JP2005298907A - 鱗片状メタルフレークの製造方法及び鱗片状メタルフレーク - Google Patents
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Abstract
端面がシャープであり、それ自体がカールしない、また高アスペクト比を有したナノサイズの鱗片状メタルフレークの製造方法及び鱗片状メタルフレークを提供する。
【解決手段】
樹脂フィルムの表面に、金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属、又は合金の何れかよりなる層を積層して積層フィルムを得る積層工程と、前記積層フィルムから積層物を剥離する剥離工程と、前記積層物を微細粉砕してなる粉砕工程と、よりなる工程を少なくとも備えてなり、前記積層工程が真空蒸着法によるものであり、前記真空蒸着層により積層をする前に、その時点における最表面に対してプラズマ処理を施してなること、若しくはその時点における最表面にAl2O3による接着層を積層してなること、若しくはその時点における最表面にプラズマ処理を施し且つAl2O3による接着層を積層する、という鱗片状メタルフレークの製造方法とした。
【選択図】 なし
Description
従来の鱗片状メタルフレークとしては、展伸性に優れた金属を用いることが大変好適であることより主にアルミニウムが原料として用いられている。一般的に用いられているアルミニウムフレークは、例えば平均の厚さは0.1μm〜5.0μm、平均長径は5μm〜150μm、アスペクト比(平均長径/平均厚さ)は5以上、というものである。
本願発明に係る鱗片状メタルフレークの製造方法について第1の実施の形態として説明する。
本実施の形態に係る鱗片状メタルフレークの製造方法は、樹脂フィルムの表面に、少なくとも、金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属、又は合金の何れかよりなる層を複数積層して積層フィルムを得る積層工程と、前記積層工程後に、前記積層フィルムから積層物を剥離してなる剥離工程と、前記剥離工程後に、前記積層物を微細粉砕してなる粉砕工程と、よりなる工程を少なくとも備えてなり、前記積層工程が真空蒸着法によるものであり、前記真空蒸着層により積層をする前に、その時点における最表面に対してプラズマ処理を施してなること、若しくはその時点における最表面にアルミナ(Al2O3)による接着層を積層してなること、若しくはその時点における最表面にプラズマ処理を施し且つAl2O3による接着層を積層する、という方法である。
まず樹脂フィルムとして厚み25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いる。樹脂フィルムはPETフィルム以外のものであってもよいが、取り扱いの容易さ等の点から本実施の形態ではPETフィルムを用いるものとする。このPETフィルムの表面に剥離層を塗布する。剥離層に用いる材料は公知のものでよく、塗布の方法についても公知のものでよい。剥離層を設けるのは、後述の剥離作業をしやすくするためである。
即ち、一層構成又は二層構成とすれば、確かに工夫次第でそれ自体を薄くすることができるかもしれないが、極薄膜状となった鱗片状金属片はあたかも紙片と同様に、それ単体では剛性は全く存在せず、また簡単にカールしてしまうので、取り扱いが大変困難なものとなってしまう。例えば鱗片状メタルフレークを整然と配向させようとしても、カールしているために所望のレベルに配向させることが困難であり、また化粧品や塗剤等と混合して利用しようとしても、これらを実際に塗布すると鱗片状メタルフレークがカールしているために、鱗片状メタルフレークが平面視で凸部となってしまい、なめらかな表面を得ることが出来なくなってしまう。
厚さ25μmのPETフィルム(東洋紡績株式会社製:商品名「E−5066」)の片面に剥離層をバーコーターにより塗布する。その表面にZnSを膜厚80nmとなるように積層した。ついでZnSの表面に接着層としてAl2O3を膜厚が10nmとなるように積層し、さらにその表面にSiO2を膜厚が230nmとなるように積層した。次いでSiO2の表面に接着層のAl2O3を膜厚が10nmとなるように積層し、更にZnSを80nm積層した。
このようにして得られたフレークの中心長径は31.2μm、アスペクト比は72.6であり、このフレークは層間剥離の無い端面のシャープで均整の取れたものであった。
実施例1と同様にフレークを得たが、この比較例では接着層としてのAl2O3を一切積層しなかった。即ち、ZnS層とSiO2層とを直接積層する態様とした。
その結果得られたフレークは容易に層間剥離を生じるものであった。
Claims (4)
- 樹脂フィルムの表面に、少なくとも、
金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属、又は合金の何れかよりなる層を複数積層して積層フィルムを得る積層工程と、
前記積層工程後に、前記積層フィルムから積層物を剥離してなる剥離工程と、
前記剥離工程後に、前記積層物を微細粉砕してなる粉砕工程と、
よりなる工程を少なくとも備えてなり、
前記積層工程が真空蒸着法によるものであり、前記真空蒸着層により積層をする前に、その時点における最表面に対してプラズマ処理を施してなること、若しくはその時点における最表面に酸化アルミニウム(Al2O3)による接着層を積層してなること、若しくはその時点における最表面にプラズマ処理を施し且つAl2O3による接着層を積層してなること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレークの製造方法。 - 請求項1に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法において、
前記金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属、又は合金が、
酸化珪素(SiOx)(但し1≦x≦2とする。)、酸窒化シリコン(SiON)、Al2O3、硫化亜鉛(ZnS)、酸化チタニウム(TiO2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム(In2O3)、酸化スズ(SnO2)、ニオブ(Nb2O5)、アルミニウム、シリコン、チタン、亜鉛、銅、ニッケル、銀、金、プラチナ、クロム、錫、インジウム、のいずれかよりなるものであること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレークの製造方法。 - 請求項1又は請求項2に記載の鱗片状メタルフレークの製造方法により得られること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレーク。 - 請求項3に記載の鱗片状メタルフレークにおいて、
得られた前記鱗片状メタルフレークの、平均長径/平均厚さで示されるアスペクト比が20以上であること、
を特徴とする、鱗片状メタルフレーク。
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Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005298905A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Oike Ind Co Ltd | 鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法 |
| KR100655651B1 (ko) | 2006-02-27 | 2006-12-08 | 정연길 | 홀로그램 박막을 이용한 도장용 조성물 및 그의 제조방법 |
| US20090274960A1 (en) * | 2006-09-07 | 2009-11-05 | Keiichi Yokouchi | Anode active material, anode, and lithium secondary battery |
| RU2516366C2 (ru) * | 2012-09-10 | 2014-05-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Северо-Осетинский государственный университет имени Коста Левановича Хетагурова" (СОГУ) | СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ НАНОРАЗМЕРНОЙ ПЛЕНКИ АЛЬФА-Al2O3 (0001) НА МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ |
| JP2015096627A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状微粉体の製造方法および鱗片状微粉体の製造装置 |
| JP2015096628A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状微粉体の製造方法 |
| WO2017111112A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 関西ペイント株式会社 | 複層塗膜形成方法 |
| JP2018039133A (ja) * | 2016-09-05 | 2018-03-15 | ジオマテック株式会社 | 基材付薄膜 |
| WO2020132753A1 (es) * | 2018-12-26 | 2020-07-02 | Universidad Técnica Federico Santa María | Método para obtener aleaciones metálicas a partir de un conjunto de materias primas |
| JP2020132998A (ja) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 尾池工業株式会社 | 薄片状インジウム粒子及びその製造方法、光輝性顔料、並びに水性塗料、水性インク、及び塗膜 |
| US12290579B2 (en) | 2021-12-22 | 2025-05-06 | Eckart America Corporation | Effect pigments having a reflective core and semiconductor layers |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03245102A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-10-31 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射鏡 |
| JPH06172971A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-21 | Nisshin Steel Co Ltd | 蒸着複層めっき鋼材の製造方法 |
| JP2001019784A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-23 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 電磁防止プラスチック材およびその製造方法 |
| JP2002528639A (ja) * | 1998-10-23 | 2002-09-03 | アベリー・デニソン・コーポレイション | 金属フレークの製造方法 |
| JP2003149406A (ja) * | 2002-07-12 | 2003-05-21 | Topcon Corp | 赤外反射防止膜 |
| WO2003068868A2 (en) * | 2002-02-18 | 2003-08-21 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Method of producing plane-parallel structures of silicon suboxide, silicon dioxide and/or silicon carbide, plane-parallel structures obtainable by such methods, and the use thereof |
-
2004
- 2004-04-13 JP JP2004117425A patent/JP2005298907A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03245102A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-10-31 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射鏡 |
| JPH06172971A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-21 | Nisshin Steel Co Ltd | 蒸着複層めっき鋼材の製造方法 |
| JP2002528639A (ja) * | 1998-10-23 | 2002-09-03 | アベリー・デニソン・コーポレイション | 金属フレークの製造方法 |
| JP2001019784A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-23 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 電磁防止プラスチック材およびその製造方法 |
| WO2003068868A2 (en) * | 2002-02-18 | 2003-08-21 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Method of producing plane-parallel structures of silicon suboxide, silicon dioxide and/or silicon carbide, plane-parallel structures obtainable by such methods, and the use thereof |
| JP2003149406A (ja) * | 2002-07-12 | 2003-05-21 | Topcon Corp | 赤外反射防止膜 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005298905A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Oike Ind Co Ltd | 鱗片状メタルフレーク及び鱗片状メタルフレークの製造方法 |
| KR100655651B1 (ko) | 2006-02-27 | 2006-12-08 | 정연길 | 홀로그램 박막을 이용한 도장용 조성물 및 그의 제조방법 |
| US20090274960A1 (en) * | 2006-09-07 | 2009-11-05 | Keiichi Yokouchi | Anode active material, anode, and lithium secondary battery |
| US8507133B2 (en) * | 2006-09-07 | 2013-08-13 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Anode active material, anode, and lithium secondary battery |
| RU2516366C2 (ru) * | 2012-09-10 | 2014-05-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Северо-Осетинский государственный университет имени Коста Левановича Хетагурова" (СОГУ) | СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ НАНОРАЗМЕРНОЙ ПЛЕНКИ АЛЬФА-Al2O3 (0001) НА МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ |
| JP2015096628A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状微粉体の製造方法 |
| JP2015096627A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 尾池工業株式会社 | 鱗片状微粉体の製造方法および鱗片状微粉体の製造装置 |
| WO2017111112A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 関西ペイント株式会社 | 複層塗膜形成方法 |
| CN108367312A (zh) * | 2015-12-25 | 2018-08-03 | 关西涂料株式会社 | 多层涂膜形成方法 |
| CN108367312B (zh) * | 2015-12-25 | 2021-06-08 | 关西涂料株式会社 | 多层涂膜形成方法 |
| JP2018039133A (ja) * | 2016-09-05 | 2018-03-15 | ジオマテック株式会社 | 基材付薄膜 |
| WO2020132753A1 (es) * | 2018-12-26 | 2020-07-02 | Universidad Técnica Federico Santa María | Método para obtener aleaciones metálicas a partir de un conjunto de materias primas |
| JP2020132998A (ja) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 尾池工業株式会社 | 薄片状インジウム粒子及びその製造方法、光輝性顔料、並びに水性塗料、水性インク、及び塗膜 |
| US11203690B2 (en) | 2019-02-21 | 2021-12-21 | Oike & Co., Ltd. | Thin leaf-like indium particles and method for producing same, glitter pigment, and water-based paint and coating film |
| US12290579B2 (en) | 2021-12-22 | 2025-05-06 | Eckart America Corporation | Effect pigments having a reflective core and semiconductor layers |
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