JPS61231501A - 反射板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、複写機その他の光学機器に付設される反射板
に関する。より具体的には、第３図に示すごとく光学機
器に設けられるハロゲンランプ等の光源りからの光線を
複写体（例えば、複写機の透明天板）に向けて反射させ
るための反射板Ａに関する。

〔従来の技術〕

この種の反射板Ａは、光反射性を高めるためにアルミニ
ウム合金等の金属板を基板とし、その表面をパフ研摩や
アルマイト加工等の機械的または化学的研摩処理を施し
て適度の粗度に仕上げていた。

しかし、かかる従来の反射板はその反射面の仕上げ処理
に際して１種々の研摩剤を用いて数次にわたる工程を要
し、ために生産効率が悪（製作コストが高くつく。それ
に、従来の反射板の反射率はせいぜい７０〜７５％程度
であり、使用する光学機器には光量の大きい光源が必要
になるので。

光学機器の消費電力も大きい。反射板がＭ熱劣化し、複
写性能にバラツキを来す等の問題が認められた。

そこで１本発明者は第１図に示すごとくアルミニウム合
金製の基板１の表面に合成樹脂製のアンダーコート層３
ついでアルミニウムなどの金属蒸着膜層４を順に積層し
た断面構造の反射板を試作検討した。この構造は未だ公
知ではなく試作の段階に止まる。その際、金属蒸着膜Ｎ
４が剥き出しのままでは製作過程で表面が汚れたときに
曇ったままになって、この量が容易に拭き取れないこと
を知り、この点を改善するために金属蒸着膜Ｊｉｉ４の
表面に透明保護皮膜を積層することも検討した。

この改良構造によれば、概ね８０〜８５％の高い反射率
が得られることを確認したが、なお反射率が不足気味で
ある。

また、ハロゲンランプ等の光源りからの熱によって反射
板の表面は２５０°Ｃ以上にも達することがあるが、ア
ンダーコート層３を尿素系樹脂。

メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂などで形成すると、い
わゆる虹やふくれのトラブルを招くことを知った。

更に、汎用されるアルミニウム合金製の基板１を使う際
には、基板表面が油脂類で汚れており。

表面が酸化膜で平滑すぎ、かつ膨張係数が大きいために
温度による膨張収縮が激しい。そのために基板表面への
アンダーコート層３の密着性が頗る悪く、この点も改善
すべきことを知った。

〔発明の目的〕

本発明は、かかる知見と経験に基づき完成されたもので
あり、第１の目的は反射率を更に９０％以上９５％程度
までは確実に高められる反射板を得ることを第１の目的
とする。かくして２反射板を使用する複写機その他の性
能を高め、かつ光源の消費電力の低減を図ることを第一
義に狙っている。

本発明の第２の目的は、汎用されるアルミニウム合金製
の基板１に対してもアンダーコート層３の密着性が良好
な反射板を得ることにある。

本発明の第３の目的は、光源りで少なくとも２００°Ｃ
１更に好ましくは２５０°Ｃ以上に加熱されても十分な
耐熱性を有する反射板を得ることにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の目的を達成するために１本発明に係る反射板は、
基板１の表面に耐熱性のアンダーコート層３と金属蒸着
膜層４とを順に積層した基本構造とし、以て前述の試作
品で得られたように少なくとも８０％〜８５％の反射率
を確保する。

そのうえで１本発明では金属蒸着膜層４の表面に光学的
膜厚の１／４λの低屈折率の皮膜５と光学的膜厚の１／
４λの高屈折率の皮膜６とを順に積層した断面構造にし
たことを要旨とする。

ここで、基板１には一般にアルミニウム合金板を用いる
が、その他の金属板や耐熱性を有する合成樹脂板を使用
することもできる。

基板１が汎用されているアルミニウム合金製の場合は、
基板１の表面にアンダーコート層３の付着性を良好にす
るための表面処理皮膜２を形成したのち、アンダーコー
ト層３を形成する。この表面処理皮膜２としてはエツチ
ングプライマー処理や化成皮膜処理が考えられる。この
うち、化成皮膜処理は亜鉛面にりん酸塩を作用させて結
晶性の化成皮膜を生成するものであり、この化成皮膜に
よるときは不溶性で塗膜下での反応生成物の発生を阻止
するとともに、結晶性を有するのでアンダーコート層３
の付着性を良好にする。具体的にはクロム酸クロム法お
よびりん酸クロム法を含む酸性クロメート処理法でもよ
いが、りん酸アルコール法が手軽で実用向きである。エ
ツチングプライマー処理によるときも化成皮膜処理と同
等の効果が得られる。

アンダーコート層３としては基板１への密着性の良好な
熱硬化樹脂でつくる。例えば、一般的なものとして尿素
系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系
樹脂等があり、これらを溶剤溶液として調製し、スプレ
ー、ローラ、パディング等の適宜の塗装手段により基板
１の上に塗布し、焼付等で形成する。その調製において
熱可塑性樹脂を添加配合することは妨げられない。

尤も、アンダーコート層３をこれらの一般的な樹脂塗料
でつくると耐熱性の点で問題があり、特に耐熱性が要求
される用途向きの反射板において。

２５０°Ｃ以上の耐熱性を確保するためには９例えばポ
リブタジェン系樹脂の塗料を以て塗布形成することが望
まれる。このポリブタジェン系樹脂によるときは、１回
塗りで必要かつ十分な厚膜のしかもレベリング性能の良
好なアンダーコート層３が手軽に得られ、光沢性に優れ
ているとともに。

耐熱性にも優れていて虹やふくれのトラブルもないもの
となる。その他、シリコーン樹脂を主成分とする樹脂系
耐熱塗料を基板ｌの表面に１回塗りしたのち、その上に
珪酸塩を主成分とする無機質系耐熱塗料を２回塗りして
アンダーコート層３をつくってもよい。また、熱可塑性
重合体アクリル樹脂を基材にしてこれに０．５μｍの可
溶性ぶつ化カーボンやシリコーン樹脂を配合した耐熱性
塗料でアンダーコート層３をつくることも考えられる。

いずれにせよ、このアンダーコート層３の塗膜厚は、基
板の表面粗さにもよるが総じて１０〜２０μｍにすれば
十分である。

金属蒸着膜層４は膜厚が８００〜１２００人のアルミニ
ウム蒸着膜にすることが一般に考えられるが、膜厚や金
属の種類は特に問わない。

光学的膜厚の１／４λの低屈折率の皮膜５としては。

■Ｓ　ｉ　０２．０ＭｇＦ２などから形成し、光学的膜
厚の１／４λの高屈折率の皮膜６としては、■ＴｉＯ２
、■ｃｅｏ２．■ＺｒＯ２などから形成する。

そのうち、これら皮膜５・６を積層形成するのに好まし
い材質の組合せを頭符号で示すと、■と■。

■と■、■と■、■と■、■と■が挙げられる。

なかでも材料の入手が容易で低コストに仕上げるには■
と■の組合せが最適である。これら■・■・■・■・■
のうち■以外は電子ビーム法によって、■に関しては電
子ビーム法、真空蒸着法又は抵抗加熱法のいずれかで該
当の皮膜をつくることができる。なお、これら低屈折率
の皮膜５と高屈折率の皮１！Ｊ６とを交互に繰り返して
積層を重ねて行けば１反射率はなお高くなって行く。

因に９反射板の用途によって１００°Ｃ以上の耐熱性が
要求されないときは、最上層の皮膜６のうえに１表面保
護のための７′グリル系樹脂などによる透明保護皮膜を
積層形成することが曇止めのために望まれる。

〔発明の効果〕

従来では基板１の表面粗度を好適値に設定するために基
板１これ自体を研摩処理していたが、これに代えて本発
明では基板ｌの表面にアンダーコート層３．金属蒸着ｌ
！Ｊ層４．更に光学的膜厚の冥λの低屈折率の皮膜５と
、光学的膜厚のＺλの高屈折率の皮膜６とを順に積層形
成するものとしたので、従来の研摩処理に比して効率的
で生産性が著しく向上し１反射板のコストダウンが図れ
る。

基板１の表面にアンダーコート層３ついで金属蒸着膜層
４を順に積層形成した形態でも８０〜８５％の反射率を
確保できる。そのうえで１本発明は更に金属蒸着膜層４
の表面にそれぞれ光学的膜厚の１／４λの低屈折率の皮
膜５と高屈折率の皮膜６とを順に積層形成するものとし
た。したがって。

両度膜５・６の屈折率の差に起因する反射率の向上が５
〜１０％になり、その結果として本発明の反射板では９
０〜９５％の反射率を確保できた。

また、アルミニウム合金製の基板ｌの表面にエツチング
プライマー処理や化成皮膜処理したのち。

この表面処理皮膜２の表面にアンダーコート層３を積層
形成した本発明の実施形態によれば、基板１に対するア
ンダーコート層３の密着性を確保できる。

更に、アンダーコート層３をポリブタジェン系樹脂の塗
料で形成する本発明の実施形態によれば。

アンダーコート層３を手軽に形成できて２５ｏ。

Ｃ以上の耐熱性を有するものにでき、虹やふくれなどの
トラブルも一掃できるものとなる。

〔実施例１〕 アルミニウム合金製の基板Ｉの表面に、りん酸アルコー
ル法により１０重量％のＨ３ＰＯ４，４０重量％のブチ
ルアルコール、３０ｉｉ１％のイソプロピルアルコール
、２０重量％のＨ２Ｏを主成分とするものを浸漬または
ハケ塗りして常温で１５〜３０分乾燥し、薄いりん酸ア
ルミ皮膜（化成皮膜）２をつくる。次に、このりん酸ア
ルミ皮膜２の表面にポリブタジェン系樹脂の塗料を塗布
し。

１７０°〜１８０°Ｃで３０分間加熱乾燥して膜厚１０
μｍ１表面粗さく表面凹凸の最大起伏範囲）が０．３μ
ｍのアンダーコート層３を形成し、このアンダーコート
層３の表面に真空蒸着法により厚さ８００人のアルミニ
ウム蒸着膜層４を積層形成した。次いで、光学的膜厚の
１／４λの低屈折率の５ｉ０２からなる皮膜５を電子ビ
ーム法で積層形成し、該皮膜５の表面に光学的膜厚の１
／４λの高屈折率のＴｉＯ２からなる皮膜６を同じく電
子ビーム法で積層形成した。

〔比較例１〕 実施例１に用いたアルミニウム基板ｌをパフ研摩と化学
研摩により表面粗さが０．３μｍになるように処理した
だけの反射板をつくった。因に１表面粗さはＪＩＳ−Ｂ
Ｏ６０１による最大高さを算出して得た数値である。

〔比較例２〕 実施例１に用いたアルミニウム基板１にエポキシ樹脂溶
液（樹脂固形分３０重量％、溶液はＭ。

Ｅ、　Ｋ）を塗布し、９５℃にて２時間加熱乾燥させて
膜厚１０μｍのアンダーコート層３を積層し。

その塗膜表面に真空蒸着法により厚さ８００人のアルミ
ニウム蒸着膜層４を積層した反射板をつくった。このと
きの表面粗さは０．１μｍであった。

上記の実施例１．比較例１・２により得られた反射板の
反射率を、波長４００〜７００　ｎｍにおいて調べた。

その結果は第２図に示す通りであり。

実施例１では総じて反射率が９５％であるが、比較例２
ではこれよりも１０％低く８５％であり。

比較例１では波長によって６０〜８０％の間でばらつき
があるが、平均反射率が７０％であって。

実施例１に係る反射板の反射率がいずれも比較例１・２
の反射板に比して優れていることが確認された。

なお、第２図におけるａは本発明実施例１の反射板の反
射率変化曲線を、ｂは比較例１の反射板の反射率変化曲
線を、Ｃは比較例２の反射板の反射率変化曲線を示す。

よって明らかな如く本発明によると反射率が９５％前後
と極めて優れた反射板が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る反射板の断面図、第２図は反射板
の反射率と光源波長との関係を示す反射率変化曲線図、
第３図は反射板の使用状態を説明する概略側面図である
。 ３・・・・アンダーコート層。 ４・・・・金属蒸着膜層。 ５・・・・低屈折率の皮膜。 ６・・・・高屈折率の皮膜。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）光源Ｌからの光を反射させる反射板であって、基
   板１の表面に耐熱性のアンダーコート層３と金属蒸着膜
   層４を順に積層形成し、金属蒸着膜層４の表面に光学的
   膜厚の１／４λの低屈折率の皮膜５と光学的膜厚の１／
   ４λの高屈折率の皮膜６とを順に積層形成したことを特
   徴とする反射板。
2. （２）アルミニウム合金製の基板１の表面にアンダーコ
   ート層３の付着性を改善するための表面処理皮膜２が形
   成され、この表面処理皮膜２の表面にがアンダーコート
   層３が形成されている特許請求の範囲第１項記載の反射
   板。
3. （３）表面処理皮膜２が、りん酸アルコール法によって
   得られたりん酸アルミ皮膜である特許請求の範囲第２項
   記載の反射板。
4. （４）表面処理皮膜２が、エッチングプライマーの処理
   皮膜である特許請求の範囲第２項記載の反射板。
5. （５）アンダーコート層３が、ポリブタジエン系樹脂か
   らなる特許請求の範囲第１項又は第２項記載の反射板。