WO2012120678A1 - 粒子線治療装置 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本発明の実施の形態1にかかる粒子線治療装置の構成および動作について説明する。図1~図4は本発明の実施の形態1にかかる粒子線治療装置の構成および動作について説明するためのもので、図1は粒子線治療装置の全体構成を説明するための図、図2は粒子線治療装置の照射装置の構成を示す図である。図3はキャニング照射方法を説明するための照射対象の平面図であり、図3(a)は照射対象全体(全面積)中の照射順序を示す図、図3(b)は図3(a)の円CB部分の拡大図である。そして、図4は荷電粒子ビームの制御方法を説明するための同期した波形図であり、図4(a)は呼吸同期制御によるゲート信号、図4(b)はゲート信号に伴って変化するビーム電流、図4(c)は照射対象スポットとそのスポットに照射するための走査電磁石によるビームのx方向およびy方向それぞれの偏向角を示すものである。
加速器1は、荷電粒子ビームが周回する軌道経路となる真空ダクト11、前段加速器5から供給された荷電粒子を真空ダクト11に入射するための入射装置12、荷電粒子が真空ダクト11内の周回軌道に沿って周回する荷電粒子ビームを形成するよう荷電粒子の軌道を偏向させるための偏向電磁石13a,13b,13c,13d(まとめて13と称する)、周回軌道上に形成された荷電粒子ビームが発散しないように収束させる収束用電磁石14a,14b,14c,14d(まとめて14と称する)、周回する荷電粒子に同期した高周波電圧を与えて加速する高周波加速空洞15、加速器1内で加速させた荷電粒子ビームを加速器1外に取りだし、輸送系3に出射するための出射装置16、出射装置16から荷電粒子ビームを出射させるために荷電粒子ビームの周回軌道に共鳴を励起する六極電磁石17を備えている。
加速器1により加速された荷電粒子ビームBは、HEBT(高エネルギービーム輸送:High Energy Beam Transport)系と称される輸送系3へと出射される。輸送系3は、荷電粒子ビームBの輸送経路となる真空ダクト31と、荷電粒子ビームBのビーム軌道を切替える切替装置である切替電磁石32と、ビームを所定角度に偏向する偏向電磁石33とを備えている。そして加速器1により十分にエネルギーが与えられ、真空ダクト31内を進む荷電粒子ビームBを、切替電磁石32で必要に応じて輸送経路(治療室6A用輸送経路3A、同6B用輸送経路3B、・・・同6N用輸送経路3N)を変え、指定された治療室6毎に設けられた照射装置2へと導く。
照射系は、輸送系3から供給された荷電粒子ビームBを照射対象である患者Kの患部TCの大きさや深さに応じた照射野に成形して患部へ照射する照射装置2、および呼吸同期装置7と、を備えたものである。そして、照射対象である患部TCへの照射のON/OFFを呼吸に連動して(呼吸信号の位相に応じて)制御する。なお、粒子線治療装置は治療効率の観点から、一般的にひとつの加速器に対して複数の治療室(図では治療室6Aのみ記載し、治療室6B~6Nは番号のみ表示。まとめて治療室6と称する)を備える。すなわち、ここで示す照射系は、照射装置2と呼吸同期装置7とが治療室6毎に設けられたものであり、例えば、治療室6A用の照射系は、照射装置2Aと呼吸同期装置7Aのように記載している。なお、照射装置2の詳細な構成については、後に説明するとして、粒子線治療装置全体の説明を続ける。
呼吸同期装置7は、患者Kの呼吸位相に同期して、加速器1からの荷電粒子ビームBの出射のON/OFFを制御する呼吸同期制御部の一部の機能を担う。そのため、呼吸同期装置7は、患者Kの呼吸状態を測定するための呼吸測定装置71と、呼吸測定装置71が測定した実呼吸波形に基づいて加速器1からの荷電粒子ビームの出射の可否(ON/OFF)を示すゲート信号を出力するとともに、呼吸同期装置7全体を管理する呼吸同期装置本体70と、呼吸誘導をするための目標呼吸波形や実呼吸波形といった呼吸同期に関する情報を患者Kや医療技術者等に教示するための呼吸情報教示装置72とを備える。
治療室6は、患者Kに対して実際に荷電粒子ビームBを照射して治療を行うための部屋であり、基本的には治療室ごとに上述した照射系を備えている。なお、図において、治療室6Aでは、偏向電磁石33G部分から照射装置2A全体が患者K(治療台)を中心に回転し、患者Kへの荷電粒子ビームBの照射角度を自由に設定できる回転照射室(回転ガントリとも言われる)の例を示している。通常、ひとつの加速器1に対して、例えば、角度や位置を自在に設定可能な治療台に固定された患者に対して照射装置から水平方向に粒子ビームを照射する水平照射室や、その他タイプの異なる治療室を複数備えている。
上記のような、複数のサブシステム(加速器1、輸送系3、治療室ごとの照射系等)を備えたシステムの制御系として、各サブシステムを専ら制御するサブ制御器と全体を指揮し制御するメイン制御器からなる階層型の制御系統を用いることが多い。本発明の実施の形態1にかかる粒子線治療装置の制御部4においても、このメイン制御器とサブ制御器の構成を採用している。そして、サブシステム内で制御できる動作はサブ制御器で、複数のシステムを連携して制御する動作はメイン制御器が制御するというように、制御系統内での機能を分担している。
上記実施の形態1では、呼吸位相に同期して粒子線の出射がONからOFFに切り替えられた時点TFからの所定期間PW、照射ノズル21を照射対象内の面の方向ASSに設定された所定範囲内AP内に向けて希釈走査させることで、漏れ線量DLを所定範囲内AP内に分散させ、希釈するものとしているが、スキャニング照射において、粒子線の出射をONからOFFに切り替える動作は呼吸位相に同期した場合に限らない。例えば、各スライスSSにおけるスキャニング照射の最終時点となる最終スポットの照射終了時にも粒子線の出射をONからOFFに切り替える。
上記実施の形態1にかかる粒子線治療装置においては、呼吸同期照射時のビーム停止時のいわゆる漏れ線量を所定範囲内で走査することで、漏れ線量を希釈させて影響を低減したものである。一方、本実施の形態3にかかる粒子線治療装置においては、線量モニタを備え、ビーム停止時にも線量モニタによる線量カウントを停止せずに継続し、スポットごとにカウントした線量が所定値に達しているか否かで次のスポットに移るようにした。つまり、荷電粒子ビームが遮断された否か、あるいはスポットへの照射時間ではなく、指定されたスポットに照射された線量測定値に基づいてスキャニング照射を進めるようにしたものである。
照射を開始すると、最初にスキャンするスライスSS番号を設定(ステップS10、ステップS20)する。つぎに、スライスSSに応じた照射範囲ASSと各スポットSPの位置、経路および照射線量、その他の照射条件を設定(ステップS30)する。そして、走査電磁石21が対象スポットSP毎に対応して偏向角を制御すると、線量計24からの測定値に基づいて、そのスポットSPでの線量を積算し始める(ステップS40~60)。そして、計測した線量の積算値Dが設定値に達していない場合(ステップS70で「N」)、そのスポットSPに偏向角を制御した状態を維持する。一方、計測した線量の積算値Dが設定値以上になると(ステップS70で「Y」)、そのスポットSSが最終スポットでなければ(ステップS80で「N」)、次のスポットSPへ移行(ステップS40)する。そのスポットSPが最終スポットであれば(ステップS80で「Y」)、最終スライスか否かを判断し、最終スライスSSでなければ(ステップS90で「N」)、次のスライスSSへ移行(ステップS20)して、同様の動作を繰り返す。そして、最終スライスSSならば(ステップS90で「Y」)、照射を終了する。
百位の数字は実施形態による変形例を示す。
Claims (7)
- 粒子線を加速して出射する加速器と、
走査方向が異なる2つの電磁石を有し、前記加速器から出射された粒子線を所定方向に向けて照射する照射ノズルと、
照射対象内の面方向に設定された複数のスポットのそれぞれに対し、所定線量の粒子線を順次照射するように、前記照射ノズルの動作を制御する照射制御部と、
前記加速器からの粒子線の出射をON/OFF制御する制御部と、を備え、
前記照射制御部は、
前記粒子線の出射がONからOFFに切り替えられた時点からの所定期間、もしくは粒子線が遮断されるまでの間、前記照射ノズルを用いて前記照射対象内の面方向に設定された所定範囲内に向けて線量を希釈するように前記粒子線を走査させる、
ことを特徴とする粒子線治療装置。 - 前記制御部は、患者の呼吸位相に同期して、前記加速器からの粒子線の出射をON/OFF制御することを特徴とする請求項1に記載の粒子線治療装置。
- 前記複数のスポットは、前記照射対象を深さ方向に分割した複数のスライスに対して、それぞれ面方向に設定され、
前記制御部は、前記複数のスライスのそれぞれの最終スポットへの照射が終了すると、前記加速器からの粒子線の出射をOFFするように制御する、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の粒子線治療装置。 - 前記所定範囲は、前記照射対象内の面方向の所定幅内に設定されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。
- 前記所定範囲は、前記照射対象の前記呼吸位相に伴う変位に基づいて設定されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。
- 前記所定範囲は、照射対象となっていたスポットの位置に応じて設定されることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。
- 前記所定期間は、前記加速器がONからOFFに切り替えられた時点から前記粒子線の出射を停止するまでにかかる時間に基づいて定められることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。
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