JPH036619B2 - - Google Patents
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- JPH036619B2 JPH036619B2 JP20983284A JP20983284A JPH036619B2 JP H036619 B2 JPH036619 B2 JP H036619B2 JP 20983284 A JP20983284 A JP 20983284A JP 20983284 A JP20983284 A JP 20983284A JP H036619 B2 JPH036619 B2 JP H036619B2
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- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims description 11
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 42
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
〔発明の技術分野〕
本発明はたとえば高出力ハロゲン電球の反射体
に被着される多層光学膜の耐久性を向上させる反
射体用保護膜に関する。 〔発明の技術的背景とその問題点〕 従来、反射体としてたとえばハロゲン電球用の
レフレクタにはその中央に装着された高出力ラン
プからの可視光を効果的に反射させ、かつ、熱線
を吸収するため、反射面にたとえばZnS−MgF2、
またはZnS−SiO2のように高屈折率蒸着材料と、
低屈折率蒸着材料とを交互に積層させてなる多層
膜が被着されている。ところが、この多層膜はラ
ンプ点灯時の高熱のためその耐久性に影響を及ぼ
すので、これを防止するため一般に下記のような
手段が採用されている。 (1) 真空蒸着後の多層膜に熱処理を施こす。 (2) 特開昭58−5958号に開示されているように真
空蒸着後レフレクタをSiO2溶液に浸漬、あるい
は溶液を噴射したのち加熱、硬化させ多層膜を硬
いSiO2層で保護する。 しかしながら、上記(1)，(2)の手段はいずれも低
出力ハロゲンランプ、たとえば12V、50W程度の
ものに対しては効果的であるが、高出力ハロゲン
ランプ、たとえば100V360Wのものに対しては、
多層膜の耐久性を低下させて以下に述べる欠点を
生じさせる。 １ ランプ点灯時にレフレクタの温度が部分的に
最高約580℃まで上昇し、多層膜の剥れ、膜ク
ラツク、膜表面の白濁、現象等を生じさせる。 ２ 前述した(2)の手段では真空蒸着後レフレクタ
を大気中に露出させ、そののちSiO2処理を行
なうので多層膜上にじんあいの付着、ピンホー
ル等の発生を招くこととなる。また、近時多層
膜の構成材料としてTiO2−SiO2、またはZrO2
−SiO2系の高耐久性多層膜を使用したハロゲ
ン電球用反射体の開発がなされているが、この
ものにあつても以下に述べる欠点を有してい
る。 １ 多層膜を被着すべきレフレクタの凹状面が深
い場合、被膜のまわり込みが少なく均一に被着
させることが困難である。 ２ ZrS−MgF2，ZnS−SiO2系と比較して積層
数（膜厚）を1.3ないし1.5倍必要としてコスト
の上昇を招く。 ３ TiO2，ZrO2は蒸着条件等によつては被膜に
吸収を生じさせたり、または低級酸化膜となり
被膜特性としての安定性を損なわせる。 ４ 被膜を除去して再生基板として使用すること
ができない。 〔発明の目的〕 高出力ランプの点灯によつても多層膜の膜剥
れ、膜クラツク、表面白濁を生じさせることな
く、高耐久性を可能とし、しかも簡易かつ安価に
得られる反射体用保護膜を提供することを目的と
する。 〔発明の概要〕 一面に多層膜を被着した反射体の多層膜上に被
着された反射体用保護膜において、前記保護膜は
SiO280ないし85重量％、Al2O31.5ないし4.0重量
％を含有し、かつ熱膨張係数20ないし30×10-7／
℃、屈折率1.46ないし1.47の硼珪酸ガラスを被着
したのち、この硼珪酸ガラスに350℃以上転移点
以下の温度で加熱処理を施してなる反射体用保護
膜である。 〔発明の実施例〕 以下、本発明の詳細を一実施例について図面を
参照して説明する。１は反射体、たとえばハロゲ
ンランプ用レフレクタのガラス基板で、一面を回
転放物面状の凹面２に形成してなる。３は凹面２
に被着された多層膜で、ZnS−MgF2またはZnS
−SiO2構成の21層からなる光学膜厚1/4λの交互
層（λ1〜13＝600nm，λ14〜22＝450nm）である。 すなわち、ZnSからなる高屈折率材料をＨとし
MgF2またはSiO2からなる低屈折率材料をＬとし
た場合、このＨとＬとを交互に６回計12層被着
し、さらにＨを１層付加して計13層とし、さらに
ＬとＨとを交互に４回、計８層を積層被着し、そ
の最外層に保護膜４となる硼珪酸ガラスを被着さ
せたものである。そして、これら被膜の形成はす
べて真空蒸着によつて行なわれる。蒸着条件とし
ては真空度５×10-5ないし１×10-3Torrで基板
温度は100ないし300℃であつた。そして保護膜４
を形成する硼珪酸ガラスは以下に示す組成ならび
に物理的性質を備えている。 組 成 物理的性質 SiO2……84重量％ 熱膨張率α＝25×10-7／℃ B2O3……11〃 光屈折率Ｎ＝1.47 Al2O3……３〃 転移点Tg＝590℃ Na2O……２〃 上記硼珪酸ガラスは光学膜厚1/2λ′，λ′＝
550nmのものを電子銃により前述した蒸着条件の
もとで蒸着した。蒸着完了後は熱処理を施す。す
なわち、反射体１を電気炉中に入れて450℃、１
時間の加熱処理を行なつて被着を完了することが
できた。 次表は多層膜３の耐久性に関して保護膜４を有
していない従来のものと、本発明に関するものと
の各種テストの比較実験データを示す。
に被着される多層光学膜の耐久性を向上させる反
射体用保護膜に関する。 〔発明の技術的背景とその問題点〕 従来、反射体としてたとえばハロゲン電球用の
レフレクタにはその中央に装着された高出力ラン
プからの可視光を効果的に反射させ、かつ、熱線
を吸収するため、反射面にたとえばZnS−MgF2、
またはZnS−SiO2のように高屈折率蒸着材料と、
低屈折率蒸着材料とを交互に積層させてなる多層
膜が被着されている。ところが、この多層膜はラ
ンプ点灯時の高熱のためその耐久性に影響を及ぼ
すので、これを防止するため一般に下記のような
手段が採用されている。 (1) 真空蒸着後の多層膜に熱処理を施こす。 (2) 特開昭58−5958号に開示されているように真
空蒸着後レフレクタをSiO2溶液に浸漬、あるい
は溶液を噴射したのち加熱、硬化させ多層膜を硬
いSiO2層で保護する。 しかしながら、上記(1)，(2)の手段はいずれも低
出力ハロゲンランプ、たとえば12V、50W程度の
ものに対しては効果的であるが、高出力ハロゲン
ランプ、たとえば100V360Wのものに対しては、
多層膜の耐久性を低下させて以下に述べる欠点を
生じさせる。 １ ランプ点灯時にレフレクタの温度が部分的に
最高約580℃まで上昇し、多層膜の剥れ、膜ク
ラツク、膜表面の白濁、現象等を生じさせる。 ２ 前述した(2)の手段では真空蒸着後レフレクタ
を大気中に露出させ、そののちSiO2処理を行
なうので多層膜上にじんあいの付着、ピンホー
ル等の発生を招くこととなる。また、近時多層
膜の構成材料としてTiO2−SiO2、またはZrO2
−SiO2系の高耐久性多層膜を使用したハロゲ
ン電球用反射体の開発がなされているが、この
ものにあつても以下に述べる欠点を有してい
る。 １ 多層膜を被着すべきレフレクタの凹状面が深
い場合、被膜のまわり込みが少なく均一に被着
させることが困難である。 ２ ZrS−MgF2，ZnS−SiO2系と比較して積層
数（膜厚）を1.3ないし1.5倍必要としてコスト
の上昇を招く。 ３ TiO2，ZrO2は蒸着条件等によつては被膜に
吸収を生じさせたり、または低級酸化膜となり
被膜特性としての安定性を損なわせる。 ４ 被膜を除去して再生基板として使用すること
ができない。 〔発明の目的〕 高出力ランプの点灯によつても多層膜の膜剥
れ、膜クラツク、表面白濁を生じさせることな
く、高耐久性を可能とし、しかも簡易かつ安価に
得られる反射体用保護膜を提供することを目的と
する。 〔発明の概要〕 一面に多層膜を被着した反射体の多層膜上に被
着された反射体用保護膜において、前記保護膜は
SiO280ないし85重量％、Al2O31.5ないし4.0重量
％を含有し、かつ熱膨張係数20ないし30×10-7／
℃、屈折率1.46ないし1.47の硼珪酸ガラスを被着
したのち、この硼珪酸ガラスに350℃以上転移点
以下の温度で加熱処理を施してなる反射体用保護
膜である。 〔発明の実施例〕 以下、本発明の詳細を一実施例について図面を
参照して説明する。１は反射体、たとえばハロゲ
ンランプ用レフレクタのガラス基板で、一面を回
転放物面状の凹面２に形成してなる。３は凹面２
に被着された多層膜で、ZnS−MgF2またはZnS
−SiO2構成の21層からなる光学膜厚1/4λの交互
層（λ1〜13＝600nm，λ14〜22＝450nm）である。 すなわち、ZnSからなる高屈折率材料をＨとし
MgF2またはSiO2からなる低屈折率材料をＬとし
た場合、このＨとＬとを交互に６回計12層被着
し、さらにＨを１層付加して計13層とし、さらに
ＬとＨとを交互に４回、計８層を積層被着し、そ
の最外層に保護膜４となる硼珪酸ガラスを被着さ
せたものである。そして、これら被膜の形成はす
べて真空蒸着によつて行なわれる。蒸着条件とし
ては真空度５×10-5ないし１×10-3Torrで基板
温度は100ないし300℃であつた。そして保護膜４
を形成する硼珪酸ガラスは以下に示す組成ならび
に物理的性質を備えている。 組 成 物理的性質 SiO2……84重量％ 熱膨張率α＝25×10-7／℃ B2O3……11〃 光屈折率Ｎ＝1.47 Al2O3……３〃 転移点Tg＝590℃ Na2O……２〃 上記硼珪酸ガラスは光学膜厚1/2λ′，λ′＝
550nmのものを電子銃により前述した蒸着条件の
もとで蒸着した。蒸着完了後は熱処理を施す。す
なわち、反射体１を電気炉中に入れて450℃、１
時間の加熱処理を行なつて被着を完了することが
できた。 次表は多層膜３の耐久性に関して保護膜４を有
していない従来のものと、本発明に関するものと
の各種テストの比較実験データを示す。
【表】
本発明は以上詳述したように多層膜上に被着さ
れる保護膜はSiO280ないし85重量％、Al2O31.5な
いし4.0重量％含有し、かつ熱膨張係数20ないし
30×10-7／℃、屈折率1.46ないし1.47の硼珪酸ガ
ラスからなり、この硼珪酸ガラスに350℃以上で
転移点以下の温度で加熱処理を施こすことにより
形成されるようにした反射体用保護膜であるか
ら、この反射体にたとえば高出力のハロゲンラン
プを装着、点灯した場合、その高熱によつても多
層膜にはなんらの変化を生じさせることなく高効
率の点灯を保持できるすぐれた利点を有する。 さらに保護膜は耐久性にすぐれているととも
に、その構成もすこぶる簡単であるから安価に得
ることができる利点をも有する。なお、本実施例
では保護膜の被着方法として電子銃による蒸着手
段を採用したが本発明はこれに限らずスパツタリ
ング、イオンプレーテイング等の手段を用いても
よい。
れる保護膜はSiO280ないし85重量％、Al2O31.5な
いし4.0重量％含有し、かつ熱膨張係数20ないし
30×10-7／℃、屈折率1.46ないし1.47の硼珪酸ガ
ラスからなり、この硼珪酸ガラスに350℃以上で
転移点以下の温度で加熱処理を施こすことにより
形成されるようにした反射体用保護膜であるか
ら、この反射体にたとえば高出力のハロゲンラン
プを装着、点灯した場合、その高熱によつても多
層膜にはなんらの変化を生じさせることなく高効
率の点灯を保持できるすぐれた利点を有する。 さらに保護膜は耐久性にすぐれているととも
に、その構成もすこぶる簡単であるから安価に得
ることができる利点をも有する。なお、本実施例
では保護膜の被着方法として電子銃による蒸着手
段を採用したが本発明はこれに限らずスパツタリ
ング、イオンプレーテイング等の手段を用いても
よい。
図は本発明の実施例を示すもので、ハロゲン電
球用レフレクタに適用した一部切欠断面図であ
る。 １……反射体、３……多層膜、４……保護膜。
球用レフレクタに適用した一部切欠断面図であ
る。 １……反射体、３……多層膜、４……保護膜。
Claims (1)
- １ 一面に多層膜をを被着した反射体の多層膜上
に被着された反射体用保護膜において、前記保護
膜はSiO280ないし85重量％、Al2O31.5ないし4.0
重量％を含有し、かつ、熱膨張係数20ないし30×
10-7／℃、屈折率1.46ないし1.47の硼珪酸ガラス
を被着したのちこの硼珪酸ガラスに350℃以上転
移点以下の温度で加熱処理してなることを特徴と
する反射体用保護膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20983284A JPS6188449A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 反射体用保護膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20983284A JPS6188449A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 反射体用保護膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6188449A JPS6188449A (ja) | 1986-05-06 |
| JPH036619B2 true JPH036619B2 (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=16579353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20983284A Granted JPS6188449A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 反射体用保護膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6188449A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2902404B2 (ja) * | 1988-06-21 | 1999-06-07 | ウシオ電機株式会社 | 電球の製造方法 |
| JPH02161403A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-21 | Toshiba Glass Co Ltd | 多層干渉膜 |
| US5536991A (en) * | 1994-09-13 | 1996-07-16 | General Electric Company | Lamp having silica protective coating |
-
1984
- 1984-10-08 JP JP20983284A patent/JPS6188449A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6188449A (ja) | 1986-05-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |