JP3560638B2 - 反射膜 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、反射膜として用いられる光学薄膜に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、レンズ,ミラー,プリズムなどの光学部品の素材として、これまでのガラスに代えて樹脂製部品を用いる頻度が高くなっている。これらの樹脂製部品などの光学部品に用いる反射膜は数多く提案されており、例えば特開平2−66157号公報に開示されたものが知られている。これは空気側から樹脂製基板側へ順にCeO2 ,CeF3 ,Alという3層構成を採るものであるが、金属層(Al)に加え、低屈折率物質(CeF3 )と高屈折率物質(CeO2 )とを組み合わせた構成により、金属層のみの場合よりも反射率を向上させたものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このように、一般に反射膜としては、AlやAg等の金属層に加え、低屈折率物質と高屈折率物質とを組み合わせた層を設けることによって、金属層だけの場合よりも高い反射率を得ることができる。
【0004】
基板が熱に強いガラスの場合、反射膜に関しては、充分な膜の密着強度を得るために一般に基板を200〜300℃程度にまで加熱した状態で高屈折率物質としてZrO2 ,TiO2 等を用いて光学薄膜を形成する方法が採られている。しかしながら、樹脂製の基板を用いた場合には、基板の耐熱性が低いため基板加熱は行えない。さらに、融点が高いTiO2 やZrO2 では、通常のガラス基板上に膜を形成するのと同じ装置セッティングでは蒸発源からの輻射熱で樹脂基板が加熱され、基板の表面がダメージを受けて膜の密着性が劣化したり、光学部品にとって最も重要な面精度を劣化させるおそれがある。これは、特に熱に弱いアクリル樹脂(PMMA)を用いた場合に顕著である。
【0005】
また、従来ガラス基板に用いられていた膜構成をそのまま樹脂基板に適用すると、樹脂基板はガラス基板と比較して膨張率が大きいため膜に大きな応力がかかり、クラックが発生しやすいという問題点もあった。なおこれらの点は、基板が合成樹脂以外の例えばCCD等の光学デバイスまたはそれとガラスなどとの接合品の場合にも同様である。すなわち、CCD等の半導体デバイスでは高熱によってデバイス自体が破壊されるおそれがあり、また、接合品では接合部の強度が劣化したり剥離するおそれがあるため、蒸発源からの輻射熱の少ない成膜が要求されるのである。
【0006】
その対策としては、蒸発源から基板までの距離を長くしたり、蒸発源と基板との間に遮蔽板を設けて蒸発源からの輻射熱の影響を少なくする方法が考えられる。しかし、上記方法はいずれも成膜装置の大幅な改造が必要となるため、従来のガラス基板用の成膜装置をそのまま使用することができないという不具合がある。また、前記の方法では特に蒸着時間が長くなり、生産性の観点でも好ましくない。
【0007】
そこで、蒸発源からの輻射熱の低い材料を用いれば前述の問題点を解決することができる。ここで従来技術に挙げたCeO2 はこの条件を満たす材料である。しかし、CeO2 は傷つきやすく耐湿性が低いうえ、短波長域に大きな吸収(光学的膜厚130nmの場合、波長400nmで2〜4%)があるという欠点がある。また、通常のガラス基板上に光学薄膜を設ける場合においても、高い密着強度を得るための基板加熱は成膜時間の増大となり、成膜コストの上昇を招くものであった。
【0008】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、樹脂性基板や,CCD等の光学デバイス,又はガラス等を基板として、密着性が高く、基板の面精度を劣化させず、基板に熱によるダメージを与えること無く、従来の装置を用いて容易に成膜することができ、高い光学特性を有し、生産性もよく、耐久性、特に耐湿性の優れた光学薄膜を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の反射膜は、真空蒸着法によりMoO 3 およびWO 3 の少なくとも一方の物質を含む層とSi酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層を有することを特徴としている。
また、上記反射膜を用いた本発明の表面反射鏡は、MoO 3 およびWO 3 の少なくとも一方の物質を含む層とSi酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層と、前記増反射層のSi酸化物からなる層に接して形成した金属層とを有することを特徴ととしている。
また、上記反射膜を用いた本発明の裏面反射鏡は、MoO 3 およびWO 3 の少なくとも一方の物質を含む層とSi酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層と、前記増反射層のSi酸化物からなる層に接して形成した金属層とを有することを特徴としている。
【0010】
【作用】
MoO3およびWO3は、低いエネルギーで容易に蒸発させることができるので、蒸発源からの輻射熱を低く抑えることができる。従って熱によるダメージを基板に与えることがない。また、従来技術で示したCeO2よりも傷つきにくく、耐湿性も比較的高い。
【0011】
【実施例1】
まず、本発明の具体的な実施例を説明する前に、本発明の概要を説明する。
本発明の反射膜の概要は、真空蒸着法により形成されたMoO3またはWO3の少なくともいずれか一方の物質を含む層と、Si酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層を有することを特徴としている。
また、本発明の表面反射鏡および裏面反射鏡は、上記反射膜の増反射層のSi酸化物からなる層に接して形成した金属層を有することを特徴としている。
なお、MoO3およびWO3は従来、薄膜の形態で用いられる場合には、電界をかけることによって光線透過率の変化するエレクトロクロミック(EC)効果を有する材料として知られており研究されている。しかし、これは電気的性質に着目したものであり、光学的性質に着目した適用すなわち光学薄膜用材料としてはほとんど注目されていなかった。
MoO3およびWO3は、低いエネルギーで容易に蒸発させることができるので、蒸発源からの輻射熱を低く抑えることができる。従って熱によるダメージを基板に与えることがない。また、従来技術で示したCeO2よりも傷つきにくく、耐湿性も比較的高い。さらに、完全に酸化した状態であれば、可視光域での光の吸収もほとんどなく、屈折率は1.85〜2.1程度(成膜条件によって変化する)であり、高屈折率物質として充分である。このように、MoO3,WO3を高屈折率物質として使用し、充分な性能を有する光学薄膜を形成することが可能である。
【0012】
なお、MoO3 ,WO3 を用いて光学薄膜を構成する場合、他の誘電体との混合物にしてもよいことは勿論である。MoO3 とWO3 との混合物でもよいし、MoO3 と他の誘電体,WO3 と他の誘電体,またはMoO3 とWO3 と他の誘電体という混合物を用いることが可能である。この場合、特にAl2 O3 との混合により耐ヒートサイクル性や機械的強度が向上することが確認できた。
【0013】
また、MoO3,WO3を用いた光学薄膜を長期間高湿度下に放置すると密着性が劣化するという問題を生じるが、最表層に撥水処理層を設けて内部に水分が供給されにくくすることで解決できる。撥水効果を有する層の材料や形成方法は、十分な撥水効果および耐久性が得られれば特に限定するものではない。また、層の厚さは、光学薄膜の機能を担う程度たとえば光学的膜厚10〜250nm程度に厚くしてもよいし、光学的に影響を及ぼさない10nm以下のものでもよい。
【0014】
また、樹脂基板の場合に発生しやすい膜のクラックは、基板側の第1層目に光学的膜厚ndが2nm以上の酸化物層を設けることで解決できる。このSiの酸化物層は、SiOx(x=1〜2)の組成のいずれのものでもよい。このクラック防止効果は、第1層目のシリコン酸化物層が、基板の膨張・収縮により膜にかかる応力を緩和するために得られるものである。しかし、光学的膜厚ndが2nm未満では、この作用が充分に得られずヒートサイクル試験によりクラックが発生してしまう。
【0015】
低屈折率物質としては、特に制限はないが合成樹脂層への密着強度および耐久性の点からSi酸化物、特にSiO2 がもっとも望ましい。
【0016】
さらに、本発明を通常の光学ガラス基板に適用した場合は、成膜時に基板加熱を行う必要がないため、生産性の向上を図ることができる。
【0017】
本発明に用いられる基板には、光学ガラスの他、アクリル,ポリカーボネート,アモルファスポリオレフィン,CR−39,エネルギー硬化型樹脂などの合成樹脂、CCD等の耐熱性が低い光学デバイスや光学部材、接合品などを含む。また、膜の形成には真空蒸着法を用いるとよい。
【0018】
以下、添付図面を参照して本発明に係る反射膜の実施例を説明する。まず、本発明の実施例1を説明する。本実施例は、アクリル樹脂(PMMA)基板上に表面反射鏡を設けた例である。各層の膜厚を表1に示す。
【0019】
【表1】
[実施例1]
λ=500nm
SiO2 0.2929λ
WO3 0.1793λ
SiO2 0.2768λ
WO3 0.2398λ
SiO2 0.2234λ
Al 60nm
PMMA
【0020】
真空槽内にアクリル樹脂製基板をセットし、1×10−4Paまで排気する。次に、抵抗加熱蒸着法によってAl膜を物理的膜厚で60nm成膜し、それに引き続き電子線加熱蒸着法によって表1に示す光学的膜厚の増反射層を成膜した。このとき基板の加熱は行わなかった。増反射層としては、WO3 およびSiO2 を使用した。本実施例の反射膜は、テープ剥離テストによって充分な密着強度を有することが確認された。本実施例の反射膜の膜側からの0゜入射時の反射率を図1に示す。また、本発明の反射膜について50℃90%の高温高湿試験、70〜−40℃のヒートショック試験を行ったところ、試験前後で反射率および密着強度の変化は見られなかった。
【0021】
【実施例2】
次に、本発明の実施例2を説明する。本実施例は、ポリカーボネート(PC)基板に裏面反射鏡を設けた例である。各層の膜厚を表2に示す。
【0022】
【表2】
[実施例2]
λ=500nm
PC
SiO2 0.4546λ
WO3 0.2753λ
SiO2 0.3278λ
Al 60nm
【0023】
真空槽内にポリカーボネート樹脂製基板をセットし、1×10−4Paまで排気する。次に、電子線加熱蒸着法によって表2に示す光学的膜厚の増反射層を成膜し、それに引き続き抵抗加熱蒸着法によってAl膜を物理的膜厚で60nm成膜した。増反射層としては、WO3 およびSiO2 を使用した。本実施例の反射膜は、テープ剥離テストによって充分な密着強度を有することが確認された。本実施例の反射膜の基板からの45゜入射時の反射率を図2に示す。また、本発明の反射膜について実施例1と同様の試験を行ったが、試験前後で反射率および密着強度の変化は見られなかった。
【0024】
【実施例3】
次に、本発明の実施例3を説明する。本実施例は、アモルファスポリオレフィン基板に表面反射鏡を設けた例である。各層の膜厚を表3に示す。
【0025】
【表3】
[実施例3]
λ=780nm
撥水層 10nm
SiO2 0.5698λ
MoO3 0.2646λ
SiO2 0.2547λ
Al 60nm
SiO2 0.05λ
アモルファスポリオレフィン
【0026】
真空槽内にアモルファスポリオレフィン樹脂製基板をセットし、1×10−4Paまで排気する。次に、電子線加熱蒸着法によって密着層としてSiO2 を光学的膜厚で0.05λ成膜し、それに引き続き抵抗加熱蒸着法によってAl膜を物理的膜厚で60nm成膜し、さらに表3に示す光学的膜厚の増反射層を成膜した。増反射層としては、MoO3 およびSiO2 を使用した。そして増反射層の上には撥水層として弗素系樹脂を抵抗加熱蒸着法によって物理的膜厚で10nm成膜した。本実施例の反射膜は、テープ剥離テストによって充分な密着強度を有することが確認された。本実施例の反射膜の膜側からの45゜入射時の反射率を図3に示す。また、本発明の反射膜について実施例1と同様の試験を行ったが、試験前後で反射率および密着強度の変化は見られなかった。
【0027】
【実施例4】
次に、本発明の実施例4を説明する。本実施例は、屈折率1.52のガラス基板に裏面反射鏡を設けた例である。各層の膜厚を表4に示す。
【0028】
【表4】
[実施例4]
λ=500nm
ガラス n=1.52
SiO2 0.4019λ
WO3 +Al2 O3 0.2551λ
SiO2 0.1202λ
WO3 +Al2 O3 0.1563λ
SiO2 0.4192λ
WO3+Al2O3 0.2805λ
SiO2 0.3198λ
Al 60nm
【0029】
真空槽内に屈折率1.52のガラス基板をセットし、1×10−4Paまで排気する。次に、電子線加熱蒸着法によって表4に示す光学的膜厚の増反射層を成膜し、それに引き続き抵抗加熱蒸着法によってAl膜を物理的膜厚で60nm成膜した。増反射層としては、WO3 とAl2 O3 と混合物(重量混合比95:5)およびSiO2 を使用した。本実施例の反射膜は、成膜時に基板の加熱を行っていなかったが、テープ剥離テストによって充分な密着強度を有することが確認された。本実施例の反射膜の基板からの45゜入射時の反射率を図4に示す。また、本発明の反射膜について実施例1と同様の試験を行ったが、試験前後で反射率および密着強度の変化は見られなかった。
【0030】
【比較例1】
比較例1では、実施例1と同様の方法で膜材料だけをWO3 からCeO2 に変更して成膜した。各層の膜厚を表5に、反射膜の膜側からの0゜入射時の反射率を図5に示す。
【0031】
【表5】
[比較例1]
λ=500nm
SiO2 0.2929λ
CeO2 0.1793λ
SiO2 0.2768λ
CeO2 0.2398λ
SiO2 0.2234λ
Al 60nm
PMMA
【0032】
本比較例では、成膜直後では、テープ剥離テストによって充分な密着強度を有することが確認されたものの、50℃90%の高温高湿試験、70〜−40℃のヒートショック試験を行ったところ、いずれの試験でも試験後のテープ剥離テストによって膜の剥離がみられ、密着強度が低下していることが確認された。
【0033】
【比較例2】
比較例2では、実施例4と同様の方法で膜材料だけをWO3 からCeO2 に変更して成膜した。各層の膜厚を表6に、反射膜の膜側からの45゜入射時の反射率を図6に示す。
【0034】
【表6】
[比較例2]
λ=500nm
ガラス n=1.52
SiO2 0.4019λ
CeO2 +Al2 O3 0.2551λ
SiO2 0.1202λ
CeO2 +Al2 O3 0.1563λ
SiO2 0.4192λ
CeO2 +Al2 O3 0.2805λ
SiO2 0.3198λ
Al 60nm
【0035】
本比較例では、成膜直後では、テープ剥離テストによって充分な密着強度を有することが確認されたものの、50℃90%の高温高湿試験、70〜−40℃のヒートショック試験を行ったところ、いずれの試験でも試験後のテープ剥離テストによって膜の剥離がみられ、密着強度が低下していることが確認された。
【0036】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の反射膜によれば、基板上にPVD法(物理的蒸着法)によりMoO3およびWO3の少なくとも一方の物質を含む層とSi酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層を有する構成としたことにより、従来の成膜装置をそのまま使用して、蒸発源からの輻射熱を低く抑えた成膜が可能になる。従って、本発明の反射膜、表面反射鏡および裏面反射鏡は、基板の熱ダメージによる膜の密着性劣化や面精度の劣化、接合品の接着強度劣化、またはデバイスの性能劣化などを生じることなく、しかも優れた生産性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の反射率を示すグラフである。
【図2】本発明の実施例2の反射率を示すグラフである。
【図3】本発明の実施例3の反射率を示すグラフである。
【図4】本発明の実施例4の反射率を示すグラフである。
【図5】本発明の比較例1の反射率を示すグラフである。
【図6】本発明の比較例2の反射率を示すグラフである。
Claims (3)
- 真空蒸着法によりMoO3およびWO3の少なくとも一方の物質を含む層とSi酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層を有することを特徴とする反射膜。
- MoO 3 およびWO 3 の少なくとも一方の物質を含む層とSi酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層と、前記増反射層のSi酸化物からなる層に接して形成した金属層とを有することを特徴とする表面反射鏡。
- MoO 3 およびWO 3 の少なくとも一方の物質を含む層とSi酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層と、前記増反射層のSi酸化物からなる層に接して形成した金属層とを有することを特徴とする裏面反射鏡。
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JPH07294710A JPH07294710A (ja) | 1995-11-10 |
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- 1994-04-26 JP JP11057994A patent/JP3560638B2/ja not_active Expired - Fee Related
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