JP2003149845A - 電子写真感光体及び画像形成装置 - Google Patents

電子写真感光体及び画像形成装置

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JP2003149845A
JP2003149845A JP2001345081A JP2001345081A JP2003149845A JP 2003149845 A JP2003149845 A JP 2003149845A JP 2001345081 A JP2001345081 A JP 2001345081A JP 2001345081 A JP2001345081 A JP 2001345081A JP 2003149845 A JP2003149845 A JP 2003149845A
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一郎 竹川
Hidemi Nukada
秀美 額田
Hiroshi Nakamura
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レスポンスタイムが十分に短く且つ機械的・
電気的な耐性に優れた電子写真感光体、並びに高速化、
小型化及び長寿命化の全てを達成可能な画像形成装置を
提供すること。 【解決手段】 本発明の電子写真感光体1は、基体11
と感光層16との間に配置され、結着樹脂及び該結着樹
脂中に分散された金属酸化物微粒子を含有する膜厚20
〜40μmの中間層11と、感光層16の基体11から
遠い側の面上に配置され、電荷輸送材料及び3次元架橋
構造を有するケイ素樹脂を含有する保護層15とを備え
ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体及
び画像形成装置に関するものであり、詳しくは、電子写
真方式による画像形成に用いられる電子写真感光体及び
画像形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子写真方式の画像形成装置は、回転ド
ラム型などの電子写真用感光体の帯電、露光、現像とい
った作像プロセスによりトナー像を形成し、そのトナー
像を被転写媒体に転写後定着して複写物を得るもので、
例えば普通紙複写機(PPC)、レーザープリンター、
発光ダイオード(LED)プリンター、液晶プリンター
などが挙げられる。
【0003】従来、これらの画像形成装置に用いられる
電子写真用感光体としてはセレニウム、ヒ素−セレニウ
ム、硫化カドミウム、酸化亜鉛、a−Siなどの無機系
電子写真用感光体が用いられてきたが、製造性及び廃棄
性の点で優れ且つ安価な有機系電子写真用感光体の研究
開発も活発化している。中でも、電荷発生層と電荷輸送
層との積層により感光層が形成される機能分離型積層電
子写真用感光体は、感度、帯電性及びその繰り返し安定
性といった電子写真特性の点で無機系電子写真感光体よ
りも優れているため、電子写真感光体の高性能化を実現
し、高速の複写機やプリンターにも使用されるようにな
っている。
【0004】ところで、近年のコンピューターの普及に
伴いデスクトップパブリッシングのニーズも高まってお
り、画像形成プロセスの更なる高速化や、画像形成装置
自体の小型化及びそれに伴う電子写真用感光体の小径化
が強く求められている。このような高速化・小型化を達
成しつつ安定した画像を得るためには、露光された電子
写真感光体の表面電荷が打ち消されるまでに要する時間
(以下、「レスポンスタイム」という)が十分に短いこ
とが必要である。このレスポンスタイムが十分に短くな
いと、電子写真感光体の表面電荷が残存したまま現像工
程へと供されるので、画像のかすれや細線の細りなどを
生じてしまい、特に厳しい色再現性が要求されるカラー
画像形成装置において画像品質が不十分となる場合があ
る。
【0005】そこで、上記の要望に応えるべく、レスポ
ンスタイムが短く且つ安定した画像形成が可能な電子写
真感光体の開発が進められている。例えば積層型電子写
真感光体の場合、そのレスポンスタイムは電荷輸送層中
の電荷移動度(μ)に依存するため、電荷輸送層を構成
する材料の種類や組成の最適化により電荷移動度を向上
させる試みがなされている。例えば、電荷輸送材料とし
てのトリアリールアミン、テトラアリールベンジジン、
スチルベンなどの使用、あるいはこれらの電荷輸送材料
を分散させる結着樹脂としてのポリスチレン、ポリフェ
ニレンオキサイド、ポリフェニレンビニレン誘導体など
の使用によって電荷移動度が高められることが知られて
いる。
【0006】また、装置の高速化と小型化とを同時に実
現するためには、単位時間当たりの電子写真感光体の繰
り返し使用数を増加させる必要があり、従って電子写真
感光体にはより高い耐刷性が求められる。ところが上記
した結着樹脂は既に実用化されているポリカーボネート
やポリエステルに比べて電荷移動度の点では優れるもの
の、機械的強度に劣るという欠点を有している。また、
電荷移動度を十分に高めるためにはこのような結着樹脂
に上記の電荷輸送材料を比較的高濃度で分散する必要が
あるが、かかる電荷輸送材料の分散により結着樹脂が本
来的に有する機械的強度が更に低下してしまう。そのた
め、これらの材料を用いる場合には、例えば特開200
0−214602号公報に記載されているように、感光
体表面に保護層を設ける場合が多い。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の電子写真感光体では、レスポンスタイムを十分に短
縮しつつ安定した画像形成を得ることは必ずしも容易で
はない。また、特開2000−214602公報に開示
された感光体のように保護層を設けた場合であっても比
較的短期間で画質欠陥が生じる場合がある。特に、近年
の画像形成装置では、オゾンの発生防止及び装置の小型
化の観点から、従来使用されてきたコロトロンなどの非
接触帯電型帯電器に代わって接触帯電方式の帯電器が適
用されることが多いが、このような画像形成装置では画
像欠陥の発生がより顕著となり、装置の高速化・小型化
と長寿命化とを同時に達成することは非常に困難であ
る。
【0008】本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑
みてなされたものであり、レスポンスタイムが十分に短
く且つ機械的・電気的な耐性に優れた電子写真感光体、
並びに高速化、小型化及び長寿命化の全てを達成可能な
画像形成装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、保護層などにより
感光体表面の強度を向上させた場合であっても、画像形
成装置内で発生した導電性の異物(カーボンファイバー
やキャリア粉など)が感光体に接触又は貫入することに
よって、感光体基体と接触帯電器との導電路が形成され
て局所的なピンホールリークとなり、画質欠陥の原因と
なることを見出した。そして、かかる知見に基づいてさ
らに研究を重ねた結果、基体と感光層との間に特定の中
間層、感光層の表面(基体から遠い側の面)に特定の保
護層をそれぞれ設けた場合に、感光体の機械的・電気的
な耐性が向上するだけでなく、レスポンスタイムをも十
分に短縮できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0010】すなわち、本発明の電子写真感光体は、導
電性基体及び該基体上に配置された感光層を備える電子
写真感光体であって、基体と感光層との間に配置され、
結着樹脂及び該結着樹脂中に分散された金属酸化物微粒
子を含有する膜厚20〜40μmの中間層と、感光層の
基体から遠い側の面上に配置され、電荷輸送材料及び3
次元架橋構造を有するケイ素樹脂を含有する保護層とを
備えることを特徴とするものである。
【0011】本発明の電子写真感光体では、基体と感光
層との間に上記特定の中間層、感光層の基体から遠い側
の面上に上記特定の保護層をそれぞれ設けることによっ
て、導電性異物の接触又は貫入によるピンホールリーク
の発生と感光層表面における摩耗・傷の発生との双方が
防止される。また、当該中間層は十分に低い電荷蓄積性
と十分に高い電荷遮蔽性(ブロッキング性)とを兼備し
ているため、感光層全体の電荷移動度が高められると共
に電気特性が安定化する。従って本発明により、レスポ
ンスタイムが十分に短く且つ機械的・電気的な耐性に優
れた電子写真感光体が実現される。
【0012】本発明の電子写真感光体においては、金属
酸化物微粒子が、酸化スズ、酸化チタン及び酸化亜鉛か
らなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ま
しい。これらの金属酸化物微粒子を用いると、中間層の
リーク耐性を高めると共に電荷蓄積性を低めることがで
きる。
【0013】また、本発明の電子写真感光体において
は、中間層が、イソシアネート系化合物を含有する樹脂
前駆体を用いて得られる結着樹脂を含有することが好ま
しい。中間層がかかる結着樹脂を含有すると、金属酸化
物微粒子の分散均一性を高めることができ、その結果、
リーク耐性がより高められると共に電荷蓄積性がより低
められる傾向にある。
【0014】また、本発明電子写真感光体においては、
中間層が、平均一次粒径1〜5μmのシリコーン微粒子
をさらに含有することが好ましい。中間層がかかるシリ
コーン微粒子を含有すると、画像形成装置の露光手段と
してレーザーROSを用いた場合に、干渉縞の発生を防
止することができ、画像形成をより安定的に行うことが
できる。
【0015】また、本発明の画像形成装置は、上記本発
明の電子写真感光体と、電子写真感光体表面を帯電させ
る帯電手段と、電子写真感光体表面を露光して静電潜像
を形成する露光手段と、トナーにより前記静電潜像を現
像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を被転
写媒体に転写する転写手段と、を備えることを特徴とす
るものである。
【0016】本発明の画像形成装置では、本発明の電子
写真感光体を用いることによって、帯電、露光後の電子
写真感光体の表面電荷が十分に短時間で打ち消されるの
で、露光から現像までの時間を例えば100msec程
度まで短縮することができる。また、本発明の電子写真
感光体が機械的・電気的な耐性に優れている点について
は前述の通りであり、かかる感光体を用いることによっ
て長期にわたって安定した画像品質を得ることができ
る。従って本発明により、高速化、小型化及び長寿命化
の全てを達成可能な画像形成装置が実現される。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ、本発明
の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面
中、同一要素には同一符号を付することとし、重複する
説明は省略する。
【0018】図1は本発明の電子写真感光体にかかる第
1実施形態を示す模式断面図である。図1に示した電子
写真感光体1においては、アルミニウム製基体11上
に、中間層12、電荷発生層13、電荷輸送層14、保
護層15がこの順序で形成されて感光層16が構成され
ている。
【0019】アルミニウム製基体11は感光層16を支
持する導電性基体であり、その形状についての詳細は図
示していないが円筒状(ドラム状)のものである。基体
11としては、アルミニウム素管をそのまま用いてもよ
いが、必要に応じて、画質に影響のない範囲で各種の表
面処理を行うことができる。かかる表面処理としては、
具体的には、鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切
削、センタレンス研削、サンドブラスト、ウェットホー
ニングなどが挙げられる。
【0020】なお、基体11の材料としては、アルミニ
ウム以外に、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケルなど
の金属類;アルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウ
ム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、インジ
ウムなどの金属をシート、紙、プラスチック又はガラス
上に蒸着したもの;酸化インジウム、酸化スズ、ITO
などの導電性金属化合物をシート、紙、プラスチック又
はガラス上に蒸着したもの;金属箔をシート、紙、プラ
スチック又はガラス上にラミネートしたもの;カーボン
ブラック、酸化インジウム、酸化スズ、酸化アンチモン
粉、金属粉、ヨウ化銅などを所定の結着樹脂に分散、塗
布することによって導電処理したもの、などを用いても
よい。さらに基体11の形状は円筒状に限定されず、シ
ート状、プレート状などであってもよい。
【0021】中間層12は、結着樹脂及び該結着樹脂中
に分散された金属酸化物微粒子を含んで構成されるもの
で、その膜厚は20〜40μm(好ましくは20〜30
μm)の範囲内に設定されている。なお、当該膜厚が2
0μm未満であると、画像形成プロセスにおいて導電性
異物の貫入によるピンホールリークの発生を十分に防止
することができない。また、当該膜厚が40μmを超え
ると、中間層を平滑に成膜することが困難となる。
【0022】また、中間層12の膜抵抗は104〜10
10Ω・cmの範囲内であることが好ましい。中間層12
の膜抵抗が104Ω・cm未満の場合にはリーク耐性が
不十分となる傾向にあり、他方、1010Ω・cmを超え
ると残留電位の上昇を引き起こす傾向にある。
【0023】また、中間層12のビッカース強度は35
以上であることが好ましい。ビッカース強度が35未満
であると、画像形成プロセスにおいて導線性異物が貫入
しやすくなり、ピンホールリークの発生が十分に防止さ
れなくなる傾向にある。
【0024】中間層12の膜抵抗及びビッカース強度
は、結着樹脂及び金属酸化物微粒子の種類や配合割合の
選定により所望の値に調整することができる。
【0025】下引き層12に用いられる結着樹脂として
は、具体的には、ポリビニルブチラールなどのアセター
ル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリア
ミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹
脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコ
ーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹
脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂
などの高分子樹脂化合物などが挙げられる。また、中間
層12にイソシアネート系化合物を含む樹脂前駆体を用
いて得られる樹脂を配合すると、金属酸化物微粒子の分
散均一性を高めることができ、その結果、リーク耐性が
より高められると共に電荷蓄積性がより低められる傾向
にある。
【0026】また、金属酸化物微粒子としては、酸化チ
タン、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化
ジルコニウムなどが挙げられるが、これらの中でも粉体
抵抗が104〜1010Ω・cmの範囲内のものが好まし
く、酸化スズ、酸化チタン又は酸化亜鉛のうちの少なく
とも1種を用いることがより好ましい。これにより、中
間層12に優れたリーク耐性を付与することができる。
【0027】中間層12は、金属酸化物微粒子を結着樹
脂又は樹脂前駆体に分散させて中間層形成用塗布液を調
製し、かかる塗布液を基体11の外周面に塗布して成膜
することによって形成することができる。ここで、中間
層形成用塗布液を調製する際には、予め結着樹脂又は樹
脂前駆体に予備混合又は予備分散することが好ましく、
このとき必要に応じて溶剤を添加してもよい。なお、使
用する溶剤は結着樹脂又は樹脂前駆体を溶解可能であれ
ば特に制限されない。
【0028】また、当該塗布液の塗布方法としては、ブ
レードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、
スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビード
コーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテ
ンコーティング法などが挙げられる。
【0029】また、中間層形成用塗布液には、電気特
性、環境安定性、画質などの特性の向上を目的として種
々の添加剤を配合することができる。かかる添加剤とし
ては、クロラニルキノン、ブロモアニルキノン、アント
ラキノンなどのキノン系化合物;テトラシアノキノジメ
タン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノンなど
のフルオレノン化合物;2−(4−ビフェニル)−5−
(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾール、2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−
オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノ
フェニル)−1,3,4−オキサジアゾールなどのオキ
サジアゾール系化合物;キサントン系化合物;チオフェ
ン化合物;3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチルジ
フェノキノンなどのジフェノキノン化合物、などの電子
輸送性物質が挙げられる。また、多環縮合系化合物、ア
ゾ系化合物などの電子輸送性顔料、ジルコニウムキレー
ト化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキ
レート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チ
タニウム化合物、シランカップリング剤などの公知の材
料を用いてもよい。
【0030】シランカップリング剤の例としては、ビニ
ルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル
−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−
アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス
(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン
などが挙げられる。
【0031】ジルコニウムキレート化合物の例として
は、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸
エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチル
アセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチ
ルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、
ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、
ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、
ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ス
テアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウ
ム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレ
ートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコ
ニウムブトキシドなどが挙げられる。
【0032】チタニウムキレート化合物の例としては、
テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチル
チタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−
エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネ
ート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチ
レングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、
チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、
チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタ
ンステアレートなどが挙げられる。
【0033】アルミニウムキレート化合物の例として
は、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアル
ミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレー
ト、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロ
ピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテー
ト)などが挙げられる。
【0034】これらの添加剤は、1種を単独で用いても
よく、2種以上の混合物又は重縮合物として用いてもよ
い。
【0035】また、中間層形成用塗布液にチタン酸バリ
ウム、アモルファスシリカ、シリコーン樹脂などの微粒
子をさらに配合して中間層12を形成してもよい。これ
らの中でも平均一次粒径が1〜5μmのシリコーン樹脂
微粒子を配合することは、露光手段としてレーザーRO
Sを用いる場合に干渉縞の発生をより確実に防止できる
点で好ましい。
【0036】電荷発生層13は電荷発生材料を含むもの
で、中間層12上に電荷発生材料を真空蒸着するか、あ
るいは電荷発生材料を所定の結着樹脂に分散させること
により形成することができる。かかる電荷発生材料とし
ては、具体的には、縮環芳香族系顔料、アゾ系顔料、キ
ノン系顔料、ペリレン系顔料、インジゴ系顔料、チオイ
ンジゴ系顔料、ビスベンゾイミダゾール系顔料、フタロ
シアニン系顔料、キナクリドン系顔料、キノリン系顔
料、レーキ系顔料、アゾレーキ系顔料、アントラキノン
系顔料、オキサジン系顔料、ジオキサジン系顔料、トリ
フェニルメタン系顔料、アズレニウム系染料、スクウェ
アリウム系染料、ピリリウム系染料、トリアリルメタン
系染料、キサンテン系染料、チアジン系染料、シアニン
系染料などの種々の有機顔料及び染料;アモルファスシ
リコン、アモルファスセレン、テルル、セレン−テルル
合金、硫化カドミウム、硫化アンチモン、酸化亜鉛、硫
化亜鉛等の無機材料などが挙げられる。これらの中で
も、感度、電気的安定性、露光光に対する光化学的安定
性の点から、縮環芳香族系顔料、ペリレン系顔料、アゾ
系顔料、フタロシアニン系顔料が好ましい。これら電荷
発生材料は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組
み合わせて用いてもよい。
【0037】また、電荷発生材料を分散させるための結
着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニ
ルホルマール樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂(例え
ば、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール
等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール
樹脂等)、ポリアミド系樹脂、ポリエステル樹脂、変性
エーテル型ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデ
ン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、シリコーン樹
脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、
ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、ポリウレタン樹脂、
ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂、ポリビニルアント
ラセン樹脂、ポリビニルピレンなどが挙げられるが、中
でも、ポリビニルアセタール系樹脂、塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂及び変性エーテル型
ポリエステル樹脂が好ましい。これらの結着樹脂を用い
ると、電荷発生材料として顔料を用いる場合に当該顔料
を十分に均一に分散させ、且つ顔料が凝集せず長期にわ
たり塗布液を安定にすることができ、また、その塗布液
により形成される被膜が均一となるため、電気特性を向
上させて画像欠陥を低減することができる。これらの結
着樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み
合わせて用いてもよい。
【0038】電荷発生層形成用塗布液は、電荷発生材料
及び結着樹脂を所定の溶剤に混合し分散させることによ
って調製することができる。かかる溶剤としては、例え
ばメタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブ
タノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エ
チルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、クロロベンゼン、酢酸メチル、酢酸n−
ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンク
ロライド、クロロホルム等が挙げられ、これらは1種を
単独で又は2種以上を混合して使用可能であるが、電荷
発生材料及び結着樹脂の種類に応じて最適なものを選択
して用いることが好ましい。また、電荷発生材料と前記
結着樹脂との配合比は、体積比(電荷発生材料:結着樹
脂)で、10:1〜1:3が好ましく、8:1〜1:2
よりが好ましく、5:1〜1:1がさらに好ましい。
【0039】電荷発生層形成用塗布液を中間層12上に
塗布する方法としては、ブレードコーティング法、ワイ
ヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸
漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイ
フコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の
塗布法が挙げられる。また、このようにして得られる電
荷発生層13の膜厚は、好ましくは0.01〜5μmで
あり、より好ましくは0.1〜2.0μmである。膜厚
が0.01μm未満の電荷発生層を均一に形成すること
は非常に困難であり、また、膜厚が5μmを越えると電
子写真特性が著しく低下する傾向にある。
【0040】電荷輸送層14は電荷輸送材料を含んで構
成されるものである。かかる電荷輸送材料としては、具
体的には、トリアリールアミン構造(トリフェニルアミ
ン構造、ベンジジン構造等)を有する化合物、ピレン系
化合物、カルバゾール系化合物、ヒドラゾン系化合物、
オキサゾール系化合物、オキサジアゾール系化合物、ピ
ラゾリン系化合物、アリールアミン系化合物、アリール
メタン系化合物、ベンジジン系化合物、チアゾール系化
合物、スチルベン系化合物、ブタジエン系化合物などの
電荷輸送性低分子化合物;ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ハロゲン化ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルアンスラセン、ポリビニルアク
リジン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバ
ゾール−ホルムアルデヒド樹脂、トリフェニルメタンポ
リマー、電荷輸送性を有するポリカーボネート、電荷輸
送性を有するポリエステル、電荷輸送性を有するポリシ
ラン等の電荷輸送性高分子化合物、などが挙げられ、こ
れらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わ
せて用いてもよい。これらの中でも、レスポンスタイム
を決定する電荷輸送性の点、すなわち電荷移動度が高い
点から、トリアリールアミン構造を含む低分子化合物
(例えば、アリールアミン系の電荷輸送性低分子化合物
等)及びそれらを高分子化したポリカーボネート、ポリ
エステル又はポリシランが好ましく、トリアリールアミ
ン構造を有する化合物の少なくとも1種を用いて形成さ
れることがより好ましい。さらに、当該トリアリールア
ミン構造を有する化合物としては、電荷輸送性及び機械
的強度の点でトリアリールアミン構造を繰り返し単位と
して有する高分子化合物が特に好ましい。
【0041】電荷輸送層14の電荷移動度(μ)は電荷
輸送性材料の種類及び配合量を適宜選択することにより
制御できるが、当該電荷移動度は、電界強度30V/μ
mにおいて5×10-6cm2 /V・sec以上であるこ
とが好ましく、7×10-6cm2 /V・sec以上であ
ることがより好ましく、1×10-5cm2 /V・sec
以上がさらに好ましい。電荷輸送層14の電荷移動度が
5×10-6cm2 /V・sec未満であると、レスポン
スタイムが十分に短縮されない傾向にある。
【0042】電荷輸送層14は、電荷輸送性材料並びに
必要に応じて結着樹脂を所定の溶剤に溶解又は分散させ
た塗布液を、電荷発生層13上に塗布し成膜することに
よって形成することができる。かかる結着樹脂として
は、ポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、スチレン−
ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン
樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−
N−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチ
ン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノ
ール樹脂、ポリアミド、カルボキシ−メチルセルロー
ス、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、ポリウレタ
ン等が挙げられ、これらは1種を単独で用いてもよく、
2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中で
も、電荷移動度が高い点から、ポリカーボネート、ポリ
エステル、ポリスチレン、ポリフェニレンオキサイド、
ポリフェニレンビニレン誘導体、電荷輸送性ポリカーボ
ネート、電荷輸送性ポリエステルが好ましい。なお、電
荷輸送材料として電荷輸送層に十分な機械的強度を付与
できる高分子化合物を用いる場合には、結着樹脂を使用
せずに電荷輸送層を形成してもよい。
【0043】また、電荷輸送層形成用塗布液の溶剤とし
ては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n
−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソル
ブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、クロロベンゼン、酢酸メチル、
酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メ
チレンクロライド、クロロホルム等が挙げられる。これ
らは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用しても
よいが、電荷輸送材料及び結着樹脂の種類に応じて最適
なものを選択して用いることが好適である。また、電荷
輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコー
ティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコ
ーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティン
グ法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティ
ング法等の通常の塗布方法が挙げられる。
【0044】このようにして得られる電荷輸送層14の
膜厚は、好ましくは10〜40μmであり、より好まし
くは10〜30μmであり、さらに好ましくは10〜2
0μmである。電荷輸送層14の膜厚が40μmを超え
るとレスポンスタイムが長くなって画像形成プロセスの
高速化が困難となる傾向にある。他方、電荷輸送層14
の膜厚の減少に伴いレスポンスタイムが短くなるが、1
0μm未満の場合には電気特性及び機械的強度が不十分
となる傾向にある。
【0045】保護層15は、電荷輸送性を有する有機基
と、該有機基中の同一若しくは異なる炭素原子に結合し
たケイ素原子と、該ケイ素原子に結合した酸素原子と、
からなる骨格を有する架橋体を含んで構成されている。
かかる架橋体は、下記一般式(1):
【0046】
【化1】 [式(1)中、Ar1、Ar2、Ar3及びAr4は同一で
も異なっていてもよく、それぞれ置換または無置換のア
リール基を表し、Ar5は置換または無置換の2価のア
リール基又はアリーレン基を表し、Dは2価の基を表
し、Qは加水分解性基を表し、aは1〜3の整数を表
し、kは0又は1を表し、m1、m2、m3、m4及びm5
は同一でも異なっていてもよく、それぞれ0又は1を表
し、m1〜m5のうちの少なくとも1つは1であり、kが
1のときm5は0である。]で表される化合物を含む重
合性単量体を用いて得ることができる。
【0047】一般式(1)中、Ar1、Ar2、Ar3
よびAr4で表される置換または無置換のアリール基と
しては、下記式(2)〜(8):
【0048】
【化2】
【0049】
【化3】
【0050】
【化4】
【0051】
【化5】
【0052】
【化6】
【0053】
【化7】
【0054】
【化8】 (式中、R1は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、
フェニル基、炭素数7〜10のアルキルフェニル基、炭
素数7〜10のアルコキシフェニル基または炭素数7〜
10のアラルキル基を表し、R2およびR3はそれぞれ水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のア
ルコキシ基、フェニル基、炭素数7〜10のアルコキシ
フェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基またはハロ
ゲン基を表し、Ar6は置換または無置換の2価の芳香
族炭化水素基を表し、Zは2価の官能基を表し、sは1
〜3の整数を表し、・は一般式(1)中の−D−SiR
3-aaで表される基が結合する場合の結合位置を表す)
で表される構造のうちのいずれかを有するものが好まし
い。さらに、上記式(8)中のAr6で表される置換ま
たは無置換の2価の芳香族炭化水素基としては、下記一
般式(9)または(10):
【0055】
【化9】
【0056】
【化10】 (式中、R4およびR5はそれぞれ水素原子、炭素数1〜
4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニ
ル基、炭素数7〜10のアルコキシフェニル基、炭素数
7〜10のアラルキル基またはハロゲン基を表し、tは
1〜3の整数を表す)で表される構造を有するものが好
ましく;上記式(8)中のZで表される2価の基として
は、下記式(11)〜(18):
【0057】
【化11】
【0058】
【化12】
【0059】
【化13】
【0060】
【化14】
【0061】
【化15】
【0062】
【化16】
【0063】
【化17】
【0064】
【化18】 (式中、R6およびR7はそれぞれ水素原子、炭素数1〜
4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニ
ル基、炭素数7〜10のアルコキシフェニル基、炭素数
7〜10のアラルキル基またはハロゲン基を表し、Z’
は2価の基を表し、qおよびrはそれぞれ1〜10の整
数を表し、tは1〜3の整数を表す)で表される構造の
うちのいずれかを有するものが好ましい。さらにまた、
上記式(17)、(18)中のZ’で表される2価の基
としては、下記式(19)〜(27):
【0065】
【化19】
【0066】
【化20】
【0067】
【化21】
【0068】
【化22】
【0069】
【化23】
【0070】
【化24】
【0071】
【化25】
【0072】
【化26】
【0073】
【化27】 (式中、pは0〜3の整数を表す)で表される構造のう
ちのいずれかを有するものが好ましい。
【0074】また、一般式(1)中、Ar5は、kが0
のときはAr1〜Ar4の説明で例示されたアリール基で
あり、kが1のときはかかるアリール基から所定の水素
原子を除いたアリーレン基である。
【0075】また、一般式 (1)中、Dで表される2価
の基としては、好ましくは、−Cn2n−、−Cn2n-2
−、−Cn2n-4−(nは1〜15の整数であり、好ま
しくは2〜10の整数である)、−CH2−C64−又
は−C64−C64−で表される2価の炭化水素基、オ
キシカルボニル基(−COO−)、チオ基(−S−)、
オキシ基(−O−)、イソシアノ基(−N=CH−)、
或いはこれら2種以上の組み合わせによる2価の基であ
る。なお、これらの2価の基は側鎖にアルキル基、フェ
ニル基、アルコキシ基、アミノ基などの置換基を有して
いてもよい。Dが上記の好ましい2価の基であると、多
官能型光機能性フッ素含有有機シリケート骨格に適度な
可とう性が付与されて層の強度が向上する傾向にある。
【0076】一般式(1)中のRは、前述の通り、水素
原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜5のアルキル
基)又は置換若しくは無置換のアリール基(好ましくは
炭素数6〜15の置換若しくは無置換のアリール基)を
表す。
【0077】また、上記式(1)中、Qで表される加水
分解性基とは、上記式(1)で表される化合物の硬化反
応において、加水分解によりシロキサン結合(O−Si
−O)を形成し得る官能基のことをいう。本発明にかか
る加水分解性基の好ましい例としては、具体的には、水
酸基、アルコキシ基、メチルエチルケトオキシム基、ジ
エチルアミノ基、アセトキシ基、プロペノキシ基、クロ
ロ基が挙げられるが、これらの中でも、−OR”(R”
は炭素数1〜15のアルキル基またはトリメチルシリル
基)で表される基がより好ましい。
【0078】上記式(1)中のAr1、Ar2、Ar3
Ar4、Ar5、D−SiR3-aaで表される基および整
数kの好ましい組み合わせを表1〜3に示す。なお、表
中、XはAr1〜Ar5と結合したD−SiR3-aaを表
し、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、P
rはプロピル基を表す。
【0079】
【表1】
【0080】
【表2】
【0081】
【表3】 保護層15に含まれる架橋体は、上記一般式(1)で表
される化合物のみを用いて得られるものであってもよい
が、一般式(1)で表される化合物と結合可能な基を有
する他の重合性単量体をさらに用いてもよい。
【0082】ここで、一般式(1)で表される化合物と
結合可能な基とは、一般式(1)で表される化合物を加
水分解した際に生じるシラノール基と結合可能な基を意
味し、具体的には、−SiR3-aaで表される基、エポ
キシ基、イソシアネート基、カルボキシル基、ヒドロキ
シ基、ハロゲンなどを意味する。これらのうち、−Si
R3-aaで表される基、エポキシ基、イソシアネート基
を有する化合物がより強い機械強度を有するため好まし
く、−SiR3-aaで表される基を有する化合物が特に
好ましい。さらに、これらの基を分子内に2つ以上有す
る化合物を用いると、硬化膜の架橋構造が3次元的にな
り、より強い機械強度を得ることができる。このような
重合性単量体の好ましい例を表4に示す。
【0083】
【表4】 また、上記の重合性単量体に加えて、シランカップリン
グ剤やハードコート剤を用いてもよい。シランカップリ
ング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−
β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン等;ハードコート剤とし
ては、KP−85、X−40−9740、X−40−2
239(以上、信越シリコーン社製)、およびAY42
−440、AY42−441、AY49−208(以
上、東レダウコーニング社製)などの市販のハードコー
ト剤、などを用いることができる。また、撥水性などの
付与のために、(トリデカフルオロ −1,1,2,2
−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,
3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、
3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエ
トキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロ
アルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H
−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1
H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシ
ラン、などのフッ素含有化合物のうちの1種又は2種以
上を用いることもできる。
【0084】本発明にかかる架橋体は、上記の重合性単
量体を加水分解することにより得ることができる。かか
る加水分解における水の添加量は特に制限されないが、
重合性単量体が有する全ての加水分解性基を加水分解す
るために必要な理論量の0.3〜5倍量であることが好
ましく、0.5〜3倍量であることがより好ましい。水
の添加量が理論量の0.3倍未満であると、未反応化合
物の量が増大し、後述する電子写真感光体の製造工程に
おいて、架橋体を含む塗工液を用いて成膜する際に相分
離を生じたり得られる膜の強度が不十分となる傾向にあ
る。他方、水の添加量が理論量の5倍を超えると、原料
化合物が析出したり反応生成物(架橋体)の保存安定性
が低下する傾向にある。
【0085】さらに、上記の重合性単量体の加水分解
は、溶媒を用いずに行ってもよく、また、所定の溶媒
(好ましくは沸点が100℃以下の溶媒)を用いて行っ
てもよい。本発明において、加水分解の際に好ましく用
いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノールなどのアルコール類;アセトン、
メチルエチルケトンなどのケトン類;テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類、
などが挙げられる。これらの溶媒の使用量は、式(1)
で表される化合物1重量部に対して好ましくは0.5〜
30重量部であることが好ましく、1〜20重量部であ
ることがより好ましい。溶媒の使用量が前記下限値未満
であると式(1)で表される化合物が析出しやすくなる
傾向にあり、他方、前記上限値を超えると薄膜のものし
か得られなくなる傾向にある。
【0086】また、上記の加水分解においては、原料化
合物、反応生成物、溶媒及び水のいずれにも不溶である
固体触媒を用いることが好ましい。このような固体触媒
としては、アンバーライト15E、アンバーライト20
0C、アンバーリスト15(以上、ローム・アンド・ハ
ース社製);ダウエックスMWC−1−H、ダウエック
ス88、ダウエックスHCR−W2(以上、ダウ・ケミ
カル社製);レバチットSPC−108、レバチットS
PC−118(以上、バイエル社製);ダイヤイオンR
CP−150H(三菱化成社製);スミカイオンKC−
470、デュオライトC26−C、デュオライトC−4
33、デュオライト−464(以上、住友化学工業社
製);ナフィオン−H(デュポン社製)などの陽イオン
交換樹脂;アンバーライトIRA−400、アンバーラ
イトIRA−45(以上、ローム・アンド・ハース社
製)などの陰イオン交換樹脂;Zr(O3 PCH2 CH
2 SO3 H)2 ,Th(O3 PCH2 CH2 COOH)
2 などのプロトン酸基を含有する基が表面に結合されて
いる無機固体;スルホン酸基を有するポリオルガノシロ
キサンなどのプロトン酸基を含有するポリオルガノシロ
キサン;コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸な
どのヘテロポリ酸;ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン
酸などのイソポリ酸;シリカゲル、アルミナ、クロミ
ア、ジルコニア、CaO、MgOなどの単元系金属酸化
物;シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−
ジルコニア、ゼオライト類などの複合系金属酸化物;酸
性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイトな
どの粘土鉱物;LiSO4 ,MgSO4 などの金属硫酸
塩;リン酸ジルコニア、リン酸ランタンなどの金属リン
酸塩;LiNO3 ,Mn(NO3 2 などの金属硝酸
塩;シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシラン
を反応させて得られた固体などのアミノ基を含有する基
が表面に結合されている無機固体;アミノ変性シリコー
ン樹脂などのアミノ基を含有するポリオルガノシロキサ
ン、などが挙げられる。これらの固体触媒の使用量は、
加水分解性基を有する原料化合物100重量部に対して
0.1〜20重量部であることが好ましい。また、これ
らの固体触媒を用いて加水分解を行う際の反応温度及び
反応時間は原料化合物や固体触媒の種類によって適宜選
択されるが、反応温度は好ましくは0〜100℃、より
好ましくは10〜70℃、さらに好ましくは15〜50
℃であり、反応時間は好ましくは10分〜100時間で
ある。なお、反応時間が100時間を超えると反応生成
物がゲル化しやすくなる傾向にある。
【0087】また、上記の固体触媒以外にも、塩酸、酢
酸、リン酸、硫酸などのプロトン酸;アンモニア、トリ
エチルアミンなどの塩基;ジブチル錫ジアセテート、ジ
ブチル錫ジオクトエート、オクタン酸第一錫などの有機
錫化合物;テトラ-n-ブチルチタネート、テトライソプ
ロピルチタネートなどの有機チタン化合物;アルミニウ
ムトリブトキシド、アルミニウムトリアセチルアセトナ
ートなどの有機アルミニウム化合物;有機カルボン酸の
鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム
塩などの有機カルボン酸塩、などの硬化触媒を用いて加
水分解を行うことができる。これらの硬化触媒の中で
も、反応生成物の保存安定性の点で金属化合物が好まし
く、金属のアセチルアセトナート又はアセチルアセテー
トが好ましい。これらの硬化触媒の使用量は、反応生成
物の保存安定性や強度の点から、加水分解性基を有する
原料化合物100重量部に対して0.1〜20重量部で
あることが好ましく、0.3〜10重量部であることが
好ましい。また、上記の硬化触媒を用いて加水分解を行
う際の反応温度及び反応時間は用いる原料化合物や硬化
触媒の種類に応じて適宜選択されるが、反応時間は好ま
しくは60℃以上、より好ましくは80〜170℃であ
り、反応時間は好ましくは10分〜5時間である。な
お、反応温度が前記下限値未満であると得られる架橋体
の機械的強度が不十分となる傾向にある。
【0088】また、必要に応じて、得られた反応生成物
について、ヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロ
シランなどを用いて疎水化処理を行うこともできる。
【0089】保護層15には、帯電器で発生するオゾン
等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止
剤を添加することが好ましい。感光体表面の機械的強度
を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガス
に長い時間接触することになるため、従来より強い酸化
耐性が要求される。酸化防止剤としては、ヒンダードフ
ェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有
機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、
ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化
防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知
の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量とし
ては15重量%以下が望ましく、10重量%以下がさら
に望ましい。
【0090】ヒンダードフェノール系酸化防止剤として
は、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、
2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、N,N’−ヘキ
サメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシヒドロシンナマイド、3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシ-ベンジルフォスフォネート−ジエチルエ
ステル、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o
−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフ
ェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4
−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブ
チリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、−2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、2−t
−ブチル−6−(3−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メ
チルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、
4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)などが挙げられる。
【0091】このように第1実施形態では、基体11と
電荷発生層12との間に中間層12、電荷輸送層14上
に保護層15をそれぞれ設けることによって、導電性異
物の接触又は貫入によるピンホールリークの発生と感光
層16表面における摩耗・傷の発生との双方が防止され
る。また、中間層12は十分に低い電荷蓄積性と十分に
高い電荷遮蔽性(ブロッキング性)とを兼備しているた
め、感光層16全体の電荷移動度が高められると共に電
気特性が安定化する。従って、レスポンスタイムが十分
に短く且つ機械的・電気的な耐性に優れた電子写真感光
体が実現される。
【0092】なお、本発明の電子写真感光体は上記の実
施形態に限定されるものではない。例えば図1に示した
感光体では、基体11上に中間層12、電荷発生層1
3、電荷輸送層14、保護層15が順次積層されて感光
層16が形成されているが、電荷発生層14と電荷輸送
層15との積層の順序は逆であってもよい。
【0093】また、本発明の電子写真感光体における感
光層は、中間層及び保護層がそれぞれ上記所定の位置に
形成されたものであれば、図1に示したような機能分離
型のものであってもよく、電荷発生材料と電荷輸送層と
の双方を含んで構成される単層型感光層であってもよ
い。
【0094】(画像形成装置)図2は本発明の第2実施
形態にかかる画像形成装置を示す概略構成図である。図
2に示した装置においては、図1に示した構成を有する
電子写真感光体1が支持手段9により支持されており、
支持手段9を中心として矢印の方向に所定の回転速度で
回転可能となっている。そして、電子写真感光体1の回
転方向に沿って、帯電部材2、露光装置3、現像装置
4、転写装置5、クリーニング装置7がこの順で配置さ
れている。また、当該装置は像定着装置6を備えてお
り、被転写媒体Pは転写装置5を経て像定着装置6へと
搬送される。
【0095】帯電装置2としては帯電ローラーなどの接
触帯電方式のものであってもよく、コロトロン帯電器な
どの非接触帯電方式のものであってもよいが、オゾン発
生防止の観点から接触帯電方式のものが好ましい。な
お、従来の画像形成装置では、接触帯電方式を適用した
場合に接触帯電部材との摩擦や微小空間での放電により
電子写真感光体が劣化する現象が起こりやすかったが、
図2に示した装置では、機械的・電気的な強度が十分に
高い電子写真感光体1を用いることによって、従来では
達成が非常に困難であった装置の高速化・小型化と長寿
命化とを同時に達成することができる。
【0096】また、露光装置3としては、電子写真感光
体1表面に、半導体レーザー、LED(light e
mitting diode)、液晶シャッターなどの
光源を所望の像様に露光できる光学系装置などを用いる
ことができる。これらの中でも、非干渉光を露光可能な
露光装置を用いると、電子写真感光体1の支持体(基
体)と感光層との間での干渉縞を防止することができ
る。
【0097】また、現像装置4としては、一成分現像
剤、二成分現像剤のいずれを用いるものであってもよ
く、また、かかる現像剤は磁性、非磁性のいずれであっ
てもよい。さらに、現像装置4は、白黒画像用、カラー
画像用のいずれであってもよい。
【0098】また、転写装置5としては、ベルト、ロー
ラー、フィルム、ゴムブレードなどを用いた接触型転写
帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器
やコロトロン転写帯電器など、が挙げられる。
【0099】また、クリーニング装置7は、転写工程後
の電子写真感光体1の表面に付着する残存トナーを除去
するためのもので、これにより清浄面化された電子写真
感光体1は上記の画像形成プロセスに繰り返し供され
る。クリーニング装置7としては、クリーニングブレー
ド、ブラシクリーニング、ロールクリーニングなどを用
いることができるが、これらの中でもクリーニングブレ
ードを用いることが好ましい。また、クリーニングブレ
ードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シ
リコンゴムなどが挙げられる。
【0100】このように第2実施形態では、図1に示し
た電子写真感光体1を用いることによって、帯電、露光
後の電子写真感光体の表面電荷が十分に短時間で打ち消
されるので、露光から現像までの時間を例えば100m
sec程度まで短縮することができ、その後の現像、転
写により良好な画像品質を得ることができる。また、図
1に示した電子写真感光体1が機械的・電気的な耐性に
優れている点については前述の通りであり、高速化・小
型化した場合、すなわち画像形成プロセス1回当たりの
電子写真感光体1の繰り返し使用回数を増加させた場合
であっても、長期にわたって安定した画像品質を得るこ
とができる。
【0101】なお、本実施形態はこれに限定されるもの
ではない。例えば、図2に示した画像形成装置は、電子
写真感光体1と支持手段9とを備えるプロセスカートリ
ッジを適用可能なものであってもよい。かかるプロセス
カートリッジを用いることによって、メンテナンスをよ
り簡便に行うことができる。また、かかるプロセスカー
トリッジは、電子写真感光体1及び支持手段9の他に、
帯電装置2、露光装置3、現像装置4、転写装置5、並
びにクリーニング装置からなる群より選ばれる少なくと
も1種とを備えるものであってもよい。
【0102】また、図2に示した装置は電子写真感光体
1表面に形成されたトナー像を被転写媒体Pに直接転写
するものであるが、本発明の画像形成装置は中間転写体
をさらに備えるものであってもよい。これにより、電子
写真感光体1表面のトナー像を中間転写体に転写した
後、中間転写体から被転写媒体Pに転写することができ
る。かかる中間転写体としては、導電性支持体上にゴ
ム、エラストマー、樹脂などを含む弾性層と少なくとも
1層の被覆層とが積層された構造を有するものを使用す
ることができる。また、本発明の画像形成装置はイレー
ス光照射装置などの除電装置をさらに備えていてもよ
い。これにより、電子写真感光体が繰り返し使用される
場合に、電子写真感光体の残留電位が次のサイクルに持
ち込まれる現象が防止されるので、画像品質をより高め
ることができる。なお、従来の画像形成装置において
は、このように除電装置を用いると電子写真感光体の劣
化(特に支持体及びこれに隣接する層の劣化)が顕著に
認められたが、本発明の画像形成装置では、電子写真感
光体の機械的・電気的強度が十分に高いので、除電装置
を用いた場合であっても、このような劣化を長期にわた
って防止することができる。
【0103】
【実施例】以下、実施例及び比較例に基づいて本発明を
さらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何
ら限定されるものではない。
【0104】[実施例1] (電子写真感光体の作製)酸化亜鉛(Nano Tek
ZnO、シーアイ化成社製、表面処理なし、平均一次
粒径30nm)33重量部、ブロック化イソシアネート
(スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社
製)6重量部及びメチルエチルケトン25重量部を30
分間混合し、その後ブチラール樹脂(BM−1、積水化
学社製)5重量部、シリコーン微粒子(シリコーンボー
ル トスパール120、東芝シリコーン社製)3重量部及び
レベリング剤(シリコーンオイルSH29PA、東レダ
ウコーニングシリコーン社製)0.01重量部を添加し
て、サンドミルにて2時間分散して中間層形成用塗布液
を調製した。この塗布液を浸漬塗布法によりドラム状ア
ルミニウム基体(直径:30mm、長手方向の長さ:3
40mm、肉厚:0.7mm)の外周面に塗布し、15
0℃、30分の乾燥硬化を行い膜厚20μmの中間層を
形成した。
【0105】次に、電荷発生物質としてヒドロキシガリ
ウムフタロシアニン15重量部、結着樹脂としての塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニ
カー社製)10重量部及びn−ブチルアルコール300
重量部を混合し、サンドミルにて4時間の分散処理を行
った。得られた分散液を電荷発生層用塗布液として中間
層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚0.2μmの電荷発
生層を形成した。
【0106】さらに、下記式(28)で表される高分子
化合物(粘度平均分子量:39,000)3重量部及び
下記式(29)で表される化合物2重量部を、テトラヒ
ドロフラン15重量部とクロロベンゼン5重量部との混
合溶剤に溶解させて電荷輸送層用塗布液を調製した。こ
の塗布液を上記の電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布し、
135℃で40分熱風乾燥して膜厚20μmの電荷輸送
層を形成した。
【0107】
【化28】
【0108】
【化29】 さらに、下記式(30)で表される化合物2重量部及び
下記式(31)で表される化合物2重量部を、イソプロ
ピルアルコール5重量部、テトラヒドロフラン3重量部
及び蒸留水0.3重量部の混合溶剤に溶解させ、これに
イオン交換樹脂(アンバーリスト15E)0.05重量
部を加えて室温で24時間撹拌して加水分解処理を行っ
た。加水分解処理後の反応液からイオン交換樹脂を濾過
分離して得られた液体2重量部に、アルミニウムトリス
アセチルアセトナート0.04重量部を加えてコーティ
ング液Aとした。このコーティング液Aを上記の電荷輸
送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で10
分風乾した後、140℃で40分間加熱処理して硬化
し、膜厚3μmの保護層を形成して目的の電子写真感光
体を得た。
【0109】
【化30】
【0110】
【化31】 (画像形成装置の作製及び画質評価試験)このようにし
て得られた電子写真感光体について、ユニバーサルスキ
ャナーを用い、低温低湿(10℃、20%RH)条件下
でレスポンスタイムを50、70、100、140ms
ecに変化させたときのVLcycle2−10を測定
した。すなわち、−650Vに帯電した感光体を回転さ
せながら、所定の位置に配置された露光装置から780
nm、1.9mJ/m2の光を露光し、露光位置から所
定位置まで回転した感光体の帯電電位(VL)を表面電
位計プローブにより測定した。この操作を10サイクル
まで行い、10サイクル目のVLから2サイクル目のV
Lを差し引いた値をVLcycle2−10とした。ま
た、高温高湿(28℃、85%RH)で同様の測定を行
い、感光体の環境変動性を評価した。得られた結果を表
5に示す。なお、表5中、VLcycle2−10及び
環境変動の欄の数値が小さいほど高速適性に優れるもの
である。また、上記の電子写真感光体を用いて、図2に
示す構成を有する画像形成装置を作製した。なお、本実
施例においては、接触方式の帯電手段である帯電ロー
ル、レーザー露光光学系、トナー現像器、転写ロール、
機械的なクリーニング手段としてのクリーニングブレー
ド、定着ロールをそれぞれ用いた。この画像形成装置を
用いて連続2万枚のプリント試験を行い、2万枚目の複
写物について画質評価を行った。得られた結果を表5に
示す。
【0111】[実施例2]酸化チタン(TAF−J50
0、富士チタン工業社製、表面処理なし、平均一次粒
径:50nm)25重量部とブロック化イソシアネート
(スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社
製)10重量部とメチルエチルケトン:60重量部とを
30分間混合し、その後ブチラール樹脂(BM−1、積
水化学社製)9重量部、シリコーン微粒子(シリコーン
ボール トスパール120、東芝シリコーン社製)3重
量部、並びにレベリング剤(シリコーンオイルSH29
PA、東レダウコーニングシリコーン社製)0.01重
量部を添加し、サンドミルにて2時間の分散を行い、中
間層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて
円筒状アルミニウム基体(直径:30mm、長手方向の
長さ:340mm、肉厚:0.7mm)の外周面に塗布
し、150℃、30分の乾燥硬化を行い膜厚22μmの
中間層を形成した。この中間層上に、実施例1と同様に
して電荷発生層、電荷輸送層を順次形成した。
【0112】次に、上記式(30)で表される化合物の
代わりに下記式(32)で表される化合物を用いたこと
以外は実施例1と同様にして保護層を形成し、目的の電
子写真感光体を得た。
【0113】
【化32】 得られた電子写真感光体について、実施例1と同様にし
て各レスポンスタイムにおける高速適性及び環境変動性
を評価した。得られた結果を表5に示す。
【0114】さらに、この電子写真感光体を用いたこと
以外は実施例1と同様にして画像形成装置を作製し、連
続2万枚のプリント試験を行った。得られた結果を表5
に示す。
【0115】[実施例3]酸化スズ(S1、三菱マテリ
アル株式会社製、表面処理なし、平均一次粒径:20n
m)40重量部とブロック化イソシアネート(スミジュ
ール3175、住友バイエルンウレタン社製)6重量部
とメチルエチルケトン25重量部とを30分間混合し、
その後ブチラール樹脂(BM−1、積水化学社製)5重
量部、シリコーン微粒子(シリコーンボール トスパー
ル120、東芝シリコーン社製)3重量部、並びにレベ
リング剤(シリコーンオイルSH29PA、東レダウコ
ーニングシリコーン社製)0.01重量部を添加し、サ
ンドミルにて2時間の分散を行い、中間層形成用塗布液
を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて円筒状アルミニウ
ム基体(直径:30mm、長手方向の長さ:340m
m、肉厚:0.7mm)の外周面に塗布し、150℃、
30分の乾燥硬化を行って膜厚25μmの中間層を形成
した。この中間層上に、実施例1と同様にして電荷発生
層、電荷輸送層を順次形成した。
【0116】次に、上記式(30)で表される化合物の
代わりに下記式(33)で表される化合物を用いたこと以
外は実施例1と同様にして保護層を形成し、目的の電子
写真感光体を得た。
【0117】
【化33】 得られた電子写真感光体について、実施例1と同様にし
て各レスポンスタイムにおける高速適性及び環境変動性
を評価した。得られた結果を表5に示す。
【0118】さらに、この電子写真感光体を用いたこと
以外は実施例1と同様にして画像形成装置を作製し、連
続2万枚のプリント試験を行った。得られた結果を表5
に示す。
【0119】[実施例4]酸化亜鉛(Nano Tek
ZnO、シーアイ化成社製、表面処理なし、平均一次
粒径:30nm)33重量部とメラミン樹脂(ユーバン
20SE−60)6重量部とn−ブチルアルコール25
重量部とを30分間混合し、その後ブチラール樹脂(B
M−1、積水化学社製)6重量部、シリコーン微粒子
(シリコーンボール トスパール120、東芝シリコー
ン社製)3重量部、並びにレベリング剤(シリコーンオ
イルSH29PA、東レダウコーニングシリコーン社
製)0.01重量部を添加し、サンドミルにて2時間の
分散を行い、中間層形成用塗布液を得た。この塗布液を
浸漬塗布法にて円筒状アルミニウム基体(直径:30m
m、長手方向の長さ:340mm、肉厚:0.7mm)
の外周面に塗布し、150℃、30分の乾燥硬化を行っ
て膜厚20μmの中間層を得た。この痛感層状に、実施
例1と同様にして電荷発生層を形成した。
【0120】次に、上記式(28)で表される高分子化
合物2重量部及び下記式(34)で表される化合物2重
量部を、テトラヒドロフラン15重量部とクロロベンゼ
ン5重量部との混合溶剤に溶解させて電荷輸送層形成用
塗布液を調製した。この塗布液を浸漬塗布法により上記
の電荷発生層上に塗布し、135℃で40分熱風乾燥
し、膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。この電荷輸
送層上に、実施例1と同様にして保護層を形成し、目的
の電子写真感光体を得た。
【0121】
【化34】 得られた電子写真感光体について、実施例1と同様にし
て各レスポンスタイムにおける高速適性及び環境変動性
を評価した。得られた結果を表5に示す。
【0122】さらに、この電子写真感光体を用いたこと
以外は実施例1と同様にして画像形成装置を作製し、連
続2万枚のプリント試験を行った。得られた結果を表5
に示す。
【0123】[実施例5]酸化亜鉛(Nano Tek
ZnO、シーアイ化成社製、表面処理なし、平均一次
粒径:30nm)33重量部とブチラール樹脂(BM−
1、積水化学社製)9重量部とメタノール5重量部とメ
トキシプロパノール12重量部とを30分間混合し、そ
の後フェノール樹脂(J325、大日本インキ社製)1
2重量部、シリコーン微粒子(シリコーンボール トス
パール120(東芝シリコーン社製)3重量部、並びに
レベリング剤(シリコーンオイルSH29PA、東レダ
ウコーニングシリコーン社製)0.01重量部を添加
し、サンドミルにて2時間の分散を行い、中間層形成用
塗布液を調製した。この塗布液を浸漬塗布法にて円筒状
アルミニウム基体(直径:30mm、長手方向の長さ:
340mm、肉厚:0.7mm)の外周面に塗布し、1
50℃、30分の乾燥硬化を行って膜厚20μmの中間
層を形成した。この中間層上に、実施例4と同様にして
電荷発生層、電荷輸送層、保護層を順次形成し、目的の
電子写真感光体を得た。
【0124】得られた電子写真感光体について、実施例
1と同様にして各レスポンスタイムにおける高速適性及
び環境変動性を評価した。得られた結果を表5に示す。
【0125】さらに、この電子写真感光体を用いたこと
以外は実施例1と同様にして画像形成装置を作製し、連
続2万枚のプリント試験を行った。得られた結果を表5
に示す。
【0126】[比較例1]実施例1と同様の円筒状アル
ミニウム基体の外周面にホーニング処理を施し、このよ
うにして粗面化された基体を用いて以下の工程を行っ
た。
【0127】先ず、ポリビニルブチラール樹脂(エスレ
ックBM−S、積水化学社製)4重量部を溶解したn−
ブチルアルコール170重量部、有機ジルコニウム化合
物(アセチルアセトンジルコニウムブチレート)30重
量部及び有機シラン化合物の混合物(γ-アミノプロピ
ルトリエトキシシシラン)3重量部を混合、攪拌し、中
間層形成用の塗布液を調製した。この塗布液をホーニン
グ処理により粗面化された上記基体の外周面に塗布し、
室温で5分間風乾を行った。その後、7分にわたって基
体温度を50℃まで昇温し、さらに50℃、85%RH
(露点47℃)の恒温恒湿槽中に入れて10分間加湿硬
化促進処理を行った。次いで、これを熱風乾燥機に入れ
て135℃で10分間乾燥を行い、膜厚1.2μmの中
間層を形成した。この中間層上に、実施例1と同様にし
て電荷発生層、電荷輸送層、保護層を順次形成し、目的
の電子写真感光体を得た。
【0128】得られた電子写真感光体について、実施例
1と同様にして各レスポンスタイムにおける高速適性及
び環境変動性を評価した。得られた結果を表5に示す。
【0129】さらに、この電子写真感光体を用いたこと
以外は実施例1と同様にして画像形成装置を作製し、連
続2万枚のプリント試験を行った。得られた結果を表5
に示す。
【0130】[比較例2]保護層を設けなかったこと以
外は実施例1と同様にして電子写真感光体を作製した。
【0131】得られた電子写真感光体について、実施例
1と同様にして各レスポンスタイムにおける高速適性及
び環境変動性を評価した。得られた結果を表5に示す。
【0132】さらに、この電子写真感光体を用いたこと
以外は実施例1と同様にして画像形成装置を作製し、連
続2万枚のプリント試験を行った。得られた結果を表5
に示す。
【0133】[比較例3]中間層の膜厚を15μmとし
たこと以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を作
製した。
【0134】得られた電子写真感光体について、実施例
1と同様にして各レスポンスタイムにおける高速適性及
び環境変動性を評価した。得られた結果を表5に示す。
【0135】さらに、この電子写真感光体を用いたこと
以外は実施例1と同様にして画像形成装置を作製し、連
続2万枚のプリント試験を行った。得られた結果を表5
に示す。
【0136】[比較例4]中間層の膜厚を18μmとし
たこと以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を作
製した。
【0137】得られた電子写真感光体について、実施例
1と同様にして各レスポンスタイムにおける高速適性及
び環境変動性を評価した。得られた結果を表5に示す。
【0138】さらに、この電子写真感光体を用いたこと
以外は実施例1と同様にして画像形成装置を作製し、連
続2万枚のプリント試験を行った。得られた結果を表5
に示す。
【0139】
【表5】 表5に示したように、実施例1〜5では、得られた電子
写真感光体がいずれも優れた高速適性を示し、その電子
写真感光体を用いた画像形成装置において良好な画像品
質を得ることができた。
【0140】これに対して、比較例1では、得られた電
子写真感光体の高速適性が不十分であり、これを用いた
画像形成装置においてリークによる黒点の発生が認めら
れた。また、比較例2〜4の場合、電子写真感光体の高
速適性は比較的良好であったが、プリント試験において
は、比較例2で表面(電荷輸送層)の摩耗によるカブリ
の発生、比較例3、4でリークによる黒点の発生が認め
られ、いずれも実用に供し得るものではなかった。
【0141】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の電子写真感
光体では、基体と感光層との間に上記特定の中間層、感
光層の基体から遠い側の面上に上記特定の保護層をそれ
ぞれ設けることによって、導電性異物の接触又は貫入に
よるピンホールリークの発生と感光層表面における摩耗
・傷の発生との双方が防止される。また、当該中間層は
十分に低い電荷蓄積性と十分に高い電荷遮蔽性(ブロッ
キング性)とを兼備しているため、感光層全体の電荷移
動度が高められると共に電気特性が安定化する。従って
本発明により、レスポンスタイムが十分に短く且つ機械
的・電気的な耐性に優れた電子写真感光体が実現され
る。
【0142】また、本発明の画像形成装置によれば、こ
のように優れた特性を有する本発明の電子写真感光体を
用いることによって、高速化、小型化及び長寿命化の全
てを達成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を
示す模式断面図である。
【図2】本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示
す概略構成図である。
【符号の説明】
1…電子写真感光体、11…導電性基体、12…中間
層、13…電荷発生層、14…電荷輸送層、15…保護
層、16…感光層、2…帯電装置、3…露光装置、4…
現像装置、5…転写装置、6…像定着装置、7…クリー
ニング装置、9…支持体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03G 5/147 504 G03G 5/147 504 (72)発明者 穂積 正彦 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 小関 一浩 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 竹川 一郎 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 額田 秀美 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 中村 博史 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 Fターム(参考) 2H068 AA03 AA04 AA20 AA43 AA44 AA48 AA49 BA58 BB29 BB30 BB33 CA22 CA29 CA37

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導電性基体及び該基体上に配置された感
    光層を備える電子写真感光体であって、前記基体と前記
    感光層との間に配置され、結着樹脂及び該結着樹脂中に
    分散された金属酸化物微粒子を含有する膜厚20〜40
    μmの中間層と、前記感光層の前記基体から遠い側の面
    上に配置され、電荷輸送材料及び3次元架橋構造を有す
    るケイ素樹脂を含有する保護層とを備えることを特徴と
    する電子写真感光体。
  2. 【請求項2】 前記金属酸化物微粒子が、酸化スズ、酸
    化チタン及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくと
    も1種であることを特徴とする、請求項1に記載の電子
    写真感光体。
  3. 【請求項3】 前記中間層が、イソシアネート系化合物
    を含有する樹脂前駆体を用いて得られる結着樹脂を含有
    することを特徴とする、請求項1又は2に記載の電子写
    真感光体。
  4. 【請求項4】 前記中間層が、平均一次粒径1〜5μm
    のシリコーン微粒子をさらに含有することを特徴とす
    る、請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の電子写
    真感光体。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のうちのいずれか一項に記
    載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体表面を帯電
    させる帯電手段と、前記電子写真感光体表面を露光して
    静電潜像を形成する露光手段と、トナーにより前記静電
    潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、前記ト
    ナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、を備えるこ
    とを特徴とする画像形成装置。
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