JP2002124556A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

ウエハ搬送装置

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JP2002124556A
JP2002124556A JP2000313847A JP2000313847A JP2002124556A JP 2002124556 A JP2002124556 A JP 2002124556A JP 2000313847 A JP2000313847 A JP 2000313847A JP 2000313847 A JP2000313847 A JP 2000313847A JP 2002124556 A JP2002124556 A JP 2002124556A
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wafer
stage
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wafer holder
holder
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JP2000313847A
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English (en)
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Mamoru Takashina
護 高階
Yasuhiro Manpuku
康弘 萬福
Kazunori Hiranuma
一則 平沼
Junichi Ishizaka
純一 石坂
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 作業空間が少ない場所において、正確なティ
ーチングを行うことを可能とさせると共に作業効率を向
上させ、作業者の安全性を確保することが可能なウエハ
搬送装置を提供する。 【解決手段】 予め記憶されたデータに基づきウエハ保
持具26を移動経路に沿って移動させて、ウエハ保持具
26により保持されたウエハをステージ18上の目標位
置まで搬送するウエハ搬送装置22が、ウエハ保持具2
6がステージ18上の予め定められた位置まで移動した
ときにステージ18上の目標位置とウエハ保持具26の
位置との位置関係を検出するための検出手段42を具備
し、この検出手段42により検出された検出結果に基づ
いてウエハ保持具26の位置がステージ18上の目標位
置に整列するように移動経路のデータを修正できるよう
になっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハをウエハ支
持台上の目標位置に搬送するためのウエハ搬送装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】ICなどの半導体製品を製造する過程に
おける半製品であるウエハには、その表面にエッチング
などの技術を用いて回路パターンが形成され、ウエハ上
での回路パターンの配置、位置決めのために、オリフラ
(ウエハの周縁上に設けられた平坦部)やノッチなどの
位置決め目印が周縁部に設けられている。表面に回路パ
ターンが形成されたウエハに対しては回路パターンなど
の欠陥に関するチェックのために検査が行われ、この際
に検査を自動で行う半導体検査装置が使用される。
【0003】半導体検査装置は、一般に、ウエハを収容
するカセットと、検査に先立って主としてウエハの向き
(位置決め目印の回転位置、すなわち回路パターンの方
向)を位置合わせするためのプリアライナと、ウエハが
載置されるステージを備えた撮像検査装置と、カセット
とプリアライナとステージとの間でウエハを搬送するウ
エハ搬送装置とを含んでいる。ウエハへのゴミの付着を
防ぐために、ウエハ搬送装置としては、ウエハとの接触
面を少なくできるフォーク型ハンドを有するタイプが使
用されることが多い。このような半導体検査装置では、
ウエハ搬送装置によってカセットからウエハが取り出さ
れてプリアライナに搬送され、搬送されたウエハがオリ
フラやノッチなどの位置に基づきプリアライナによって
予め定められたXY軸方向の位置及び向きに位置合わせ
される。その後、ウエハが、プリアライナと撮像検査装
置のステージとの間で一定の位置関係(向きを含む)を
維持するように、すなわち予め定められた距離及び角度
だけXY方向移動及び回転するように、ウエハ搬送装置
によって搬送される。ウエハ搬送装置に対してこのよう
な予め定められた動作を行わせるためには、ティーチン
グすなわち教示を行う必要がある。従来は、このティー
チングの際に位置の確認を作業者の目視によって行って
いた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】半導体検査装置は、取
り扱う製品が塵埃などの異物の付着により不良品となる
ことを防止するべく半導体検査装置内に塵埃などの異物
が侵入することを極力防ぐために、周囲を密閉性の高い
ハウジングなどで取り囲んでいることが多い。ところ
が、撮像検査装置すなわちステージが密閉性の高いハウ
ジングで取り囲まれている場合には、ハウジング内、特
にステージの周囲には十分な空間がなく、ウエハ搬送装
置のティーチングを行う際に、ウエハ搬送装置のウエハ
保持具とステージとの位置関係を目視で確認することが
困難となる。したがって、ウエハがステージ上で所望さ
れる位置からズレた位置に配置される恐れが生じる。な
お、ここで使用される「位置」は、ウエハのXY軸方向
の位置及び位置決め目印によって判断し得るウエハの回
転位置(角度)を含んでいる。上記の位置に関するズレ
はステージを移動又は回転させることによって補正する
ことが可能であるが、この補正のための動作を行うこと
で、撮像検査装置のスループット(処理速度)を低下さ
せる問題を生じさせてしまう。
【0005】また、ウエハ保持具とステージとの位置関
係の目視による確認をより正確に行うためには、可動装
置が設置されているハウジング内の狭い空間でステージ
の近くまで作業者が頭を近づけねばならず、作業性や万
一可動装置が動き出した場合などの作業者の安全性に関
する問題も存在する。よって、本発明の目的は、上記従
来技術に存する問題を解消して、作業空間が少ない場所
において正確なティーチングを行うことを可能とさせる
ウエハ搬送装置を提供することにある。
【0006】また、本発明は、作業空間が少ない場所に
おけるティーチング作業において、作業効率を向上させ
ると共に、作業者の安全性を確保することが可能なウエ
ハ搬送装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的に鑑
み、ウエハ保持具の移動経路を指示するデータを予め記
憶しておき、該データに基づき前記ウエハ保持具を前記
移動経路に沿って移動させて、前記ウエハ保持具により
保持されたウエハをウエハ支持台上の目標位置まで搬送
するウエハ搬送装置において、前記ウエハ保持具がウエ
ハ支持台上の予め定められた位置まで移動したときに前
記ウエハ支持台上の前記目標位置と前記ウエハ保持具の
位置との位置関係を検出するための検出手段を具備し、
該検出手段により検出された検出結果に基づいて前記ウ
エハ保持具の位置が前記ウエハ支持台上の目標位置に整
列するように前記データを修正する構成を有したウエハ
搬送装置を提供する。
【0008】上記ウエハ搬送装置において、好ましく
は、前記ウエハ支持台に複数の目標点を定め、前記ウエ
ハ保持具に前記目標点の各々に対応する複数の目標対応
点を定め、前記検出手段が前記目標点と前記目標対応点
との位置関係を検出し、該検出手段により検出された検
出結果に基づいて、前記目標点と前記目標対応点とが整
列するように前記データを修正するようにする。さらに
好ましくは、前記目標点と前記目標対応点の一方に発光
器及び受光器を備えた光学センサを設け、他方に反射体
を設ける。
【0009】上記のようにウエハ保持具の位置とウエハ
支持台上の目標位置との位置関係を検出する検出手段を
備えることによって、作業者は目視によらずに、ウエハ
保持具の位置がウエハ支持台上の目標位置とが整列した
こと又はウエハ保持具の位置と目標位置とのずれ量を検
出することができるようになる。また、精度のよいセン
サなどを検出手段として使用し得るので、作業者の差な
どに依存せず、目視と比較してより正確で均質なウエハ
保持具の位置決めを行うことが可能となる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施態様を説明する。なお、半導体検査装置に本発明のウ
エハ搬送装置を適用した場合を例に本発明を説明してい
るが、クリーン度を保つために十分なスペースの確保が
困難である半導体製造装置など他の任意の装置で使用さ
れる搬送装置に対して本発明を適用することも可能であ
る。
【0011】図1は、ウエハ搬送装置を備えた半導体検
査装置の概略構成図であり、図2は図1のウエハ搬送装
置の詳細図である。図1を参照すると、半導体検査装置
10は、未検査又は検査済みのウエハ12を収容するた
めのカセット14と、ウエハ12を検査するに先立って
ウエハ12を所定の位置に位置合わせするためのプリア
ライナ16と、プリアライナ16によって予め位置合わ
せされたウエハ12が載置されるステージ18を含んだ
撮像検査装置20と、カセット14からプリアライナ1
6まで、プリアライナ16からステージ18まで、又は
ステージ18からカセット14までウエハ12を搬送す
るウエハ搬送装置22とを含んでいる。
【0012】プリアライナ16は、水平面内に定義され
る互いに垂直なXY軸に沿ったウエハ12の位置やウエ
ハ12の回転方向の位置を予め定められた位置に合わせ
るためのものである。ウエハ12の回転方向の位置すな
わち回転位置は例えばウエハ12に設けられたオリフラ
やノッチなどの位置決め目印24に基づいて判断され
る。
【0013】なお、本願では、ウエハ12の回転位置と
は位置決め目印24に基づいて判断されるウエハ12の
向き、すなわち基準方向からの回転角度を意味するもの
とする。また、本願では、特に限定しない限り、用語
「位置」は、XY軸方向の位置及び回転位置を含むもの
とする。撮像検査装置20は、ウエハ12の位置決め目
印24の位置などを参考にしてステージ18上に載置さ
れたウエハ12の位置を予め定められた位置に整列させ
た後、撮像装置(不図示)を使用してウエハ12の検査
を行う。
【0014】したがって、半導体検査装置10の高速化
のためには、撮像検査装置20においてウエハ12の整
列に要する時間を短くすることが重要になる。そのため
には、ウエハ搬送装置22がプリアライナ16で所定の
位置に予め位置合わせされたウエハ12を予め定められ
た位置関係で正確に撮像検査装置20のステージ18上
の目標位置に載置し、ステージ18上で再度所定の位置
(すなわち目標位置)にウエハ12の位置合わせをする
必要をなくすことが求められる。ここで、「目標位置」
とは、その位置にウエハ12が載置されたときに検査に
先立つウエハ12の位置合わせが実質的に不要となる位
置を意味する。
【0015】ウエハ搬送装置20は、ウエハ12を保持
するウエハ保持具26と、制御装置28から指示される
移動経路に沿ってウエハ保持具26を移動させる移動体
30とを含んで成る。移動経路を指示するデータは制御
装置28に予め記憶されており、このデータはティーチ
ングすなわち教示を行うことによって随時書き換えるこ
とが可能である。ウエハ保持具26は、ウエハ12への
ゴミなどの異物の付着を防ぐべくウエハ12との接触面
積を少なくするために、図1及び図2に示されているよ
うなフォーク型ハンドであることが好ましい。さらに、
図1及び図2に示されているウエハ搬送装置22では、
ウエハ保持具26と移動体30との間に複数の節からな
るアーム32が設けられている。
【0016】制御装置28は、ウエハ保持具26の移動
経路を指示するデータを予め記憶しており、このデータ
に基づいて移動体30がウエハ保持具26を移動経路に
沿って移動させ、ウエハ保持具26により保持されたウ
エハ12をウエハ支持台であるステージ18上の目標位
置まで搬送させる。ウエハ搬送装置22のウエハ保持具
26がウエーハ支持台であるステージ18上の目標位置
に正確に位置決めされるようにティーチングによって移
動経路のデータを記憶させることで、ウエハ搬送装置2
2は、ウエハ12をステージ18上の目標位置に載置す
ることができるようになり、ステージ18に回転及びX
Y軸方向の移動を実質的にさせることなく、ウエハ12
の検査を実施できる状態となるので、半導体検査装置1
0の高速化が達成される。
【0017】ところが、撮像検査装置20は、検査され
るウエハ12へのゴミなどの異物の付着による不良品化
を防止するために、ウエハ搬送装置22によってウエハ
12を搬出入するための通過口34を除いてほぼ密閉さ
れたハウジング36で取り囲まれている。また、ステー
ジ18のすぐ上方にはウエハ12の画像を取得するため
の撮像装置(不図示)が配置されている。したがって、
ウエハ12が載置されるべきステージ18上の目標位置
の近傍には十分な空間が存在せず、ウエハ保持具26の
位置とステージ18上の目標位置との整列を目視によっ
て確認してティーチングを行うことは困難である。
【0018】そこで本発明のウエハ搬送装置22は、制
御装置28に予め記憶されているデータに基づいてウエ
ハ保持具26が移動経路に沿ってステージ18上の予め
定められた位置(目標位置の近傍)まで移動したとき
に、ウエハ12をステージ18上に載置してもステージ
18によるウエハ12の位置の再調整が必要とならない
ステージ18上の目標位置とウエハ保持具26の位置と
の位置関係を検出するための検出手段を備えている。こ
れら検出手段は、ステージ18に設けられた複数の目標
点と、ウエハ保持具26に設けられた複数の目標対応点
とにそれぞれ設けられる。以上の構成により、本発明の
ウエハ搬送装置22は、正確なティーチングを行うこと
が可能となっている。
【0019】図3及び図4は、それぞれ、本発明のウエ
ハ搬送装置22で使用されるウエハ保持具26の第一及
び第二の実施態様を示している。図3及び図4に示され
ているウエハ保持具26は、ティーチングを行うに際し
てウエハ12の保持に使用するウエハ保持専用ウエハ保
持具と交換してウエハ搬送装置22のアーム32に取り
付けられるティーチング専用ウエハ保持具として形成さ
れてもよく、また実際にウエハ12の保持にも使用し得
るティーチング兼用ウエハ保持具として形成されてもよ
い。しかしながら、上記で説明したように、半導体検査
装置10では、ウエハ12への異物の付着を防止するた
めに、ウエハ保持具26とウエハ12との接触面積を極
力減らす傾向にあり、ウエハ保持具26のフィンガ(指
部)38は細いことが多く、後述するセンサなどの検出
手段を設置することが困難であるため、本発明で使用す
るウエハ保持具26はティーチング専用のものとして形
成されることが好ましい。したがって、以下では、図3
及び図4に示されているウエハ保持具がティーチング専
用ウエハ保持具26であるとして説明する。
【0020】図3及び図4に示されているティーチング
専用ウエハ保持具26は、実際の検査時に使用される図
1及び図2に示されているタイプのウエハ保持具26と
交換可能である。したがって、工場における半導体検査
装置10の組立調整時のみならず、ウエハ12が撮像検
査装置20のステージ18上の目標位置に正確に載置さ
れるように工場出荷時に調整されたウエハ保持具26の
移動経路(XY方向の移動及び移動体を中心とした回転
を含む)に再度の調整、修正が必要となるとき、例えば
撮像検査装置20とウエハ搬送装置22を分割して出荷
したときや半導体検査装置10の動作に異常が生じたと
きに、ウエハ保持専用ウエハ保持具26と交換してウエ
ハ搬送装置22のアーム32に取り付けることができ
る。
【0021】図3に示されている第一実施態様のウエハ
保持具26は、先端部が二股に分岐しているフォーク形
状をしており、その先端部のフィンガ38は図1及び図
2に示されているウエハ保持具26よりも幅及び厚さが
大きくなっている。そして、ウエハ支持台であるステー
ジ18上の目標位置との位置関係を検出するために、フ
ィンガ38の先端部及びフィンガ38の分岐部に定めら
れた目標対応点にそれぞれ第一検出手段42が設けら
れ、ウエハ保持具26のこれら第一検出手段42と対応
してステージ18上に定められた目標点に第二検出手段
44が設けられている。
【0022】ステージ18上の第二検出手段44は、ウ
エハ保持具26の第一検出手段42の位置がステージ1
8上の第二検出手段44の位置と整列したときに、ウエ
ハ保持具26がステージ18上の目標位置に位置決めさ
れるように、配置されている。また、ウエハ保持具26
にとってのステージ18上の目標位置は、ウエハ保持具
26が予め記憶されたデータに基づいた移動経路に沿っ
てステージ18上のその位置に到達したときに、ウエハ
保持具26によって保持されるウエハ12が位置調整を
実質的に必要としない位置に載置されるように定められ
る。
【0023】図3に示されているウエハ保持具26の第
一実施態様では、第一検出手段42として投光器及び受
光器を備えた3つの光学センサが使用され、第二検出手
段44としてウエハ12の昇降に使用するためのリフト
ピンを設定し、3つの光学センサによって3つのリフト
ピンをそれぞれ検出するようにしている。なお、ウエハ
保持具26がステージ18上の目標位置に位置決めされ
るとき、ウエハ保持具26の3つの第一検出手段42と
ステージ18の3つの第二検出手段44(リフトピン)
とがそれぞれ上下方向に対向するように、第一検出手段
42及び第二検出手段44の各々が配置されている。目
標位置を定める目標点が同一平面内に3つ配置されてい
るので、ステージ18上の目標点(第一検出手段の位
置)とウエハ保持具26の目標対応点(第二検出手段の
位置)とが整列すれば、ウエハ保持具26はステージ1
8上でそのXY軸方向の位置及び回転位置を定められる
ことになる。
【0024】図4に示されている第二実施態様のウエハ
保持具26は、細長い板状の本体46から下方に延びる
1つの脚部48を備えた下駄形状をしており、その脚部
48及び板状本体46の先端部に定められた目標対応点
にそれぞれ1つずつ第一検出手段42a、42bが設け
られ、これら第一検出手段42a、42bと対応するよ
うに、撮像検査装置20のウエハ支持台であるステージ
18にはその側面とステージ上面の中央部とに目標点と
して定められた位置にそれぞれ第二検出手段44a、4
4bが設けられている。なお、ウエハ保持具26の位置
がステージ18上の目標位置と整列しているとき、ウエ
ハ保持具26の脚部48の第一検出手段42aとステー
ジ18の側面の第二検出手段44aとが水平方向に対向
し、ウエハ保持具26の板状本体46の先端部の第一検
出手段42bとステージ18の上面の中央部の第二検出
手段44bとが上下方向に対向するように、第一検出手
段42a、42b及び第二検出手段44a、44bの各
々が配置されている。
【0025】図4に示されている第二実施態様では、ウ
エハ保持具26の脚部48に設けられた第一検出手段4
2aである光学センサが、移動中、常にステージ18の
側面に設けられた第二検出手段44aである反射体と移
動軸方向に整列している状態を保ちながら、ウエハ保持
具26の板状本体46の先端部に設けられた第一検出手
段42bである光学センサの位置をステージ18の上面
の中央部に設けられた反射体の位置と整列させること
で、ウエハ保持具26はXY軸方向の位置及び回転位置
を目標位置に位置決めされる。
【0026】第一検出手段42、42a、42bと第二
検出手段44、44a、44bは、投光器と受光器の組
合せ、投光器及び受光器を備えた光学センサと反射体と
の組合せなどとすることができ、その組合せの一方を第
一検出手段42としてウエハ保持具26の目標対応点に
配置し、他方を第二検出手段44としてステージ18上
の目標点に配置する。ステージ18に反射体を配置する
場合には、図3に示されているように、ウエハ12を昇
降させるためにステージ18に設けられたリフトピンを
反射体としてもよい。また、反射体としては例えば反射
板や金属表面を鏡面に磨いたものが使用され得る。
【0027】図3に示されているティーチング専用ウエ
ハ保持具26が使用されるウエハ搬送装置22を例にし
て、本発明のウエハ搬送装置22のティーチング方法を
以下で説明する。最初に、ウエハ保持専用ウエハ保持具
をティーチング専用ウエハ保持具26に交換する。次
に、制御装置28に予め設定、記憶されている移動経路
を指示するデータに基づいて、ウエハ搬送装置22のウ
エハ保持具26を移動経路に沿って、移動経路データに
より指定されるステージ18上の予め定められた位置ま
で移動させる。
【0028】このとき、ウエハ保持具26がステージ1
8上の目標位置に位置決めされていれば、ウエハ保持具
26に設けられた第一検出手段42とステージ18に設
けられた第二検出手段44が対向して位置し、第一検出
手段42及び第二検出手段44の両方又は一方によりウ
エハ保持具26がステージ18上の目標位置に位置決め
されたことを示す信号を発信し、ウエハ保持具26がス
テージ18上の目標位置に位置決めされたことを適宜の
表示装置(不図示)により作業者に表示する。ここで、
目標位置とは、ステージ18の回転や移動を実質的に行
うことなくすぐにウエハ12の検査を開始し得るステー
ジ18上の位置にウエハ12を載置できるウエハ保持具
26の位置を意味する。
【0029】一方、ウエハ保持具26がステージ18上
の目標位置に位置決めされていなければ、作業者は表示
装置などにより適正な位置にウエハ保持具26が位置決
めされていないことが分かるので、第一検出手段42及
び第二検出手段44の両方又は一方によりウエハ保持具
26がステージ18上の目標位置に位置決めされたこと
を示す信号が発信されるまで、制御装置28が有するウ
エハ搬送装置22の位置調節機能を利用してウエハ保持
具26の位置を調節する。そして、ウエハ保持具26が
ステージ18上の目標位置に位置決めされたときに、ウ
エハ保持具26の位置に関するデータを制御装置28に
記憶させ、既存の移動経路データを修正して、新たな移
動経路を指示するデータを作成する。
【0030】上記の説明では、ウエハ支持台であるステ
ージ18に定められた複数の目標位置に設けられた第二
検出手段44とウエハ保持具26に定められた複数の目
標対応点に設けられた第一検出手段42が、目標点と目
標対応点が合致したことを検出するようになっていると
説明した。しかしながらが、例えば、第一検出手段42
及び第二検出手段44の一方に距離センサを使用して、
検出された距離、すなわち位置ズレ量に基づいてティー
チングが行われるようにしてもよく、第一検出手段42
及び第二検出手段44により検出したウエハ保持具26
の位置とステージ18上の目標位置の位置関係に関する
情報に基づいて適宜の方法によりウエハ保持具26をス
テージ18上の目標位置に位置決めさせるように、ウエ
ハ保持具26の移動経路データの修正を行うことも可能
である。
【0031】また、上記のティーチング専用ウエハ保持
具26は、ウエハ搬送装置22がプリアライナ16に到
達したときにプリアライナ16のステージ上の目標位置
とウエハ保持具26の位置とが整列するように、ウエハ
保持具26の移動経路を指示するデータを修正するため
に使用されてもよいことはもちろんである。また、本発
明のウエハ搬送装置22は、プリアライナ16と撮像検
査装置20のステージ18との間の搬送で使用されるの
みならず、半導体製造装置10の任意の工程ステーショ
ン間の搬送で使用されることも可能である。さらに、高
精度の位置決めを行う必要を伴う機械に対して本発明の
原理を適用することも可能である。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
検出手段、すなわち、ウエハ保持具に設けられた第一検
出手段及びウエハ支持台であるステージに設けられた第
二検出手段を利用することで、作業者が、目視によらず
且つ正確に、ウエハ保持具の位置とステージ上の目標位
置との位置関係を認識し、整列した状態に修正すること
が可能となる。この結果、作業者が目視によってウエハ
保持具の位置を確認するための作業空間が十分にない場
合でも、ウエハ保持具のティーチングを行うことが可能
となると共に、狭い空間に作業者が頭を挿入する必要も
なくなるため作業者の安全性が確保される。さらに、目
視により位置関係の確認を行う場合と比較して、ティー
チング作業が効率化されると共に、より正確なティーチ
ングを行うことができるようになり半導体検査装置の高
速化に寄与する。
【図面の簡単な説明】
【図1】ウエハ搬送装置を備えた半導体検査装置の概略
構成図である。
【図2】図1のウエハ搬送装置の詳細図である。
【図3】本発明のウエハ搬送装置で使用されるウエハ保
持具の第一実施態様を示す斜視図である。
【図4】本発明のウエハ搬送装置で使用されるウエハ保
持具の第二実施態様を示しており、(a)は側面図、
(b)は平面図である。
【符号の説明】
10…半導体検査装置 12…ウエハ 18…ステージ 22…ウエハ搬送装置 26…ウエハ保持具 42…第一検出手段 44…第二検出手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B65G 49/07 B65G 49/07 C H01L 21/66 H01L 21/66 G J (72)発明者 平沼 一則 東京都三鷹市下連雀九丁目7番1号 株式 会社東京精密内 (72)発明者 石坂 純一 東京都三鷹市下連雀九丁目7番1号 株式 会社東京精密内 Fターム(参考) 3F059 AA14 BA04 BA09 CA05 DC08 DD12 DE03 FB01 FB22 FC04 3F060 AA01 AA07 CA21 CA24 EB02 EB12 EC02 EC12 FA02 GD14 HA35 4M106 AA01 CA38 DJ07 DJ21 DJ32 5F031 CA02 GA36 GA43 HA01 HA33 JA02 JA06 JA13 JA17 JA28 JA29 JA38 KA10 KA11 KA12 MA33 PA02

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウエハ保持具の移動経路を指示するデー
    タを予め記憶しておき、該データに基づき前記ウエハ保
    持具を前記移動経路に沿って移動させて、前記ウエハ保
    持具により保持されたウエハをウエハ支持台上の目標位
    置まで搬送するウエハ搬送装置において、 前記ウエハ保持具がウエハ支持台上の予め定められた位
    置まで移動したときに前記ウエハ支持台上の前記目標位
    置と前記ウエハ保持具の位置との位置関係を検出するた
    めの検出手段を具備し、該検出手段により検出された検
    出結果に基づいて前記ウエハ保持具の位置が前記ウエハ
    支持台上の目標位置に整列するように前記データを修正
    するようにしたことを特徴とするウエハ搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記ウエハ支持台に複数の目標点を定
    め、前記ウエハ保持具に前記目標点の各々に対応する複
    数の目標対応点を定め、前記検出手段が前記目標点と前
    記目標対応点との位置関係を検出し、該検出手段により
    検出された検出結果に基づいて、前記目標点の位置と前
    記目標対応点の位置とが整列するように前記データを修
    正するようにした、請求項1に記載のウエハ搬送装置。
  3. 【請求項3】 前記目標点と前記目標対応点の一方に発
    光器及び受光器を備えた光学センサを設け、他方に反射
    体を設けた、請求項2に記載のウエハ搬送装置。
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