및 계측 장치 |
JP2006071395A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Nikon Corp | 較正方法及び位置合わせ方法 |
-
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