JP7282461B2 - 検査装置、及び加工装置 - Google Patents

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Description

本発明は、加工が実施された被加工物を撮像して検査する検査装置に関する。
薄板状のウェーハの表面に複数のデバイスを形成し、該ウェーハをデバイス毎に分割すると、電子機器に搭載されるデバイスチップを形成できる。ウェーハ等の被加工物の分割には、例えば、環状の切削ブレードで被加工物を切削できる切削装置や、被加工物にレーザビームを照射して加工するレーザ加工装置等の加工装置が使用される(例えば、特許文献1参照)。
被加工物の加工が適切に実施されたことを確認するために、加工装置で加工した被加工物の加工箇所を撮像して検査する検査装置が使用される。該検査装置は、該被加工物を被検査物として撮像して検査する。検査装置では、被加工物に形成された加工痕に沿って該被加工物に形成されるチッピングと呼ばれる欠けの形状や大きさ、分布等が調査される。また、被加工物が分割されて形成されたデバイスチップの大きさが確認される。
特開2018-166178号公報
被加工物を被検査物として検査装置で検査する際、該被検査物の特定の箇所を表裏面から撮像して検査したいとの要望がある。従来、被検査物の特定の箇所を表裏面から検査する場合、まず、被検査物の特定の箇所を撮像ユニットで表面側から撮像し、その後、被検査物の表裏を反転させ、該被検査物を裏面側から撮像していた。そのため、被検査物の検査には表裏反転させる手間と時間を要していた。
また、被検査物の裏面側の該特定の箇所を観察するには、被検査物を表裏反転させた後、撮像ユニットの位置を該特定の箇所に高精度に合わせなければならない。デバイスが形成されるウェーハの外周部には、ノッチと呼ばれる欠けが形成されている場合がある。そこで、該ノッチを基準として撮像ユニットの位置合わせを実施することが考えられる。しかしながら、ノッチの形成位置の精度は被検査物に形成されるパターンの精度よりも低く、ノッチを基準としても撮像ユニットを高精度に位置付けられない場合がある。
本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被検査物の同一位置を表裏面側から容易に観察できる検査装置及び該検査装置を備える加工装置を提供することである。
本発明の一態様によれば、テープが貼着され該テープを介してフレームに装着された被検査物を検査する検査装置であって、上下に露出した透明体を有する載置部を有し、該透明体の上面が該テープを介して該被検査物が載置される載置面となり、該載置面に載せられた該被検査物を保持できる被検査物保持機構と、該載置部の上方に配設された第1の撮像ユニットと、該載置部の下方に配設された第2の撮像ユニットと、該第1の撮像ユニット及び該第2の撮像ユニットを連結する連結部と、を有する撮像機構と、該撮像機構を該載置部に対して該載置面に平行な方向に相対的に移動できる移動ユニットと、を備え、該撮像機構は、該載置部の該載置面に載せられ該被検査物保持機構に保持された被検査物を該第1の撮像ユニットにより上面側から撮像できるとともに該第2の撮像ユニットにより下面側から撮像でき、該撮像機構は、該被検査物の該上面側と該下面側の同一位置を同時に撮像できることを特徴とする検査装置が提供される。
好ましくは、該被検査物保持機構は、該被検査物保持機構に載せられた該被検査物の外周と、該被検査物に該テープを介して装着された該フレームの内周と、の間の領域において該テープを吸引保持できるテープ吸引保持面を該載置部の外周側に備えるテープ保持部と、該テープ保持部の周囲に配置され、該フレームを支持できるフレーム支持部と、を備える。さらに、好ましくは、該載置部の該載置面の高さは、該テープ保持部の該テープ吸引保持面の高さより低い。
また、好ましくは、該載置部の該載置面は、フッ素樹脂でコーティングされている。
さらに、本発明の一態様に係る検査装置と、被加工物を保持する被加工物保持ユニットと、該被加工物保持ユニットで保持された該被加工物を加工する加工ユニットと、該被加工物保持ユニットから該被検査物保持機構の該載置部へと該被加工物を搬送する搬送ユニットと、を備えた加工装置であって、該検査装置は、該加工ユニットで加工された該被加工物を該被検査物として該撮像機構により撮像できることを特徴とする加工装置が提供される。
本発明の一態様に係る検査装置が備える被検査物保持機構は、載置部に透明体を有する。そして、載置部の載置面上に被検査物を載せると、被検査物の上面が外部から視認可能であるだけでなく、該載置部を通して該被検査物の下面が外部から視認可能となる。そのため、被検査物を両面から撮像する際に、被検査物の表裏を反転させる必要がない。
そして、該検査装置は、載置部の上方に配設された第1の撮像ユニットと、載置部の下方に配設された第2の撮像ユニットと、を有する撮像機構を備える。該載置部の載置面上に被検査物を載せ、被検査物保持機構により該被検査物を保持すると、該第1の撮像ユニットにより該被検査物を上面から撮像できるとともに該第2の撮像ユニットにより該透明体を通して該被検査物を下面から撮像できる。
特に、該撮像機構では、第1の撮像ユニット及び第2の撮像ユニットが連結部により連結されている。そのため、移動ユニットにより撮像機構を移動させても第1の撮像ユニット及び第2の撮像ユニットの相対的な位置は変わらない。したがって、第1の撮像ユニット及び第2の撮像ユニットの位置を互いに合わせる必要はなく、被検査物の同一位置を上面及び下面から容易に撮像できる。
したがって、本発明により被検査物の同一位置を表裏面側から容易に観察できる検査装置及び該検査装置を備える加工装置が提供される。
被検査物を模式的に示す斜視図である。 検査装置を備える加工装置を模式的に示す斜視図である。 検査装置を備える加工装置を模式的に示す上面図である。 検査装置を模式的に示す斜視図である。 図5(A)は、被検査物保持機構を模式的に示す斜視図であり、図5(B)は、撮像機構を模式的に示す斜視図である。 図6(A)は、載置部を模式的に示す上面図であり、図6(B)は、載置部を模式的に示す断面図である。 被検査物を検査する際の被検査物保持機構、撮像機構、及び被検査物の位置関係を模式的に示す断面図である。
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。本実施形態に係る検査装置は、例えば、加工装置により加工された被加工物を被検査物として、該被検査物を上面及び下面から同時に撮像して検査できる。
まず、被検査物について説明する。被検査物は、例えば、Si(シリコン)、SiC(シリコンカーバイド)、GaN(ガリウムナイトライド)、GaAs(ヒ化ガリウム)、若しくは、その他の半導体等の材料からなる略円板状のウェーハである。または、被検査物は、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる基板等である。また、被検査物は、モールド樹脂等で封止された複数のデバイスチップが含まれるパッケージ基板等でもよい。
図1は、被検査物1の一例であるウェーハを模式的に示す斜視図である。被検査物1の表面1aは、例えば、互いに交差する複数のストリート3と呼ばれる分割予定ラインで区画されている。被検査物1であるウェーハの表面1aのストリート3で区画された各領域にはIC(Integrated Circuit)、LSI(Large-Scale Integrated circuit)等のデバイス5が形成されている。ウェーハをストリート3に沿って分割すると、個々のデバイスチップを形成できる。
被検査物1の分割には、例えば、ストリート3に沿って被検査物1にレーザビームを照射して被検査物1をレーザ加工するレーザ加工装置が使用される。または、円環状の切削ブレードによりストリート3に沿って被検査物1を切削できる切削装置が使用される。
被検査物1を切削装置やレーザ加工装置等の加工装置に搬入する前に、図1に示す通り、被検査物1は、環状のフレーム9と、該フレーム9の開口を塞ぐように貼られたテープ7と、と一体化されて、フレームユニット11が形成される。テープ7が貼着され、該テープ7を介してフレーム9に装着された被検査物1は、この状態で加工装置に搬入され加工される。そして、被検査物1が分割されて形成された個々のデバイスチップは、テープ7により支持される。
被検査物1がストリート3に沿って適切に加工されたことを確認するために、本実施形態に係る検査装置では、被検査物1の加工箇所が撮像され被検査物1が検査される。該検査装置では、例えば、被検査物1がストリート3に沿って検査され、加工痕の形成位置や、加工痕に沿って被検査物1に形成されるチッピングと呼ばれる欠けの形状や大きさ、分布等が調査される。また、被検査物1が分割されて形成されたデバイスチップの大きさが確認される。ただし、該検査装置の使用用途はこれに限定されない。
以下、複数のデバイス5が形成され、ストリート3に沿って分割されたウェーハが被検査物1である場合を例に本実施形態について説明するが、被検査物1はこれに限定されない。本実施形態に係る検査装置で検査される被検査物1は、加工装置等により加工されていなくてもよい。
本実施形態に係る検査装置は、例えば、被加工物として被検査物1を加工する加工ユニットを備える加工装置に組み込まれて使用される。ただし、該検査装置は加工装置に組み込まれていなくてもよく、独立していてもよい。図2は、本実施形態に係る検査装置が組み込まれた加工装置2を模式的に示す斜視図である。
加工装置2は、各構成要素を支持する基台4を備える。基台4の前方の角部には、昇降可能なカセット支持台6が設けられている。カセット支持台6の上面には、複数のフレームユニット11を収容するカセットが載せられる。
基台4の上面のカセット支持台6に隣接した位置には、X軸方向(加工送り方向)に長い矩形の開口10が形成されている。開口10には、被加工物保持ユニット14と、該被加工物保持ユニット14が載る移動テーブル12をX軸方向に移動させるX軸方向移動機構(不図示)と、該X軸方向移動機構を覆う防塵防滴カバー10aと、が設けられている。
加工装置2には、カセット支持台6に載せられたカセットに収容されたフレームユニット11を搬出入する搬送ユニット16が設けられている。搬送ユニット16は、基台4の立設部の前面に配設されたY軸方向に平行な一対のガイドレール18を有する。該一対のガイドレール18には、移動体20がスライド可能に取り付けられている。移動体20の後面側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはガイドレール18に平行なボールネジ22が螺合されている。
ボールネジ22の一端部には、パルスモータ24が連結されている。パルスモータ24でボールネジ22を回転させると、移動体20はガイドレール18に沿ってY軸方向に移動する。移動体20の下端には、X軸方向に沿って伸長した腕部26が昇降機構を介して接続されている。腕部26の下面には、フレーム9の大きさに対応して配設された複数の吸引部28が配設されている。さらに、腕部26の中央には、カセット支持台6に向いたプッシュプル機構30が配設されている。
また、基台4の上面には、開口10を跨ぐように設けられた一対の搬送レール8が配設されている。該一対の搬送レール8は、フレーム9の径よりも小さい幅で互いに離間して配設されているが、互いに離れる方向に移動可能である。
搬送ユニット16は、Y軸方向に移動してカセット支持台6に載置されたカセットにプッシュプル機構30の先端を差し入れて該カセットに収容されたフレームユニット11のフレーム9を把持できる。プッシュプル機構30でフレーム9を把持し、Y軸方向に沿って逆方向に腕部26を移動させると、フレームユニット11を一対の搬送レール8上に引き出せる。
その後、プッシュプル機構30によるフレーム9の把持を解除し、搬送ユニット16の吸引部28を上方からフレーム9に接触させ、吸引部28によりフレーム9を吸引保持する。そして、フレームユニット11を搬送レール8から上方に引き上げ、該一対の搬送レール8の間隔を広げ、フレームユニット11を下降させることで、被加工物保持ユニット14上にフレームユニット11を搬送できる。
被加工物保持ユニット14は、例えば、被検査物1(ウェーハ)を保持するチャックテーブルである。被加工物保持ユニット14の上面には多孔質部材が配設されており、該多孔質部材の上面がフレームユニット11を保持する保持面となる。該多孔質部材は、被加工物保持ユニット14の内部に形成された吸引路(不図示)を介して吸引源(不図示)に接続されている。被加工物保持ユニット14は、フレームユニット11を吸引保持できる。
図3は、加工装置2の構成を模式的に示す上面図である。加工装置2は、被検査物1を被加工物として加工する加工ユニット32を備える。加工ユニット32は、例えば、円環状の切削ブレード34と、該切削ブレード34の貫通孔に挿通され該切削ブレード34を回転させる際の回転軸となるスピンドルが収容されたスピンドルハウジング36と、該スピンドルを回転させる図示しないモータと、を備える切削ユニットである。被加工物保持ユニット14に保持された被加工物に回転する切削ブレード34を切り込ませると、被加工物が切削加工される。
ただし、図3に示す加工装置2には、被検査物1を切削する2つの加工ユニット32が装着されているが、加工装置2はこれに限定されない。例えば、加工装置2が備える加工ユニット32は一つでもよい。また、加工ユニット32は、被検査物1をレーザ加工するレーザ加工ユニットでもよい。
図2及び図3に示す通り、加工装置2は、基台4の上面の開口10に隣接する位置に開口38を有する。開口38の内部には、加工ユニット32により加工された被検査物1を洗浄できる洗浄装置40が配設される。搬送ユニット16等により加工後の被検査物1を洗浄装置40の洗浄テーブル上に搬送し、被検査物1が載る該洗浄テーブルを高速に回転させながら図示しないノズルから被検査物1に高圧の洗浄水を噴出させると被検査物1を洗浄できる。
なお、洗浄装置40への被検査物1の搬入は、搬送ユニット42により実施されてもよい。搬送ユニット42は、基台4の立設部の前面に配設されたY軸方向に平行な一対のガイドレール44を有する。該一対のガイドレール44には、移動体46がスライド可能に取り付けられている。移動体46の後面側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはガイドレール44に平行なボールネジ48が螺合されている。
ボールネジ48の一端部には、パルスモータ50が連結されている。パルスモータ50でボールネジ48を回転させると、移動体46はガイドレール44に沿ってY軸方向に移動する。移動体46の下端には、腕部52が昇降機構を介して接続されている。腕部52には、フレーム9の大きさに対応して配設された複数の吸引部(不図示)が配設された保持機構54が設けられている。
例えば、被検査物1の表面に複数のデバイス5が形成されており、該被検査物1を加工装置2の加工ユニット32によりデバイス5毎に分割すると、個々のデバイスチップが形成される。被検査物1が適切に加工されていることを確認するために、加工後の被検査物1が本実施形態に係る検査装置56で検査される。
洗浄装置40による被検査物1の洗浄が完了した後、保持機構54により被検査物1を保持し、搬送ユニット42で検査装置56に搬送する。なお、被検査物1は、搬送ユニット42に代えて搬送ユニット16で検査装置56に搬送されてもよい。ここで、搬送ユニット16,42に被検査物1を保持させる前に予め洗浄テーブルの向きを調整すると、検査装置56に搬入される被検査物1の向きを所定の向きに合わせられる。
例えば、検査装置56では、被検査物1に形成された分割溝に沿って被検査物1が検査され、該分割溝に沿って被検査物1に形成されるチッピングと呼ばれる欠けの形状や大きさ、分布等が調査される。また、被検査物1が分割されて形成されたデバイスチップの大きさが確認される。
検査装置56は、被検査物1の同一位置を上面側(表面1a側)と、下面側(裏面1b側)と、の双方から同時に観察できる検査装置である。検査装置56は、図2等に示す通り、加工装置2に組み込まれており、加工後の被検査物1を直ちに検査できる。次に、加工装置2に組み込まれている場合を例に本実施形態に係る検査装置56について説明するが、検査装置56はこれに限定されない。
図4は、検査装置56を模式的に示す斜視図である。検査装置56は、該検査装置56の各構成を支持する基台60を備える。基台60には、X軸方向に沿った開口62が形成されている。検査装置56は、基台60の開口62を跨ぐように配設され被検査物1を保持できる被検査物保持機構58と、被検査物保持機構58に保持された被検査物1を撮像できる撮像機構82と、を備える。
検査装置56は、被検査物保持機構58と、撮像機構82と、をX軸方向に沿って相対的に移動できるX軸移動ユニット64aと、Y軸方向に沿って相対的に移動できるY軸移動ユニット64bと、を備える。図5(A)には、検査装置56のX軸移動ユニット64a及び被検査物保持機構58の斜視図が模式的に示されている。図5(B)には、撮像機構82の斜視図が模式的に示されている。
該X軸移動ユニット64aは、基台60の上面の開口62の側方にX軸方向に沿って伸長したガイドレール66aを備える。また、基台60の上面のガイドレール66aとは反対側の開口62の側方には、ガイドレール66aに平行に伸長したガイドレール66bを備える。ガイドレール66aには移動体68aがスライド可能に装着されており、ガイドレール66bには移動体68bがスライド可能に装着されている。
移動体68a及び移動体68bの上には、両移動体68a,68bを跨るように橋状の支持構造74が配設されている。また、移動体68a及び移動体68bの一方の下端にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはガイドレール66a,66bに平行なボールネジ70が螺合されている。
ボールネジ70の一端部には、パルスモータ72が連結されている。パルスモータ72でボールネジ70を回転させると、移動体68a,68bはガイドレール66a,66bに沿ってX軸方向に移動し、橋状の支持構造74がX軸方向に移動する。被検査物保持機構58は、基台60の開口62と重なる位置で支持構造74に支持される。X軸移動ユニット64aは、支持構造74をX軸方向に沿って移動させることで被検査物保持機構58をX軸方向に沿って移動できる。
被検査物保持機構58は、上下に露出した透明体を有する載置部76を有する。該透明体は、例えば、ガラス、樹脂等の材料で形成される。該透明体の上面は、テープ7を介して被検査物1が載置される載置面76aとなる。被検査物保持機構58は、載置面76aに載せられた被検査物1を支持できる。
図6(A)は、被検査物保持機構58を模式的に示す上面図であり、図6(B)は、被検査物保持機構58を模式的に示す断面図である。該透明体は載置面76aとは反対側の裏面側にも露出しているため、載置面76aに載る被検査物1を下面側から観察可能である。
被検査物保持機構58は、テープ吸引保持面78bを該載置部76の外周側に備えるテープ保持部78を備える。テープ保持部78は、テープ吸引保持面78bに形成された吸引溝78aを有する。吸引溝78aには、図示しない吸引路を経て、図示しない吸引源が接続されている。被検査物保持機構58は、さらに、テープ保持部78の周囲に配置され、フレームユニット11のフレーム9を支持できる環状のフレーム支持部80を備える。
フレーム支持部80と、フレーム9と、が重なるように被検査物保持機構58の上にフレームユニット11を載せ、該吸引源を作動させると、テープ7を介して被検査物保持機構58に被検査物1が吸引保持される。このとき、被検査物保持機構58と、テープ7と、の間が吸引されて載置面76aの全面にテープ7が密着するため、被検査物保持機構58に保持された被検査物1が検査中にずれることはない。
例えば、被検査物1が反りを有したウェーハ等である場合においても、被検査物保持機構58に被検査物1を保持させるとき、載置面76aの全体にテープ7が密着する。そのため、被検査物1は、反りが緩和された状態で被検査物保持機構58に吸引保持される。被検査物保持機構58に保持された被検査物1の反りが緩和されていると、被検査物1の各領域を次々に撮像する際に撮像ユニットの焦点が被検査物1からずれにくくなるため、被検査物1をより鮮明に撮像できる。
ここで、載置部76の載置面76aの高さは、テープ保持部78のテープ吸引保持面78bの高さより低くてもよい。また、テープ吸引保持面78bに形成された吸引溝78aは、図6(A)に示すように、載置部76に達していてもよい。この場合、被検査物保持機構58の上にフレームユニット11を載せたときにテープ7と、載置面76aと、の間に隙間が形成され、吸引溝78aに接続された吸引源を作動させたときに該隙間を通じてテープ7の被検査物1と重なる領域が早く吸引される。
具体的には、載置部76の載置面76aの高さは、テープ保持部78のテープ吸引保持面78bの高さよりも1mm程度低くするとよい。ここで、被検査物1として300mm径のウェーハを含むフレームユニット11を準備して、被検査物保持機構58に該フレームユニット11を保持させた実験について説明する。
該実験では、載置部76の載置面76aの高さをテープ保持部78のテープ吸引保持面78bの高さよりも1mm低くし、被検査物保持機構58に該フレームユニット11を吸引保持させ、載置面76aの全体にテープ7が密着するのに要した時間を測定した。この場合、数秒程度で載置面76aの全体にテープ7が密着した。
また、比較のために、載置面76aの高さをテープ吸引保持面78bの高さに一致させて被検査物保持機構58に該フレームユニット11を吸引保持させ、載置面76aの全体にテープ7が密着するのに要した時間を測定した。この場合、載置面76aの全体にテープ7が密着するのに約10分間の時間を要した。すなわち、載置面76aの高さをテープ吸引保持面78bの高さよりも低くすることで、被検査物保持機構58がフレームユニット11を吸引保持するのに要する時間を大幅に短縮できることが確認された。
図7には、被検査物保持機構58により被検査物1が吸引保持されている際のフレームユニット11及び被検査物保持機構58の断面図が模式的に示されている。図7に示す通り、該吸引源を作動させると、テープ7及び載置面76aの隙間が排気され、テープ7及び載置面76aが密着する。
なお、被検査物1の検査が完了した後、吸引源を停止させてフレームユニット11を被検査物保持機構58から搬出する際に、載置面76aからのテープ7の剥離が容易となるように、例えば、載置面76aはフッ素樹脂でコーティングされていてもよい。
次に撮像機構82について説明する。図4に示す通り、撮像機構82は、例えば、開口62、X軸移動ユニット64a、及び被検査物保持機構58を跨ぐように基台60の上に配設された門型の支持構造84により支持される。支持構造84の上には、撮像機構82をY軸方向に沿って移動させるY軸移動ユニット64bが配設されている。
Y軸移動ユニット64bは、支持構造84の上面にY軸方向に沿って配設された一対のガイドレール86を備える。一対のガイドレール86には、撮像機構82を支持する移動体88がスライド可能に装着されている。移動体88の下面にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部には一対のガイドレール86に平行なボールネジ90が螺合されている。
ボールネジ90の一端部には、パルスモータ92が連結されている。パルスモータ92でボールネジ90を回転させると、移動体88はガイドレール86に沿ってY軸方向に移動し、撮像機構82がY軸方向に移動する。X軸移動ユニット64a及びY軸移動ユニット64bは、協働して、被検査物保持機構58及び撮像機構82を載置面76aに平行な方向に相対的に移動できる移動ユニットとして機能する。
撮像機構82は、被検査物保持機構58の載置部76の上方に配設された第1の撮像ユニット106aと、該載置部76の下方に配設された第2の撮像ユニットと106bと、を備える。図5(B)に示す通り、撮像機構82は、第1の撮像ユニット106a及び該第2の撮像ユニット106bを連結する連結部108をさらに備える。
第1の撮像ユニット106aは、柱状の支持構造94aに支持される。柱状の支持構造94aの前面には、第1の撮像ユニット106aを昇降させる昇降機構96aが配設されている。昇降機構96aは、Z軸方向に沿った一対のガイドレール98aと、該ガイドレール98aにスライド可能に装着された移動体100aと、該移動体100aの後面に設けられたナット部に螺合されたボールネジ102aと、を有する。
移動体100aの前面には、第1の撮像ユニット106aが固定されている。そして、ボールネジ102aの一端部にはパルスモータ104aが連結されている。パルスモータ104aでボールネジ102aを回転させると、移動体100aがガイドレール98aに沿ってZ軸方向に沿って移動し、移動体100aに固定された第1の撮像ユニット106aが昇降する。
連結部108の上端部は、例えば、支持構造94aの後面側下端部に接続されており、連結部108の下端部は、第2の撮像ユニット106bを支持する柱状の支持構造94bの後面側上端部に接続されている。支持構造94bの前面には、支持構造94aに配設された昇降機構96aと同様に構成された昇降機構96bが配設されている。
昇降機構96bは、Z軸方向に沿った一対のガイドレール98bと、該ガイドレール98bにスライド可能に装着された移動体100bと、該移動体100bの後面に設けられたナット部に螺合されたボールネジ102bと、を有する。ボールネジ102bの一端部にはパルスモータ104bが連結されている。パルスモータ104bでボールネジ102bを回転させると、移動体100bの前面に固定された第2の撮像ユニット106bが昇降する。
第1の撮像ユニット106aは下方を向いており、被検査物保持機構58の上面に載る被検査物1を上方から撮像できる。また、第2の撮像ユニット106bは上方を向いており、該被検査物1を透明体で構成された載置部76及びテープ7を通して被検査物1を下方から撮像できる。第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bは、例えば、エリアカメラ、ラインカメラ、3Dカメラ、又は赤外線カメラ等である。
なお、載置部76及びテープ7を通して被検査物1を撮像する場合、得られる撮像画像のコントラストが球面収差の影響を受けて低下する場合がある。そこで、第2の撮像ユニット106bは、該球面収差の影響を低減できる補正環等で構成される補正ユニットを有していてもよい。
なお、撮像機構82においては、該載置面76aに平行な方向における位置が概略同一となるように第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bが連結部108により互いに連結される。すなわち、被検査物1の上面側と下面側の同一位置を撮像できる。そして、連結部108は、被検査物1のいずれの箇所を撮像箇所とした場合においても、被検査物保持機構58と干渉しない形状とされる。
図2を使用して、加工装置2についてさらに説明する。加工装置2は、タッチパネルを有する表示部110を備える。加工装置2を操作するオペレーターは、例えば、表示部110のタッチパネルにより加工装置2において実施される加工の条件等を入力する。また、表示部110は、加工を実施している間等に異常が生じた場合に警報を表示する機能を備え、オペレーターに対して警告できる。
加工装置2の筐体上面には、警報ランプ112が配設されている。例えば、警報ランプ112は、例えば、緑色のランプと、赤色のランプと、を含む。加工装置2が平常通り運転している際には緑色のランプが点灯し、加工装置2に異常が生じた場合に赤色のランプが点灯する。
次に、本実施形態に係る検査装置56が組み込まれた加工装置2において被加工物として被検査物1が加工され、加工された被検査物1が検査装置56により検査される過程について説明する。
まず、被検査物1を含むフレームユニット11が収容されたカセットを加工装置2のカセット支持台6の上に載せる。そして、搬送ユニット16によりフレームユニット11を該カセットから引き出し、被加工物保持ユニット14の上に搬送する。そして、加工ユニット32により被検査物1を加工し、フレームユニット11を搬送ユニット42により洗浄装置40に搬送し、洗浄装置40で被検査物1を洗浄する。
その後、搬送ユニット42により洗浄装置40から検査装置56の被検査物保持機構58の上にフレームユニット11を搬送する。そして、テープ保持部78に形成された吸引溝78aと接続された吸引源を作動させ、フレームユニット11を被検査物保持機構58に吸引保持させる。
そして、移動ユニット64a,64bにより、被検査物1の任意の検査箇所に撮像機構82の第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bの位置を合わせる。その後、昇降機構96a,96bを作動させる等して第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bの焦点を被検査物1のそれぞれの被検査面に合わせる。
図7は、被検査物1を検査する際の被検査物保持機構58、撮像機構82、及び被検査物1の位置関係を模式的に示す断面図である。撮像機構82は、第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bにより、被検査物1の同一位置を表面1a側(上面側)及び裏面1b側(下面側)から撮像できる。
そして、撮像機構82は、この状態を保ちながらX軸移動ユニット64a及びY軸移動ユニット64bにより被検査物保持機構58に対して相対的に移動できる。したがって、撮像機構82は、被検査物1の任意の同一位置を両面から同時に撮像して検査できる。ただし、撮像機構82は、被検査物1の両面を同時に撮像する必要はなく、第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bの撮像のタイミングは一致していなくてもよい。さらに、撮像ユニット106a,106bの一方のみが作動してもよい。
検査装置56によると、例えば、被検査物1が加工装置2の加工ユニット32により切削され、加工痕3aとして切削溝がストリート3に沿って被検査物1に形成されている場合、被検査物1の同一位置において加工痕3aを両面から観察できる。そして、加工痕3aに沿って形成されるチッピングの大きさや、被検査物1が分割されて形成されるデバイスチップの大きさ等が測定される。
被検査物1を撮像して検査した後、被検査物1を含むフレームユニットは、搬送ユニット42及び搬送ユニット16によりカセット支持台6に支持されるカセットに搬入される。
被検査物1を検査して、該被検査物1に実施された加工の良否を判定する場合、被検査物1の表面1a側だけを撮像して観察するのでは不十分な場合がある。従来、被検査物1の表面1a側(上面側)と裏面1b側(下面側)の同一位置を撮像する場合、被検査物1の一方の面を検査装置にて撮像した後に、被検査物1を表裏反転させなければならなかった。その上、該同一位置で他方の面において被検査物1を撮像するために、撮像ユニットを精密に該同一位置に合わせなければならなかった。
そのため、被検査物1を表裏反転させ撮像ユニット及び被検査物1の相対的な位置を精密に合わせる手間や時間を要していた。さらに、撮像ユニット等の位置合わせに失敗するおそれもあった。これに対して本実施形態に係る検査装置56は、第1の撮像ユニット106a及び第2の撮像ユニット106bが連結部108で連結された撮像機構82を備えており、被検査物1の同一位置を上面側及び下面側から撮像できる。そのため、従来要していた手間や時間がかからず、撮像ユニットの位置合わせに失敗するおそれもない。
さらに、本実施形態に係る検査装置56が組み込まれた加工装置2は、各構成要素を制御する制御ユニットを備えてもよい。そして、該制御ユニットは、検査装置56を制御して被検査物1を両面から撮像して検査を実施し、被検査物1に実施された加工の適否を判定してもよい。そして、該制御ユニットは、被検査物1に実施された加工が不適であると判定される場合、表示部110または警報ランプ112により加工装置2のオペレーターに判定結果を報知してもよい。
また、該制御ユニットは、洗浄装置40の洗浄テーブルから検査装置56に被検査物1を搬送する際に、搬送ユニット16,42に被検査物1を保持させる前に洗浄テーブルの向きを調整することで被検査物保持機構58に保持される被検査物1の向きを制御できる。この場合、該制御ユニットは、被検査物1に対して実施された加工の位置や、検査装置56により形成された撮像画像の被検査物1における撮像位置を一貫して記録できる。
例えば、該制御ユニットは、撮像画像から被検査物1に実施された加工に何らかの異常等が認められた場合に、被検査物1の異常が生じた位置を特定できる。そのため、異常の生じた原因を多角的に解析できる。さらに、撮像画像と、該撮像画像に写る被検査物1の位置と、被検査物1に実施された加工の位置と、が該制御ユニットに記録され保存されていると、解析を任意のタイミングで実施できる。
なお、本発明の一態様は上記の実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記の実施形態において、被検査物1がテープ7を介してフレーム9に装着されている場合について説明したが、本発明の一態様に係る検査装置56で検査できる被検査物1はこれに限定されない。すなわち、被検査物1はテープ7を介してフレーム9に装着されていなくてもよい。
また、加工装置2の加工ユニット32により加工された被検査物1を検査装置56で撮像する場合について説明したが、被検査物1はこれに限定されない。すなわち、被検査物1は、加工装置2以外の加工装置で加工されていてもよく、加工されていなくてもよい。さらに、検査装置56は加工装置2に組み込まれていなくてもよく、独立していてもよい。また、検査装置56では、被検査物1の撮像のみが実施されてもよく、撮像画像を使用した被検査物1の検査は他の装置で実施されてもよい。
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
1 被検査物
1a 表面
1b 裏面
3 ストリート
3a 加工痕
5 デバイス
7 テープ
9 フレーム
11 フレームユニット
2 加工装置
4 基台
6 カセット支持台
8 搬送レール
10 開口
10a 防塵防滴カバー
12 移動テーブル
14 被加工物保持ユニット
16,42 搬送ユニット
18,44,66a,66b,86,98a,98b ガイドレール
20,46,68a,68b,88,100a,100b 移動体
22,48,70,90,102a,102b ボールネジ
24,50,72,92,104a,104b パルスモータ
26,52 腕部
28 吸引部
30 プッシュプル機構
32 加工ユニット
34 切削ブレード
36 スピンドルハウジング
38 開口
40 洗浄装置
54 保持機構
56 検査装置
58 被検査物保持機構
60 基台
62 開口
64a,64b 移動ユニット
74,84,94a,94b 支持構造
76 載置部
76a 載置面
78 テープ保持部
78a 吸引溝
78b テープ吸引保持面
80 フレーム支持部
82 撮像機構
96a,96b 昇降機構
106a,106b 撮像ユニット
108 連結部
110 表示部
112 警報ランプ

Claims (5)

  1. テープが貼着され該テープを介してフレームに装着された被検査物を検査する検査装置であって、
    上下に露出した透明体を有する載置部を有し、該透明体の上面が該テープを介して該被検査物が載置される載置面となり、該載置面に載せられた該被検査物を保持できる被検査物保持機構と、
    該載置部の上方に配設された第1の撮像ユニットと、該載置部の下方に配設された第2の撮像ユニットと、該第1の撮像ユニット及び該第2の撮像ユニットを連結する連結部と、を有する撮像機構と、
    該撮像機構を該載置部に対して該載置面に平行な方向に相対的に移動できる移動ユニットと、を備え、
    該撮像機構は、該載置部の該載置面に載せられ該被検査物保持機構に保持された被検査物を該第1の撮像ユニットにより上面側から撮像できるとともに該第2の撮像ユニットにより下面側から撮像でき、
    該撮像機構は、該被検査物の該上面側と該下面側の同一位置を同時に撮像できることを特徴とする検査装置。
  2. 該被検査物保持機構は、
    該被検査物保持機構に載せられた該被検査物の外周と、該被検査物に該テープを介して装着された該フレームの内周と、の間の領域において該テープを吸引保持できるテープ吸引保持面を該載置部の外周側に備えるテープ保持部と、
    該テープ保持部の周囲に配置され、該フレームを支持できるフレーム支持部と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の検査装置。
  3. 該載置部の該載置面の高さは、該テープ保持部の該テープ吸引保持面の高さより低いことを特徴とする請求項2に記載の検査装置。
  4. 該載置部の該載置面は、フッ素樹脂でコーティングされていることを特徴とする請求項1に記載の検査装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか一に記載の該検査装置と、
    被加工物を保持する被加工物保持ユニットと、
    該被加工物保持ユニットで保持された該被加工物を加工する加工ユニットと、
    該被加工物保持ユニットから該被検査物保持機構の該載置部へと該被加工物を搬送する搬送ユニットと、を備えた加工装置であって、
    該検査装置は、該加工ユニットで加工された該被加工物を該被検査物として該撮像機構により撮像できることを特徴とする加工装置。
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SG10202002976XA SG10202002976XA (en) 2019-04-16 2020-03-30 Inspecting apparatus and processing apparatus including the same
US16/837,067 US11105752B2 (en) 2019-04-16 2020-04-01 Inspecting apparatus and processing apparatus including the same
MYPI2020001736A MY195430A (en) 2019-04-16 2020-04-03 Inspecting Apparatus And Processing Apparatus Including The Same
CN202010278411.2A CN111834243A (zh) 2019-04-16 2020-04-10 检查装置和加工装置
TW109112458A TW202040715A (zh) 2019-04-16 2020-04-14 檢查裝置,及加工裝置
DE102020204746.4A DE102020204746A1 (de) 2019-04-16 2020-04-15 Überprüfvorrichtung und bearbeitungsvorrichtung mit derselben

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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7254416B2 (ja) 2019-01-11 2023-04-10 株式会社ディスコ 被加工物の切削方法
CN112875216B (zh) * 2021-01-18 2022-09-30 惠州市德赛自动化技术有限公司 外观检测设备
WO2023003507A2 (en) * 2021-07-19 2023-01-26 Agency For Science, Technology And Research Data collection apparatus and computer-implemented data collection method using same
JP2024000700A (ja) * 2022-06-21 2024-01-09 株式会社ディスコ 位置合わせ方法及び基準位置の更新方法
CN115157153B (zh) * 2022-08-22 2023-10-17 深圳市赛马精密科技有限公司 一种激光检测定位结构
CN116106320B (zh) * 2023-02-20 2023-09-19 苏州天准科技股份有限公司 用于笔记本电脑外壳表面的检测装置及检测方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008053624A (ja) 2006-08-28 2008-03-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd アライメント装置
JP2012256749A (ja) 2011-06-09 2012-12-27 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置
JP2014022575A (ja) 2012-07-18 2014-02-03 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2017527990A (ja) 2014-07-29 2017-09-21 エルジー シルトロン インコーポレイテッド ウェハーの欠陥測定装置
JP2018107309A (ja) 2016-12-27 2018-07-05 株式会社ディスコ 粘着テープ、被加工物の加工方法、及び粘着テープ貼着装置
JP2019025583A (ja) 2017-07-28 2019-02-21 株式会社ディスコ 切削方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6393130A (ja) * 1986-10-08 1988-04-23 Hitachi Ltd ウエハ貼付治具
US6342434B1 (en) * 1995-12-04 2002-01-29 Hitachi, Ltd. Methods of processing semiconductor wafer, and producing IC card, and carrier
JP4462717B2 (ja) 2000-05-22 2010-05-12 株式会社ディスコ 回転ブレードの位置検出装置
WO2005047874A1 (ja) 2003-11-13 2005-05-26 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. 基板検査装置、基板検査方法およびプログラム
JP5160993B2 (ja) * 2008-07-25 2013-03-13 株式会社荏原製作所 基板処理装置
JP5274966B2 (ja) 2008-09-30 2013-08-28 株式会社ディスコ 加工装置
KR20160003608A (ko) 2015-12-21 2016-01-11 주식회사 브이원텍 칩온글래스 본딩 검사장치
JP6847729B2 (ja) 2017-03-28 2021-03-24 株式会社ディスコ 切削装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008053624A (ja) 2006-08-28 2008-03-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd アライメント装置
JP2012256749A (ja) 2011-06-09 2012-12-27 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置
JP2014022575A (ja) 2012-07-18 2014-02-03 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2017527990A (ja) 2014-07-29 2017-09-21 エルジー シルトロン インコーポレイテッド ウェハーの欠陥測定装置
JP2018107309A (ja) 2016-12-27 2018-07-05 株式会社ディスコ 粘着テープ、被加工物の加工方法、及び粘着テープ貼着装置
JP2019025583A (ja) 2017-07-28 2019-02-21 株式会社ディスコ 切削方法

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Publication number Publication date
TW202040715A (zh) 2020-11-01
MY195430A (en) 2023-01-20
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