CN113467199B - 一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置 - Google Patents

一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置 Download PDF

Info

Publication number
CN113467199B
CN113467199B CN202111035548.6A CN202111035548A CN113467199B CN 113467199 B CN113467199 B CN 113467199B CN 202111035548 A CN202111035548 A CN 202111035548A CN 113467199 B CN113467199 B CN 113467199B
Authority
CN
China
Prior art keywords
waste liquid
cup
liquid collecting
rectifying
driving part
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202111035548.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113467199A (zh
Inventor
刘长伟
耿克涛
袁创迪
刘金
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ningbo All Semi Micro Electronics Equipment Co ltd
Original Assignee
Ningbo All Semi Micro Electronics Equipment Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ningbo All Semi Micro Electronics Equipment Co ltd filed Critical Ningbo All Semi Micro Electronics Equipment Co ltd
Priority to CN202111035548.6A priority Critical patent/CN113467199B/zh
Publication of CN113467199A publication Critical patent/CN113467199A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113467199B publication Critical patent/CN113467199B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3092—Recovery of material; Waste processing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Abstract

本发明公开了一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置，所述防止反溅液体污染晶圆的装置包括：废液收集整流杯；废液收集整流杯支撑件，所述废液收集整流杯支撑件用于支撑所述废液收集整流杯；至少一个升降主动件，所述升降主动件设于所述废液收集整流杯的任意一侧，所述升降主动件用于控制所述废液收集整流杯升降运动；至少一个平动主动件，所述平动主动件与所述升降主动件滑动连接，所述平动主动件用于控制所述废液收集整流杯水平运动；其中，所述升降主动件连接所述废液收集整流杯支撑件，或所述平动主动件连接所述废液收集整流杯支撑件。本发明有效解决更换废液收集整流杯时，更换空间较小，操作不方便的问题。

Description

一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置
技术领域
本发明涉及半导体行业晶圆光刻胶固化领域，尤其涉及一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置。
背景技术
在晶圆的涂布显影工艺中，需要对晶圆喷涂显影液。晶圆设于可升降的晶圆装载装置上（CHECK）上，位于废液收集整流杯（CUP）内，在清洗过程中废液收集整流杯能防止旋转喷涂时显影液反溅并整流。其中，废液收集整流杯需要定期更换，而由于废液收集整流杯位于设备内部，当对其进行更换时，更换空间比较小，操作不方便。
发明内容
因此，本发明实施例提供一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置，有效解决更换废液收集整流杯时，更换空间较小，操作不方便的问题。
本发明实施例提供的一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置，包括：废液收集整流杯；废液收集整流杯支撑件，所述废液收集整流杯支撑件用于支撑所述废液收集整流杯；至少一个升降主动件，所述升降主动件设于所述废液收集整流杯的任意一侧，所述升降主动件用于控制所述废液收集整流杯升降运动；至少一个平动主动件，所述平动主动件与所述升降主动件滑动连接，所述平动主动件用于控制所述废液收集整流杯水平运动；其中，所述升降主动件连接所述废液收集整流杯支撑件，或所述平动主动件连接所述废液收集整流杯支撑件。
与现有技术相比，采用该技术方案后所达到的技术效果：所述升降主动件控制所述废液收集整流杯和所述废液收集整流杯支撑件抬升，所述平动主动件控制所述废液收集整流杯和所述废液收集整流杯支撑件平移，使得所述废液收集整流杯能够远离废液收集整流杯底座，便于手动拿取或更换所述废液收集整流杯；更换所述废液收集整流杯后可通过所述升降主动件和所述平动主动件进行精准复位；并且所述废液收集整流杯经过抬升后再平移，不会与防止反溅液体污染晶圆的装置的其他组件发生干涉。
在本发明的一个实施例中，所述升降主动件包括：第一升降主动件和第二升降主动件，所述第一升降主动件和所述第二升降主动件位于所述废液收集整流杯相对的两侧。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一升降主动件和所述第二升降主动件同时控制所述废液收集整流杯升降，能够使所述废液收集整流杯的升降运动更加稳定，避免所述废液收集整流杯发生倾斜。
在本发明的一个实施例中，所述平动主动件包括：第一平动主动件和第二平动主动件；所述第一平动主动件与所述第一升降主动件滑动连接，所述第二平动主动件与所述第二升降主动件滑动连接；所述第一平动主动件和所述第二平动主动件的运动方向相同。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一平动主动件和所述第二平动主动件同时控制所述废液收集整流杯升降，能够使所述废液收集整流杯的水平运动更加稳定，避免所述废液收集整流杯发生倾斜。
在本发明的一个实施例中，所述平动主动件包括：第一平动主动件；所述防止反溅液体污染晶圆的装置还包括：平动从动件；所述第一平动主动件与所述第一升降主动件滑动连接，所述平动从动件与所述第二升降主动件滑动连接。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一平动主动件提供水平运动的动力，带动所述废液收集整流杯水平运动，所述平动从动件随所述第一平动主动件滑动而滑动，并起到支撑的作用。
在本发明的一个实施例中，所述第一平动主动件包括：第一气缸，包括第一气缸本体和第一推杆，所述第一推杆向所述第一气缸本体的侧面伸出；安装板，所述安装板与所述第一气缸本体滑动连接，所述安装板与所述第一推杆固定。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第一气缸本体固定后所述第一推杆伸出，可以带动所述安装板向同一方向平动，从而带动所述升降主动件、所述废液收集整流杯和所述废液收集整流杯支撑件平移。
在本发明的一个实施例中，所述第一升降主动件包括：第二气缸，包括第二气缸本体和第二推杆，所述第二气缸本体垂直设于所述安装板上；其中，所述第二推杆与所述安装板固定，或所述第二推杆与所述废液收集整流杯支撑件固定。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述第二气缸设于所述安装板上随所述第一气缸的所述第一推杆伸出而平移；所述第二推杆连接所述安装板时，所述第二气缸本体能够推动所述废液收集整流杯支撑件上升或拉动所述废液收集整流杯支撑件下降；所述第二推杆连接所述废液收集整流杯支撑件时，所述第二推杆能够推动所述废液收集整流杯支撑件上升或拉动所述废液收集整流杯支撑件下降。
在本发明的一个实施例中，所述防止反溅液体污染晶圆的装置还包括：支撑件，所述支撑件与所述安装板固定；其中，所述第二气缸本体与所述支撑件固定或滑动连接。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述支撑件能够进一步固定所述第二气缸本体，避免所述第二气缸动作时产生滑移；所述安装板下方连接所述第一气缸后，其上方不便于连接所述第二气缸，但所述支撑件与所述第二气缸固定后，所述第二气缸无需与所述安装板连接即可稳定工作，因此便于安装所述第二气缸。
在本发明的一个实施例中，所述废液收集整流杯支撑件环绕所述废液收集整流杯，设于所述废液收集整流杯底面。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述废液收集整流杯支撑件能够稳定支撑所述废液收集整流杯，避免在所述废液收集整流杯运动过程中发生倾斜。
在本发明的一个实施例中，所述防止反溅液体污染晶圆的装置还包括：废液收集整流杯底座，所述废液收集整流杯底座位于所述废液收集整流杯支撑件下方，所述废液收集整流杯底座用于支撑所述废液收集整流杯和所述废液收集整流杯支撑件。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述废液收集整流杯和所述废液收集整流杯支撑件回到原位时，所述废液收集整流杯底座能够支撑所述废液收集整流杯和所述废液收集整流杯支撑件；所述废液收集整流杯底座用于容纳晶圆。
在本发明的一个实施例中，所述防止反溅液体污染晶圆的装置还包括：位置传感器，用于感应所述废液收集整流杯的位置。
采用该技术方案后所达到的技术效果：所述位置传感器能够检测所述废液收集整流杯是否运动至原位或是否放置到原位。
综上所述，本申请上述各个实施例可以具有如下一个或多个优点或有益效果：i)本发明通过所述升降主动件和所述平动主动件实现了所述废液收集整流杯的升降运动和水平运动，所述废液收集整流杯与所述废液收集整流杯底座分离后，所述防止反溅液体污染晶圆的装置具有足够的更换空间，从而便于更换所述废液收集整流杯；ii)两组所述升降主动件和所述平动主动件，能够进一步提高所述废液收集整流杯和所述废液收集整流杯支撑件运动的稳定性，避免发生倾斜。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置的结构示意图。
图2为图1中废液收集整流杯抬升状态的示意图。
图3为图2中第一平动主动件的结构示意图。
图4为图2中第一升降主动件的结构示意图。
图5为图2中I区域的放大图。
图6为图2中废液收集整流杯支撑件的结构示意图。
主要元件符号说明：
100为防止反溅液体污染晶圆的装置；110为废液收集整流杯；120为废液收集整流杯支撑件；121为延伸连接板；130为第一升降主动件；131为第二气缸本体；132为第二推杆；133为支撑件；134为气缸缓冲垫；140为第二升降主动件；150为第一平动主动件；151为第一气缸本体；152为第一推杆；153为安装板；154为滑片；160为第二平动主动件；170为废液收集整流杯底座；180为底板；190为摆臂。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参见图1-2，本发明实施例提供一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置100，包括：废液收集整流杯110（CUP）、废液收集整流杯支撑件120、至少一个升降主动件和至少一个平动主动件。其中，废液收集整流杯支撑件120位于废液收集整流杯110下方，用于支撑废液收集整流杯110，使废液收集整流杯110能够随废液收集整流杯支撑件120运动；所述升降主动件设于废液收集整流杯110的任意一侧，所述升降主动件用于控制废液收集整流杯110升降运动；所述平动主动件设于所述升降主动件的同一侧，并与所述升降主动件滑动连接，所述平动主动件用于控制废液收集整流杯110水平运动。
在本实施例中，废液收集整流杯110需要更换时，所述升降主动件和所述平动主动件依次或者同时动作，控制废液收集整流杯支撑件120依次或者同时进行抬升和平移，使得废液收集整流杯110远离其安装位，技术人员能够获得足够的更换空间，便于手动更换废液收集整流杯110。
在一个具体的实施例中，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如设有多个所述升降主动件，多个所述升降主动件均匀环绕于废液收集整流杯110，例如设有2个、3个、4个等。举例来说，所述升降主动件包括：第一升降主动件130和第二升降主动件140，第一升降主动件130和第二升降主动件140位于废液收集整流杯110相对的两侧，第一升降主动件130和第二升降主动件140同时动作使得废液收集整流杯110平稳升降。
其中，所述平动主动件的数量小于等于升降主动件，即至少一个升降主动件与平动主动件滑动连接后，废液收集整流杯110即可获得水平运动的动力；而其余未连接所述平动主动件的所述升降主动件，可以与不具备动力的滑动机构连接。
一方面，在防止反溅液体污染晶圆的装置100设有两个所述升降主动件的基础上，所述平动主动件例如包括：第一平动主动件150和第二平动主动件160。第一平动主动件150与第一升降主动件130滑动连接，第二平动主动件160与第二升降主动件140滑动连接。
进一步的，第一平动主动件150和第二平动主动件160的运动方向相同，使得废液收集整流杯支撑件120和废液收集整流杯110能够稳定地朝一个方向运动。
另一方面，在防止反溅液体污染晶圆的装置100设有两个所述升降主动件的基础上，所述平动主动件例如包括第一平动主动件150，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如还包括平动从动件（图中未示出）。其中，第一平动主动件150与第一升降主动件130滑动连接，所述平动从动件与第二升降主动件140滑动连接。所述平动从动件和第一平动主动件150同时对废液收集整流杯110的运动方向进行了限定，在第一平动主动件150提供动力的同时，废液收集整流杯110对应所述平动从动件的一侧不会旋转或倾斜。
举例来说，所述平动从动件可以是直线导轨。
优选的，在防止反溅液体污染晶圆的装置100设有三个所述升降主动件的基础上，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如包括1~2个所述平动从动件；在防止反溅液体污染晶圆的装置100设有四个所述升降主动件的基础上，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如包括1~3个所述平动从动件，此处不再赘述。
在一个具体的实施例中，所述升降主动件连接废液收集整流杯支撑件120，或所述平动主动件连接废液收集整流杯支撑件120。举例来说，废液收集整流杯110上升时，所述升降主动件带动废液收集整流杯110和废液收集整流杯支撑件120上升，废液收集整流杯110平移时，所述平动主动件带动废液收集整流杯110、废液收集整流杯支撑件120上升和所述升降主动件平移；或者，废液收集整流杯110上升时，所述升降主动件带动废液收集整流杯110、废液收集整流杯支撑件120和所述平动主动件上升，废液收集整流杯110平移时，所述平动主动件带动废液收集整流杯110和废液收集整流杯支撑件120平移。
优选的，参见图3，第一平动主动件150例如包括：第一气缸和安装板153，所述第一气缸带动安装板153滑动。
进一步的，所述第一气缸例如为滑台气缸，包括第一气缸本体151和第一推杆152，第一推杆152向第一气缸本体151的侧面伸出；安装板153与第一气缸本体151滑动连接，安装板153与第一推杆152固定，第一推杆152伸出或缩回时，带动安装板153在第一气缸本体151上滑动。
再进一步，第一气缸例如还包括滑片154。其中，滑片154为L型结构，滑片154的一端连接第一推杆152的端部，滑片154的另一端位于第一气缸本体151的上方，并与第一气缸本体151滑动连接；安装板153固定于滑片154远离第一气缸本体151的一侧。
优选的，结合图2、图4和图5，第一升降主动件130例如包括：第二气缸，所述第二气缸包括第二气缸本体131和第二推杆132，第二气缸本体131垂直设于安装板153上，从而实现竖直方向的滑动。其中，第二推杆132与安装板153固定，或第二推杆132与废液收集整流杯支撑件120固定。
优选的，废液收集整流杯支撑件120对应第一升降主动件130的一侧设有延伸连接板121，第二推杆132插接于延伸连接板121，从而带动废液收集整流杯支撑件120进行升降运动。
进一步的，第一升降主动件130例如还包括：气缸缓冲垫134，设于第二气缸本体131和延伸连接板121之间。其中，气缸缓冲垫134例如通过螺栓与延伸连接板121固定，第二推杆132穿过气缸缓冲垫134于延伸连接板121固定。
举例来说，气缸缓冲垫134例如为硅胶材质。
再进一步，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如还包括：支撑件133，设于第一升降主动件130的一侧，固定于安装板153上，用于支撑第二气缸本体131，避免第二气缸本体131在动作的过程中发生转动或偏移。
其中，第二气缸本体131与支撑件133固定或滑动连接。举例来说，第二气缸本体131与支撑件133之间可以通过直线导轨连接，也可以通过销、螺钉等紧固件固定，通过设置支撑件133，此时第二气缸本体131与安装板153之间仅为接触状态也能够保证第二气缸本体131的稳定动作。
优选的，第二升降主动件140的结构与第一升降主动件130的结构相同，此处不再赘述。
在一个具体的实施例中，参见图2和图6，废液收集整流杯支撑件120环绕废液收集整流杯110，设于废液收集整流杯110底面。举例来说，废液收集整流杯支撑件120为环形结构，与废液收集整流杯110的直径匹配，使得废液收集整流杯支撑件120在移动过程中废液收集整流杯110不会滑动。
进一步的，废液收集整流杯支撑件120上可设置至少一个固定孔，所述固定孔例如与延伸连接板121交错分布，环绕废液收集整流杯支撑件120设置，用于废液收集整流杯支撑件120与废液收集整流杯110的固定。
再进一步，在防止反溅液体污染晶圆的装置100包括多个所述升降主动件的基础上，延伸连接板121的竖梁也为多个，环绕废液收集整流杯110设置。
在一个具体的实施例中，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如还包括：位置传感器（图中未示出），所述位置传感器用于感应废液收集整流杯110的位置。举例来说，所述位置传感器周向设于废液收集整流杯支撑件120，用于判断废液收集整流杯110在更换时是否安装到位；或者，所述位置传感器设于废液收集整流杯110或废液收集整流杯支撑件120上，用于检测废液收集整流杯110更换后，通过所述升降主动件和所述平动主动件移动后，是否移动到原位。当所述位置传感器检测到废液收集整流杯110位置正常后，废液收集整流杯110恢复正常工作状态。
在一个具体的实施例中，参见图1-2，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如还包括：废液收集整流杯底座170，废液收集整流杯底座170位于废液收集整流杯支撑件120下方，废液收集整流杯底座170用于支撑废液收集整流杯110和废液收集整流杯支撑件120。其中，所述升降主动件抬升废液收集整流杯110时，能够使废液收集整流杯110和废液收集整流杯支撑件120完全脱离废液收集整流杯底座170，避免所述平动主动件运动时，废液收集整流杯110、废液收集整流杯支撑件120与废液收集整流杯底座170发生干涉。
在废液收集整流杯底座170的基础上，所述位置传感器还可以设于废液收集整流杯底座170，此处不再赘述。
优选的，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如还包括：底板180，其中，废液收集整流杯底座170与所述平动主动件均安装于底板180上。
进一步的，防止反溅液体污染晶圆的装置100例如还包括：摆臂190，设于废液收集整流杯底座170的一侧，其中，平动主动件的运动方向例如与摆臂190平行，使得废液收集整流杯110和废液收集整流杯支撑件120不会与摆臂190发生干涉。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (8)

1.一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置，其特征在于，包括：
废液收集整流杯；
废液收集整流杯支撑件，所述废液收集整流杯支撑件用于支撑所述废液收集整流杯；
至少一个升降主动件，所述升降主动件设于所述废液收集整流杯的任意一侧，所述升降主动件用于控制所述废液收集整流杯升降运动；所述升降主动件包括：第一升降主动件和第二升降主动件，所述第一升降主动件和所述第二升降主动件位于所述废液收集整流杯相对的两侧；
至少一个平动主动件，所述平动主动件与所述升降主动件滑动连接，所述平动主动件用于控制所述废液收集整流杯水平运动；所述平动主动件包括：第一平动主动件和第二平动主动件；所述第一平动主动件与所述第一升降主动件滑动连接，所述第二平动主动件与所述第二升降主动件滑动连接；所述第一平动主动件和所述第二平动主动件的运动方向相同；
其中，所述升降主动件连接所述废液收集整流杯支撑件，或所述平动主动件连接所述废液收集整流杯支撑件。
2.根据权利要求1所述的防止反溅液体污染晶圆的装置，其特征在于，所述平动主动件包括：第一平动主动件；
所述防止反溅液体污染晶圆的装置还包括：平动从动件；
所述第一平动主动件与所述第一升降主动件滑动连接，所述平动从动件与所述第二升降主动件滑动连接。
3.根据权利要求1-2任一项所述的防止反溅液体污染晶圆的装置，其特征在于，所述第一平动主动件包括：
第一气缸，包括第一气缸本体和第一推杆，所述第一推杆向所述第一气缸本体的侧面伸出；
安装板，所述安装板与所述第一气缸本体滑动连接，所述安装板与所述第一推杆固定。
4.根据权利要求3所述的防止反溅液体污染晶圆的装置，其特征在于，所述第一升降主动件包括：
第二气缸，包括第二气缸本体和第二推杆，所述第二气缸本体垂直设于所述安装板上；
其中，所述第二推杆与所述安装板固定，或所述第二推杆与所述废液收集整流杯支撑件固定。
5.根据权利要求4所述的防止反溅液体污染晶圆的装置，其特征在于，所述防止反溅液体污染晶圆的装置还包括：
支撑件，所述支撑件与所述安装板固定；
其中，所述第二气缸本体与所述支撑件固定或滑动连接。
6.根据权利要求1所述的防止反溅液体污染晶圆的装置，其特征在于，所述废液收集整流杯支撑件环绕所述废液收集整流杯，设于所述废液收集整流杯底面。
7.根据权利要求1所述的防止反溅液体污染晶圆的装置，其特征在于，所述防止反溅液体污染晶圆的装置还包括：废液收集整流杯底座，所述废液收集整流杯底座位于所述废液收集整流杯支撑件下方，所述废液收集整流杯底座用于支撑所述废液收集整流杯和所述废液收集整流杯支撑件。
8.根据权利要求1所述的防止反溅液体污染晶圆的装置，其特征在于，所述防止反溅液体污染晶圆的装置还包括：位置传感器，所述位置传感器用于感应所述废液收集整流杯的位置。
CN202111035548.6A 2021-09-06 2021-09-06 一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置 Active CN113467199B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111035548.6A CN113467199B (zh) 2021-09-06 2021-09-06 一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111035548.6A CN113467199B (zh) 2021-09-06 2021-09-06 一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113467199A CN113467199A (zh) 2021-10-01
CN113467199B true CN113467199B (zh) 2021-11-12

Family

ID=77867468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111035548.6A Active CN113467199B (zh) 2021-09-06 2021-09-06 一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113467199B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117153740B (zh) * 2023-10-31 2024-02-09 宁波润华全芯微电子设备有限公司 一种晶圆加工装置

Citations (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09213770A (ja) * 1996-01-29 1997-08-15 Toshiba Corp 半導体ウエハ処理装置および半導体ウエハ処理装置におけるアライメント方法
EP1855794A2 (en) * 2005-02-22 2007-11-21 Xactix, Inc. Etching chamber with subchamber
CN200979877Y (zh) * 2006-11-30 2007-11-21 上海交大泰阳绿色能源有限公司 一种硅片转移装置
CN102024682A (zh) * 2010-09-17 2011-04-20 沈阳芯源微电子设备有限公司 带有可升降挡板的多层腔体装置
CN201817543U (zh) * 2010-10-25 2011-05-04 北儒精密股份有限公司 可升降的移动式磁铁组
EP2353193A1 (de) * 2008-12-01 2011-08-10 Grenzebach Maschinenbau GmbH Verfahren und vorrichtung zum vollautomatischen selektieren und verpacken von photovoltaischen modulen
CN102610491A (zh) * 2011-01-20 2012-07-25 大日本网屏制造株式会社 基板处理方法及基板处理装置
CN103325722A (zh) * 2013-05-24 2013-09-25 沈阳拓荆科技有限公司 晶圆输送机构及使用方法
TWM469614U (zh) * 2013-09-04 2014-01-01 Sheng Feng Technology Co Ltd 檢測基座
TW201515976A (zh) * 2013-09-11 2015-05-01 Hirata Spinning 檢查方法及檢查裝置
CN105097608A (zh) * 2014-05-22 2015-11-25 沈阳芯源微电子设备有限公司 一种防止高压水雾喷溅的cup结构
CN105289923A (zh) * 2014-05-30 2016-02-03 盛美半导体设备（上海）有限公司 一种晶圆涂胶机和涂胶方法
CN106711060A (zh) * 2015-11-16 2017-05-24 弘塑科技股份有限公司 旋转蚀刻清洗机台的流体收集装置
CN107180776A (zh) * 2017-05-16 2017-09-19 重庆达标电子科技有限公司 二极管加热清洗装置
CN206502402U (zh) * 2017-02-23 2017-09-19 厦门市三熠智能科技有限公司 一种圆柱电池生产线的下料收集装置
CN107768270A (zh) * 2016-08-16 2018-03-06 沈阳芯源微电子设备有限公司 一种防止反溅液体污染晶片的装置
CN107958645A (zh) * 2016-10-17 2018-04-24 永友Dsp有限公司 Oled面板用探针单元更换装置
CN207966941U (zh) * 2018-04-03 2018-10-12 德淮半导体有限公司 一种晶圆升降装置
CN208560488U (zh) * 2018-06-08 2019-03-01 崔平平 一种医疗垃圾收集桶的支撑装置
CN109791885A (zh) * 2016-09-23 2019-05-21 株式会社斯库林集团 基板处理装置
CN110370310A (zh) * 2019-06-19 2019-10-25 宁波润华全芯微电子设备有限公司 一种机械手
CN110739242A (zh) * 2018-07-19 2020-01-31 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种晶圆光刻胶及金属剥离工艺中的防雾气外溢装置
CN210182345U (zh) * 2019-09-20 2020-03-24 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种防止反溅液体污染基板的装置
CN110993524A (zh) * 2019-04-08 2020-04-10 清华大学 一种基板后处理装置和方法
CN111001606A (zh) * 2019-12-27 2020-04-14 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 一种半导体清洗设备
CN111085491A (zh) * 2019-12-27 2020-05-01 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 一种防溅回收组件
CN111211066A (zh) * 2018-11-22 2020-05-29 辛耘企业股份有限公司 流体收集装置
CN111477570A (zh) * 2020-04-22 2020-07-31 丁许 一种再生晶圆加工的处理装置
TW202036670A (zh) * 2019-03-20 2020-10-01 日商斯庫林集團股份有限公司 洗淨頭、中心刷、外周刷、基板洗淨裝置及基板洗淨方法
CN111775056A (zh) * 2020-07-04 2020-10-16 刘永 一种化学机械研磨的防溅罩
CN112542414A (zh) * 2019-09-20 2021-03-23 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种基板夹持承载台
CN112786493A (zh) * 2020-12-31 2021-05-11 至微半导体(上海)有限公司 一种有效防止晶圆交叉污染的气流控制模组
CN112960594A (zh) * 2021-03-24 2021-06-15 中科晶源微电子技术（北京）有限公司 升降装置、定位设备和腔室设备
CN213691971U (zh) * 2020-11-27 2021-07-13 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备及其工艺腔室

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW415638U (en) * 1999-08-10 2000-12-11 Taiwan Semiconductor Mfg Spin coating apparatus for multiple-cup design
KR100880291B1 (ko) * 2002-10-11 2009-01-23 브룩스 오토메이션, 인크. 자동 재료 핸들링 시스템
JP5132904B2 (ja) * 2006-09-05 2013-01-30 東京エレクトロン株式会社 基板位置決め方法，基板位置検出方法，基板回収方法及び基板位置ずれ補正装置
US9214372B2 (en) * 2008-08-28 2015-12-15 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Substrate processing system, carrying device and coating device
JP5263284B2 (ja) * 2010-12-28 2013-08-14 東京エレクトロン株式会社 塗布方法、塗布装置及び記憶媒体
JP5639958B2 (ja) * 2011-05-27 2014-12-10 日東電工株式会社 半導体ウエハマウント方法および半導体ウエハマウント装置
JP6279276B2 (ja) * 2013-10-03 2018-02-14 株式会社荏原製作所 基板洗浄装置及び基板処理装置
JP6239417B2 (ja) * 2014-03-24 2017-11-29 株式会社荏原製作所 基板処理装置
JP6609425B2 (ja) * 2015-06-17 2019-11-20 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置
CN108074830B (zh) * 2016-11-18 2020-08-11 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种晶圆位置检测装置及其检测方法
CN111469046B (zh) * 2020-04-22 2020-12-29 华海清科股份有限公司 一种晶圆装载杯

Patent Citations (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09213770A (ja) * 1996-01-29 1997-08-15 Toshiba Corp 半導体ウエハ処理装置および半導体ウエハ処理装置におけるアライメント方法
EP1855794A2 (en) * 2005-02-22 2007-11-21 Xactix, Inc. Etching chamber with subchamber
CN200979877Y (zh) * 2006-11-30 2007-11-21 上海交大泰阳绿色能源有限公司 一种硅片转移装置
EP2353193A1 (de) * 2008-12-01 2011-08-10 Grenzebach Maschinenbau GmbH Verfahren und vorrichtung zum vollautomatischen selektieren und verpacken von photovoltaischen modulen
CN102024682A (zh) * 2010-09-17 2011-04-20 沈阳芯源微电子设备有限公司 带有可升降挡板的多层腔体装置
CN201817543U (zh) * 2010-10-25 2011-05-04 北儒精密股份有限公司 可升降的移动式磁铁组
CN102610491A (zh) * 2011-01-20 2012-07-25 大日本网屏制造株式会社 基板处理方法及基板处理装置
CN103325722A (zh) * 2013-05-24 2013-09-25 沈阳拓荆科技有限公司 晶圆输送机构及使用方法
TWM469614U (zh) * 2013-09-04 2014-01-01 Sheng Feng Technology Co Ltd 檢測基座
TW201515976A (zh) * 2013-09-11 2015-05-01 Hirata Spinning 檢查方法及檢查裝置
CN105097608A (zh) * 2014-05-22 2015-11-25 沈阳芯源微电子设备有限公司 一种防止高压水雾喷溅的cup结构
CN105289923A (zh) * 2014-05-30 2016-02-03 盛美半导体设备（上海）有限公司 一种晶圆涂胶机和涂胶方法
CN106711060A (zh) * 2015-11-16 2017-05-24 弘塑科技股份有限公司 旋转蚀刻清洗机台的流体收集装置
CN107768270A (zh) * 2016-08-16 2018-03-06 沈阳芯源微电子设备有限公司 一种防止反溅液体污染晶片的装置
CN109791885A (zh) * 2016-09-23 2019-05-21 株式会社斯库林集团 基板处理装置
CN107958645A (zh) * 2016-10-17 2018-04-24 永友Dsp有限公司 Oled面板用探针单元更换装置
CN206502402U (zh) * 2017-02-23 2017-09-19 厦门市三熠智能科技有限公司 一种圆柱电池生产线的下料收集装置
CN107180776A (zh) * 2017-05-16 2017-09-19 重庆达标电子科技有限公司 二极管加热清洗装置
CN207966941U (zh) * 2018-04-03 2018-10-12 德淮半导体有限公司 一种晶圆升降装置
CN208560488U (zh) * 2018-06-08 2019-03-01 崔平平 一种医疗垃圾收集桶的支撑装置
CN110739242A (zh) * 2018-07-19 2020-01-31 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种晶圆光刻胶及金属剥离工艺中的防雾气外溢装置
CN111211066A (zh) * 2018-11-22 2020-05-29 辛耘企业股份有限公司 流体收集装置
TW202036670A (zh) * 2019-03-20 2020-10-01 日商斯庫林集團股份有限公司 洗淨頭、中心刷、外周刷、基板洗淨裝置及基板洗淨方法
CN110993524A (zh) * 2019-04-08 2020-04-10 清华大学 一种基板后处理装置和方法
CN110370310A (zh) * 2019-06-19 2019-10-25 宁波润华全芯微电子设备有限公司 一种机械手
CN210182345U (zh) * 2019-09-20 2020-03-24 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种防止反溅液体污染基板的装置
CN112542414A (zh) * 2019-09-20 2021-03-23 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种基板夹持承载台
CN111085491A (zh) * 2019-12-27 2020-05-01 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 一种防溅回收组件
CN111001606A (zh) * 2019-12-27 2020-04-14 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 一种半导体清洗设备
CN111477570A (zh) * 2020-04-22 2020-07-31 丁许 一种再生晶圆加工的处理装置
CN111775056A (zh) * 2020-07-04 2020-10-16 刘永 一种化学机械研磨的防溅罩
CN213691971U (zh) * 2020-11-27 2021-07-13 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备及其工艺腔室
CN112786493A (zh) * 2020-12-31 2021-05-11 至微半导体(上海)有限公司 一种有效防止晶圆交叉污染的气流控制模组
CN112960594A (zh) * 2021-03-24 2021-06-15 中科晶源微电子技术（北京）有限公司 升降装置、定位设备和腔室设备

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
半导体匀胶系统的研究与优化设计;林盛浩;《中国优秀硕士学位论文全文数据库 信息科技辑》;20120215(第2期);I135-109 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN113467199A (zh) 2021-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113467199B (zh) 一种便于拆卸的防止反溅液体污染晶圆的装置
TWI559404B (zh) 半導體擴散設備中石英反應管之裝卸裝置及其裝卸方法
JP4249155B2 (ja) 基板移送装置
KR102642283B1 (ko) 운반 장치 및 반도체 반응 챔버
CN110176390B (zh) 无片盒清洗设备中批量晶圆固定、驱动装置及使用方法
CN111508805A (zh) 半导体设备中的晶片升降结构及半导体设备
CN111211078A (zh) 一种晶圆校准装置和方法及一种晶圆边缘刻蚀设备和方法
CN104826978A (zh) 车架固定装置
CN115513121A (zh) 一种晶圆承托机构及传送装置
CN107086201B (zh) 一种基板处理装置
CN211168808U (zh) 一种双工位供料机
CN217444367U (zh) 承载设备
CN215493954U (zh) 一种晶圆检测设备
CN212831218U (zh) 一种循环线阻挡顶升定位治具机构
CN211004360U (zh) 交叉式升降机构
CN203593029U (zh) 半导体扩散设备中石英反应管的装卸装置
KR101034041B1 (ko) 기판 정렬장치
CN210936212U (zh) 一种非接触式超声清洗装置移动导轨
CN111490001A (zh) 半导体加工设备的升降装置及半导体加工设备
CN218448311U (zh) 一种电池箱体底板安装工装及电池装置组装设备
CN212659524U (zh) 晶圆缺口整平装置
KR900002592B1 (ko) 칼러 브라운관 제조장치에 있어서의 패널과 샤도우 마스크와의 장착장치
CN113818076B (zh) 一种承载装置及气相外延设备
CN219226236U (zh) 一种用于半导体制造的辅助工装
CN213669025U (zh) 振摇器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant