JPH03245102A

JPH03245102A - 反射鏡

Info

Publication number: JPH03245102A
Application number: JP2043436A
Authority: JP
Inventors: Shinji Noguchi; 晋治野口
Original assignee: Matsushita Electric Works Ltd
Current assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority date: 1990-02-23
Filing date: 1990-02-23
Publication date: 1991-10-31

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は、照明器具の反射鏡に関する。

〔従来の技術〕

従来、屋外スポーツ照明、工場照明、道路照明、広場照
明等に用いられるＨＩＤ光源を持つ照明器具の反射鏡に
は、一般に、高い鏡面性（反射率）を有すること、ラン
プの輻射熱による高温に耐え得ること、ならびに、湿気
、腐食性ガスなどに対する耐性が高いこと等が求められ
ている。このような要求を満足させ、さらに反射率を上
げるために、金属基材の表面に下地層として耐熱樹脂を
焼き付けて表面を平滑にし、その上に六１、Ａｇ等の光
輝性金属膜およびＳｉＯｘ　、Ａ　Ｉｔ　Ｏｓ等の酸化
物保護被膜を順次蒸着形成した反射鏡が開発された。ま
た、上記反射鏡において、保護被膜として酸化物膜を蒸
着形成する代わりに耐熱性透明樹脂膜を塗装法により形
成した以外は同反射鏡と同様の構成をもつ反射鏡も開発
された。

〔発明が解決しようとする課題）ところが、以上に述べた反射鏡においでは下記■、■、
■のような問題点があった。

■　反射率を向上させるために、光輝性金属膜としてＡ
ｇ膜を用いた場合、Ｓ　＋　Ｏｆ　、Ａ　Ｉ　２０８等
の酸化物保護被膜では耐蝕性能が得られず、また、点灯
中に白濁したり変色したりする。

■　Ｓ　ｉｏｚ　、Ａ１２０ｘ等の酸化物保護被膜は、
凹凸の激しい基材上または異形状の反則鏡内面に蒸着に
より形成することが困難であるため、上記酸化物が斜め
に蒸着して、同酸化物膜が密着不良、干渉色、白濁を起
こしたり、場合によっては膜が付かない部分ができたり
して、反射鏡の耐蝕性や反射率が低下する。

■　保護被膜として耐熱性透明樹脂膜を塗装法により形
成した反射鏡の場合、酸化物膜を保護被膜とした反射鏡
に比べて耐蝕性は優れるが、上記樹脂膜をＡｇ膜の保護
被膜として使用すると、ピンホールから腐食が発生しや
すくなる。また、塗装法により形成した樹脂膜は、透過
率が悪いため、反射鏡の反射率が低下する。さらに、塗
装の際に異物（ゴミ等）が混入しやすく、外観的に好ま
しくない。

このような事情に鑑み、この発明は、耐熱性、耐蝕性等
に優れ、反射率の高い反射鏡を提供することを課題とす
る。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題を解決するため、この発明にかかる反射鏡は、
基材表面に下地層、光輝性金属膜および保護被膜が順次
密着形成されてなる反射鏡において、前記保護被膜が乾
式法により形成された耐熱性透明樹脂膜であることを特
徴とするものであるこの発明にかかる反射鏡に用いられ
る基材としては、特に限定されないが、たとえば、Ａｊ
ｌ’、Ｆｅ、ＳＵＳ材やプラスチック、ガラス等の成形
品が挙げられる。その成形方法も、特に限定されず、通
常のブレス成形性等により行えばよい。

下地層の材質としては、特に限定されないが、たとえば
、シリコン系、ポリイミド系、ポリアミド系、ポリアミ
ドイミド系等の耐熱性樹脂等が挙げられる。

光輝性金属膜に用いる光輝性金属としては、特に限定さ
れないが、たとえば、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ等が挙げ
られる。反射率の向上を図るためには、Ａｇを使うこと
が好ましく、コスト、蒸着の容易さ等の点からは、Ａｌ
を用いることが好ましい。

保護被膜の形成に用いられる耐熱性透明樹脂としては、
特に限定されないが、たとえば、有機シリコン系、フン
素糸の各樹脂等が挙げられる。

この発明では、上記耐熱性透明樹脂を用いて、保護被膜
を、真空蒸着重合法、プラズマ重合法等の乾式法により
形成するようにしている。乾式法を用いることによって
、均一でピンホールがなく、透過性等に優れた保護被膜
が得られる。しかも、この乾式法は低温で行うことがで
きる。

前記樹脂からなる保護被膜を乾式法によって形成するに
は、同樹脂のモノマーまたはプレポリマーを用いる。そ
の具体例を、たとえば、有機シリコン系、フッ素糸の各
樹脂について挙げると、下記＋８１、（ｂｌのようなも
のがある。

（ａ）　　有機シリコン系樹脂・・・ヘキサメチルジシ
ラザン、ジエチルアミノトリメチルシラン、テトラメチ
ルシラン、ビニルメトキシシラン、メチルトリメトキシ
シラン、ビニルトリメチルシラン等のモノマーまたはそ
れらのプレポリマー（ｂ）　　フッ素系樹脂・・・テトラフルオロエチレン
、クロロトリフルオロエチレン等のモノマーまたはそれ
らのプレポリマー前記乾式成膜方法のうち、真空蒸着重合法の場合は、１
０−％ｔｏｒｒの真空中で七ツマ−またはプレポリマー
をハロゲンヒータ等により加熱して昇華させると、蒸発
した七ツマー分子は、基材表面に到達した後、基材表面
を動き回り、衝突・反応を起こして高分子膜を形成する
。プラズマ重合法の場合は、１０−’ｔｏｒｒの真空槽
中に七ツマーガスを流し込み、ガス圧力０．１〜１Ｑｔ
ｏｒｒ程度で数百〜数千Ｖの直流または交流電圧を印加
するか、あるいは、１３．５６ＭＨｚの高周波を用いて
、グロー放電を起こすことにより、基材表面に高分子膜
を形成する。

保護被膜の膜厚としては、特に限定されないが、光輝性
金属膜を保護する上で、耐蝕性、耐摩耗性、耐湿性等の
要求を満足するためには、２〜１０ｎが好ましい。膜厚
が２μ未満では上記要求を満足しない。一方、１０．ｗ
を超えても効果の増大が望めず、コスト的に不利になる
からである。

前記材料を用いて反射鏡を製造する方法としては、特に
限定されないが、たとえば、以下のような方法が挙げら
れる。まず、あらかしめ脱脂しておいた基材表面に下地
層を５ｎ以上の膜厚になるまで形成する。その際の膜厚
が５ｎ未満であると、基材の凹凸を埋めることができな
いため、鏡面性が劣ってしまうからである。なお、基材
がガラスの場合は、下地層の形成を省くことも可能であ
る０次に、下地層の上に、光輝性金属膜を蒸着形成する
。この蒸着は、通常の方法で行えばよい。

たとえば、１０−４〜１０−’ｔｏｒｒの真空中で光輝
性金属を抵抗加熱または電子線加熱により蒸発させて、
金属膜を形成する。その際の膜厚は、３００〜１０００
人の範囲に設定することが好ましい。

膜厚が３００Ａ未満であると、下地層が透けて見えるよ
うになって反射率が低下し、膜厚が１０００人を超えて
も効果の増大が望めず、コストの点で不経済になるから
である。なお、必要に応じては、下地層と光輝性金属膜
との密着性を向上させるために、金属の蒸着の直前に下
地層に対しボンバード処理を行うようにしてもよい。次
に、光輝性金属膜の上に前記乾式法によって前記耐熱性
透明樹脂からなる保護被膜を形成する。

〔作　　　用〕

光輝性金属膜の上に保護被膜として耐熱性透明樹脂膜を
乾式法によって形成すると、耐熱性、耐蝕性等が向上し
、高い反射率を有するようになる〔実　施　例〕以下に、この発明を実施例に基づいて詳しく説明するが
、この発明は下記実施例に限定されない第１図は、この
発明にかかる反射鏡の一実施例を表す。

図にみるように、基材１１の表面に、下地層１２として
、耐熱性樹脂膜が形成されている。下地層１２の上には
、光輝性金属膜１３が蒸着法により形成されている。光
輝性金属膜１３の上には、耐熱性透明樹脂からなる保護
被膜１４が乾式法によって形成されている。この反射１
１１は、耐熱性、耐蝕性等に優れ、高い反射率を有する
ため、高ワ−／　トのＨＩＤ光源を用いた照明器具の反
射鏡として最適なものとなっている。

次に、この発明のさらに具体的な実施例を比較例と併せ
て説明する。

一実施例１− １鶴厚のアルミニウム板を１５ｃｏ＋Ｘ１５ｃｍの大き
さに切断し、脱脂、化学研磨後、乾燥したものを基材と
して用い、この基材上に、高アリールシリコン樹脂系コ
ーテイング材をスプレー法により塗布した後、２５０℃
で１時間焼成を行って、膜厚５μの下地層を形成した。

次に、この表面に下地層が形成されたアルミニウム基材
を１×１０ｔｏｒｒの真空槽内に入れ、モリブデンボー
ドを用いた抵抗加熱を行うことによって上記下地層の上
にＡｇを蒸着させて、膜厚１０００人のＡｇ反射膜を形
成した０次に、真空槽の内圧をＩ　Ｘ　１　（Ｉ’ｔ。

ｒｒにして同槽内にメチルトリメトキシシランガスを槽
の内圧が０．１　ｔｏｒｒになるまで導入し、１３．５
６　ＭＨｚの高周波を印加するプラズマ重合法を行い、
上記Ａｇ反射膜上に膜厚５μの有機シリコン系樹脂保護
被膜を形成して、反射鏡を作製した。

一実施例２一実施例１と同様にしてアルミニウム基板上に下地層およ
びＡｇ反射膜を順次形成した後、真空槽の内圧をＩ　Ｘ
　１０−’ｔｏｒｒにして同槽内にテトラフルオロエチ
レンガスを槽の内圧が０．３　ｔｏｒｒになるまで導入
し、１３．５６ＭＨｚの高周波を印加するプラズマ重合
法を行い、上記Ａｇ反射膜上に膜厚３ｎのフッ累系樹脂
保護被膜を形成して、反射鏡を作製した。

一比較例１一実施例１と同様にしてアルミニウム基板上に下地層およ
びＡｇ反射膜を順次形成した後、真空槽の内圧をＩ　Ｘ
　Ｉ　Ｏ−’ｔｏｒｒにし、同槽内で電子線加熱方式に
よりＳｉＯよを蒸発させ、上記Ａｇ反射膜上に膜厚５ｏ
ｏｏ人のＳｉＯ□保護被膜を蒸着形成して、反射鏡を作
製した。

一比較例２一実施例１と同様にしてアルミニウム基板上に下地層およ
びＡｇ反射膜を順次形成した後、同基板を真空槽から取
り出し、上記Ａｇ反射膜上にアクリルシリコン系コーテ
ィング剤をスプレー塗装後、２００℃で２０分間焼放し
、上記Ａｇ反射膜上に膜厚５ｎのアクリルシリコン系樹
脂保護被膜を形成して、反射鏡を作製した。

以上の実施例１〜２および比較例１〜２で得られた反射
鏡について、分光反射率特性、耐蝕性および耐湿性を調
べた。

分光反射率特性は、自動記録分光光度計（日立製ｉ　Ｕ
−３４１０）により反射鏡の全反射率および拡散反射率
を測定して評価した。

耐蝕性は、ＪＩＳ−Ｈ−８６１７に基づく１サイクルが
８時間の噴霧と１６時間の休止からなる塩水噴霧試験を
１０サイクル行った後、Ａｇ反射膜の腐食の有無等の外
観を検査して、評価した。

耐湿性は、反射鏡を一１０〜＋６０℃、９０〜９８Ｒ）
１％の雰囲気中に１０日間放置した後、Ａｇ反射膜の腐
食の有無等の外観を検査して、評価した。

それらの結果を第１表に示す。

第１表にみるように、実施例にかかる反射鏡は、比較例
にかかる反射鏡に比べ、耐蝕性および耐湿性に優れ、し
かも、高い反射率を有することがわかる。

〔発明の効果二この発明にかかる反射鏡は、光輝性金属膜上に形成され
た保護被膜が乾式法により均一に密着形成された耐熱性
透明樹脂であるため、保護被膜にピンホールがなく、耐
蝕性、耐湿性、耐熱性等に優れており、しかも、高い反
射率を有する。同反射鏡は、また、異物（ゴミ）の付着
がなく、外観的↓こも優れている。同反射鏡は、さらに
、製造方法が容易で、低コストで得ることができ、品質
的にも安定したものとなっており、しかも、基材として
、凹凸の激しいものや異形状のものを用いても製造する
ことが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例を表す側断面図である。１・・・反射鏡　１１・・・基材　１２・・・下地層　
１３光輝性金属膜

Claims

【特許請求の範囲】

１　基材表面に下地層、光輝性金属膜および保護板膜が
順次密着形成されてなる反射鏡において、前記保護被膜
が乾式法により形成された耐熱性透明樹脂膜であること
を特徴とする反射鏡。