JP2003149406A

JP2003149406A - 赤外反射防止膜

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Publication number: JP2003149406A
Application number: JP2002203545A
Authority: JP
Inventors: Makoto Seta; 誠瀬田
Original assignee: Topcon Corp
Current assignee: Topcon Corp
Priority date: 2002-07-12
Filing date: 2002-07-12
Publication date: 2003-05-21
Anticipated expiration: 2020-04-20
Also published as: JP3639822B2

Abstract

(57)【要約】【課題】分光特性を劣化させることなく、膜表面を硬
化させ、耐磨耗性に優れ、膜全体の内部応力の不均衡を
緩和し、膜剥離等を生じることのない、耐久性に優れた
赤外反射防止膜及びフィルターを提供すること。【解決手段】赤外光学用基板に形成された赤外反射防
止膜において、基板がＺｎＳｅ基板又はＺｎＳ基板であ
り、基板側から数えて第１層に中間屈折率のＺｎＳ膜、
第２層に低屈折率のＹＦ₃膜、第３層に中間屈折率のＺ
ｎＳ膜、第４層に低屈折率のＹＦ₃膜を積層してなる赤
外反射防止膜。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、赤外線領域の光学部材
として用いられる赤外域多層膜、特に赤外反射防止膜及
びフィルターに関する。

【０００２】

【従来技術】最近、赤外光を用いた光学機器の開発が盛
んに行われ、特に８〜１４μm 領域の赤外光の利用が注
目されている。これに伴い、この領域の赤外光に有効な
赤外反射防止膜が種々提案されている。例えば、ZnSe基
板にPbF₂膜とThF₄膜からなる２層膜を積層した赤外反射
防止膜 (特公昭61-28962号公報) 、 ZnS又はZnSe基板に
YF₃ 、ZnS 、YF₃ の３層膜を積層した赤外反射防止膜
（特開昭64-15703号公報) 、Ge基板にZnS 、Ge、ZnS 、
BaF₂、ZnS のそれぞれの膜を形成してなる赤外反射防止
膜 (特公平2-11121 号公報) 、或いはGe基板にZnS 又は
ZnSe、Ge、ZnS 、BaF₂のそれぞれの膜を形成してなる赤
外反射防止膜 (特公平2-13761 号公報)等が知られてい
る。

【０００３】しかしこれら従来の赤外反射防止膜は、耐
磨耗性が低い。これは、中間屈折率層、低屈折率層を構
成する例えば、CaF₂、BaF₂、SrF₂、ZnSe、ZnS 、BK７
（ガラス）、Ge、Siなどの物性に起因するものである。
これらの物質の耐磨耗性の指標となるヌープ硬度は以下
のとおりである。種類 CaF₂ BaF₂ SrF₂ ZnSe ZnS BK7 Ge Si 硬度 158 82 130 105 160 570 190 1150 また、“Optical Coating for High Energy ZnSe Laser
Windows" Appl. Opt.,30, 2075-2080 の Table IV.に
も、ZnS やZnSeを基板とする赤外反射防止膜の耐磨耗性
が低いことが示されている。また、これらの ZnSやZnSe
を基板とする赤外反射防止膜においては、膜全体の内部
応力が不均衡であるため、膜の剥離が起こり、耐久性が
低いという問題もあった。例えばYF₃ 、ZnS 、YF₃ の３
層膜を積層した ZnS基板の反射防止膜では、YF₃ 膜の引
っ張り応力が大きいため、膜全体の内部応力が緩和され
ず、膜剥離等が生じる原因となっていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、分光
特性を劣化させることなく、膜表面を硬化させ、耐磨耗
性に優れた赤外域多層膜、特に赤外反射防止膜及びフィ
ルターを提供することである。本発明の他の目的は、膜
全体の内部応力の不均衡を緩和し、膜剥離等を生じるこ
とのない、耐久性に優れた赤外域多層膜、特に赤外反射
防止膜及びフィルターを提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、赤外光学用基
板に形成された赤外域多層膜において、基板側からの最
外層にY₂O₃からなる耐磨耗性強化層を設けたことを特徴
とする赤外域多層膜を提供するものである。本発明はま
た、Al₂O₃ 、Y₂O₃、Ti₂O₃ 、TiO 及びTiO₂からなる群か
ら選ばれる密着力強化層を有する赤外域多層膜を提供す
るものである。本発明の赤外域多層膜に使用される赤外
光学用基板は、好ましくはZnS 、ZnSe、Ge、Si又はカル
コゲナイドガラスである。本発明の赤外域多層膜の成分
の例としては、CaF₂、BaF₂、SrF₂、ZnSe、ZnS、YF₃ 、T
iO₂、PbF₂、ThF₄、Ge、Si等が挙げられる。これらの膜
の形成方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング
等の、従来公知の真空薄膜堆積技術が用いられる。最外
層に設けられるY₂O₃又はAl₂O₃ からなる耐磨耗性強化層
の膜厚は、３００nm以下、好ましくは１６０〜２００nm
が適当である。分光特性を変化させないという点からは
Y₂O₃の方が好ましい。これらの膜の形成方法としては、
真空蒸着、イオンプレーティング等の、従来公知の真空
薄膜堆積技術が用いられる。

【０００６】本発明はまた、赤外光学用基板に形成され
た赤外反射防止膜において、基板がZnSe基板であり、基
板側から数えて第１層に中間屈折率の ZnS膜、第２層に
低屈折率の YF₃膜、第３層に中間屈折率の ZnS膜、第４
層に低屈折率の YF₃膜を積層してなる赤外反射防止膜を
提供するものである。さらに本発明は、赤外光学用基板
に形成された赤外反射防止膜において、基板が ZnS基板
であり、基板側から数えて第１層に中間屈折率の ZnS
膜、第２層に低屈折率の YF₃膜、第３層に中間屈折率の
ZnS膜、第４層に低屈折率の YF₃膜を積層してなる赤外
反射防止膜を提供するものである。これらの赤外反射防
止膜において、第１層〜第４層の各層の光学膜厚は、以
下の条件を満足することが好ましい。 0.０５λ₀ ≦４n₁d₁≦１0.０λ₀ 0.０４λ₀ ≦４n₂d₂≦0.２５λ₀ 0.２５λ₀ ≦４n₃d₃≦0.６５λ₀ 0.７５λ₀ ≦４n₄d₄≦1.２５λ₀ 式中d₁、d₂、d₃及びd₄は各層の光学膜厚であり、n₁、
n₂、n₃及びn₄は各層の屈折率であり、λ₀ は設計基準波
長である。これらの赤外反射防止膜は、Al₂O₃ 、Y₂O₃、
Ti₂O₃ 、TiO 及びTiO₂からなる群から選ばれる密着力強
化層を有することが好ましい。またこれらの赤外反射防
止膜の最外層にY₂O₃からなる耐磨耗性強化層を設けるこ
とによりその耐磨耗性を改善することができる。

【０００７】以下実施例により本発明を更に詳細に説明
する。

【実施例】〔実施例１〕（赤外反射防止膜）基板 ZnSe 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 BaF₂ 光学膜厚 0.135 λ₀ 第２層 ZnS 光学膜厚 0.055 λ₀ なお、基準となる波長λ₀ は、１0.６μm である。TiO₂
は基準波長に拘らず１００nmであれば、分光特性を劣化
させることなく、密着性を向上させることができる。

【０００８】〔比較例１〕（赤外反射防止膜）密着力強化層を設けなかったほかは実施例１と同じ。上
記試料について、密着性及び耐磨耗性を以下の試験方法
により調べた。密着性テスト (MIL-C-13508C 4.4.6):
セロテープ（登録商標）をはりつけ、これを剥がした
ときに膜が剥がれるかどうかを目視により
観察する。耐磨耗性テスト(MIL-C-13508C 4.4.5): チー
ズクロスを用い５００ｇの圧力を掛けて５０ストローク
テストを行い膜面に傷ができるかどうかを目視により観
察する。結果を以下に示す。（“−”は測定不能であることを示す。）上記結果は、TiO₂からなる密着力強化層を設けることに
より密着性が著しく向上することを示している。

【０００９】〔実施例２〕（赤外反射防止膜）基板 ZnSe 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 YF₃ 〃 0.038 λ₀ 第２層 ZnS 〃 0.130 λ₀ 第３層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ なお、基準となる波長λ₀ は9.０μｍである。

【００１０】〔実施例３〕（赤外反射防止膜）基板 ZnSe 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 BaF₂ 光学膜厚 0.135 λ₀ 第２層 ZnS 光学膜厚 0.055 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 光学膜厚 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は、１0.６μm である。Y₂O₃
は基準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を
劣化させることなく、耐磨耗性を向上させることができ
る。

【００１１】〔実施例４〕（赤外反射防止膜）耐磨耗性強化層をAl₂O₃ としたほかは実施例３と同じ。
上記試料について、密着性及び耐磨耗性を調べた。結果
を以下に示す。上記実施例３及び実施例４の試料の分光特性を図１に示
す。最外層がY₂O₃層である実施例３の赤外反射防止膜
は、最外層がAl₂O₃ 層である実施例４の赤外反射防止膜
と比較して、分光特性が劣化することなく、耐磨耗性が
向上することがわかる。すなわち、実施例３の赤外反射
防止膜は、赤外線をほぼ完全に透過させていることがわ
かる。図１において太い実線は耐磨耗性強化層を設ける
前の赤外反射防止膜の分光特性を示す。

【００１２】〔実施例５〕基板 ZnSe 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 YF₃ 〃 0.038 λ₀ 第２層 ZnS 〃 0.130 λ₀ 第３層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は9.０μｍである。

【００１３】〔実施例６〕（赤外反射防止膜）基板 ZnSe 密着力強化層 Y₂O₃ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.25λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.25λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は、１０μｍである。Y₂O₃は
基準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣
化させることなく、耐磨耗性を向上させることができ
る。

【００１４】〔実施例７〕（赤外反射防止膜）基板 ZnS 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.25λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.25λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 300 nm なお、基準となる波長λ₀ は１０μｍである。Y₂O₃は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。

【００１５】〔実施例８〕（フィルター）基板 Ge 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.25λ₀ 第２層 Ge 〃 0.25λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.25λ₀ 第４層 Ge 〃 0.50λ₀ 第５層 ZnS 〃 0.25λ₀ 第６層 Ge 〃 0.25λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は１１μｍである。Y₂O₃は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。

【００１６】〔実施例９〕（赤外反射防止膜）基板 Ge 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.055 λ₀ 第２層 Ge 〃 0.109 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.270 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は7.５μｍである。Y₂O₃は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。

【００１７】〔実施例１０〕（赤外反射防止膜）基板 Ge 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.089 λ₀ 第２層 Ge 〃 0.123 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.293 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ 第５層 ZnS 〃 0.041 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は5.６μｍである。Y₂O₃は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
図２に反射率特性を示す。

【００１８】〔実施例１１〕（赤外反射防止膜）基板 Ge 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.033 λ₀ 第２層 Ge 〃 0.210 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.098 λ₀ 第４層 Ge 〃 0.150 λ₀ 第５層 ZnS 〃 0.180 λ₀ 第６層 Ge 〃 0.048 λ₀ 第７層 ZnS 〃 0.243 λ₀ 第８層 YF₃ 〃 0.083 λ₀ 第９層 ZnS 〃 0.125 λ₀ 第１０層 YF₃ 〃 0.400 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は3.３μｍである。Y₂O₃は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。

【００１９】上記実施例１１の赤外反射防止膜は反射防
止域の広帯域化を図ったものであり、図２に示すよう
に、３〜１２μｍの広い範囲で反射防止の効果を有す
る。実施例９〜１１はGe基板の反射防止膜であるが、密
着力強化層と第１層との間にGeを任意の膜厚で積層して
も反射防止効果にはほとんど影響を及ぼさない。実施例
６〜１１の赤外反射防止膜について、密着性テスト（MI
L-C-13508C 4.4.6) 及び耐磨耗性テスト（MIL-C-13508C
4.4.5) を行った。結果を以下に示す。密着性テスト耐磨耗性テスト実施例６膜剥がれなし膜面の傷なし〃７〃〃〃８〃〃〃９〃〃〃 10 〃〃〃 11 〃〃密着力強化層としてY₂O₃又はTiO₂、耐磨耗性強化層とし
てY₂O₃を積層することで、密着力が強化され、耐磨耗性
が向上することがわかる。なお、密着力強化層として、
TiO を積層することによっても同様に密着力を向上でき
る。

【００２０】また、基板としてZnSeを使用した赤外反射
防止膜について、以下に実施例１２〜実施例１４を示
す。〔実施例１２〕（赤外反射防止膜）基板 ZnSe 第１層 ZnS 光学膜厚 0.116 λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.030 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.109 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ なお、基準となる波長λ₀ は9.５μｍである。

【００２１】〔実施例１３〕基板 ZnSe 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.116 λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.030 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.109 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ なお、基準となる波長λ₀ は9.５μｍである。密着力強
化層TiO₂により、密着力を向上させることができる。

【００２２】〔実施例１４〕基板 ZnSe 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.116 λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.030 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.109 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は9.５μｍである。密着力強
化層TiO₂および耐磨耗性強化層Y₂O₃により、密着力を強
化させ、耐磨耗性を向上させることができる。図３に反
射率特性を示す。

【００２３】実施例２、５、１３及び１４の赤外反射防
止膜を温度５０℃、湿度９５％の雰囲気中に４８時間放
置し（MIL-C-13508C 4.4.7) 、その後、−６２℃に１０
時間、次いで８５℃に１０時間放置する温度サイクルを
１サイクルとして、５サイクル繰り返す強制テストに付
した後、密着性及び耐磨耗性を調べた。結果を以下に示
す。密着性テスト耐磨耗性テスト実施例２膜剥がれあり − 〃５〃あり − 〃１３〃なし膜面の傷あり〃１４〃なし〃なしこれから、ZnSe基板に３層膜を設けた実施例２及び５の
赤外反射防止膜に比較し、ZnSe基板に４層膜、すなわち
基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS 膜、第２層
に低屈折率のYF₃ 膜、第３層に中間屈折率のZnS 膜、第
４層に低屈折率のYF₃ 膜を積層して膜全体の内部応力を
緩和した実施例１３及び１４の赤外反射防止膜は、強制
条件下でも膜剥がれ等がなく、耐磨耗性も高いより優れ
た膜であることがわかる。

【００２４】〔実施例１５〕この実施例は、ZnSe基板に
４層膜を積層した赤外反射防止膜において、第４層と耐
磨耗性強化層Y₂O₃との間に中間屈折率のZnS 膜を挿入し
た例で、反射防止効果を変化させず、耐磨耗性を強化さ
せる効果を示すものである。基板 ZnSe 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.155 λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.030 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.139 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ 第５層 ZnS 〃 0.022 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は8.０μｍである。

【００２５】以下の実施例１６〜２０は、ZnS 基板を使
用した赤外反射防止膜の例を示すものである。〔実施例１６〕（赤外反射防止膜）基板 ZnS 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 YF₃ 〃 0.044 λ₀ 第２層 ZnS 〃 0.103 λ₀ 第３層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ なお、基準となる波長λ₀ は１0.５μｍである。〔実施例１７〕（赤外反射防止膜）基板 ZnS 第１層 ZnS 光学膜厚 0.250 λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.044 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.103 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ なお、基準となる波長λ₀ は１0.５μｍである。

【００２６】〔実施例１８〕（赤外反射防止膜）基板 ZnS 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.250 λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.044 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.103 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ なお、基準となる波長λ₀ は１0.５μｍである。密着力
強化層TiO₂により、密着力を向上させることができる。〔実施例１９〕（赤外反射防止膜）基板 ZnS 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 YF₃ 〃 0.044 λ₀ 第２層 ZnS 〃 0.103 λ₀ 第３層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は１0.５μｍである。

【００２７】〔実施例２０〕（赤外反射防止膜）基板 ZnS 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.250 λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.044 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.103 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は１0.５μｍである。密着力
強化層TiO₂および耐磨耗性強化層Y₂O₃により、密着力を
強化させ、耐磨耗性を向上させることができる。図４に
反射率特性を示す。

【００２８】上記実施例１６、１８、１９及び２０の赤
外反射防止膜の密着性および耐磨耗性を上述の強制試験
方法により調べた。その結果を以下に示す。密着性テスト耐磨耗性テスト実施例１６膜剥がれあり − 〃１８〃なし膜面の傷あり〃１９〃あり − 〃２０〃なし〃なしこれから、ZnS 基板に３層膜を設けた実施例１６及び１
９の赤外反射防止膜に比較し、ZnS 基板に４層膜、すな
わち基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS 膜、第
２層に低屈折率のYF₃ 膜、第３層に中間屈折率のZnS
膜、第４層に低屈折率のYF₃ 膜を積層して膜全体の内部
応力を緩和した実施例１８及び２０の赤外反射防止膜
は、強制条件下でも膜剥がれ等がなく、耐磨耗性も高い
より優れた膜であることがわかる。

【００２９】〔実施例２１〕この実施例は、ZnS 基板に
４層膜を積層した赤外反射防止膜において、第４層と耐
磨耗性強化層Y₂O₃との間に中間屈折率のZnS 膜を積層し
ても分光特性を変化させることなく、耐磨耗性を強化さ
せる効果を奏することを示すものである。基板 ZnS 密着力強化層 TiO₂ 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.750 λ₀ 第２層 YF₃ 〃 0.047 λ₀ 第３層 ZnS 〃 0.134 λ₀ 第４層 YF₃ 〃 0.250 λ₀ 第５層 ZnS 〃 0.017 λ₀ 耐磨耗性強化層 Y₂O₃ 〃 160 nm なお、基準となる波長λ₀ は9.０μｍである。

【００３０】

【発明の効果】最外層がY₂O₃層である本発明の赤外反射
防止膜は、分光特性が劣化することなく、耐磨耗性が向
上している。また、ZnS 又はZnSe基板の赤外反射防止膜
において、基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS
膜、第２層に低屈折率の YF₃膜、第３層に中間屈折率の
ZnS膜、第４層に低屈折率の YF₃膜を積層して膜全体の
内部応力を緩和した赤外反射防止膜は、強制条件下でも
膜剥離等がなく、耐磨耗性も高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】ZnSe基板の赤外反射防止膜、この赤外反射防止
膜の最外層にY₂O₃の耐磨耗性層を設けた本発明の実施例
３の赤外反射防止膜、及びこの赤外反射防止膜の最外層
にAl₂O₃ の耐磨耗性層を設けた実施例４の赤外反射防止
膜の分光特性を示す図面である。

【図２】本発明の実施例１０の赤外反射防止膜の分光特
性（点線）と、ZnS 膜とGe膜を交互に積層することによ
り赤外反射防止域を広帯域化した本発明の実施例１１の
赤外反射防止膜の分光特性（実線）を示す図面である。

【図３】ZnSe基板に、基板側から数えて第１層に中間屈
折率のZnS 膜、第２層に低屈折率の YF₃膜、第３層に中
間屈折率の ZnS膜、第４層に低屈折率の YF₃膜を積層し
て膜全体の内部応力を緩和した本発明の実施例１４の赤
外反射防止膜の分光特性を示す図面である。

【図４】ZnS 基板に、基板側から数えて第１層に中間屈
折率のZnS 膜、第２層に低屈折率の YF₃膜、第３層に中
間屈折率の ZnS膜、第４層に低屈折率の YF₃膜を積層し
て膜全体の内部応力を緩和した本発明の実施例２０の赤
外反射防止膜の分光特性を示す図面である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＺＦターム(参考） 2K009 AA05 AA06 AA07 AA08 AA09 BB01 CC02 CC03 CC06 DD03 DD07 EE00 4F100 AA05C AA05E AA11B AA11D AA19E AA20E AT00A BA02 BA05 BA07 BA08 BA10A BA10E GB41 GB90 JN06 JN06B 4K029 AA04 AA09 BA42 BA43 BA44 BA48 BB02 BC00 BC02 BC07 BD00 CA01 CA03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】赤外光学用基板に形成された赤外反射防
止膜において、基板がＺｎＳｅ基板であり、基板側から
数えて第１層に中間屈折率のＺｎＳ膜、第２層に低屈折
率のＹＦ₃膜、第３層に中間屈折率のＺｎＳ膜、第４層
に低屈折率のＹＦ₃膜を積層してなる赤外反射防止膜。
【請求項２】第１層〜第４層の各層の各光学膜厚が、
各層の屈折率をｎ₁、ｎ₂、ｎ₃、ｎ₄、設計基準波長をλ
₀とするとき、０．０５λ₀≦４ｎ₁ｄ₁≦１０．０λ₀ ０．０４λ₀≦４ｎ₂ｄ₂≦０．２５λ₀ ０．２５λ₀≦４ｎ₃ｄ₃≦０．６５λ₀ ０．７５λ₀≦４ｎ₄ｄ₄≦１．２５λ₀ である請求項２記載の赤外反射防止膜。
【請求項３】Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｔｉ₂Ｏ₃、ＴｉＯ及
びＴｉＯ₂からなる群から選ばれる密着力強化層を有す
る請求項１又は２記載の赤外反射防止膜。
【請求項４】最外層にＹ₂Ｏ₃からなる耐磨耗性強化層
を有する請求項１又は２又は３記載の赤外反射防止膜。
【請求項５】赤外光学用基板に形成された赤外反射防
止膜において、基板がＺｎＳ基板であり、基板側から数
えて第１層に中間屈折率のＺｎＳ膜、第２層に低屈折率
のＹＦ₃膜、第３層に中間屈折率のＺｎＳ膜、第４層に
低屈折率のＹＦ₃膜を積層してなる赤外反射防止膜。
【請求項６】第１層〜第４層の各層の各光学膜厚が、
各層の屈折率をｎ₁、ｎ₂、ｎ₃、ｎ₄、設計基準波長をλ
₀とするとき、０．０５λ₀≦４ｎ₁ｄ₁≦１０．０λ₀ ０．０３λ₀≦４ｎ₂ｄ₂≦０．３０λ₀ ０．１０λ₀≦４ｎ₃ｄ₃≦０．７０λ₀ ０．７０λ₀≦４ｎ₄ｄ₄≦１．３０λ₀ である請求項５記載の赤外反射防止膜。
【請求項７】Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｔｉ₂Ｏ₃、ＴｉＯ及
びＴｉＯ₂からなる群から選ばれる密着力強化層を有す
る請求項５又は６記載の赤外反射防止膜。
【請求項８】最外層にＹ₂Ｏ₃からなる耐磨耗性強化層
を有する請求項５又は６又は７記載の赤外反射防止膜。