JP2005026589A - 半導体記憶装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】メモリセルトランジスタが、セル部ゲート絶縁膜2、第一導電層3、導電層間絶縁膜4、この導電層間絶縁膜4で第一導電層3から絶縁された第二導電層7からなるゲート電極構造を備える。選択トランジスタは、セル部ゲート絶縁膜2、第一導電層3、導電層間絶縁膜4、導電層間絶縁膜4中の開口部で第一導電層3と電気的に導通下第二導電層7からなるゲート電極構造を備える。周辺回路(21,22,23,24)は、セル部ゲート絶縁膜2より薄い周辺回路部ゲート絶縁膜10からなるゲート電極構造を備える周辺回路トランジスタを有する。
【選択図】 図3
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体記憶装置に係り、特に第一導電層(浮遊ゲート電極)と第二導電層(制御ゲート電極)との間に導電層間絶縁膜を挟んだゲート電極構造を有するメモリセルトランジスタを備えた半導体記憶装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
第一導電層と第二導電層とを導電層間絶縁膜を介して積層したゲート電極構造を有するメモリセルトランジスタを備えた半導体記憶装置においては、第1導電層を活性領域に対して自己整合的に形成すれば、活性領域上には、メモリセル領域、周辺回路領域ともに、ゲート絶縁膜、第1導電層(浮遊ゲート電極)、導電層間絶縁膜及び第二導電層(制御ゲート電極)が順に積層した構造になる。この場合、図29に示すように周辺回路のトランジスタQp、及びメモリセルカラム内の選択トランジスタQSGk,QSGk−1においては、既に形成されている第1導電層(浮遊ゲート電極)3に対し、第二導電層(制御ゲート電極)からどのように導通を取るかが問題となる。
【0003】
セル部ゲート絶縁膜2は、メモリセルのデータ保持特性を保つために、例えばシリコン酸化膜を用いた場合、10nm程度の膜厚が要求される。そのため、周辺回路のトランジスタQpを高性能化するときは周辺回路部ゲート絶縁膜10をメモリセルより薄膜化したい。
【0004】
このような回路設計上の要請から、従来、周辺回路のトランジスタQp及びメモリセルカラム内の選択トランジスタQSGk,QSGk−1では、一旦形成された第1導電層(浮遊ゲート電極)3を剥離し、新たに周辺回路専用のゲート絶縁膜とゲート電極を付け替えることにより、第1導電層3を持つメモリセルトランジスタと、第1導電層3を持たない周辺回路のトランジスタQp、及びメモリセルカラム内の選択トランジスタQSGk,QSGk−1を作り分けていた。
【0005】
【特許文献1】
特開2001−168306号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の半導体記憶装置及びその製造方法では、選択トランジスタQSGk,QSGk−1部の電極剥離のためのフォトリソグラフィ技術工程が必要であり、この際の合わせずれや開口部の寸法ばらつき、及び、選択トランジスタQSGk,QS Gk−1を形成するときのフォトリソグラフィ技術の合わせずれを考慮して寸法を決める必要があるため、選択トランジスタQSGk,QSGk−1の微細化は厳しいという不具合がある。
【0007】
上記問題点を鑑み、本発明は、周辺回路部ゲート絶縁膜をセル部ゲート絶縁膜よりも薄膜化を可能にし、かつ、メモリセルカラム内の選択トランジスタの微細化を可能にした半導体記憶装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の第1の特徴は複数個のメモリセルトランジスタとこのメモリセルトランジスタを選択する選択トランジスタとを列方向に配列してなるメモリセルカラムを行方向に複数本並列配置したメモリセルアレイと、メモリセルトランジスタ及び選択トランジスタを駆動し、メモリセルトランジスタから情報を読み出す周辺回路とを備える半導体記憶装置に関する。即ち、本発明の第1の特徴に係る半導体記憶装置のメモリセルトランジスタは、セル部ゲート絶縁膜、第一導電層、導電層間絶縁膜、この導電層間絶縁膜で第一導電層から絶縁された第二導電層からなるゲート電極構造を備える。又、選択トランジスタは、セル部ゲート絶縁膜、第一導電層、導電層間絶縁膜、導電層間絶縁膜中の開口部で第一導電層と電気的に導通した第二導電層からなるゲート電極構造を備える。そして、周辺回路は、セル部ゲート絶縁膜より薄い周辺回路部ゲート絶縁膜からなるゲート電極構造を備える周辺回路トランジスタを有することを要旨とする。
【0009】
本発明の第2の特徴は、複数個のメモリセルトランジスタとこのメモリセルトランジスタを選択する選択トランジスタとを列方向に配列してなるメモリセルカラムを行方向に複数本並列配置したメモリセルアレイと、メモリセルトランジスタ及び選択トランジスタを駆動し、メモリセルトランジスタから情報を読み出す周辺回路とを備える半導体記憶装置の製造方法に関する。即ち、本発明の第1の特徴に係る半導体記憶装置の製造方法は、以下の各工程を含むことを要旨とする:
(イ)半導体基板の表面にセル部ゲート絶縁膜を形成する工程;
(ロ)このセル部ゲート絶縁膜上に第一導電層を形成する工程;
(ハ)この第一導電層の上に導電層間絶縁膜を形成する工程;
(ニ)選択トランジスタ形成予定領域の導電層間絶縁膜に導電層間導通孔を開口する工程;
(ホ)導電層間絶縁膜上に第二導電層を形成する工程;
(ヘ)周辺回路形成予定領域の第二導電層、導電層間絶縁膜、第一導電層、セル部ゲート絶縁膜の一部を選択的に除去し、半導体基板の表面の一部を露出する工程;
(ト)この露出した半導体基板の表面にセル部ゲート絶縁膜より薄い周辺回路部ゲート絶縁膜を形成する工程。
【0010】
【発明の実施の形態】
次に、図面を参照して、本発明の第1及び第2の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。但し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
【0011】
又、以下に示す第1及び第2の実施の形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の技術的思想は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。
【0012】
(第1の実施の形態)
図1は本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置としてのNAND型フラッシュメモリの模式的回路構成を示すブロック図である。メモリセルアレイ20の周辺にはトップ・ページバッファ21、ボトム・ページバッファ22、レフト・ロウデコーダ/チャージポンプ23、ライト・ロウデコーダ/チャージポンプ24等の周辺回路(21,22,23,24)が配置されている。
【0013】
メモリセルアレイ20は、図2に示すように、行方向に配列される複数のワード線WL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・と、このワード線WL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・と直交する列方向に配列される複数のビット線BL2j−1,BL2j,BL2j+1,・・・・・を備えている。そして、図2の列方向には、複数のワード線WL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・のいずれかにより、それぞれ電荷蓄積状態を制御される電荷蓄積層を有するメモリセルトランジスタが配列されている。図1及び図2の場合は、列方向に32個のメモリセルトランジスタが配列されてメモリセルカラムを構成した場合を示している。このメモリセルカラムの配列の両端には、列方向に隣接して配置され、メモリセルカラムに配列された一群のメモリセルトランジスタを選択する一対の選択トランジスタが配置されている。この一対の選択トランジスタのそれぞれのゲートには、一対の選択ゲート配線SGDk,SGSkが接続されている。トップ・ページバッファ21及びボトム・ページバッファ22は、ビット線BL2j−1,BL2j,BL2j+1,・・・・・に接続され、それぞれのメモリセルカラム情報を読み出す場合のバッファである。レフト・ロウデコーダ/チャージポンプ23、ライト・ロウデコーダ/チャージポンプ24はワード線WL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・に接続され、メモリセルカラムを構成している各メモリセルトランジスタの電荷蓄積状態を制御する。
【0014】
図3(a)は、図1のビット線BL2j−1,BL2j,BL2j+1,・・・・・方向に沿った切断面におけるメモリセルアレイ20の一部を示す模式的な断面図、図3(b)は図1のWL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・方向に沿った切断面に対応し、図3(a)のB−B方向から見たメモリセルアレイ20の一部を示す模式的な断面図、図3(c)は周辺回路21,22,23,24,・・・・・のトランジスタQpを示す模式的な断面図である。図3(a)に示すように、本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置のメモリセルトランジスタQCkは、セル部ゲート絶縁膜2、第一導電層3、導電層間絶縁膜4、この導電層間絶縁膜4で第一導電層3から絶縁された第二導電層7からなるゲート電極構造を備えている。又、選択トランジスタQSGk,QSGk−1は、図3(a)及び図3(b)に示すように、セル部ゲート絶縁膜2、第一導電層3、導電層間絶縁膜4、導電層間絶縁膜4中の開口部で第一導電層3と電気的に導通した第二導電層7からなるゲート電極構造を備えている。図3(a)に示すように、選択トランジスタQSGk,QSGk−1は、導電層間絶縁膜4の導電層間導通孔41(図6参照。)を介して、第二導電層7と第一導電層3とが電気的な導通がなされている。
【0015】
そして、周辺回路(21,22,23,24)は、図3(c)に示すように、セル部ゲート絶縁膜2より薄い周辺回路部ゲート絶縁膜10からなるゲート電極構造を備える周辺回路トランジスタQpを有する。又、図3(c)に示すように、メモリセルアレイ20と周辺回路(21,22,23,24)の境界領域に、メモリセルトランジスタのゲート電極構造と周辺回路トランジスタQpのゲート電極構造とが連結された構造からなるダミーゲート11dが配置されている。
【0016】
導電層間絶縁膜4として用いる「高誘電率の絶縁膜」としては、種々の絶縁膜が使用可能である。しかし、最小線幅が100nm以下に微細化された半導体記憶装置では、第一導電層(浮遊ゲート電極)3と第二導電層(制御ゲート電極)7間の結合容量の関係から、SiO2膜より比誘電率εrが大きい材料が好ましい。特に、従来のONO膜で得られていた比誘電率εr=5〜5.5と同程度、若しくは更に比誘電率εrが大きい材料が好ましい。例えば、εr=6であるストロンチウム酸化物(SrO)膜、εr=7であるシリコン窒化物(Si3N4)膜、εr=8〜11であるアルミニウム酸化物(Al2O3)膜、εr=10であるマグネシウム酸化物(MgO)膜、εr=16〜17であるイットリウム酸化物(Y2O3)膜、εr=22〜23であるハフニウム酸化物(HfO2)膜、εr=22〜23であるジルコニウム酸化物(ZrO2)膜、εr=25〜27であるタンタル酸化物(Ta2O5)膜、εr=40であるビスマス酸化物(Bi2O3)膜のいずれか1つの単層膜或いはこれらの複数を積層した複合膜が使用可能である。Ta2O5やBi2O3は多結晶シリコンとの界面における熱的安定性に欠ける(なお、ここで例示したそれぞれの比誘電率εrの値は、製造方法により変化しうるので、場合によりこれらの値から逸脱しうるものである。)。更には、シリコン酸化膜とこれらの複合膜でも良い。複合膜は3層以上の積層構造でも良い。即ち、少なくとも、一部に上記の比誘電率εrが5〜6以上の材料を含む絶縁膜が好ましい。但し、複合膜の場合は膜全体として測定される実効的な比誘電率εreffが5〜6以上になる組み合わせを選択することが好ましい。実効的な比誘電率εreffが6未満では、従来のONO膜と同程度であり、ONO膜以上の効果が期待できないが、ONO膜を用いる場合を排除する趣旨ではない。又、ハフニウム・アルミネート(HfAlO)膜のような3元系の化合物からなる絶縁膜でも良い。即ち、ストロンチウム(Sr)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、イットリウム(Y)、ハフニウム(Hf)、ジルコニウム(Zr)、タンタル(Ta)、ビスマス(Bi)のいずれか1つの元素を少なくとも含む酸化物、又はこれらの元素を含むシリコン窒化物が導電層間絶縁膜4として使用可能である。なお、強誘電体のチタン酸ストロンチウム(SrTiO3)、バリウム・チタン酸ストロンチウム(BaSrTiO3)等も高誘電率の絶縁膜材料として使用可能であるが、多結晶シリコンとの界面における熱的安定性に欠ける点と、強誘電体のヒステリシス特性に対する考慮が必要になる。なお、以下の説明では、導電層間絶縁膜4として、アルミナ膜を用いる場合について例示的に説明するが、これに限るものではないことは上記説明から明らかであろう。
【0017】
周辺回路部ゲート絶縁膜10もシリコン酸化物の他、シリコン窒化物、アルミニウム酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物のいずれか1つの単層膜、或いはこれらの複数の組み合わせからなる積層膜を使用することが可能である。
【0018】
図3において、第二導電層(制御ゲート電極)7の表面には、コバルトシリサイド(CoSi2)層13が形成され、ソース・ドレインコンタクト部にもCoSi2層13が形成され、サリサイド構造を実現している。CoSi2層13の他に、チタン(Ti)やニッケル(Ni)金属のシリサイドを用いても構わない。
【0019】
図3では、第一導電層(浮遊ゲート電極)3及び第二導電層(制御ゲート電極)7は、リン(P)等のn型不純物をドープしたポリシリコン(以下において「ドープドポリシリコン」という。)膜で形成されている。しかし、第二導電層(制御ゲート電極)7は、ドープドポリシリコンに限定されるものではなく、チタン(Ti)、タングステンC、タングステン窒化物(WN)、チタン窒化物(TiN,Ti2N)のいずれか1つ或いは複数の積層膜により形成されても良い。第二導電層(制御ゲート電極)7は、タングステン(Ti)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)或いは銅(Cu)金属からなるワード線WL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・に接続されている。
【0020】
第1の実施の形態に係る半導体記憶装置によれば、周辺回路部ゲート絶縁膜10をセル部ゲート絶縁膜2よりも薄膜化を可能にし、かつ、メモリセルカラム内の選択トランジスタQSGk,QSGk−1の微細化が可能になる。
図4〜図13を用いて、本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明する。なお、以下に述べる半導体記憶装置の製造方法は、一例であり、この変形例を含めて、これ以外の種々の製造方法により、実現可能であることは勿論である。図4〜図13のそれぞれにおいて、図(a)は、図1のビット線BL2j−1,BL2j,BL2j+1,・・・・・方向に沿った切断面におけるメモリセルアレイ20の一部を示す工程断面図、図(b)は図1のWL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・方向に沿った切断面におけるメモリセルアレイ20の一部を示す工程断面図、図(c)は周辺回路21,22,23,24,・・・・・のトランジスタQpを示す工程断面図である。図4〜図13のそれぞれにおいて、図(b)は隣接する2つのメモリセルカラムの折り返し領域に対応し、それぞれ異なるメモリセルカラムに属する選択トランジスタQSGk,QSGk−1の工程断面図に相当する。
【0021】
(イ)先ず、p型シリコン基板からなる半導体基板1上に、熱酸化法によるシリコン酸化膜等のセル部ゲート絶縁膜2を1nmから15nm程度形成する。p型シリコン基板の代わりに、n型シリコン基板上にp型ウェルを形成したものを半導体基板1として、この上に、セル部ゲート絶縁膜2を形成しても良い。このセル部ゲート絶縁膜2の上に化学気相成長法(CVD法)によってリン(P)等のn型不純物をドープしたドープドポリシリコン膜等の第一導電層3を10nmから200nm程度形成する。次いでCVD法によってこの第1ドープドポリシリコン膜の上に、シリコン窒化膜(Si3N4膜)を50nmから200nm程度形成し、引き続き、CVD法によってシリコン酸化膜を50nmから400nm程度形成する。次いで、このシリコン酸化膜上に、フォトレジスト膜6を塗布し、フォトリソグラフィ技術によりフォトレジスト膜を露光現像し、エッチングマスクを形成する。次いで、このフォトレジスト膜のエッチングマスクを用いて、シリコン酸化膜を反応性イオンエッチング(RIE)法でエッチングする。エッチング後にフォトレジスト膜を除去し、シリコン酸化膜をマスクにしてシリコン窒化膜をRIE法で選択エッチングする。その後、第一導電層3、セル部ゲート絶縁膜2及び半導体基板(シリコン基板)1をRIE法でエッチングすることにより、素子分離溝を形成する。次いで、シリコン酸化膜等の素子分離絶縁膜5を200nmから1500nm形成することによって素子分離溝を埋め込む。次いで、化学的機械的研磨(CMP)法によりシリコン窒化膜をストッパーにして平坦化を行う。更に、素子分離絶縁膜5に用いているシリコン酸化膜と第一導電層3の上部のシリコン窒化膜のエッチング速度がほぼ等しいエッチングを用いて、素子分離絶縁膜5とシリコン窒化膜をエッチングし、平坦な表面を得る。その後、CVD法によって、高誘電材料である酸化アルミニウム(Al2O3)膜を導電層間絶縁膜4として、素子分離絶縁膜5の表面と第一導電層3を含む全面に堆積する。図4(c)には図示を省略しているが、周辺回路21,22,23,24,・・・・・の領域においても、シャロー・トレンチ・アイソレーション(STI)による素子分離絶縁膜5が形成されていることは勿論である。この結果、第1導電層3(浮遊ゲート電極)3はSTIの素子分離絶縁膜5に囲まれた活性領域に自己整合的に形成されたことになる。
【0022】
(ロ)この後、全面にマスク材として第1テトラエチルオルソシリケート(第1TEOS)膜を堆積する。そして、フォトリソグラフィ技術により、後に選択トランジスタQSGk,QSGk−1ができる領域において、フォトレジスト膜を200nm程度の幅で開口し、第1TEOS膜も開口する。その後、フォトレジスト膜を剥離し、第2TEOS膜を60nm程度堆積し、RIEにて第2TEOS膜をエッチングし、図5(a)のように、開口部に側壁を形成する。
【0023】
(ハ)続いて、第1及び第2TEOS膜をマスクとして、RIE又は熱燐酸(H3PO4)等の酸化シリコン及びシリコンに対して、大きな選択比を持つエッチャントを用いて、導電層間絶縁膜(Al2O3膜)4をエッチングし、選択トランジスタ形成予定領域に図6(a)に示すように、導電層間導通孔41を開口する。その後、図6に示すように、第1及び第2TEOS膜を弗酸(HF)などで除去する。
【0024】
(ニ)引き続き第二導電層(制御ゲート電極)7となる第2ドープドポリシリコン膜をCVD法により、導電層間絶縁膜(Al2O3膜)4の上部の全面に堆積する。更に、フォトレジスト膜8を第2ドープドポリシリコン膜7上部に塗布し、フォトリソグラフィ技術により、図7(c)に示すように、周辺回路のトランジスタQp部のフォトレジスト膜8を開口する。
【0025】
(ホ)次に、このフォトレジスト膜8をマスクとして、周辺回路部の第二導電層(制御ゲート電極)7、導電層間絶縁膜(Al2O3膜)4、第1導電層3(浮遊ゲート電極)3をRIEにて選択的にエッチングして除去し、セル部ゲート絶縁膜2として形成した酸化膜の一部を露出させる第1開口部(窓部)を開口する。その後、フォトレジスト膜8を剥離し、図8に示すように、窒化シリコン膜9をCVD法で全面に堆積する。
【0026】
(ヘ)その後、フォトレジスト膜を窒化シリコン膜9上に塗布し、図8で形成した周辺回路部のフォトレジスト膜の第1開口部よりも、やや小さめに、周辺回路部のフォトレジスト膜を第2開口部を開口する。フォトレジスト膜をマスクとして、第2開口部の窒化シリコン膜9をRIEにてエッチングを行い、更に第2開口部に露出した酸化膜を弗酸にて、図9(c)に示すようにエッチングし、半導体基板1の表面の一部を露出させる。
【0027】
(ト)その後、第2開口部に露出した半導体基板1の表面の一部を熱酸化し、周辺回路のトランジスタQpのゲート酸化膜(周辺回路部ゲート絶縁膜)10を形成する。そして、窒化シリコン膜9を熱燐酸等のウェットエッチングで除去する。更に、図10に示すように、第二導電層(制御ゲート電極)7及び周辺回路のトランジスタQp共用の第3ドープドポリシリコン膜をCVD法で堆積する。
【0028】
(チ)この後、メモリセルアレイ20に対して、フォトリソグラフィ技術により、メモリセルトランジスタの分離のためのフォトレジスト膜のパターニングを行う。即ち、フォトレジスト膜をマスクとして、メモリセルアレイ20の第3ドープドポリシリコン膜11,第2ドープドポリシリコン膜7、導電層間絶縁膜(Al2O3膜)4、第1ドープドポリシリコン膜3をRIEにてエッチングし、図11(a)に示すように、各メモリセルカラムのメモリセルトランジスタを互いに分離する。図11(a)に示すように、導電層間絶縁膜4の導電層間導通孔41を介して、選択トランジスタの第二導電層7と第一導電層3とは電気的な導通がなされている。メモリセルトランジスタの分離後、エッチングマスクとして用いたフォトレジスト膜を除去する。
【0029】
(リ)続いて、第3ドープドポリシリコン膜11の上に新たなフォトレジスト膜を塗布し、フォトリソグラフィ技術により、周辺回路部のパターニングのためにフォトレジスト膜を露光・現像する。この露光・現像により得られたフォトレジスト膜をマスクとして、周辺回路部のゲート酸化膜(周辺回路部ゲート絶縁膜)10に対して選択性を持たせて、図12(c)に示すように、第3ドープドポリシリコン膜11のRIEを行う。周辺回路部には、第3ドープドポリシリコン膜11からなるゲート電極11gがパターニングされる。周辺回路部の第3ドープドポリシリコン膜11パターニング終了後、エッチングマスクとして用いたフォトレジスト膜を除去する。この際、図12(c)に示すように、周辺回路部とメモリセルアレイ20の境界部分には、フォトリソグラフィ工程におけるマスク合わせずれを考慮して、境界部にまたがるダミーゲート11dが形成される。
【0030】
(ヌ)この後、メモリセルアレイ20のメモリセルトランジスタのソース/ドレイン拡散層のイオン注入、及びコンタクト拡散層のイオン注入を行う。更にドーズ量を変えて周辺回路部のトランジスタQpのソース/ドレイン拡散層のイオン注入、及びコンタクト拡散層のイオン注入を行う。更に、窒化シリコン膜12を堆積し、更にRIEにて図13に示すように窒化シリコンの側壁12を形成し、ソース/ドレイン拡散層及びコンタクト拡散層の上部にコンタクトホールを開口する。そして、コバルト(Co)をスパッタリング法にて堆積し、アニールによりシリサイド化を行うことにより図3に示すように、コバルトシリサイド(CoSi2)層13を形成する。
【0031】
第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法によれば、セル部ゲート絶縁膜2よりも薄膜化された周辺回路部ゲート絶縁膜10を簡単に形成でき、かつ、微細化した選択トランジスタQSGk,QSGk−1も簡単に製造でき、製造歩留まりも高い。特に、周辺回路部とメモリセルアレイ20の境界部分にダミーゲート11dを備えているので、フォトリソグラフィ工程におけるマスク合わせずれによるデバイス特性の影響を抑制できる。
(第2の実施の形態)
本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置は、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置と同様に、複数個のメモリセルトランジスタとこのメモリセルトランジスタを選択する選択トランジスタとを列方向に配列してなるメモリセルカラムを行方向に複数本並列配置したメモリセルアレイ20と、メモリセルトランジスタ及び選択トランジスタを駆動し、メモリセルトランジスタから情報を読み出す周辺回路(21,22,23,24)とを備えるNAND型フラッシュメモリである(図1参照。)。
【0032】
即ち、第2の実施の形態に係る半導体記憶装置のメモリセルトランジスタQCkは、図22(a)に示すように、セル部ゲート絶縁膜2、第一導電層3、導電層間絶縁膜4、この導電層間絶縁膜4で第一導電層3から絶縁された第二導電層7、第二導電層7に接した第三導電層11からなるゲート電極構造を備えている。第二導電層7と第三導電層11との2層構造で、制御ゲート電極(7,11)を構成している。なお、図22(a)は、図1のビット線BL2j−1,BL2j,BL2j+1,・・・・・方向に沿った切断面におけるメモリセルアレイ20の一部を示す模式的な断面図、図22(b)は図1のWL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・方向に沿った切断面に対応し、図22(a)のB−B方向から見たメモリセルアレイ20の一部を示す模式的な断面図、図22(c)は周辺回路21,22,23,24,・・・・・のトランジスタQpを示す模式的な断面図である。
【0033】
対応する選択トランジスタQSGk,QSGk−1は、図22(a)及び図22(b)に示すように、セル部ゲート絶縁膜2、第一導電層3、導電層間絶縁膜4、導電層間絶縁膜4中の開口部で第一導電層3と電気的に導通した第二導電層7、第二導電層7に接した第三導電層11からなるゲート電極構造を備えている。即ち、図22(a)に示すように、選択トランジスタQSGk,QSGk−1は、導電層間絶縁膜4の導電層間導通孔41(図18参照。)を介して、第二導電層7と第一導電層3とが電気的な導通がなされ、第三導電層11も第二導電層7を介して、第一導電層3と電気的に導通している。
【0034】
一方、周辺回路(21,22,23,24)は、図22(c)に示すように、セル部ゲート絶縁膜2より薄い周辺回路部ゲート絶縁膜10からなるゲート電極構造を備える周辺回路トランジスタQpを有する。特に、周辺回路トランジスタのゲート電極構造は、図22(c)に示すように、周辺回路部ゲート絶縁膜10の上部に制御ゲート電極(7,11)と同一構造の導電層(7,11)を備えている点が、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置と異なる点である。図22(c)に示すように、メモリセルアレイ20と周辺回路(21,22,23,24)の境界領域に、メモリセルトランジスタのゲート電極構造と周辺回路トランジスタQpのゲート電極構造とが連結された構造からなるダミーゲート11dが配置されているのは、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置と同様である。他は、第1の実施の形態と実質的に同様であるので、重複した記載を省略する。
【0035】
第2の実施の形態に係る半導体記憶装置によれば、周辺回路部ゲート絶縁膜10をセル部ゲート絶縁膜2よりも薄膜化を可能にし、かつ、メモリセルカラム内の選択トランジスタQSGk,QSGk−1の微細化が可能になる。
【0036】
図14〜図22を用いて、本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明する。なお、以下に述べる半導体記憶装置の製造方法は、一例であり、この変形例を含めて、これ以外の種々の製造方法により、実現可能であることは勿論である。第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法と同様に、図14〜図22のそれぞれにおいて、図(a)は、図1のビット線BL2j−1,BL2j,BL2j+1,・・・・・方向に沿った切断面におけるメモリセルアレイ20の一部を示す工程断面図、図(b)は図1のWL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・方向に沿った切断面におけるメモリセルアレイ20の一部を示す工程断面図、図(c)は周辺回路21,22,23,24,・・・・・のトランジスタQpを示す工程断面図である。図14〜図22のそれぞれにおいて、図(b)は隣接する2つのメモリセルカラムの折り返し領域に対応し、それぞれ異なるメモリセルカラムに属する選択トランジスタQSGk,QSGk−1の工程断面図に相当する。
【0037】
(イ)先ず、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法と同様に、p型シリコン基板からなる半導体基板1上に、セル部ゲート絶縁膜2、第一導電層3を堆積し、STIによる素子分離絶縁膜5で、セル部ゲート絶縁膜2及び第一導電層3をそれぞれ分離する。その後、Al2O3膜を導電層間絶縁膜4として全面に堆積する。更に導電層間絶縁膜4の上に第1TEOS膜を図14に示すように堆積する。図示を省略しているが、周辺回路21,22,23,24,・・・・・の領域においても、STIによる素子分離絶縁膜5が形成されていることは勿論である。
【0038】
(ロ)そして、フォトリソグラフィ技術により、フォトレジスト膜を露光・現像してパターニングし、このフォトレジスト膜をエッチングマスクとして用い、RIE法により、周辺回路のトランジスタQpの形成予定領域の第1TEOS膜6、導電層間絶縁膜(Al2O3膜)4、第一導電層(ドープドポリシリコン膜)3を選択的に除去し、図15(c)に示すように、
セル部ゲート絶縁膜2として形成した酸化膜の一部を露出させる。
【0039】
(ハ)その後、エッチングマスクとして用いたフォトレジスト膜を剥離し、図16(c)に示すように、導電層間絶縁膜(Al2O3膜)4上の第1TEOS膜6と開口部の酸化膜2を弗酸にて除去し、半導体基板1の表面の一部を露出させる。
【0040】
(ニ)続いて、一部を露出した半導体基板1の表面を熱酸化し、周辺回路のトランジスタQpのゲート酸化膜10を形成する。更に、図17(c)に示すように、第二導電層(制御ゲート電極)7及び周辺回路のトランジスタQp共用の第2ドープドポリシリコン膜7を堆積する。
【0041】
(ホ)そして、第2ドープドポリシリコン膜7の上の全面にマスク材として第2TEOS膜(図示省略)を堆積する。第2TEOS膜の上にフォトレジスト膜を塗布し、フォトリソグラフィ技術により、フォトレジスト膜を露光・現像してパターニングし、このフォトレジスト膜をエッチングマスクとして用い第2TEOS膜を選択的に除去し、後に選択トランジスタQSGk,QSGk−1ができる領域を、200nm程度の幅で開口する。その後、フォトレジスト膜を剥離し、第3TEOS膜(図示省略)を60nm堆積し、RIEにて第3TEOS膜をエッチングし、開口部に側壁を形成する(第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法の図5と同様である。)。第3TEOS膜をマスクとして、RIEで第2ドープドポリシリコン膜7を選択的に除去する。更に、熱燐酸等の酸化シリコン及びシリコンに対して、大きな選択比を持つ方法にて導電層間絶縁膜(Al2O3膜)4をエッチングし、選択トランジスタ形成予定領域に図18(a)に示すように、導電層間導通孔41を開口する。する。第2及び第3TEOS膜を弗酸などで剥離する)。
【0042】
(ヘ)引き続き、第2ドープドポリシリコン膜7上の自然酸化膜を除去するために、軽い弗酸処理を行い、メモリセルトランジスタの制御ゲート電極及び周辺回路のトランジスタQpのゲート電極共用の第3ドープドポリシリコン膜11を、図19に示すように堆積する。
【0043】
(ト)この後、第3ドープドポリシリコン膜11の上にフォトレジスト膜を塗布し、フォトリソグラフィ技術により、フォトレジスト膜を露光・現像してパターニングする。そして、このフォトレジスト膜をエッチングマスクとして用い、メモリセルアレイ20の第3ドープドポリシリコン膜11、第2ドープドポリシリコン膜7、導電層間絶縁膜(Al2O3膜)4、第1ドープドポリシリコン膜3をRIEにてエッチングを行い、図20(a)に示すように、各メモリセルカラムのメモリセルトランジスタを互いに分離する。図20(a)に示すように、導電層間絶縁膜4の導電層間導通孔41を介して、選択トランジスタの第二導電層7と第一導電層3とは電気的な導通がなされている。メモリセルトランジスタの分離後、エッチングマスクとして用いたフォトレジスト膜を除去する。
【0044】
(チ)続いて、第3ドープドポリシリコン膜11の上に新たなフォトレジスト膜を塗布し、フォトリソグラフィ技術によりフォトレジスト膜を露光・現像する。この露光・現像により得られたフォトレジスト膜をマスクとして、周辺回路部のゲート酸化膜(周辺回路部ゲート絶縁膜)10に対して選択性を持たせて、図21(c)に示すように、第3ドープドポリシリコン膜11及び第2ドープドポリシリコン膜7のRIEを行い、ゲート電極(11g,7g)を形成する。この後、フォトレジスト膜を除去する。この際、周辺回路部とメモリセルアレイ20の境界部分には、周辺ゲート加工のためのフォトリソグラフィ技術のパターニングとの合わせずれを考慮して、図21(c)に示すように、境界部にまたがるダミーゲート(11d,7d)を形成する(図27)。
【0045】
(リ)この後、メモリセルアレイ20のメモリセルトランジスタのソース/ドレイン拡散層のイオン注入、及びコンタクト拡散層のイオン注入を行う。同様に、周辺回路部のトランジスタQpのソース/ドレイン拡散層のイオン注入、及びコンタクト拡散層のイオン注入を行う。更に、窒化シリコン膜12を堆積し、更にRIEにて図22に示すように窒化シリコンの側壁12を形成し、ソース/ドレイン拡散層及びコンタクト拡散層の上部にコンタクトホールを開口する。そして、Coをスパッタリング法にて堆積し、アニールによりシリサイド化を行うことにより図3に示すようなCoSi2層13を形成する。
【0046】
第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法によれば、セル部ゲート絶縁膜2よりも薄膜化された周辺回路部ゲート絶縁膜10を簡単に形成でき、かつ、微細化した選択トランジスタQSGk,QSGk−1も簡単に製造でき、製造歩留まりも高い。特に、周辺回路部とメモリセルアレイの境界部分にダミーゲート(11d,7d)を備えているので、フォトリソグラフィ工程におけるマスク合わせずれによるデバイス特性の影響を抑制できる。
【0047】
(その他の実施の形態)
上記のように、本発明は第1及び第2の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
【0048】
既に述べた第1及び第2の実施の形態の説明においては、NAND型のフラッシュメモリを示したが、本発明の半導体記憶装置のメモリセルトランジスタの構造は、図23に示すようなAND型のフラッシュメモリや図示を省略したDINOR型フラッシュメモリにも同様に適用可能である。
【0049】
更に、第1及び第2の実施の形態に係る半導体記憶装置は、様々な適用例が可能である。例えば、図24に示すように、第1及び第2の実施の形態に係る半導体記憶装置を半導体メモリデバイス50として、メモリカード60に適用可能である。図24のメモリカード60は、既に説明した半導体記憶装置(半導体メモリデバイス)50に加えて、この半導体記憶装置50を制御し、かつ外部デバイスとの間で所定の信号を送受信するコントローラ70を具備している。コントローラ70は、インタフェースユニット(I/F)71,72と、マイクロプロセッサユニット(MPU)73と、バッファRAM74と、及びインタフェースユニット(I/F)72内に含まれるエラー訂正コードユニット(ECC)75とを備えている。インタフェースユニット(I/F)71は、外部デバイスとの間で所定の信号を送受信し、インタフェースユニット(I/F)72は、半導体メモリデバイス(半導体記憶装置)50との間で所定の信号を送受信する。マイクロプロセッサユニット(MPU)73は、論理アドレスを物理アドレスに変換する。バッファRAM74は、データを一時的に記憶する。エラー訂正コードユニット(ECC)75は、エラー訂正コードを発生する。コマンド信号ラインCMD、クロック信号ラインCLK、及びシグナルラインDATはメモリカード60に接続されている。制御信号ラインの本数、シグナルラインDATのビット幅及びコントローラ76の回路構成は適宜修正可能である。
【0050】
更に、図25に示すように、NAND型フラッシュメモリとバイト型EEPROMで構成されるROM領域を有するEEPROMモードのフラッシュメモリ503を利用してメモリカード60の構成することが可能である。NAND型フラッシュメモリは、第1及び第2の実施の形態において説明した半導体記憶装置の構造を有する。図25に示すフラッシュメモリ503は、コントローラ76部分と同一チップに形成して、ワンチップ化されたシステムLSIチップを構成しても良い。更に又、マイクロプロセッサユニット(MPU)73内に、ROM領域を有するEEPROMモードのフラッシュメモリ503からなる半導体メモリ領域を形成してメモリ混載MPUを実現し、更にインタフェースユニット(I/F)71,72、バッファRAM74をすべてワンチップ化して、システムLSIチップとして構成しても良い。
【0051】
図24又は図25に示されたメモリカード60は、図26に示すようなメモリカードホルダ80に収納して使用が可能である。メモリカードホルダ80は、電子デバイス(図示省略)に接続され、メモリカード60と電子デバイスとのインタフェースとして動作可能である。メモリカードホルダ80は、図24又は図25に開示されたメモリカード60内のコントローラ76、マイクロプロセッサユニット(MPU)73、バッファRAM74、エラー訂正コードユニット(ECC)75、インタフェースユニット(I/F)71,72等の複数の機能と共に、様々な機能を実行可能である。或いは、図27に示すように、半導体メモリデバイス(半導体記憶装置)50とROM410とRAM420とCPU430とから構成されたMPU400と、プレーンターミナル600とを含むICカード500を構成しても良い。ICカード500はプレーンターミナル600を介して外部デバイスと接続可能である。又プレーンターミナル600はICカード500内において、MPU400に結合される。CPU430は演算部431と制御部432とを含む。制御部432は半導体メモリデバイス(半導体記憶装置)50、ROM410及びRAM420に結合されている。MPU400はICカード500の一方の表面上にモールドされ、プレーンターミナル600はICカード500の他方の表面上において形成されることが望ましい。又、ROM410、RAM420、CPU430、半導体記憶装置領域をすべてワンチップ化して、システムLSIチップとして構成し、このようなシステムLSIチップをICカード500内に内蔵されるようにしても良い。又、ROM410を半導体記憶装置領域内に内蔵して、全体としてROM領域を有するEEPROMモードのフラッシュメモリを構成し、更に、このROM領域を有するEEPROMモードのフラッシュメモリと、RAM420、CPU430をすべてワンチップ化して、システムLSIチップを構成しても良い。
【0052】
更に、本発明の第1及び第2の実施の形態で説明した半導体記憶装置は、ユニバーサル・シリアル・バス(以下において「USB」という)フラッシュ装置800を用いたシステムに応用することが可能である。即ち、図28に示すように、このフラッシュメモリシステムはホストプラットホーム700、及びUSBフラッシュ装置800より構成される。ホストプラットホーム700は、USBケーブル750を介して、USBフラッシュ装置800へ接続されている。ホストプラットホーム700は、USBホストコネクタ701を介してUSBケーブル750に接続し、USBフラッシュ装置800はUSBフラッシュ装置コネクタ801を介してUSBケーブル750に接続する。ホストプラットホーム700は、USBバス上のパケット伝送を制御するUSBホスト制御器702を有する。USBフラッシュ装置800は、USBフラッシュ装置800の他の要素を制御し、且つUSBフラッシュ装置800のUSBバスへのインタフェースを制御するUSBフラッシュ装置制御器802と、USBフラッシュ装置コネクタ801と、本発明の第1及び第2の実施の形態で説明した半導体記憶装置を少なくとも1つ含んで構成されたフラッシュメモリモジュール850とを備える。
【0053】
USBフラッシュ装置800がホストプラットホーム700に接続されると、標準USB列挙処理が始まる。この処理において、ホストプラットホーム700は、USBフラッシュ装置800を認知してUSBフラッシュ装置800との通信モードを選択し、エンドポイントという、転送データを格納するFIFOバッファを介して、USBフラッシュ装置800との間でデータの送受信を行う。ホストプラットホーム700は、他のエンドポイントを介してUSBフラッシュ装置800の脱着等の物理的、電気的状態の変化を認識し、受け取るべきパケットがあれば、それを受け取る。ホストプラットホーム700は、USBホスト制御器702へ要求パケットを送ることによって、USBフラッシュ装置800からのサービスを求める。USBホスト制御器702は、USBケーブル750上にパケットを送信する。USBフラッシュ装置800がこの要求パケットを受け入れたエンドポイントを有する装置であれば、これらの要求はUSBフラッシュ装置制御器802によって受け取られる。
【0054】
次に、USBフラッシュ装置制御器802は、フラッシュメモリモジュール850から、或いはフラッシュメモリモジュール850へ、データの読み出し、書き込み、或いは消去等の種々の操作を行う。それとともに、USBアドレスの取得等の基本的なUSB機能をサポートする。USBフラッシュ装置制御器802は、フラッシュメモリモジュール850の出力を制御する制御ライン810を介して、又、例えば、/CE等の種々の他の信号や読み取り書き込み信号を介して、フラッシュメモリモジュール850を制御する。又、フラッシュメモリモジュール850は、アドレスデータバス811によってもUSBフラッシュ装置制御器802に接続されている。アドレスデータバス811は、フラッシュメモリモジュール850に対する読み出し、書き込み或いは消去のコマンドと、フラッシュメモリモジュール850のアドレス及びデータを転送する。
【0055】
ホストプラットホーム700が要求した種々の操作に対する結果及び状態に関してホストプラットホーム700へ知らせるために、USBフラッシュ装置800は、状態エンドポイント(エンドポイント0)を用いて状態パケットを送信する。この処理において、ホストプラットホーム700は、状態パケットがないかをチェックし(ポーリング)、USBフラッシュ装置800は、新しい状態メッセージのパケットが存在しない場合に空パケットを、或いは状態パケットそのものを返す。以上のように、本発明の第1及び第2の実施の形態に係る半導体記憶装置を少なくとも1つ含んで構成されたフラッシュメモリモジュール850を適用することにより、USBフラッシュ装置の様々な機能を実施可能である。又,上記USBケーブル750を省略し、コネクタ間を直接接続することも可能である。
【0056】
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態や応用例等を含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
【0057】
【発明の効果】
本発明によれば、周辺回路部ゲート絶縁膜をセル部ゲート絶縁膜よりも薄膜化を可能にし、かつ、メモリセルカラム内の選択トランジスタの微細化を可能にした半導体記憶装置及びその製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置を示す模式的な回路構成図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイの一部を示す模式的なレイアウトパターン構成図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイの一部を示す模式的な断面図で、図3(a)はビット線に沿った方向で切断したメモリセルアレイの一部を示す断面図、図3(b)はワード線に沿った方向で切断したメモリセルアレイの一部を示す断面図、図3(c)は周辺回路部トランジスタの断面図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その1)。
【図5】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その2)。
【図6】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その3)。
【図7】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その4)。
【図8】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その5)。
【図9】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その6)。
【図10】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その7)。
【図11】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その8)。
【図12】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その9)。
【図13】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その10)。
【図14】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その1)。
【図15】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その2)。
【図16】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その3)。
【図17】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その4)。
【図18】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その5)。
【図19】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その6)。
【図20】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その7)。
【図21】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その8)。
【図22】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の製造方法を説明するための工程断面図である(その9)。
【図23】本発明の第1又は第2の実施の形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイの変形例を示す等価回路である。
【図24】本発明の第1又は第2の実施の形態に係る半導体記憶装置を適用するメモリカードの内部構造を示す模式的ブロック構成図である。
【図25】本発明の第1又は第2の実施の形態に係る半導体記憶装置を適用する他のメモリカードの内部構造を示す模式的ブロック構成図である。
【図26】本発明の第1又は第2の実施の形態に係る半導体記憶装置を適用するメモリカード及びカードホルダの模式的構成図である。
【図27】本発明の第1又は第2の実施の形態に係る半導体記憶装置を適用するICカードの内部構造を示す模式的ブロック構成図である。
【図28】本発明の第1及び第2の実施の形態に係る半導体記憶装置をフラッシュメモリシステムに適用した場合の構成を示す模式的ブロック図である。
【図29】従来の半導体記憶装置のメモリセルアレイの一部を示す模式的な断面図である。
【符号の説明】
1…半導体基板
2…セル部ゲート絶縁膜
3…第一導電層(第1ドープドポリシリコン膜)
4…導電層間絶縁膜
5…素子分離絶縁膜
6,8…フォトレジスト膜
6…第1TEOS膜
7…第2ドープドポリシリコン膜
9…窒化シリコン膜
10…周辺回路部ゲート絶縁膜
11…第3ドープドポリシリコン膜
11d…ダミーゲート
11g…ゲート電極
12…窒化シリコン膜
13…コバルトシリサイド(CoSi2)層
20…メモリセルアレイ
21…トップ・ページバッファ
22…ボトム・ページバッファ
23…レフト・ロウデコーダ/チャージポンプ
24…ライト・ロウデコーダ/チャージポンプ
41…導電層間導通孔
50…半導体メモリデバイス(半導体記憶装置)
60…メモリカード
70,76…コントローラ
71,72…インタフェースユニット(I/F)
73…MPU
74…バッファRAM
75…エラー訂正コードユニット(ECC)
80…メモリカードホルダ
410…ROM
420…RAM
430…CPU
431…演算部
432…制御部
500…ICカード
503…フラッシュメモリ
600…プレーンターミナル
700…ホストプラットホーム
701…USBホストコネクタ
702…USBホスト制御器
750…ケーブル
750…USBケーブル
800…フラッシュ装置
800…USBフラッシュ装置
801…USBフラッシュ装置コネクタ
802…USBフラッシュ装置制御器
810…制御ライン
811…アドレスデータバス
850…フラッシュメモリモジュール
BL2j−1,BL2j,BL2j+1,・・・・・…ビット線
QSGk,QSGk−1…選択トランジスタ
Qp…周辺回路のトランジスタ
SGDk,SGSk…選択ゲート配線
WL1k,WL2k,・・・・・,WL32k,WL1k−1,・・・・・…ワード線
Claims (15)
- 複数個のメモリセルトランジスタと該メモリセルトランジスタを選択する選択トランジスタとを列方向に配列してなるメモリセルカラムを行方向に複数本並列配置したメモリセルアレイと、前記メモリセルトランジスタ及び選択トランジスタを駆動し、前記メモリセルトランジスタから情報を読み出す周辺回路とを備える半導体記憶装置であって、
前記メモリセルトランジスタは、セル部ゲート絶縁膜、第一導電層、導電層間絶縁膜、該導電層間絶縁膜で前記第一導電層から絶縁された第二導電層からなるゲート電極構造を備え、
前記選択トランジスタは、前記セル部ゲート絶縁膜、前記第一導電層、前記導電層間絶縁膜、前記導電層間絶縁膜中の開口部で前記第一導電層と電気的に導通した第二導電層からなるゲート電極構造を備え、
前記周辺回路は、前記セル部ゲート絶縁膜より薄い周辺回路部ゲート絶縁膜からなるゲート電極構造を備える周辺回路トランジスタを有することを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記第二導電層の上に更に第三導電層を備え、前記周辺回路トランジスタのゲート電極構造は、前記周辺回路部ゲート絶縁膜の上部に前記第二導電層と前記第三導電層からなる積層構造と同一構造の導電層を備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
- 前記メモリセルアレイと前記周辺回路の境界領域に、前記メモリセルトランジスタのゲート電極構造と前記周辺回路トランジスタのゲート電極構造とが連結された構造からなるダミーゲートが配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体記憶装置。
- 前記導電層間絶縁膜は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、アルミニウム酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物のいずれか1つの単層膜、或いはこれらの複数の組み合わせからなる積層膜であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
- 前記周辺回路部ゲート絶縁膜は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、アルミニウム酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物のいずれか1つの単層膜、或いはこれらの複数の組み合わせからなる積層膜であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
- 前記第1及び第2導電層がそれぞれポリシリコンで形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
- 前記第2導電層が、チタン、コバルト或いはニッケル金属のシリサイド層を備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
- 前記第2導電層は、チタン、タングステン、タングステン窒化物、チタン窒化物のいずれか1つを含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
- 前記第2導電層が、タングステン、アルミニウム、チタン或いは銅金属からなる配線に接続されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
- 前記複数個のメモリセルトランジスタがNAND型に接続されていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
- 前記複数個のメモリセルトランジスタトランジスタがAND型に接続されていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
- 複数個のメモリセルトランジスタと該メモリセルトランジスタを選択する選択トランジスタとを列方向に配列してなるメモリセルカラムを行方向に複数本並列配置したメモリセルアレイと、前記メモリセルトランジスタ及び選択トランジスタを駆動し、前記メモリセルトランジスタから情報を読み出す周辺回路とを備える半導体記憶装置の製造方法であって、
半導体基板の表面にセル部ゲート絶縁膜を形成する工程と、
該セル部ゲート絶縁膜上に第一導電層を形成する工程と、
該第一導電層の上に導電層間絶縁膜を形成する工程と、
前記選択トランジスタ形成予定領域の前記導電層間絶縁膜に導電層間導通孔を開口する工程と、
前記導電層間絶縁膜上に第二導電層を形成する工程と、
前記周辺回路形成予定領域の前記第二導電層、前記導電層間絶縁膜、前記第一導電層、前記セル部ゲート絶縁膜の一部を選択的に除去し、前記半導体基板の表面の一部を露出する工程と、
該露出した前記半導体基板の表面に前記セル部ゲート絶縁膜より薄い周辺回路部ゲート絶縁膜を形成する工程
とを含むことを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。 - 前記周辺回路部ゲート絶縁膜上に第三導電層を形成する工程を更に含むことを特徴とする請求項12に記載の半導体記憶装置の製造方法。
- 前記第三導電層を選択的にエッチングし、前記メモリセルアレイと前記周辺回路の境界領域に、前記メモリセルトランジスタのゲート電極構造と前記周辺回路トランジスタのゲート電極構造とが連結された前記第三導電層からなるダミーゲートと、前記周辺回路トランジスタのゲート電極とに分離する工程を更に含むことを特徴とする請求項13に記載の半導体記憶装置の製造方法。
- 前記導電層間絶縁膜は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、アルミニウム酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物のいずれか1つの単層膜、或いはこれらの複数の組み合わせからなる積層膜であることを特徴とする請求項13又は14に記載の半導体記憶装置の製造方法。
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