JPS63180902A - 多層膜反射鏡 - Google Patents
多層膜反射鏡Info
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- JPS63180902A JPS63180902A JP1143587A JP1143587A JPS63180902A JP S63180902 A JPS63180902 A JP S63180902A JP 1143587 A JP1143587 A JP 1143587A JP 1143587 A JP1143587 A JP 1143587A JP S63180902 A JPS63180902 A JP S63180902A
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- zirconium oxide
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- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 abstract description 3
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 abstract description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 51
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 1
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 1
- 241001330002 Bambuseae Species 0.000 description 1
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は特に高温度に対する耐久性を向上させた多層膜
反射鏡に関する。
反射鏡に関する。
(従来の技術)
一般に、たとえば映写機等の光源として使用されるハロ
ゲンランプの冷光反射鏡にはランプからの熱線を透過し
、可視光のみを反射させるため、高屈折率物質と低屈折
率物質との交互層からなる多層膜が被着されているが、
高屈折率物質としては硫化亜鉛が多用されている。その
理由として■蒸着等による薄膜形成が容易である。■成
膜時基板に対するまわり込みが良好で、特に曲率を有す
る基板への成膜に有利である。■原材料の入手が容易で
、かつ安価に得られるなどがあげられる。
ゲンランプの冷光反射鏡にはランプからの熱線を透過し
、可視光のみを反射させるため、高屈折率物質と低屈折
率物質との交互層からなる多層膜が被着されているが、
高屈折率物質としては硫化亜鉛が多用されている。その
理由として■蒸着等による薄膜形成が容易である。■成
膜時基板に対するまわり込みが良好で、特に曲率を有す
る基板への成膜に有利である。■原材料の入手が容易で
、かつ安価に得られるなどがあげられる。
また、冷光反射鏡以外にはバンドパスフィルタ。
カラーフィルタ等の光学的多層膜にも使用されている。
しかしながら、上記した各種多層膜製品を高温度の環境
下で使用した場合、多層膜の剥離、膜クラツクまたは膜
昇華等のおそれがあり、耐久性、特に高温時の耐久性に
問題を有している。
下で使用した場合、多層膜の剥離、膜クラツクまたは膜
昇華等のおそれがあり、耐久性、特に高温時の耐久性に
問題を有している。
従来、上述の硫化亜鉛を使用した光学的多層膜における
高温耐久性を向上させる手段として下記の手段が採用さ
れている。
高温耐久性を向上させる手段として下記の手段が採用さ
れている。
(イ)多層膜の表面を保護膜で被覆する。
(ロ)熱処理を施こす。
(ハ)酸化物膜を多層股間に導入する。
しかしながら、(イ)については保護膜として酸化珪素
、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム等があるが、こ
れらを単に被覆させただけでは不十分であり、多層膜の
初期層側から膜剥れ、膜クラツクが生じる欠点を有して
いる。
、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム等があるが、こ
れらを単に被覆させただけでは不十分であり、多層膜の
初期層側から膜剥れ、膜クラツクが生じる欠点を有して
いる。
(ロ)についてはある程度の向上は得られるが不十分で
ある。
ある。
(ハ)については酸化物膜として酸化ジルコニウム、酸
化アルミニウム、酸化チタン等があるが。
化アルミニウム、酸化チタン等があるが。
これを多層膜中のどの部位に導入するかで膜応力が変化
しやすく、必ずしも耐久性の向上につながらない。また
、酸化物であるため屈折率の調整がやや不安定であると
ともに多層膜としての設計面において複雑となる欠点を
も有している。
しやすく、必ずしも耐久性の向上につながらない。また
、酸化物であるため屈折率の調整がやや不安定であると
ともに多層膜としての設計面において複雑となる欠点を
も有している。
(発明が解決しようする問題点)
上述したように従来の耐久性を向上する方法はいずれも
効果的に不十分であり、また製作面においてもすこぶる
困難となる問題点を有している。
効果的に不十分であり、また製作面においてもすこぶる
困難となる問題点を有している。
本発明は上記問題点を除去するためなされたもので、高
温度の環境下の使用においても膜外れ、膜クラツク、膜
昇華等の不良の発生するおそれのない耐久性にすぐれ、
かつ経時変化の少ない多層膜反射鏡を提供することを目
的とする。
温度の環境下の使用においても膜外れ、膜クラツク、膜
昇華等の不良の発生するおそれのない耐久性にすぐれ、
かつ経時変化の少ない多層膜反射鏡を提供することを目
的とする。
(問題点を解決するための手段)
高屈折率膜として酸化ジルコニウム3ないし30重量%
含有の硫化亜鉛を使用したことにある。
含有の硫化亜鉛を使用したことにある。
(作 用)
酸化ジルコニウムは硫化亜鉛との適合性がすこぶる良好
であるためこれを含有させた硫化亜鉛膜が緻密化する。
であるためこれを含有させた硫化亜鉛膜が緻密化する。
また酸化ジルコニウムの特性とする高温耐久性が硫化亜
鉛膜に付与される。
鉛膜に付与される。
さらに成膜時に酸化ジルコニウムは基板、あるいは前層
との付着力が強いためこれを含有させた硫化亜鉛膜はそ
の付着力が強化される。
との付着力が強いためこれを含有させた硫化亜鉛膜はそ
の付着力が強化される。
(実施例)
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。■はたとえばハロゲンランプ用冷光反射鏡(人)のガ
ラス基板で、その−面はランプ光を反射させるため拡開
させた回転放物状の凹部■を形成してなる。■は凹部■
の中心に位置するように基板■に取着されたハロゲンラ
ンプである。、笹は凹部■を被覆する多層膜で、高屈折
率膜として酸化ジルコニウム3ないし30重景%含有の
硫化亜鉛膜(H)と、低屈折率膜として弗化マグネシウ
ムまたは酸化珪素膜(L)とからなり、その光学的膜厚
は1/4λの交互層設計で、ガラス基板・(HL)’λ
1・(HL)’λ2・空気の構成となっている。なお、
λ□、λ3は設計波長である。また多層膜笹の最外層に
は多層llIゆ−を強化させるたとえば硼珪酸ガラスか
らなる保護層を積層させてもよい。
。■はたとえばハロゲンランプ用冷光反射鏡(人)のガ
ラス基板で、その−面はランプ光を反射させるため拡開
させた回転放物状の凹部■を形成してなる。■は凹部■
の中心に位置するように基板■に取着されたハロゲンラ
ンプである。、笹は凹部■を被覆する多層膜で、高屈折
率膜として酸化ジルコニウム3ないし30重景%含有の
硫化亜鉛膜(H)と、低屈折率膜として弗化マグネシウ
ムまたは酸化珪素膜(L)とからなり、その光学的膜厚
は1/4λの交互層設計で、ガラス基板・(HL)’λ
1・(HL)’λ2・空気の構成となっている。なお、
λ□、λ3は設計波長である。また多層膜笹の最外層に
は多層llIゆ−を強化させるたとえば硼珪酸ガラスか
らなる保護層を積層させてもよい。
多層膜(9)の形成には真空蒸着法が用いられその蒸着
条件は下記のとおりである。
条件は下記のとおりである。
α)真空度1×10−4〜5xlO−’トール、■ 基
板温度120〜200℃、 ■ 蒸発源 、抵抗加熱、電子銃。
板温度120〜200℃、 ■ 蒸発源 、抵抗加熱、電子銃。
蒸着処理終了後は電気炉中で350〜550℃、1時間
の熱処理を施こして被着を完了させた。
の熱処理を施こして被着を完了させた。
次表は上記多層膜反射鏡の耐久性に関する評価を示すも
ので、下記の各種条件にもとづいて評価を行なった。
ので、下記の各種条件にもとづいて評価を行なった。
1、高温耐久性試験480℃の電気炉中に2時間放置、
その後取り出し冷却後の膜の状態について調べる。
その後取り出し冷却後の膜の状態について調べる。
2、 熱衝撃性試験550℃の電気炉中に5分間放置、
その後取り出し冷却後の膜の状態について調べる。
その後取り出し冷却後の膜の状態について調べる。
3、点灯試験100V、360Wのハロゲンランプを装
着し15分点灯、15分冷却を交互に反覆し最高100
時間までの膜の経時変化について調べる。
着し15分点灯、15分冷却を交互に反覆し最高100
時間までの膜の経時変化について調べる。
4、煮沸試験100℃の沸騰水中に10分間放置、取り
出した後の膜の状態について調べる。
出した後の膜の状態について調べる。
5、 引っ張り試験#600のスコッチテープ1/2イ
ンチX100mm を貼着し急激に引き剥したときの膜
の状態について調べる。
ンチX100mm を貼着し急激に引き剥したときの膜
の状態について調べる。
試験前後の多層膜状態については膜表面観察、分光特性
測定、膜厚測定、膜強度測定など多方面のa察、測定を
行なって評価した。
測定、膜厚測定、膜強度測定など多方面のa察、測定を
行なって評価した。
評価の結果は下記の記号によって表わした。
O・・・・・・特に良好
O・・・・・・良 好
Δ・・・・・・普通
×・・・・・・悪い
上表から硫化亜鉛に酸化ジルコニウムを含有させないも
の、またこれとは反対に33重量%以上添加させたもの
については特に熱耐久性において劣ることが認められる
。したがって、酸化ジルコニウムの含有量が3重量%を
下回ると耐久性向上の効果が得られず、また、30重量
%を上回ると膜中の酸化ジルコニウムと硫化亜鉛との適
合性が悪くなり特に熱衝撃性に対して弱くなり不可であ
る。
の、またこれとは反対に33重量%以上添加させたもの
については特に熱耐久性において劣ることが認められる
。したがって、酸化ジルコニウムの含有量が3重量%を
下回ると耐久性向上の効果が得られず、また、30重量
%を上回ると膜中の酸化ジルコニウムと硫化亜鉛との適
合性が悪くなり特に熱衝撃性に対して弱くなり不可であ
る。
なお、本発明は冷光反射鏡に限定されるものではなくバ
ンドパスフィルタ、カラーフィルタ等の光学的多層膜を
有した反射鏡にも適用できる。また実施例の真空蒸着法
に限らずスパッタリング。
ンドパスフィルタ、カラーフィルタ等の光学的多層膜を
有した反射鏡にも適用できる。また実施例の真空蒸着法
に限らずスパッタリング。
イオンブレーティング等の手段によって多層膜を ゛形
成しても同様の結果が得られる。さらに多層膜は酸化ジ
ルコニウムの含有層が表面側の2層以上であっても良好
な結果が得られることも明らかである。
成しても同様の結果が得られる。さらに多層膜は酸化ジ
ルコニウムの含有層が表面側の2層以上であっても良好
な結果が得られることも明らかである。
本発明は以上詳述したように高屈折率膜として酸化ジル
コニウムを3ないし30重景%含有の硫化亜鉛を使用し
た多層膜反射鏡であるから、高温耐久性、耐水性ならび
に膜強度等の向上を可能としかつ実使用においても経時
変化の減少が得られる等のすぐれた利点を有する。
コニウムを3ないし30重景%含有の硫化亜鉛を使用し
た多層膜反射鏡であるから、高温耐久性、耐水性ならび
に膜強度等の向上を可能としかつ実使用においても経時
変化の減少が得られる等のすぐれた利点を有する。
図は本発明の実施例をハロゲンランプ用冷光反射鏡に適
用して示す断面図である。 (八)・・・多層膜反射鏡、 (9)・・・多層膜。
用して示す断面図である。 (八)・・・多層膜反射鏡、 (9)・・・多層膜。
Claims (1)
- 高屈折率膜として酸化ジルコニウム3ないし30重量%
含有の硫化亜鉛を使用したことを特徴とする多層膜反射
鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1143587A JPS63180902A (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | 多層膜反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1143587A JPS63180902A (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | 多層膜反射鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63180902A true JPS63180902A (ja) | 1988-07-26 |
Family
ID=11778005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1143587A Pending JPS63180902A (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | 多層膜反射鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63180902A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5505989A (en) * | 1992-07-11 | 1996-04-09 | Pilkington Glass Limited | Method for coating a hot glass ribbon |
US5576885A (en) * | 1994-01-10 | 1996-11-19 | Pilington Glass Limited | Heatable mirror including a non-metallic reflecting coating on a glass substate |
US5764415A (en) * | 1994-01-10 | 1998-06-09 | Pilkington Glass Limited | Coatings on glass |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61145502A (ja) * | 1984-12-20 | 1986-07-03 | Toshiba Glass Co Ltd | 高耐久性多層膜 |
-
1987
- 1987-01-22 JP JP1143587A patent/JPS63180902A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61145502A (ja) * | 1984-12-20 | 1986-07-03 | Toshiba Glass Co Ltd | 高耐久性多層膜 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5505989A (en) * | 1992-07-11 | 1996-04-09 | Pilkington Glass Limited | Method for coating a hot glass ribbon |
US5745291A (en) * | 1992-07-11 | 1998-04-28 | Pilkington Glass Limited | Mirror including a glass substrate and a pyrolytic silicon reflecting layer |
US5576885A (en) * | 1994-01-10 | 1996-11-19 | Pilington Glass Limited | Heatable mirror including a non-metallic reflecting coating on a glass substate |
US5700305A (en) * | 1994-01-10 | 1997-12-23 | Pilkington Glass Limited | Method of producing heatable mirrors by depositing coatings on glass |
US5764415A (en) * | 1994-01-10 | 1998-06-09 | Pilkington Glass Limited | Coatings on glass |
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