JP2005298905A - 鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法 - Google Patents
鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005298905A JP2005298905A JP2004117422A JP2004117422A JP2005298905A JP 2005298905 A JP2005298905 A JP 2005298905A JP 2004117422 A JP2004117422 A JP 2004117422A JP 2004117422 A JP2004117422 A JP 2004117422A JP 2005298905 A JP2005298905 A JP 2005298905A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- layer
- oxide
- scale
- flakes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 118
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 118
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 18
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims description 10
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 6
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 5
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 111
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- -1 optical members Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002060 nanoflake Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910000048 titanium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
【課題】
従来品以上に端面がシャープなものであり、また高アスペクト比を有し、製造時のコスト高騰を抑えることができる、ナノサイズの鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法を提供する。
【解決手段】
金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、よりなる積層物である鱗片状メタルフレークであって、その平均長径が５μｍ以下であり、前記第１層、前記第２層及び前記第３層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であり、前記鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上である、という構成を有している、鱗片状メタルフレークとした。
【選択図】 なし
従来品以上に端面がシャープなものであり、また高アスペクト比を有し、製造時のコスト高騰を抑えることができる、ナノサイズの鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法を提供する。
【解決手段】
金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、よりなる積層物である鱗片状メタルフレークであって、その平均長径が５μｍ以下であり、前記第１層、前記第２層及び前記第３層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であり、前記鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上である、という構成を有している、鱗片状メタルフレークとした。
【選択図】 なし
Description
本発明は鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法に関するものであって、具体的には鱗片状メタルフレークの端面が不整ではなくシャープである鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法に関する。
家庭用電気製品や自動車等の塗装として、重厚感や高級感を呈するために塗料の中に極薄のフレーク上の金属微粉体、いわゆる鱗片状メタルフレークを混合したメタリック塗装が用いられることがある。また、昨今では使用時にきらびやかな印象を呈するために口紅やアイシャドウ等の化粧品に鱗片状メタルフレークを配合したものが提供されるようになってきている。その他にも、光学部材や導電材として鱗片状メタルフレークを利用することが開発されているが、これらに用いられる鱗片状メタルフレーク、特に化粧品や光学部材、導電材等に用いられるものはきめ細かさが要求されるのに伴い、より微細でありアスペクト比も高い、ナノサイズの鱗片状メタルフレーク（以下、単に「ナノメタルフレーク」又は「ナノフレーク」とも言う。）を用いることが強く望まれるようになってきている。
そこでまず簡単に従来の鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法について説明する。
従来の鱗片状メタルフレークとしては、展伸性に優れた金属を用いることが大変好適であることより主にアルミニウムが原料として用いられている。一般的に用いられているアルミニウムフレークは、例えば平均の厚さは０．１μｍ〜５．０μｍ、平均長径は５μｍ〜１５０μｍ、アスペクト比（平均長径／平均厚さ）は５以上、というものである。
従来の鱗片状メタルフレークとしては、展伸性に優れた金属を用いることが大変好適であることより主にアルミニウムが原料として用いられている。一般的に用いられているアルミニウムフレークは、例えば平均の厚さは０．１μｍ〜５．０μｍ、平均長径は５μｍ〜１５０μｍ、アスペクト比（平均長径／平均厚さ）は５以上、というものである。
このようなアルミフレークの製法としては、例えばアルミニウムを圧延ロールで圧延加工して得られたアルミ箔を微細に粉砕して製造するものがあり、これが最も簡単な製法と言えるが、このような方法により得られるアルミフレークは、圧延ロールでいくら圧力をかけて薄くしようとしても、その薄くすることに限度があるので、昨今求められるナノサイズのアルミフレークとすることはほぼ不可能であること、また圧延ロールを用いる方法ではアルミニウム以外の金属では同様に極薄に圧延することが必ずしも容易ではないこと、即ち圧延ロールを用いる方法ではアルミニウム以外の金属を原料としたメタルフレームを得にくいこと、さらには得られるアルミニウムフレークを均一なものとするのが容易ではないこと、圧延されたアルミ箔を裁断する場合、ある程度の小ささまでしか裁断できないため、やはりナノサイズのアルミフレークを得にくい、等の問題がある。
また、例えば樹脂フィルムを基材とし、その表面にアルミニウムを蒸着した後、基材フィルムを溶融することにより得られた蒸着アルミニウム薄膜を粉砕する、という手法も用いられているが、このように蒸着して得られた鱗片状メタルフレークであれば、圧延ロールを用いる上記の方法に比べてさらに薄い厚みを有するアルミニウムフレークを得ることができ、またアルミニウム以外の金属による鱗片状メタルフレークを製造しやすいことは事実であるが、蒸着膜の応力に起因するカールが個々の鱗片状メタルフレークに生じてしまい、上述のように化粧品や導電材に用いようとすると不具合が生じてしまい、好ましくなかった。
そこで、このような問題を解消するために、例えば特許文献１に記載の発明ではメタリック感を呈出するための顔料の原料としてのアルミフレークを、まずアルミニウムを溶かし、その溶けたアルミニウムをガスもしくは遠心力で吹き飛ばして粉々にする、いわゆるアトマイズ法により製造することが記載されている。
またアルミニウム以外の金属をフレークにすることに関しては、例えば特許文献２に記載の発明では、チタンフレーク用の原料チタン粉末をチタンの水素化物を利用して粉砕し、チタン表面の酸素含有量を低く保ってチタンの展伸性を維持しつつ湿式粉砕することが記載されている。
しかし、この特許文献１に記載の発明に記載されたアルミニウムフレークであれば、これを製造するためにまずアルミニウムの粉末をわざわざ用意しなければならず、必ずしも効率的とは言えない。また特許文献２に記載の発明であれば、やはりまず最初に原料としてのチタン粉末を容易しなければならず、やはり効率的とは言えない。また原料チタンを水素化しなければならず、チタン単体でのフレークとすることが困難であった。そしてこれらの方法ではナノサイズまでの微細化を実現することは困難であり、また個々のフレークの形状も端面が乱雑になってしまったり、大きさをほぼ均一なものとすることが困難であったりして、必ずしも好ましいものとは言えなかった。
このように、従来提案されている鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法であれば、ナノサイズまでの微細化が困難である、利用できるメタルの種類に限度がある、コスト面で好ましくない、得られたフレークの形状に問題がある、等の点で昨今の市場要望に十分に答えることができていなかった。
本発明はこのような問題点に鑑みて為されたものであり、その目的は、従来品に比べて端面がシャープなものであり、また高アスペクト比を有し、製造時のコスト高騰を抑えることができる、ナノサイズの鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法を提供することである。
上記課題を解決するため、本願発明の請求項１に記載の発明は、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、よりなる積層物である鱗片状メタルフレークであって、その平均長径が５μｍ以下であり、前記第１層、前記第２層及び前記第３層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であり、前記鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上であること、を特徴とする。
本願発明の請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の鱗片状メタルフレークにおいて、前記第２層を構成する金属単体又は合金が、アルミニウム、シリカ、チタン、亜鉛、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、錫、インジウム、のいずれかよりなるものであること、を特徴とする。
本願発明の請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の鱗片状メタルフレークにおいて、前記第１層及び前記第３層を構成する前記金属酸化物又は金属化合物が、酸化珪素（ＳｉＯｘ（但し１≦ｘ≦２とする。））、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化チタニウム（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、のいずれかであること、を特徴とする。
本願発明の請求項４に記載の発明は、樹脂フィルムの表面に、少なくとも、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、よりなる積層物を積層して積層フィルムを得る積層工程と、前記積層工程後に、前記積層フィルムから積層物を剥離してなる剥離工程と、前記剥離工程後に、前記積層物を微細粉砕してなる粉砕工程と、よりなる工程を少なくとも備えてなること、を特徴とする。
本願発明の請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法において、前記第２層を構成する金属単体又は合金が、アルミニウム、シリカ、チタン、亜鉛、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、錫、インジウム、のいずれかよりなるものであること、を特徴とする。
本願発明の請求項６に記載の発明は、請求項４又は請求項５のいずれか１項に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法において、前記第１層及び前記第３層を構成する前記金属酸化物又は金属化合物が、酸化珪素（ＳｉＯｘ（但し１≦ｘ≦２とする。））、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化チタニウム（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、のいずれかであること、を特徴とする。
本願発明の請求項７に記載の発明は、請求項４ないし請求項６のいずれか１項に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法において、前記第１層、前記第２層及び前記第３層がそれぞれ真空蒸着法により積層されてなること、を特徴とする。
本願発明の請求項８に記載の発明は、請求項４ないし請求項７のいずれか１項に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法により得られた鱗片状メタルフレークが、平均長径が５μｍ以下であり、前記第１層、前記第２層及び前記第３層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であり、前記鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上であること、を特徴とする。
以上のように、本願発明に係る鱗片状メタルフレークでは、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、つまり第１層／第２層／第３層というように、第２層を第１層と第３層とで挟み込む断面構造を有する鱗片状メタルフレークとしたことにより、第１層と第３層とが鱗片状金属片のカールを押さえる働きをするので、鱗片状メタルフレーク自体のカールが防止され、平坦、平滑な鱗片状メタルフレークを得ることができる。また本発明に係る鱗片状メタルフレークは、樹脂フィルムを基材としたいわゆる蒸着法により第１層、第２層、第３層、をこの順に積層し、しかるのちに積層物を基材フィルムから剥離し、そしてこれを微細に粉砕するだけで得られるものであり、即ち簡潔にして容易な手法によって平坦・平滑な表面を有し、また第１層と第３層とを設けた構成としたことにより、第２層がむき出しである状態に比べて端面をシャープに微粉砕することが可能となり、さらには高アスペクト比の鱗片状メタルフレークを得られるようになる。
以下、本願発明の実施の形態について説明する。尚、ここで示す実施の形態はあくまでも一例であって、必ずもこの実施の形態に限定されるものではない。
（実施の形態１）
本願発明に係る鱗片状メタルフレークについて第１の実施の形態として説明する。
本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークは、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、よりなる積層物である鱗片状メタルフレークであって、その平均長径が５μｍ以下であり、前記第１層、前記第２層及び前記第３層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であり、前記鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上である、という構成を有している。以下、各部につき簡単に説明する。
本願発明に係る鱗片状メタルフレークについて第１の実施の形態として説明する。
本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークは、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、よりなる積層物である鱗片状メタルフレークであって、その平均長径が５μｍ以下であり、前記第１層、前記第２層及び前記第３層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であり、前記鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上である、という構成を有している。以下、各部につき簡単に説明する。
本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークの中核をなす第２層は金属単体又は合金により構成されていればよいが、特にアルミニウム、シリカ、チタン、亜鉛、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、錫、インジウム、のいずれかよりなるものであることが好適である。これらの金属又は合金であれば、本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークを化粧品や塗剤等に混ぜて用いる時に、非常に効果的なメタリック感溢れる光沢感を得やすいからである。またこれらの金属単体又は合金であれば延伸性も好ましいものであり、鱗片状とすることが容易であるので、これらを使用することが好適なのである。
そしてこの第２層を、いわばサンドイッチ状態に挟み込む層として本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークでは２つの層、即ち第１層と第３層とが存在している。これらの層は透明であることが望ましく、また後述する理由により、例えば、酸化珪素（ＳｉＯｘ（但し１≦ｘ≦２とする。））、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化チタニウム（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、のいずれかであること、が特に本実施の形態においては好適である。
これらの層を設ける理由は以下の通りである。
即ち、金属単体又は合金であれば確かに工夫次第でそれ自体を薄くすることができるかもしれないが、極薄膜状となった鱗片状金属片はあたかも紙片と同様に、それ単体では剛性は全く存在せず、また簡単にカールしてしまうので、取り扱いが大変困難なものとなってしまう。例えば鱗片状メタルフレークを整然と配向させようとしても、カールしているために所望のレベルに配向させることが困難であり、また化粧品や塗剤等と混合して利用しようとしても、これらを実際に塗布すると鱗片状メタルフレークがカールしているために、鱗片状メタルフレークが平面視で凸部となってしまい、なめらかな表面を得ることが出来なくなってしまう。
即ち、金属単体又は合金であれば確かに工夫次第でそれ自体を薄くすることができるかもしれないが、極薄膜状となった鱗片状金属片はあたかも紙片と同様に、それ単体では剛性は全く存在せず、また簡単にカールしてしまうので、取り扱いが大変困難なものとなってしまう。例えば鱗片状メタルフレークを整然と配向させようとしても、カールしているために所望のレベルに配向させることが困難であり、また化粧品や塗剤等と混合して利用しようとしても、これらを実際に塗布すると鱗片状メタルフレークがカールしているために、鱗片状メタルフレークが平面視で凸部となってしまい、なめらかな表面を得ることが出来なくなってしまう。
しかし本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークのように、ある程度の硬度を有する物質で紙片のようになってしまっている鱗片状金属片を挟み込んでしまえば、鱗片状金属片がカールしてしまったり、また配向させることが困難である、という事態を生じることがなくなる。
例えば、紙片を金属片でサンドイッチ状に挟むと、紙片があたかもコルセットで型にはめられたかのようにそれ自身がカールすることもなく、またサンドイッチ状に紙片を挟む金属片の存在により、全体としてはある程度の硬度も生じるので、シャープな端面となるように切断・粉砕しやすくなり、整然とこれらを配向させることも容易になるが、本実施の形態はあたかもこれと同様な状態になり、第１層と第３層とが存在することにより鱗片状メタルフレークの取り扱いが容易なものとなるのである。
そしてこの際に、鱗片状金属片により得られるメタリック感を相殺してしまわないように、第１層と第３層とにはある程度の硬度が得られるだけでなく、透明であることも必要なのである。
また従来は透明樹脂を保護層として用いていたために鱗片状メタルフレーク全体を薄くするのには限度があり、また切断したり粉砕したりしてナノフレークとした場合にはどうしても端面のシャープさを得ることが困難であったが、本実施の形態における第１層と第３層とは金属酸化物又は金属化合物を原材料としたので、保護層自体をより一層薄くすることが可能となり、即ち鱗片状メタルフレーク全体をより薄くすることが可能となり、また粉砕してもその端面はシャープなものとなる。そして例えばＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳを用いれば、透明であり、また硬度もあることで、このような効果を容易に得られることが出来るようになるのである。
このように構成される本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークの平均長径は５μｍ以下であることが望ましい。平均長径を５μｍ以下とすれば、本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークを化粧品や塗剤などに用いても違和感なく使用することが出来るからである。
そして、前記鱗片状金属片及び前記保護層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であることが望ましい。つまり、各層最大で２０ｎｍの厚みとした場合、本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークの厚みは６０ｎｍとなるが、化粧品や塗剤等に混入してこれを用いる場合、厚みがこれ以上になってしまうと、実際に塗布した場合に鱗片状メタルフレークが異物として認識されやすくなってしまい、特に化粧品であれば実際に使用した時に違和感が生じてしまうので、これ以上の厚みとすることは望ましくない。また、第１層と第３層との厚みが２０ｎｍを超えてしまうと、膜の応力、即ち保護層として作用する第1層及び第３層による形状保持力（＝フレークが割れにくくなる力）が増大してしまい、本実施の形態における主たる目的である５μｍ以下にするという微細化を達成することが困難となってしまうので、これらの厚みは２０ｎｍ以下であることが望ましい。その他にも、第１層と第３層の厚みが増えてしまうと、第２層により醸し出されるメタリック間を相殺してしまうことも考えられるので、やはり厚みは上記通りとすることが好ましい。また第２層については、２０ｎｍを超えてしまうと、フレーク状という本来の大切な目的から逸してしまうことになってしまうので、やはりこの層も２０ｎｍ以下の厚みであることが望ましいのである。
また本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上であることが望ましいが、これは２０以上とすれば形状の特徴である鱗片形状が逸脱することがないからであり、またアスペクト比が２０以下であれば塗料中でのフレークの廃校性が劣り塗膜外観にムラが生じてしまうからである。
このような構成を有する鱗片状メタルフレークであれば、これをナノサイズまで細かくした鱗片状メタルフレークとしてもフレーク本体がカールすることなく、また端面がシャープなものとできるので、これを化粧品や塗料等に混合して用いても、きめの細かいメタリック感を呈するものとすることが可能となる。
次に本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークの製造方法につき、簡単に説明する。
本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークの製造方法は、樹脂フィルムの表面に、少なくとも、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、よりなる積層物を積層して積層フィルムを得る積層工程と、前記積層工程後に、前記積層フィルムから積層物を剥離してなる剥離工程と、前記剥離工程後に、前記積層物を微細粉砕してなる粉砕工程と、よりなる工程を少なくとも備えてなる。
本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークの製造方法は、樹脂フィルムの表面に、少なくとも、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、よりなる積層物を積層して積層フィルムを得る積層工程と、前記積層工程後に、前記積層フィルムから積層物を剥離してなる剥離工程と、前記剥離工程後に、前記積層物を微細粉砕してなる粉砕工程と、よりなる工程を少なくとも備えてなる。
この際、前記第２層を構成する金属単体又は合金が、アルミニウム、シリカ、チタン、亜鉛、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、錫、インジウム、のいずれかよりなるものであることが望ましく、また前記第１層及び前記第３層を構成する前記金属酸化物又は金属化合物が、ＳｉＯｘ（但し１≦ｘ≦２とする。）、ＳｉＯＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、のいずれかであること、が望ましい。
この製造方法につきさらに順次説明する。
まず最初に、樹脂フィルムの表面に、少なくとも、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、を順次積層していく。この時の積層方法としては真空蒸着法であることが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
まず最初に、樹脂フィルムの表面に、少なくとも、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、を順次積層していく。この時の積層方法としては真空蒸着法であることが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
本実施の形態では以下のようにして積層する。
まず樹脂フィルムとして厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いる。樹脂フィルムはＰＥＴフィルム以外のものであってもよいが、取り扱いの容易さ等の点から本実施の形態ではＰＥＴフィルムを用いるものとする。このＰＥＴフィルムの表面にアクリル酸エステル共重合樹脂を原料とした剥離層を塗布する。塗布の方法については公知のものでよいが、ここではバーコーター法によるものとする。また剥離層を設けるのは、後述の剥離作業をしやすくするためである。
まず樹脂フィルムとして厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いる。樹脂フィルムはＰＥＴフィルム以外のものであってもよいが、取り扱いの容易さ等の点から本実施の形態ではＰＥＴフィルムを用いるものとする。このＰＥＴフィルムの表面にアクリル酸エステル共重合樹脂を原料とした剥離層を塗布する。塗布の方法については公知のものでよいが、ここではバーコーター法によるものとする。また剥離層を設けるのは、後述の剥離作業をしやすくするためである。
剥離層を設けると、ついでその表面に第１層を設ける。ここではＳｉＯ２による層であるものとする。第１層を積層すると、ついでその表面に金属単体による第２層（ここではアルミニウムとする。）による第２層を積層する。そして第２層の表面に第３層を設ける。この第３層は先の第１層と同じくＳｉＯ２によるものとするが、これら２つの層は同じ金属化合物等である必要はなく、異なるものであっても構わない。尚、第１層、第２層並びに第３層は、本実施の形態においてはいずれもエレクトロンビーム（ＥＢ）蒸着法により積層される。その際の条件については公知のものであってよい。
このようにして樹脂フィルム表面に、第１層／第２層／第３層よりなる積層物を積層したら、次に樹脂フィルムから積層物を剥離し、これを微細に粉砕する。剥離及び粉砕の方法も公知のものであってよいが、本実施の形態では超音波水浴中での粉砕法を用いるものとする。これは超音波水浴槽に全体を浸すことにより、水溶性塗膜であるアクリル酸エステル共重合樹脂を溶解することで蒸着膜を剥離させ、超音波により粉砕するもので、超音波は単に水浴中での剥離を促進させるものである。
このように、本実施の形態では真空蒸着法を利用して積層物を製造し、これを微粉砕することにより鱗片状メタルフレークを得るのであるが、単純に蒸着による積層物を製造し、これを微粉砕するだけで本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークを得られるということより、作業自体も簡潔であり、また製造コストの高騰も抑制することが出来るようになる。
（実施例１）
厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムの片面に剥離層をバーコーターにより塗布する。その表面にＳｉＯ２を膜厚１０ｎｍとなるように積層した。ついでＳｉＯ２の表面にチタンを膜厚が１０ｎｍとなるように積層し、さらにその表面にＳｉＯ２を膜厚が１０ｎｍとなるように積層した。
厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムの片面に剥離層をバーコーターにより塗布する。その表面にＳｉＯ２を膜厚１０ｎｍとなるように積層した。ついでＳｉＯ２の表面にチタンを膜厚が１０ｎｍとなるように積層し、さらにその表面にＳｉＯ２を膜厚が１０ｎｍとなるように積層した。
次いでこれを超音波水浴中に全体を浸し、蒸着膜を剥離し、超音波でこれを粉砕した。
このようにして得られたチタンフレークの中心長径は３．７９４μｍ、アスペクト比は１２６となり、その端面はシャープで均整の取れたものであった。
（実施例２）
実施例１と同様にしてチタンフレークを得た。但しこの実施例２ではチタン層の膜厚を２０ｎｍとした。
ここで得られたチタンフレークの中心長径は４．８３４μｍ、アスペクト比は１２１となり、その端面はシャープで均整の取れたものであった。
実施例１と同様にしてチタンフレークを得た。但しこの実施例２ではチタン層の膜厚を２０ｎｍとした。
ここで得られたチタンフレークの中心長径は４．８３４μｍ、アスペクト比は１２１となり、その端面はシャープで均整の取れたものであった。
（比較例１）
実施例１と同様にチタンフレークを得たが、この比較例ではＳｉＯ２よりなる保護層を設けなかった。即ちチタン単独で（何ら積層物のない）のフレークとした。得られたフレークは著しくカールし、端面が不整でありギザギザな形状のものであった。
実施例１と同様にチタンフレークを得たが、この比較例ではＳｉＯ２よりなる保護層を設けなかった。即ちチタン単独で（何ら積層物のない）のフレークとした。得られたフレークは著しくカールし、端面が不整でありギザギザな形状のものであった。
Claims (8)
- 金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、
該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、
該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、
よりなる積層物である鱗片状メタルフレークであって、
その平均長径が５μｍ以下であり、
前記第１層、前記第２層及び前記第３層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であり、
前記鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上であること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレーク。 - 請求項１に記載の鱗片状メタルフレークにおいて、
前記第２層を構成する金属単体又は合金が、
アルミニウム、シリカ、チタン、亜鉛、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、錫、インジウム、のいずれかよりなるものであること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレーク。 - 請求項１又は請求項２に記載の鱗片状メタルフレークにおいて、
前記第１層及び前記第３層を構成する前記金属酸化物又は金属化合物が、
酸化珪素（ＳｉＯｘ（但し１≦ｘ≦２とする。））、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化チタニウム（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、のいずれかであること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレーク。 - 樹脂フィルムの表面に、少なくとも、
金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第１層と、
該第１層の表面に金属単体又は合金よりなる第２層と、
該第２層の表面に、金属酸化物、金属硫化物、又は金属化合物の何れかよりなる第３層と、
よりなる積層物を積層して積層フィルムを得る積層工程と、
前記積層工程後に、前記積層フィルムから積層物を剥離してなる剥離工程と、
前記剥離工程後に、前記積層物を微細粉砕してなる粉砕工程と、
よりなる工程を少なくとも備えてなること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレークの製造方法。 - 請求項４に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法において、
前記第２層を構成する金属単体又は合金が、
アルミニウム、シリカ、チタン、亜鉛、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、錫、インジウム、のいずれかよりなるものであること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレークの製造方法。 - 請求項４又は請求項５のいずれか１項に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法において、
前記第１層及び前記第３層を構成する前記金属酸化物又は金属化合物が、
酸化珪素（ＳｉＯｘ（但し１≦ｘ≦２とする。））、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化チタニウム（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、のいずれかであること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレークの製造方法。 - 請求項４ないし請求項６のいずれか１項に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法において、
前記第１層、前記第２層及び前記第３層がそれぞれ真空蒸着法により積層されてなること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレークの製造方法。 - 請求項４ないし請求項７のいずれか１項に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法により得られた鱗片状メタルフレークが、
平均長径が５μｍ以下であり、
前記第１層、前記第２層及び前記第３層の厚みがそれぞれ２０ｎｍ以下であり、
前記鱗片状メタルフレークの、平均長径／平均厚さで示されるアスペクト比が２０以上であること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレーク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004117422A JP2005298905A (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | 鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004117422A JP2005298905A (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | 鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005298905A true JP2005298905A (ja) | 2005-10-27 |
Family
ID=35330817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004117422A Pending JP2005298905A (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | 鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005298905A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006123880A1 (en) * | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Yeon-Kil Jeong | The method of partial painting using hologram transfer film and manufacturing method of painting compositon and device for preparing hologram particle |
| KR100655651B1 (ko) | 2006-02-27 | 2006-12-08 | 정연길 | 홀로그램 박막을 이용한 도장용 조성물 및 그의 제조방법 |
| JP2008277234A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-11-13 | Oike Ind Co Ltd | バリア性薄膜及び該薄膜を積層した導電性フィルム、及び太陽電池並びに光電極 |
| JP2008303414A (ja) * | 2007-06-06 | 2008-12-18 | Oike Ind Co Ltd | 微粉末 |
| JP2015096627A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状微粉体の製造方法および鱗片状微粉体の製造装置 |
| JP2015096628A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状微粉体の製造方法 |
| JPWO2016006664A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2017-04-27 | 日本ペイントホールディングス株式会社 | 赤外反射性顔料及び赤外反射性塗料組成物 |
| WO2018034261A1 (ja) * | 2016-08-17 | 2018-02-22 | 日本ペイントホールディングス株式会社 | 塗膜および物品 |
| WO2020246212A1 (ja) * | 2019-06-04 | 2020-12-10 | 株式会社トヨックス | 可撓管及びその製造方法 |
| JP2022039394A (ja) * | 2020-08-28 | 2022-03-10 | デクセリアルズ株式会社 | 薄膜積層体、遮熱顔料、および、遮熱顔料混合体 |
| JP2022064710A (ja) * | 2020-10-14 | 2022-04-26 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状顔料、分散液、塗料、及び塗膜 |
| JP2022079861A (ja) * | 2020-11-17 | 2022-05-27 | 尾池工業株式会社 | ミリ波透過性を有する鱗片状顔料、塗料、及び塗装物 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58107329A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-27 | 尾池工業株式会社 | 金属蒸着箔および金属蒸着粉 |
| JPH03245102A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-10-31 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射鏡 |
| JPH06172971A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-21 | Nisshin Steel Co Ltd | 蒸着複層めっき鋼材の製造方法 |
| JP2001019784A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-23 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 電磁防止プラスチック材およびその製造方法 |
| JP2002528639A (ja) * | 1998-10-23 | 2002-09-03 | アベリー・デニソン・コーポレイション | 金属フレークの製造方法 |
| WO2002090613A2 (en) * | 2001-05-04 | 2002-11-14 | Avery Dennison Corporation | Process for making platelets |
| JP2003149406A (ja) * | 2002-07-12 | 2003-05-21 | Topcon Corp | 赤外反射防止膜 |
| WO2003068868A2 (en) * | 2002-02-18 | 2003-08-21 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Method of producing plane-parallel structures of silicon suboxide, silicon dioxide and/or silicon carbide, plane-parallel structures obtainable by such methods, and the use thereof |
| JP2005298907A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Oike Ind Co Ltd | 鱗片状メタルフレークの製造方法及び鱗片状メタルフレーク |
-
2004
- 2004-04-13 JP JP2004117422A patent/JP2005298905A/ja active Pending
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58107329A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-27 | 尾池工業株式会社 | 金属蒸着箔および金属蒸着粉 |
| JPH03245102A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-10-31 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射鏡 |
| JPH06172971A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-21 | Nisshin Steel Co Ltd | 蒸着複層めっき鋼材の製造方法 |
| JP2002528639A (ja) * | 1998-10-23 | 2002-09-03 | アベリー・デニソン・コーポレイション | 金属フレークの製造方法 |
| JP2001019784A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-23 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 電磁防止プラスチック材およびその製造方法 |
| WO2002090613A2 (en) * | 2001-05-04 | 2002-11-14 | Avery Dennison Corporation | Process for making platelets |
| WO2003068868A2 (en) * | 2002-02-18 | 2003-08-21 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Method of producing plane-parallel structures of silicon suboxide, silicon dioxide and/or silicon carbide, plane-parallel structures obtainable by such methods, and the use thereof |
| JP2003149406A (ja) * | 2002-07-12 | 2003-05-21 | Topcon Corp | 赤外反射防止膜 |
| JP2005298907A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Oike Ind Co Ltd | 鱗片状メタルフレークの製造方法及び鱗片状メタルフレーク |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7942183B2 (en) | 2005-05-16 | 2011-05-17 | Jeong Yeon-Kil | Method of partial painting using hologram transfer film and manufacturing method of painting composition and device for preparing hologram particle |
| WO2006123880A1 (en) * | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Yeon-Kil Jeong | The method of partial painting using hologram transfer film and manufacturing method of painting compositon and device for preparing hologram particle |
| KR100655651B1 (ko) | 2006-02-27 | 2006-12-08 | 정연길 | 홀로그램 박막을 이용한 도장용 조성물 및 그의 제조방법 |
| JP2008277234A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-11-13 | Oike Ind Co Ltd | バリア性薄膜及び該薄膜を積層した導電性フィルム、及び太陽電池並びに光電極 |
| JP2008303414A (ja) * | 2007-06-06 | 2008-12-18 | Oike Ind Co Ltd | 微粉末 |
| JP2015096627A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状微粉体の製造方法および鱗片状微粉体の製造装置 |
| JP2015096628A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状微粉体の製造方法 |
| US10131790B2 (en) | 2014-07-10 | 2018-11-20 | Nippon Paint Holdings Co., Ltd. | Infrared-reflective pigment and infrared-reflective coating composition |
| JPWO2016006664A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2017-04-27 | 日本ペイントホールディングス株式会社 | 赤外反射性顔料及び赤外反射性塗料組成物 |
| JPWO2018034261A1 (ja) * | 2016-08-17 | 2019-06-20 | 日本ペイントホールディングス株式会社 | 塗膜および物品 |
| WO2018034261A1 (ja) * | 2016-08-17 | 2018-02-22 | 日本ペイントホールディングス株式会社 | 塗膜および物品 |
| WO2020246212A1 (ja) * | 2019-06-04 | 2020-12-10 | 株式会社トヨックス | 可撓管及びその製造方法 |
| JP2020197262A (ja) * | 2019-06-04 | 2020-12-10 | 株式会社トヨックス | 可撓管及びその製造方法 |
| CN113811711A (zh) * | 2019-06-04 | 2021-12-17 | 东洋克斯株式会社 | 挠性管及其制造方法 |
| CN113811711B (zh) * | 2019-06-04 | 2022-11-29 | 东洋克斯株式会社 | 挠性管及其制造方法 |
| JP2022039394A (ja) * | 2020-08-28 | 2022-03-10 | デクセリアルズ株式会社 | 薄膜積層体、遮熱顔料、および、遮熱顔料混合体 |
| JP7642333B2 (ja) | 2020-08-28 | 2025-03-10 | デクセリアルズ株式会社 | 遮熱顔料混合体 |
| JP2022064710A (ja) * | 2020-10-14 | 2022-04-26 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状顔料、分散液、塗料、及び塗膜 |
| JP2022079861A (ja) * | 2020-11-17 | 2022-05-27 | 尾池工業株式会社 | ミリ波透過性を有する鱗片状顔料、塗料、及び塗装物 |
| JP7316671B2 (ja) | 2020-11-17 | 2023-07-28 | 尾池工業株式会社 | ミリ波透過性を有する鱗片状顔料、塗料、及び塗装物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2005298905A (ja) | 鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法 | |
| JP6224764B2 (ja) | 高反射保護膜を持つ磁性粒子及びその製造方法 | |
| JP2005298907A (ja) | 鱗片状メタルフレークの製造方法及び鱗片状メタルフレーク | |
| TWI480674B (zh) | 黑色被覆膜與其製造方法、黑色遮光板及運用其之光圈、光量調整用光圈裝置、快門以及耐熱遮光帶 | |
| CN103168285B (zh) | 包括导电图形的触摸面板及其制备方法 | |
| JP2008202076A (ja) | 鱗片状微粉末含有溶液製造方法並びに鱗片状微粉末含有溶液又は鱗片状微粉末 | |
| TW200945388A (en) | Electrode material for aluminum electrolytic capacitor, and its manufacturing method | |
| WO2019129110A1 (zh) | 移动终端壳体以及移动终端 | |
| TW201312616A (zh) | 鋁電解電容器用電極材及其製造方法 | |
| CN113502453B (zh) | 高反射纳米薄膜及其制备方法和应用 | |
| TW201440103A (zh) | 鋁電解電容器用電極材之製造方法及鋁電解電容器用電極材 | |
| CN112297538B (zh) | 仿陶瓷壳体及其制备方法和电子设备 | |
| CN101386055A (zh) | 一种用于高钴硬质合金产品烧结的涂料 | |
| JP3665325B1 (ja) | カールの生じていない鱗片状メタルフレークの製造方法及びカールの生じていない鱗片状メタルフレーク | |
| JP2020055308A (ja) | 電波透過カバーおよび電波透過カバーの製造方法 | |
| CN111534129A (zh) | 一种复合色颜料片及其制备方法 | |
| CN209201115U (zh) | 基板外壳 | |
| JP5620564B1 (ja) | 金属箔粉の製造方法、金属箔粉および該金属箔粉を用いた塗料、インク、光輝性樹脂ペレット、および化粧材 | |
| JP2017019215A (ja) | 着色積層体およびその製造方法 | |
| JP7317852B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極材の製造方法 | |
| JPH0136891Y2 (ja) | ||
| JP3643904B1 (ja) | 金属蒸着フィルムの製造方法及び金属蒸着フィルム | |
| JP7437110B2 (ja) | 金属調包装材及び包装容器 | |
| JP2008137343A (ja) | 金属光沢フィルム、熱成形用シートおよび包装用容器 | |
| JP7437111B2 (ja) | 金属調包装材及び包装容器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051114 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20051114 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20051209 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051220 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060207 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060328 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060418 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20060525 |
|
| A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20060915 |