JP2004358237A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 荷電粒子ビームを出射する加速器と、
   荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを出力する照射装置と、
   前記荷電粒子ビームの複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの照射を設定された複数回行うように、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御して前記荷電粒子ビームを移動させる制御装置とを備えたことを特徴とする粒子線出射装置。
2. 荷電粒子ビームを出射する加速器と、
   荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記荷電粒子ビームの進行方向に患部を複数に分割してなる層毎に、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを出力する照射装置と、
   前記荷電粒子ビームの進行方向で第２の層よりも深い位置にある第１の層の複数の照射位置に前記荷電粒子ビームを照射したときにその荷電粒子ビームの照射を受けない第１領域と、そのときに前記荷電粒子ビームの照射を受ける第２領域とを含む前記第２の層において、前記第２領域内の複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの照射を設定された第２の回数行い、前記第１領域内の複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの照射を前記第２の回数よりも多く設定された第１の回数行うように、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御して前記荷電粒子ビームを移動させる制御装置とを備えたことを特徴とする粒子線出射装置。
3. 荷電粒子ビームを出射する加速器と、
   荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを出力する照射装置と、
   前記照射装置からの前記荷電粒子ビームの出力を停止させ、前記荷電粒子ビームの出力を停止した状態で、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御することにより前記荷電粒子ビームの照射位置を変更させ、この変更後に、前記照射装置からの荷電粒子ビームの出力を開始させ、この操作を繰り返して複数の照射位置に前記荷電粒子ビームを照射するとともに、前記複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの照射を設定された複数回行うように、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御して前記荷電粒子ビームを移動させる制御装置とを備えたことを特徴とする粒子線出射装置。
4. 前記制御装置は、前記荷電粒子ビームを前記複数回照射する前記複数の照射位置が、前記荷電粒子ビームを照射する標的内で照射エネルギーが異なる複数の層領域に設定された複数の照射位置となるように、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御する請求項３記載の粒子線出射装置。
5. 前記制御装置は、前記複数回照射する複数の照射位置の各々に対する前記荷電粒子ビームの照射を、前記複数回に対するそれぞれの設定照射量以下となるように制御する請求項３記載の粒子線出射装置。
6. 前記制御装置は、前記照射装置からの前記荷電粒子ビームの出力停止を、ビーム出射停止信号の出力により前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させることにより行い、前記照射装置からの前記荷電粒子ビームの出力開始を、ビーム出射開始信号の出力により前記加速器から前記荷電粒子ビームを出射させることにより行う請求項３記載の粒子線出射装置。
7. 荷電粒子ビームを出射する加速器と、
   荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを出力する照射装置と、
   前記荷電粒子ビームが照射される複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの照射を設定された複数回行い、かつ前記複数回照射する各照射位置に対する前記荷電粒子ビームの照射を、前記複数回に対するそれぞれの設定照射量以下に制御する制御装置とを備えたことを特徴とする粒子線出射装置。
8. 前記設定照射量は、前記複数の照射位置における照射量のばらつきが小さくなるように設定されていることを特徴とする請求項７記載の粒子線出射装置。
9. 荷電粒子ビームを出射する加速器と、
   荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを出力する照射装置と、
   前記加速器から出射された前記荷電粒子ビームを前記照射装置に導くビーム輸送装置と、
   前記照射装置からの前記荷電粒子ビームの出力を停止させ、前記荷電粒子ビームの出力を停止した状態で、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御することにより前記荷電粒子ビームの照射位置を変更させ、この変更後に、前記照射装置からの荷電粒子ビームの出力を開始させ、この操作を繰り返して複数の照射位置に前記荷電粒子ビームを照射するとともに、前記複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの照射を設定された複数回行うように、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御する第１制御装置と、
   設定された一部の前記照射位置への前記荷電粒子ビームの照射終了信号を前記第１制御装置から入力したとき、少なくとも前記ビーム輸送装置に設けられた第１エレメントを、前記照射終了信号の入力前とはエネルギーが変更された前記荷電粒子ビームを前記照射装置に導くように、制御する第２制御装置とを備えたことを特徴とする粒子線出射装置。
10. 前記第１エレメントを制御する前記第２制御装置は、前記加速器に設けられた第２エレメントを、前記エネルギーが変更された荷電粒子ビームを発生するように、制御する請求項９記載の粒子線出射装置。
11. 前記第１制御装置は、前記荷電粒子ビームを複数回照射する前記照射位置が、前記荷電粒子ビームを照射する標的内で照射エネルギーが異なる複数の層領域に設定された複数の照射位置のうちの少なくとも１つとなるように、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御する請求項９または請求項１０記載の粒子線出射装置。
12. 前記制御装置は、前記複数回照射する複数の照射位置の各々に対する前記荷電粒子ビームの照射を、前記複数回に対するそれぞれの設定照射量以下となるように制御する請求項９または請求項１０記載の粒子線出射装置。
13. 加速器から出射された荷電粒子ビームを、荷電粒子ビーム走査装置を有する照射装置から出力する粒子線出射方法において、
    前記荷電粒子ビームの複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの出射を設定された複数回行うように、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御して前記荷電粒子ビームを移動させることを特徴とする粒子線出射方法。
14. 加速器から出射された荷電粒子ビームを、荷電粒子ビーム走査装置を有する照射装置から出力する粒子線出射方法において、
    前記荷電粒子ビームの進行方向で第２の層よりも深い位置にある第１の層の複数の照射位置に前記荷電粒子ビームを出射したときにその荷電粒子ビームの照射を受けない第１領域と、そのときに前記荷電粒子ビームの照射を受ける第２領域とを含む前記第２の層において、前記第２領域内の複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの照射を設定された第２の回数行い、前記第１領域内の複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの照射を前記第２の回数よりも多く設定された第１の回数行うように、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御して前記荷電粒子ビームを移動させることを特徴とする粒子線出射方法。
15. 加速器から出射された荷電粒子ビームを、荷電粒子ビーム走査装置を有する照射装置から出力する粒子線出射方法において、
    前記照射装置からの前記荷電粒子ビームの出射を停止し、この出射停止状態で、前記荷電粒子ビームの照射位置を変更するように前記荷電粒子ビーム走査装置を制御し、この変更後に、前記照射装置からの荷電粒子ビームの出射を開始し、この操作を繰り返して複数の照射位置に前記荷電粒子ビームを照射するとともに、前記複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの出射を複数回行わせることを特徴とする粒子線出射方法。
16. 前記複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの複数回の出射は、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御することによって行われる請求項１５記載の粒子線出射方法。
17. 前記荷電粒子ビームを複数回出射する前記複数の照射位置が、前記荷電粒子ビームを照射する標的内で照射エネルギーが異なる複数の層領域に設定された複数の照射位置である請求項１５または請求項１６記載の粒子線出射方法。
18. 前記複数回出射する複数の照射位置の各々に対して、前記荷電粒子ビームの出射を、前記複数回に対するそれぞれの設定照射量以下となるように前記荷電粒子ビームを出力する請求項１５記載の粒子線出射方法。
19. 加速器から出射された荷電粒子ビームを、荷電粒子ビーム走査装置を有する照射装置から出力する粒子線出射方法において、
    前記荷電粒子ビームの複数の照射位置の各々への前記荷電粒子ビームの出射を設定された複数回行い、かつ前記複数回照射する各照射位置に対する前記荷電粒子ビームの照射を、前記複数回に対するそれぞれの設定照射量以下に制御することを特徴とする粒子線出射方法。
20. 前記設定照射量は、前記複数の照射位置における照射量のばらつきが小さくなるように設定されていることを特徴とする請求項１９記載の粒子線出射方法。