JP2004214621A - フラッシュメモリ素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(a)半導体基板100上にトンネル酸化膜104、第1ポリシリコン膜106及びハードマスク膜を順次形成する段階と、(b)パターニング工程によって前記半導体基板内にトレンチを形成する段階と、(c)酸化膜114を蒸着して前記トレンチを埋め込み平坦化する段階と、(d)前記ハードマスク膜を除去する段階と、(e)前記記酸化膜の凸部がリセスされるように洗浄工程を行う段階と、(f)第2ポリシリコン膜116を蒸着した後、前記酸化膜の凸部が露出するまで前記第2ポリシリコン膜を平坦化する段階と、(g)前記第2ポリシリコン膜上に誘電体膜124を形成する段階と、(h)前記誘電体膜上にコントロールゲートを形成する段階とを含む。
【選択図】 図11
Description
102 犠牲酸化膜
104 トンネル酸化膜
106 第1ポリシリコン膜
108 ハードマスク膜
110 トレンチ
112 側壁酸化膜
114 トレンチ酸化膜
116 第2ポリシリコン膜
124 誘電体膜
126 第3ポリシリコン膜
128 シリサイド膜
Claims (12)
- (a)半導体基板上にトンネル酸化膜、第1ポリシリコン膜及びハードマスク膜を順次形成する段階と、
(b)パターニング工程によって前記ハードマスク膜、前記第1ポリシリコン膜、前記トンネル酸化膜及び前記半導体基板の一部をエッチングして前記半導体基板内にトレンチを形成する段階と、
(c)酸化膜を蒸着して前記トレンチを埋め込み、前記ハードマスク膜が露出するまで前記酸化膜を化学機械的研磨して平坦化する段階と、
(d)前記ハードマスク膜を除去する段階と、
(e)前記第1ポリシリコン膜の側壁下部が露出しないほどに前記酸化膜の凸部がリセスされるように洗浄工程を行う段階と、
(f)前記酸化膜の凸部がリセスされた結果物上に第2ポリシリコン膜を蒸着した後、前記酸化膜の凸部が露出するまで前記第2ポリシリコン膜を平坦化する段階と、
(g)前記第2ポリシリコン膜上に誘電体膜を形成する段階と、
(h)前記誘電体膜上にコントロールゲートを形成する段階とを含むことを特徴とするフラッシュメモリ素子の製造方法。 - 前記半導体基板上に前記トンネル酸化膜を形成する段階の前に、
前記半導体基板上に犠牲酸化膜を形成する段階と、
前記犠牲酸化膜をバッファー層として、ウェル形成のためのイオン注入及びしきい値電圧調節のためのイオン注入を行う段階と、
前記犠牲酸化膜を除去する段階とをさらに含むことを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。 - 前記(f)段階後で、前記(g)段階の前に、
前記第2ポリシリコン膜と前記誘電体膜との接触表面積を増加させるために前記第2ポリシリコン膜同士の間の前記酸化膜を所定の深さだけリセスする洗浄工程を行う段階をさらに含むことを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。 - 前記ハードマスク膜は、前記酸化膜に対してエッチング選択比を持つシリコン窒化膜で、前記酸化膜が前記半導体基板の表面より十分高く突出可能な厚さに形成することを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記酸化膜はHDP酸化膜であり、前記トレンチを完全に埋め込みながら、前記ハードマスク膜の上部表面より高く蒸着可能な厚さに蒸着することを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記記酸化膜の凸部をリセスするための前記洗浄工程はDHFとSC−1とを用いることを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記第1ポリシリコン膜は不純物がドープされていない非晶質ポリシリコン膜で形成し、前記非晶質ポリシリコン膜はSiH4またはSi2H6ガスを用いて480〜550℃の温度と0.1〜3Torrの低圧でLPCVD法によって形成することを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記第2ポリシリコン膜はSiH4またはSi2H6ガスとPH3ガスとを用いて550〜620℃の温度と0.1〜3Torrの低圧でLPCVD法によって形成することを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記コントロールゲートは、前記誘電体膜に置換固溶され酸化膜の厚さを増加させ得るフッ素の拡散を防止するために、不純物のドープされた非晶質ポリシリコン膜と不純物のドープされていない非晶質ポリシリコン膜が順次積層された2重構造で形成することを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記不純物のドープされた非晶質ポリシリコン膜はSiH4またはSi2H6ガスとPH3ガスとを用いて510〜550℃の温度と0.1〜3Torrの圧力でLPCVD法によって形成し、in−situ工程でPH3ガスを止めて前記不純物のドープされていない非晶質ポリシリコン膜を形成することを特徴とする請求項9記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記誘電体膜は酸化膜、窒化膜及び酸化膜が順次積層された構造で形成することを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記(g)段階後で、前記(h)段階の前に、
前記誘電体膜の膜質を向上させ、前記酸化膜、前記窒化膜及び前記酸化膜の積層構造の間の界面を強化するために、750〜800℃の温度でスチームアニールを行う段階をさらに含むことを特徴とする請求項11記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2002-0084331A KR100471575B1 (ko) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 플래시 메모리 소자의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004214621A true JP2004214621A (ja) | 2004-07-29 |
Family
ID=32653149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003384772A Pending JP2004214621A (ja) | 2002-12-26 | 2003-11-14 | フラッシュメモリ素子の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7037785B2 (ja) |
JP (1) | JP2004214621A (ja) |
KR (1) | KR100471575B1 (ja) |
TW (1) | TWI239098B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006121023A (ja) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Hynix Semiconductor Inc | フラッシュメモリ素子の製造方法 |
JP2007005754A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Hynix Semiconductor Inc | フラッシュメモリ素子の誘電体膜製造方法 |
JP2007134669A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Hynix Semiconductor Inc | フラッシュメモリ素子及びその製造方法 |
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- 2002-12-26 KR KR10-2002-0084331A patent/KR100471575B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-07-14 US US10/618,978 patent/US7037785B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-07-14 TW TW092119144A patent/TWI239098B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-11-14 JP JP2003384772A patent/JP2004214621A/ja active Pending
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---|---|
KR100471575B1 (ko) | 2005-03-10 |
US7037785B2 (en) | 2006-05-02 |
US20040126972A1 (en) | 2004-07-01 |
TW200414518A (en) | 2004-08-01 |
KR20040057570A (ko) | 2004-07-02 |
TWI239098B (en) | 2005-09-01 |
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