JP2009066106A - 粒子線ビーム照射装置および粒子線ビーム照射方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームを生成するビーム生成部と、粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、照射対象の患部を粒子線ビームの軸方向に分割したスライスに対して、そのスライスに設定された所定の軌跡パターンに沿って粒子線ビームが走査されるよう、粒子線ビームの位置を2次元で順次指示するビーム走査指示部と、ビーム走査指示部からの指示信号に基づいて粒子線ビームを2次元で走査するビーム走査部と、を備え、ビーム走査指示部は、軌跡パターンを順方向に辿って走査した後、その軌跡パターンを逆方向に辿って走査するよう前記走査位置を指示する、ことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
図1は、本実施形態に係る粒子線ビーム照射装置1の構成例を示す図である。粒子線ビーム照射装置1は、ビーム生成部10、ビーム出射制御部20、ビーム走査部30、ビーム走査指示部40、線量モニタ部50、位置モニタ部51、リッジフィルタ60、レンジシフタ70、制御部80等を備えて構成されている。
図2は、従来の装置における3次元スキャニング照射の処理例を示すフローチャートである。
本発明の実施形態に係る粒子線ビーム照射装置1は上記課題を解決するものであり、以下に粒子線ビーム照射装置1の動作について説明する。
上述の説明では、1スライス中の全領域にわたり照射を行ったのち、折り返し照射を行う例を示した。このほか、1スライス中の全領域をいくつかにグループ分けし、各々のグループに対して往復照射を行うようにしてもよい。この方法は、例えば図12に例示したように、1スライス中に領域Aと領域Bの2つの領域に患部が分かれているような場合、あるいは、複雑な形状をもつために前後の照射点で距離が離れてしまうような場合に特に有効である。このような場合、例えば、領域Aに対して往路と復路の照射を連続して行った後、領域Bに対して往路と復路の照射を連続して行ってもよいし、領域Aと領域Bに対して往路の照射を連続して行い、その後領域Bと領域Aに対して復路の照射を連続して行ってもよい。つまり、1つのグループに対して往路と復路の照射が連続して行われず、時間的に分断されて行ったとしても同様の効果が得られる。
10 ビーム生成部
20 ビーム出射制御部
30 ビーム走査部
40 ビーム走査指示部
50 線量モニタ部
51 位置モニタ部
60 リッジフィルタ
70 レンジシフタ
80 制御部
Claims (10)
- 粒子線ビームを生成するビーム生成部と、
前記粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、
照射対象の患部を前記粒子線ビームの軸方向に分割したスライスに対して、そのスライスに設定された所定の軌跡パターンに沿って前記粒子線ビームが走査されるよう、前記粒子線ビームの位置を2次元で順次指示するビーム走査指示部と、
前記ビーム走査指示部からの指示信号に基づいて前記粒子線ビームを2次元で走査するビーム走査部と、
を備え、
前記ビーム走査指示部は、
前記軌跡パターンを順方向に辿って走査した後、その軌跡パターンを逆方向に辿って走査するよう前記走査位置を指示する、
ことを特徴とする粒子線ビーム照射装置。 - 前記スライスが2以上の領域に分割されている場合において、
前記ビーム走査指示部は、
各分割領域に対して与えられる軌跡パターンの夫々に対して順方向と逆方向の走査を行うよう前記粒子線ビームの位置を指示する、
ことを特徴とする請求項1に記載の粒子線ビーム照射装置。 - 前記軌跡パターンは、前記スライス全体の範囲をカバーするよう割り付けられた複数の格子点を結ぶ軌跡パターンであり、
前記ビーム走査指示部は、前記各格子点において所定の照射時間だけ停止しながら前記粒子線ビームを前記軌跡パターンに沿って移動させ、
前記ビーム出射制御部は、前記粒子線ビームが前記各格子点の間を移動しているときは前記粒子線ビームの出射を停止する、
ことを特徴とする請求項1に記載の粒子線ビーム照射装置。 - 前記軌跡パターンは、前記スライス全体の範囲をカバーするよう割り付けられた複数の格子点を結ぶ軌跡パターンであり、
前記ビーム走査指示部は、前記各格子点において所定の照射時間だけ停止しながら前記粒子線ビームを前記軌跡パターンに沿って移動させ、
前記ビーム出射制御部は、前記粒子線ビームが前記各格子点の間を移動しているときも前記粒子線ビームの出射を継続する、
ことを特徴とする請求項1に記載の粒子線ビーム照射装置。 - 前記ビーム走査部は前記粒子線ビームを独立な2方向に走査可能であり、それぞれの方向の移動速度は略一定である、
ことを特徴とする請求項1に記載の粒子線ビーム照射装置。 - (a)粒子線ビームを生成し、
(b)前記粒子線ビームの出射を制御し、
(c)照射対象の患部を前記粒子線ビームの軸方向に分割したスライスに対して、そのスライスに設定された所定の軌跡パターンに沿って前記粒子線ビームが走査されるよう、前記粒子線ビームの位置を2次元で順次指示し、
(d)指示された信号に基づいて前記粒子線ビームを2次元で走査する、
ステップを備え、
ステップ(c)では、
前記軌跡パターンを順方向に辿って走査した後、その軌跡パターンを逆方向に辿って走査するよう前記粒子線ビームの位置を指示する、
ことを特徴とする粒子線ビーム照射方法。 - 前記スライスが2以上の領域に分割されている場合において、
ステップ(c)では、
各分割領域に対して与えられる軌跡パターンの夫々に対して順方向と逆方向の走査を行うよう前記粒子線ビームの位置を指示する、
ことを特徴とする請求項6に記載の粒子線ビーム照射方法。 - 前記軌跡パターンは、前記スライス全体の範囲をカバーするよう割り付けられた複数の格子点を結ぶ軌跡パターンであり、
ステップ(c)では、前記各格子点において所定の照射時間だけ停止しながら前記粒子線ビームを前記軌跡パターンに沿って移動させ、
ステップ(b)では、前記粒子線ビームが前記各格子点の間を移動しているときは前記粒子線ビームの出射を停止する、
ことを特徴とする請求項6に記載の粒子線ビーム照射方法。 - 前記軌跡パターンは、前記スライス全体の範囲をカバーするよう割り付けられた複数の格子点を結ぶ軌跡パターンであり、
ステップ(c)では、前記各格子点において所定の照射時間だけ停止しながら前記粒子線ビームを前記軌跡パターンに沿って移動させ、
ステップ(b)では、前記粒子線ビームが前記各格子点の間を移動しているときも前記粒子線ビームの出射を継続する、
ことを特徴とする請求項6に記載の粒子線ビーム照射方法。 - ステップ(d)では、前記粒子線ビームを独立な2方向に走査可能であり、それぞれの方向の移動速度は略一定である、
ことを特徴とする請求項6に記載の粒子線ビーム照射方法。
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