JP2006119525A5 - - Google Patents

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前記目的を達成するため、本出願に係る第１の発明は、反射防止膜の基準波長をλ０とした時、λ０における屈折率が２．１以上の高屈折率膜（ｎＨ）と１．６５以下の低屈折率膜（ｎＬ）の交互層で構成される６層の反射防止膜において、空気側最終層がＳｉＯ２膜で形成され、可視域（４０５〜７００ｎｍ）の基準波長λ０に対して各層のλ０における光学膜厚（ｎＨ＊ｄ、ｎＬ＊ｄ）が基板側から、
０．１１≧ｎＨ＊ｄ１／λ０≧０．０１
０．２６≧ｎＬ＊ｄ２／λ０≧０．０５
０．２３≧ｎＨ＊ｄ３／λ０≧０．０３
０．２１≧ｎＬ＊ｄ４／λ０≧０．０４
０．２２≧ｎＨ＊ｄ５／λ０≧０．０３
０．３８≧ｎＬ＊ｄ６／λ０≧０．２６……（１１）
（１１）式を満たし、且つ
０．９４≧総光学膜厚／λ０≧０．８……（１２）
（１２）式を満たすことを特徴とする。 本出願に係る第１の発明による反射防止膜は、可視域（４０５〜７００ｎｍ）の各波長の反射率をＲ（λ）、同一基準波長λ０を有する単層ＭｇＦ２膜の各波長の反射率をＲ単（λ）とした時、
｜Ｒ（λ）−Ｒ単（λ）｜≦０．４％……（１）
（１）式を満たす。
本出願に係る第２の発明は、反射防止膜の基準波長をλ０とした時、λ０における屈折率が２．１以上の高屈折率膜（ｎＨ）と１．６５以下の低屈折率膜（ｎＬ）の交互層で構成される７層の反射防止膜において、空気側最終層がＳｉＯ２膜で形成され、可視域（４０５〜７００ｎｍ）の基準波長λ０に対して、各層のλ０における光学膜厚（ｎＨ＊ｄ、ｎＬ＊ｄ）が基板側から、
０．１３≧ｎＬ＊ｄ１／λ０≧０．０３
０．１３≧ｎＨ＊ｄ２／λ０≧０．０１
０．１８≧ｎＬ＊ｄ３／λ０≧０．０９
０．２≧ｎＨ＊ｄ４／λ０≧０．０３
０．２≧ｎＬ＊ｄ５／λ０≧０．０７
０．２１≧ｎＨ＊ｄ６／λ０≧０．０３
０．３７≧ｎＬ＊ｄ７／λ０≧０．２８……（２１）
（２１）式を満たし、且つ
１．１２≧総光学膜厚／λ０≧０．８１……（２２）
（２２）式を満たすことを特徴とする。
本出願に係る第３の発明は、反射防止膜の基準波長をλ０とした時、λ０における屈折率が２．１以上の高屈折率膜（ｎＨ）と１．６５以下の低屈折率膜（ｎＬ）の交互層で構成される８層の反射防止膜であって、空気側最終層がＳｉＯ２膜で形成され、可視域（４０５〜７００ｎｍ）の基準波長λ０に対して、各層のλ０における光学膜厚（ｎＨ＊ｄ、ｎＬ＊ｄ）が基板側から、
０．０９≧ｎＨ＊ｄ１／λ０≧０．０１
０．２６≧ｎＬ＊ｄ２／λ０≧０．０６
０．１９≧ｎＨ＊ｄ３／λ０≧０．０３
０．２≧ｎＬ＊ｄ４／λ０≧０．０４
０．３≧ｎＨ＊ｄ５／λ０≧０．０５
０．１８≧ｎＬ＊ｄ６／λ０≧０．０２
０．２４≧ｎＨ＊ｄ７／λ０≧０．０３
０．３６≧ｎＬ＊ｄ８／λ０≧０．２６……（３１）
（３１）式を満たし、且つ
１．２≧総光学膜厚／λ０≧１．０１……（３２）
（３２）式を満たすことを特徴とする。
本出願に係る第４の発明は、第１、２、３いずれかの発明に記載の反射防止膜において、全層がスパッタ法で形成されることを特徴とする。

Claims (4)

  1. 反射防止膜の基準波長をλ０とした時、λ０における屈折率が２．１以上の高屈折率膜（ｎＨ）と１．６５以下の低屈折率膜（ｎＬ）の交互層で構成される６層の反射防止膜において、
    空気側最終層がＳｉＯ２膜で形成され、可視域（４０５〜７００ｎｍ）の基準波長λ０に対して各層のλ０における光学膜厚（ｎＨ＊ｄ、ｎＬ＊ｄ）が基板側から、
    ０．１１≧ｎＨ＊ｄ１／λ０≧０．０１
    ０．２６≧ｎＬ＊ｄ２／λ０≧０．０５
    ０．２３≧ｎＨ＊ｄ３／λ０≧０．０３
    ０．２１≧ｎＬ＊ｄ４／λ０≧０．０４
    ０．２２≧ｎＨ＊ｄ５／λ０≧０．０３
    ０．３８≧ｎＬ＊ｄ６／λ０≧０．２６……（１１）
    （１１）式を満たし、且つ
    ０．９４≧総光学膜厚／λ０≧０．８……（１２）
    （１２）式を満たすことを特徴とする反射防止膜。
  2. 反射防止膜の基準波長をλ０とした時、λ０における屈折率が２．１以上の高屈折率膜（ｎＨ）と１．６５以下の低屈折率膜（ｎＬ）の交互層で構成される７層の反射防止膜において、
    空気側最終層がＳｉＯ２膜で形成され、可視域（４０５〜７００ｎｍ）の基準波長λ０に対して、各層のλ０における光学膜厚（ｎＨ＊ｄ、ｎＬ＊ｄ）が基板側から、
    ０．１３≧ｎＬ＊ｄ１／λ０≧０．０３
    ０．１３≧ｎＨ＊ｄ２／λ０≧０．０１
    ０．１８≧ｎＬ＊ｄ３／λ０≧０．０９
    ０．２≧ｎＨ＊ｄ４／λ０≧０．０３
    ０．２≧ｎＬ＊ｄ５／λ０≧０．０７
    ０．２１≧ｎＨ＊ｄ６／λ０≧０．０３
    ０．３７≧ｎＬ＊ｄ７／λ０≧０．２８……（２１）
    （２１）式を満たし、且つ
    １．１２≧総光学膜厚／λ０≧０．８１……（２２）
    （２２）式を満たすことを特徴とする反射防止膜。
  3. 反射防止膜の基準波長をλ０とした時、λ０における屈折率が２．１以上の高屈折率膜（ｎＨ）と１．６５以下の低屈折率膜（ｎＬ）の交互層で構成される８層の反射防止膜であって、
    空気側最終層がＳｉＯ２膜で形成され、可視域（４０５〜７００ｎｍ）の基準波長λ０に対して、各層のλ０における光学膜厚（ｎＨ＊ｄ、ｎＬ＊ｄ）が基板側から、
    ０．０９≧ｎＨ＊ｄ１／λ０≧０．０１
    ０．２６≧ｎＬ＊ｄ２／λ０≧０．０６
    ０．１９≧ｎＨ＊ｄ３／λ０≧０．０３
    ０．２≧ｎＬ＊ｄ４／λ０≧０．０４
    ０．３≧ｎＨ＊ｄ５／λ０≧０．０５
    ０．１８≧ｎＬ＊ｄ６／λ０≧０．０２
    ０．２４≧ｎＨ＊ｄ７／λ０≧０．０３
    ０．３６≧ｎＬ＊ｄ８／λ０≧０．２６……（３１）
    （３１）式を満たし、且つ
    １．２≧総光学膜厚／λ０≧１．０１……（３２）
    （３２）式を満たすことを特徴とする反射防止膜。
  4. 全層がスパッタ法で形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載の反射防止膜。
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