JPH03107104A - 熱線吸収反射鏡 - Google Patents

熱線吸収反射鏡

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JPH03107104A
JPH03107104A JP1243764A JP24376489A JPH03107104A JP H03107104 A JPH03107104 A JP H03107104A JP 1243764 A JP1243764 A JP 1243764A JP 24376489 A JP24376489 A JP 24376489A JP H03107104 A JPH03107104 A JP H03107104A
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水野 宏一
Etsuji Naito
内藤 悦司
Satoru Yoshida
了 吉田
Kazuo Hara
原 和雄
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明は、照明器具に用いられる反射鏡に関するもので
ある。さらに詳しくは、本発明は、可視光を反射する一
方で、赤外線の反射を抑制した反射鏡に関するものであ
る。
[発明の技術的背景および従来技術] ハロゲンランプ等を光源とした照明器具には、光源から
の光を充分に照明光として利用するために、光源の背面
に反射鏡が設けられていることが多い。この反射鏡は、
可視光は反射する一方、照明によって照らされる物が高
温にならないように赤外線は反射しないような工夫がさ
れているのが普通である。このような工夫が施された反
射鏡は、熱線吸収反射鏡あるいは冷光反射鏡(コールド
ミラー)などと呼ばれている。
上記のような熱線吸収反射鏡は、従来より、ガラス基体
表面に可視光は反射するが赤外線は透過する多層反射膜
を設け、光源から発せられた光のうち可視光成分を反射
する一方で、赤外線は反射することなく、基体のガラス
を通して背面から外部へと逃がすような工夫がされてい
た。ところが、このような反射鏡は基体としてガラスを
用いているために、製作する上で形状に制限があるだけ
でなく、重量も重く、さらに衝撃にも弱いという欠点が
あった。
これに対して最近、ステンレスなどの金属を基体とした
熱線吸収反射鏡が開発されてきた。
金属基体を有する熱線吸収反射鏡は、通常、可視光に対
しては反射率が高く、赤外線に対しては透過率の高い誘
電体膜層と、この誘電体膜層を透過してきた赤外線を吸
収し熱へと変換して金属基体に伝える働きをする吸収層
とを金属基体表面上に設けることによって上記のような
性能が搏らゎるようにされている。たとえば、特開昭6
4−90401号公報には、吸収層としてケイ素、チタ
ンおよびクロムからなる群より選ばれる元素の黒色酸化
物の薄膜を用い、誘電体膜層として高屈折率物質膜と低
屈折率膜との交互積層膜を用いた反射鏡が開示されてい
る。また、特開昭63−269101号公報には、金属
基体の表面を予め酸化処理して、熱放射特性の良い酸化
物膜を基体自体に形成して吸収層とした反射鏡が開示さ
れている。さらには、基体金属表面を黒色化処理(たと
えば、アルミニウム基体の場合ならば、黒色アルマイト
処理)して、この黒色被膜を吸収層とすることも提案さ
れている(実公平1−16081号公報参照)。
ところが、上記のような金属酸化物からなる吸収層はい
ずれも、赤外線を熱へと変換し、その熱を基体金属へと
伝える能力は優れているものの、耐久性という面では開
運がある。すなわち、首記酸化物吸収層の上に誘電体多
層膜を蒸着した場合、金属基体が熱膨張を起こすと該吸
収層と誘電体膜との間の付着力が弱い界面から剥離を生
じる。特に、ハロゲンランプ等の高輝度ランプの反射鏡
として使用する場合、点灯時と消灯時における温度差が
大きいために金属酸化物と誘電体との熱膨張の差も大き
く、点灯消灯の繰返しによってしばしば上記の剥離が生
じる。また、照明器具が湿度の高い環境で使用される場
合、この傾向はさらに顕著なものとなる。
一方、金属酸化物を用いずに、なんらかの方法で基体金
属表面を黒色化処理し、これを吸収層とする場合、黒色
化面には再研磨されない限り微細な凹凸が存在するので
、この上に蒸着された誘電体膜は鏡面にならず白濁して
しまうという問題がある。
[発明の要旨] 本発明は、耐久性に優れ、しかも誘電体膜を白濁させる
ことのない熱線吸収反射鏡を提供することを目的とする
ものである。
上記の目的は、本発明の、金属基体と、この金属基体表
面上に設けられた金属クロム薄膜および、該金属クロム
薄膜表面上にさらに設けられた高屈折率物質と低屈折率
物質とが交互に積層されてなる誘電体多層膜とからなり
、800nm〜1400nmの波長範囲における反射率
の最大値が25%以下であることを特徴とする熱線吸収
反射鏡によフて達成することができる。
本発明の反射鏡は、吸収層として、金属基体および誘電
体膜のいずれにも付着力の大きいクロム金属薄膜を用い
ているので、吸収層が金属基体や誘電体膜から剥離する
ことが少ない。また、クロム金属薄膜の表面は滑らかで
あるから、この上に形成される誘電体膜が白濁すること
もない。
本発明の反射鏡においては、クロム金属膜の上に形成す
る誘電体多層膜の各層の膜厚を、800nm〜1400
nmの波長範囲における反射率の最大値が25%以下に
なるように精密に調節することで、クロム金属膜による
赤外線の反射を抑制している。
本発明の熱線吸収反射鏡は、赤外線の反射率が低く、耐
久性に優れているのでハロゲンランプの反射鏡だけでな
く、さらに高出力の光源ランプの反射鏡としても利用で
きる。
本発明における好ましい態様を以下に示す。
(1)上記800nm 〜1400nmの波長範囲にお
ける反射率の最大値が15%以下であることを特徴とす
る熱線吸収反射鏡。
(2)上記800nm〜1400nmの波長範囲におけ
る反射率の最大値が10%以下であることを特徴とする
熱線吸収反射鏡。
(3) i記誘電体多層膜の層数が18層から36層の
範囲であることを特徴とする熱線吸収反射鏡。
[発明の詳しい記述] まず、添付図面を参照しながら、本発明の構成について
説明する。
第1図に、本発明のa線吸収反射鏡の一例の断面図を模
式的に示す。第1図において、1は基体金属であるアル
ミニウム、2は吸収層であるクロム金属薄膜、3は誘電
体多層膜5を構成する高屈折率透明誘電体である硫化亜
鉛(ZnS)膜、4は硫化亜鉛(ZnS)膜3とともに
誘電体多層膜5を構成する低屈折率透明誘電体であるフ
ッ化マグネシウム(MgFz)膜、5は誘電体多層膜で
ある。
第1図に示した反射鏡は、誘電体多層膜5が光源に面す
るように使用される。光源から発せられた光のうち、可
視光は誘電体多層@5によって反射され再び光源の方向
に向う一方、赤外線は誘電体多層膜5を透過し、クロム
金属薄膜の吸収層2に吸収され、熱へと変換される。こ
の熱は金属基体1へと伝えられて、外部へと放出される
次に本発明の反射鏡の各部分について述べる。
金属基体としては、アルミニウム、鉄、ステンレスなど
従来の金属基板を用いたコールドミラーに用いることの
できるものであれば、いがなるものでも用いることがで
きる。
吸収層であるクロム金属薄膜は、真空蒸着、スパッタリ
ングなど一般に行なわれる方法によって成膜することが
できる。たとえば、粒状の金属クロムを原料とし、タン
グステンボートなどの抵抗加熱蒸発源や電子ビーム蒸発
源を用いて、150℃から220℃に加熱された金属基
体上に毎秒0.25層m程度の速さで形成することがで
きる。また、金属基体の形状が曲率の大きな曲面などの
場合は、lXl0−3Torr程度のアルゴンガスな導
入することによって金属基体表面に均なりロム膜を形成
することができる。膜厚の制御は光学モニターまたは水
晶振動子モニターまたはこれらを併用することで容易に
行なえる。クロム膜の膜厚は、幾何学的膜厚(実際の膜
厚)で50層m〜500nmの範囲である。
誘電体多層膜は高屈折率の誘電体と低屈折率の誘電体と
が交互に積層された構造を有している。高屈折率の誘電
体としては、硫化亜鉛(ZnS)、二酸化チタン(T 
i 02 ) 、酸化ジルコニウム(ZrO2)などが
用いられ、また低屈折率の誘電体としては、フッ化マグ
ネシウム(MgF2)、二酸化ケイ素(S 102 )
 、 Na3 Al1F6などを用いることができる。
誘電体多層膜の層数は18層から36層の範囲であり、
膜厚は可視光の波長領域(400nm〜700 nm)
で反射率が100%程度になり、赤外線の波長領域(8
00nm〜1400nm)で反射率の最大値が25%以
下となるように設計される。この800nm〜1400
nmの波長範囲に3ける反射率の最大値は15%以下で
あることが好ましく、10%以下であることがさらに好
ましい。実際の膜厚の璋出はコンピュタ−によるシュミ
レーションによって行なわれ、各膜厚は、シュミレーシ
ョンの結果による逐次近似によフて決定される。
誘電体多層膜の成膜は、クロム金属薄膜の場合と同様、
常法により行なう。すなわち、クロム金属?#膜の吸収
層の上に目的とする膜を順に、所定膜厚となるまで成膜
する。成膜は真空蒸着、スパッタリングなど一般に行な
われる方法によって行ない、膜厚の制御も、クロム金属
薄膜の場合と同様、光学モニター、水晶振動子モニター
などを用いて行なうことができる。
以下、第1図に示したような、高屈折率物質として硫化
亜鉛(ZnS)を、低屈折率物質としてフッ化マグネシ
ウム(MgF2)を用い、各層のIIQ 15を下記第
1表に示したようにした本発明の反射鏡(誘電体多層膜
の層数:22)を例にとって話′ホ体多層膜についてさ
らに説明する。ただし、第1表に示した各膜厚は、実際
の膜厚(幾何学的膜厚)に各物質の屈折率を乗じた光学
的膜厚であ第1表 No。
蒸着物質 光学的膜厚(nm) r 520゜ ZnS MgF2 ZnS MgF2 ZnS MgF2 ZnS MgF2 ZnS MgF2 ZnS 256 。
160 。
160 。
160 。
160 。
160 。
160 。
160 。
160 。
160゜ 146゜ 第1表(続き) No。
蒸着物質 光学的膜厚(nm)  3 4 5 6 7 8 9 0 1 2 3 MgF2 ZnS MgF2 ZnS MgF2 ZnS MgF2 ZnS MgF2 ZnS MgF。
120.0 120.0 120.0 120.0 120.0 120.0 120.0 120.0 140、 0 38 、0 38、0 第2図には、この反射鏡の分光反射率特性を示す反射ス
ペクトルを示す。
誘電体多層膜は、一般に、可視光波長領域の長波長側を
反射するための部分(スタック二M層部分)と可視光波
長領域の短波長側を反射するためのスタックから成って
いる。第1表に示した反射鏡の場合、No、 2〜No
、  11のスタックが長波長側を反射し、No、12
〜No、23のスタックが短波長側を反射するように設
計されている。
従来の金属酸化物を吸収層とした反射鏡では、これらス
タックを構成する各層は、光学的膜厚が反射しようとす
る波長領域の中心波長の1/4となるように設計される
。ところが、本発明の反射鏡は、吸収層としてクロム金
属薄膜を用いているので、従来のように中心波長の1/
4となるようにスタックの光学的膜厚を設計すると赤外
線の反射率を低く抑えることができない。このことを不
すために、第3図には吸収層としてクロム金属薄膜を用
い、誘電体多層膜の膜厚を従来のようにした反射鏡の分
光反射率特性を示す。第3図に示したように、上記のよ
うな反射鏡では800nm〜1400nmの波長範囲に
おける反射率の最大値は30%以上になる。
従って、本発明の反射鏡においては、誘電体多層膜の@
厚はコンピュタ−によるシュミレーションによって精密
に決定される。第1表に示した反射鏡の場合、No、 
2、No、12、No、21、No。
22およびNo、23の各層の膜厚を精密に調節するこ
とによって赤外線の反射を抑制している。
次に本発明の実施例を記載する。ただし、これらの各側
は本発明を限定するものではない。なお、以下の実施例
は、すべて上記の真空蒸着法による常法によって作成し
た。
[実施例1] 第1図に断面図を示したような、高屈折率物質として硫
化亜鉛(ZnS)を、低屈折率物質としてフッ化マグネ
シウム(MgFz)を用い、各層の膜厚を下記第1表に
示したようにした本発明の反射鏡(誘電体多層膜の層数
:22)を製作した。
この熱線吸収反射鏡の分光反射特性を測定した結果を第
2図に示した。第2図に示したように、この反射鏡の8
00nm〜1400nmの波長範囲における反射率の最
大値は10%以下であフた。また、可視光の反射を妨げ
る白濁も生じていなかった。
さらに、この熱線吸収反射鏡について、330℃、20
00時間の連続加熱試験、熱湯による30分以上の煮沸
試験、粘着テープによる引き離し試験および25℃、湿
度100%、260時間の環境試験を行なったところ、
これらいずれの耐久試験においても反射鏡に剥離が生じ
ることはなかった。
以上の各実施例より明らかなように、本発明の熱線吸収
反射鏡は耐久性に優れ、赤外線の吸収にも優れたもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の熱線吸収反射鏡の一例の断面を模式的
に示した図である。 第2図は本発明の熱線吸収反射鏡の一例の分光反射特性
を示す反射スペクトルである。 第3図はクロム金属薄膜の吸収層と従来の誘電体多層膜
とを有する熱線吸収反射鏡の分光反射特性を示す反射ス
ペクトルである。 l二基体金属、  2ニクロム金属薄膜吸収層、3:高
屈折率透明誘電体膜 4:低屈折率透明誘電体膜 5:誘電体多層膜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、金属基体と、この金属基体表面上に設けられた金属
    クロム薄膜および、該金属クロム薄膜表面上にさらに設
    けられた高屈折率物質と低屈折率物質とが交互に積層さ
    れてなる誘電体多層膜とからなり、800nm〜140
    0nmの波長範囲における反射率の最大値が25%以下
    であることを特徴とする熱線吸収反射鏡。
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