JPS5833100B2 - 反射板 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は樹脂層を設けた金属又は非金属板からなる基板
に光を反射する層とセラミック保護層を設けた、照明セ
ード等の照明用、各種光学機械器具用、太陽光用等に好
適な反射板に関するものである。

従来の光反射板はおよそ次のように分類し得られる。

（１）ステンレス或はアルミニウム等の金属の表面をパ
フ研磨、電解研磨、或は化学研磨したもの、（２）鉄或
はアルミニウム等の金属の表面にホーロー処理を施した
もの、 （３）ガラス或は透明樹脂の表面または裏面に真空蒸着
法でアルミニウム等の金属をコーティングするか、或い
は銀鏡反応によって銀をコーティングしたもの、 （４）前記（１）または（３）の表面に透明樹脂皮膜を
設けたもの。

が代表的なものである。

しかし、（１）のものは表面研磨を必要とし、パフ研磨
ではその仕上げ表面が粗く、金属表面だけでは正反射性
を出すことは極めて困難である。

また電解研磨または化学研磨では湿式となり、使用する
化学薬品の公害問題があるばかりでなく、その研磨面の
正反射性はよくなく、光輝面を形成するには不十分であ
る欠点を有する。

（２）のものは、ホーロー処理を施した表面は平滑性は
兎も肉圧反射性は全くなく、殆んどが乱反射光或いは分
散光しか得られない。

（３）のものは、その表面が金属であるため、耐薬品性
、耐候性、耐摩耗性が小さく、正反射性はよいが、全反
射性はニッケルやクロム等の金属メッキの場合はよくな
い。

またメッキは湿式であるので使用する化学薬品の公害問
題がある等の欠点がある。

（４ゆものは前記のものの欠点を解決せんとしたもので
、金属表面を保護し、正反射率の高いものとなる点は優
れているが、他方樹脂の耐候性、耐摩耗性、耐光性、耐
候性、耐薬性が問題となる。

即ち耐光性、耐熱性、耐候性が悪いものは経時使用する
と、表面が着色したり、或いは失透したりすること、表
面を清浄にするため布などで拭くと、摩耗傷が生ずるこ
と、樹脂層が厚くなると、光および熱線の吸収が大きく
なり、表面温度が上昇し、物性の低下を来たすこと等の
欠点を有する。

本発明は従来のこれらの欠点のない反射板を提供せんと
するものである。

金属または非金属の基板に金属を真空コーティングする
と、金属コーテイング膜は金属または非金属の基板面と
同じレプリカ被膜を生成するので、金属または非金属基
板に凹凸或いはピンホールがあると、真空コーテイング
膜もこれを消し得難い。

従って、基板の表面を研磨を必要とする。

そのためには前記の如く多くの欠改が生ずる。

本発明においては、金属または非金属の基板に樹脂層を
設けて基板上の凹凸、ピンホールを埋めて平滑となし金
属を真空コーティングすることによって、正反射率を良
好ならしめ、更にその上に、特に光透過性結晶性セラミ
ックの真空コーティング層の保護膜を設けることによっ
て、従来の樹脂保護膜の耐熱性、耐溶剤性、耐候性、耐
光性の悪い欠点をなくし得たものである。

基板の金属としては、例えば鉄、ステンレス、銅、真鍮
、青銅、白銅、アルミニウム、ジュラルミンの如き単体
金属またはその合金は勿論トタン板、ブリキ板の如き金
属で表面をコーティングした金属板であっても差支えな
い。

非金属の基板としては、各種高分子材料、ガラス、セラ
ミック、マイカ、石材、スレート、木材、紙等が挙げら
れる。

該基板上にコーティングする樹脂としては、その樹脂被
膜が真空下において低分子量の物質、即ち蒸気圧の高い
物質を放出しないこと、及び真空コーティング操作時に
発生する熱或いは人為的に加えられる熱に耐えるもので
あればよい。

このような材料としては例えば、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、フェノール樹脂、アリル樹脂、シリコン樹
脂、ポリカーボネート、尿素樹脂等が挙げられる。

しかし耐熱性、耐久性が良好なシリコン樹脂、特に高ア
リールシリコン樹脂が好ましい。

例えばアリール基／（アルキル基十アリール基）のモル
百分率が６５φ〜１００％のものが特に好ましい。

高アリールシリコン樹脂は、先願特許願昭５３−０３８
４０９号に述べたアリール基／（アルキル基＋アリール
基）のモル百分率が６５〜１００饅、重合し得る官能基
の官能基数が２〜３で、且つ炭素数／硅素数が４．２５
〜１６であるポリアリールアルキルシロキサンを加熱硬
化したものを示すものである。

前記のモル百分率が６５優より小さいと耐熱性が劣る欠
点を生ずる。

また官能基数が２〜３としたのは、樹脂の塗布を容易に
し、塗布後、加熱により重合させ硬化させるためである
。

従来のアルキル基の多いシリコン樹脂に比べて硬度が高
く、次のような各種優れた性能を有するものである。

（１）従来なかったアリール基含有率の高いシリコン樹
脂。

（２）従来のアルキル基だけ又はアルキル基の多いシリ
コン脂縁に比べて、耐熱性が優れ、２５０℃以下の経時
使用に耐えられ、２５０’Ｃ以上〜６００°Ｃ未満の高
温においても長時間でなければ耐え得る。

又、耐光性、耐候性、耐薬品性、耐水性に優れている。

（３）基板に対する十分な接着性を有する。

（４）金属の真空ゴニテイング性に優れており、特に高
温度における真空コーティングに関しては殆んど類を見
ない。

（５）ガラス、石英と屈折率が類似しているので、これ
らに塗着した場合、塗着感が少ない。

（６）無色透明な光透過性のよい塗膜が得られる。

（７）耐曲げ性が極めてよく、折り曲げによる塗膜のひ
び割れや剥離が殆んどない。

（８）製造に当ての作業性がよく、公害上の問題も殆ん
どない。

以上のような特性を有しており、従来のアルキル基含有
率の多いシリコン樹脂では使用することが困難であった
耐熱性用途分野及び各種新分野にも利用し得られる。

これらの樹脂のコーティングは望ましくは無溶剤で塗布
し熱キユアまたは焼付等で硬化させるのがよいが、必要
とあらばその溶液を塗布し溶剤を蒸発させる方法、静電
塗装、或いは予め用意されたフィルムを貼り付ける方法
等任意に行い得られる。

本発明の反射板の光反射面を形成する真空コーティング
する金属としては、例えばアルミニウム、ジュラルミン
、銀、ホワイトゴールド、金ｔニッケル、クロム等の光
輝性金属が挙げられるが、必ずしもこれに限定されるも
のではない。

例えば銅等は光輝性はあるが、単体で且つ空気中で使用
する場合、空気中の酸素、炭酸ガス、水等と化合して光
輝性を失うことが多いが、その上に保護膜によって保護
されれば使用可能である。

金属を基板の樹脂上に真空コーティングする方法として
は、前記した如く、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンブレーティング法がある。

真空蒸着法は最も簡単な方法であるが、平均自由行路内
での金属蒸着粒子の運動エネルギーのみを利用するもの
であるから、多くとも０．１ ｅＶ以下のエネルギーし
かなく、被着体への侵入度も１λ以下となるので、弱い
コーテイング膜しか形成できない。

また被着体と金属膜との接着強度も小さく且つ膜密度も
小さいので、剥離強度が小さい。

該方法における平均自由行路は金属粒子の粒子重量が小
さく、また真空度が高く温度が高い程長くなる。

従って、原子量或は原子直径の小さい金属がコーティン
グしわすく、真空度は少なくとも１０−’Ｔｏｒｒ望ま
しくは１Ｏ−５Ｔｏｒｒ以下で行うのがよい。

真空度が１ケタ違うと平均自由行路は１０倍も異なるの
で真空蒸着にとって最も重要なパラメーターである。

例えば、真空下セラミックの熔融状態において、その設
定真空度の２ケタ以上の真空度損失があれば、真空コー
ティング制御が難かしく、又、所望、のコーテイング膜
強度が得られにくい。

一方温度は絶対温度の平方根で平均自由行路に寄与する
のでそれ程大きなファクターとはならない。

合金を用いる場合には、互の金属が分子化合物を作る場
合や、平均自由行路や蒸発速度が似通った場合には、真
空蒸着法を用いることができるが、そうでない場合は、
合金を構成している各金属が別々に解離して蒸着するの
で、平均−な膜や強度の弱い膜となるので、スパッター
リング法を用いるのがよい。

スパッターリング法は、真空コーティング法よりも高速
の運動エネルギーを持つ励起粒子を被着体に当ててコー
ティングする方法であり、運動エネルギーは数１０〜１
００ ｅＶ余で被着体にλ〜数１０人侵入するので、真
空蒸着法に比べて強度および耐久性の高いコーテイング
膜が得られ、金属コーテイング膜の反射性もかなりよい
。

また、合金のコーティングの場合、真空蒸着法において
は合金の融溶物の蒸発によって行うに対し、本方法は固
体ターケラトからの昇華によって気体を発生するため成
分解離が起りにくいので、コーティングすることができ
る特長を有する。

しかし、コーティング材料は円板状や円柱状の如き特殊
な形状に成形した所謂ターケラトとして使用しなければ
ならない不便さと、コーティング速度がおそいので、生
産能率が悪い欠点がある。

イオンブレーティング法は更に数種の方法に別れるが、
コーティング効率のよい方法を用いた場合は、数ＫｅＶ
のエネルギーで、数１００λ被着体に侵入したコーテイ
ング膜を得ることができる。

この方法は前記三方法と異なり、中性粒子ではなく、陽
イオン粒子を利用する方法である。

陽イオン粒子は電場をかけた被着体、即ちカソードに向
って電圧加速されて動くので、飛行速度はスパッターリ
ング法よりも更に速くなる。

また粒子が陽イオンであるため粒子径が小さいので、そ
の平均自由行路は同温同圧では真空蒸着法やスパッター
リング法よりも長くなる。

イオンブレーティング法の代表的なものを挙げると次の
通りである。

（１）プラズマイオンプレーテング法 １０−”〜１０−３Ｔｏｒｒの減圧下、数１００〜数１
０００Ｖの電圧を、コーティング材料と被着体との間に
印加して、グロー放電を行い、生じたプラズマによって
蒸発中粒子をイオン化してコーティングする方法である
。

この方法の特徴はイオン化率が数１０％高く強力なコー
テイング膜を形成することができ、且つ電場の電気力線
に沿って粒子が飛行するので、裏面コーティングが可能
であるという利点がある。

しかしカソードの温度上昇が大きく、被着体の耐熱性が
要求されることと平均自由行路が短いため大型の物をコ
ーティングする場合には工夫が必要である欠点を有する
。

（２）ＲＦシイオンブレーティング 法発粒子を高周波発振コイルの中を通過させ、イオン化
してコーティングする方法である。

この方法の特徴は、グロー放電を用いないため、Ｉ Ｆ
”〜１０−’Ｔｏｒｒの真空度でもコーティングできる
ことと、カソードの温度上昇が少ない利点を有するが、
反面イオン化率が小さいこと及びＲＦコイルの直径以上
のコーティングが困難であるので、投影面積の広いコー
ティングが出来にくい欠点がある。

（３）印加電圧法 （１）のプラズマイオンブレーティング法と同様の条件
で、但し減圧度を１０”−’ 〜１０ ”Ｔｏｒｒで真
空コーティングを行なわしめる印加電圧法である。

本方法においては、目に見えるグロー放電はほとんど観
察されないが、カソード電流は十分観察することが出来
、１０”−’Ｔｏｒｒ程度の真空度より真空度が低く、
且つ電圧勾配が数１０Ｖ／ｃＩＩＬ以上の場合において
はかなり効果を有する方法である。

この方法はプラズマイオンブレーティング法と真空蒸着
法との中間の特徴を有する方法である。

（４）イオンガンを使用する方法 第１〜第３の方法は予め抵抗加熱や電子線で蒸発させた
粒子を、電場やプラズマ或いは高周波でイオン化するに
対し、この方法はガンによって直接イオン化する方法で
ある。

この方法の代表的なものとしては、高周波を用いるｉ−
ガン法とホローカソード法とがある。

いずれもイオン化効率が高く、真空度が高い真空系でも
コーティングが可能である利点を有する。

イオンブレーティング法を行う場合はこれらの特徴を十
分留意してコーティングを行うことが大切である。

さもなければ金属コーティングの場合、光輝面が着色し
たり或いは濁ったりして反射率を低下させることになる
。

反射性金属をコーティングする場合は、反射性を良好に
するため空気等の反応性ガスを可及的に除去して置く必
要がある。

さもないと、全反射率が落ちたり、或いは反射面が着色
したりまたは変色することがある。

金属真空コーティング層の上に真空コーティングする光
透過性の結晶性セラミックとしては、アルミナ、マグネ
シャ、ジルコニア、スピネル等の酸化物系セラミック、
コージェライトの如きキン青石セラミック、高アルミナ
及びムライトセラミック ジルコンセラミック パイロ
セラムの如き） リシャセラミック、ステアタイトセラミック、酸化チタ
ンセラミック、セルシャンセラミック等が挙げられる。

しかしながら、真空コーティングにより得られた結晶性
保護膜は光透過性となるセラミックであればよく、前記
のものに限定されるものではない。

その選択はその反射板の使用目的に応じて行われる。

例えば耐熱性、耐酸性を必要とする場合には酸化物セラ
ミック、高アルミナおよびムライトセラミックが望まし
く、耐アルカリを必要とする場合には鉄カンラン、ジャ
モン岩等のセラミックが望ましく、耐熱性を必要とする
場合にはキン青石セラミック、リシャセラミック等が望
ましく、特に熱膨張収縮の少ないことを必要とする場合
にはパイロセラム等のリシャセラミックが望ましい。

結晶性セラミックの真空コーティングは前記の金属を真
空コーティングする装置と同じ装置を使用してコーティ
ングすることができる。

しかしながら、金属と結晶性セラミックとの操作は相当
界なる。

その第１は結晶性セラミックの融解又は昇華、蒸発に要
するエネルギーは金属の場合のエネルギーに比べてはる
かに高いことである。

従って、いずれのコーティング法をとる場合においても
、コーティング時間は金属の場合に比べて長くなり、ま
た気化やイオン化を行う方法も結晶性のセラミックの場
合がより限定される。

例えば金属の多くは高融点金属を用いた抵抗加熱によっ
て融解し気化することが出来るが、結晶性のセラミック
のほとんどは抵抗加熱を用いることが出来ず電子線やイ
オン流によって気化しなければならない。

また第２の相違として、金属は熱伝度が大きいため、一
部を加熱すれば全体が均一に熱せられ融解するが、結晶
性セラミックの場合は加熱された部分およびその近傍の
みが融解することが多い。

本発明に於て用いる結晶性セラミックは金属とは異なっ
た真空コーティング特性をもっているので、この点にも
留意して真空コーティングを行なわなければならない。

その典型的な例として、例えばアルミナの通常コーティ
ングを行なう場合には、その膜は黄色乃至酷い場合には
黒褐色になることが多いが、本発明に於いてはかくの如
き場合には酸素を十分に補給するか、又は酸素と反応コ
ーティングせしめてこの問題を解決することに成功し、
これにより無色透明のコーテイング膜が得られた。

次にセラミックの平均自由行路は多くの場合金属の平均
自由行路よりも短かいので、他の条件が同一の場合金属
よりも高真空度或いは高温度或いは高イオン化率等のよ
り厳しい条件で行わなければならない。

例えばアルミニウムは１０’Ｔｏｒｒ台でも真空蒸着出
来るが二酸化硅素は１０−５Ｔｏｒｒ台の真空度で蒸着
しなければ良好なコーテイング膜を得ることが困難であ
る。

スパッタリングの場合は、セラミックは金属の場合に比
べてコーティング速度がはるかに遅くなる。

イオンブレーティングの場合は金属に比べてセラミック
のイオン化が困難であることと、コーティングされた被
着体すなわちカソードが絶縁されるため、イオンブレー
ティングが行いにくくなることが有る。

これはプラスはイオンブレーティングのようにカソード
電圧が高くイオン電流が大きいイオンブレーティング法
の場合には特に著しい。

この様な場合には被着体をカソードとせず被着体の近傍
に金属鋼を作ったカソードを用意することによってかな
り改善される。

プラズマイオンブレーティングの場合は印加電圧をイオ
ン化電圧以上通常１０ＫＶ以下ぐらいに保ち、少なくと
も１ｏ−”’ｒｏｒｒ以上Ｉ Ｔｏｒｒ以下、望ましく
は１Ｏ−２Ｔｏｒｒ台の減圧度でコーティングを行う。

減圧度が高すぎるとグロー放電が行わなくなったり陰極
暗部が消失したりし反対に減圧度が低すぎるとアーク放
電やスパーク放電が起り都合が悪くなることがある。

ＲＦイオンブレーティングや高周波イオン化が、ホロー
カソード等の如きイオン発生装置を用いる場合には、最
高１０ ’Ｔｏｒｒに至る真空度でもコーティングする
ことが可能な場合もある。

イオン化率が十分に高い場合は、真空蒸着の場合よりも
物質粒子の平均自由行路が長くなり且つ又印加電圧が大
きくなると平均自由行路がさらに長くなるので、減圧度
が低くてもコーティングが可能なことがイオンブレーテ
ィングの利点である。

但しセラミックのイオン化電圧は大きく、平均自由行路
は短かいので出来るだけ励起電圧の大きいプラズマイオ
ンブレーティングを行なうかさもなければホロカソード
や高周波イオンガンを用いることが望ましい。

この際平均自由行路やイオン速度があまり異なる材料を
用いると膜面が失透したり変色したりする事があり又コ
ーテイング膜が不均一組成となることがあるので化学的
に出来るだけ均一な材料を用いることが望ましい。

又酸素欠損になることがあるので酸素雰囲気下でコーテ
ィングすることが望ましい。

このようにして得られた反射板は製造後直に高耐久性を
発揮できるものもあるが、一般には（１）室温で数日放
置する。

（２）熱変形温度以下で数１０分〜数時間加温する。

（３）熱変形温度以下で加温と冷却を数回繰り返す等の
熟成を行うことにより、耐久性を増加させることができ
る。

本発明の反射板は、 （１）金属または非金属基板の表面に樹脂をコーテイン
グして金属面のピンホール、その他の非平滑面を被覆す
るので、基材表面に研磨を必要とせず、その上に直接真
空コーティングにより平滑な反射金属層を形成し得られ
る。

（２） 金属と結晶性セラミックとは、共に真空コーテ
ィングするので、連続的に同一装置により行ない得られ
製造も容易である。

（３）結晶性のセラミックを真空コーティングするので
、従来の樹脂塗料を使用する場合と異なり、光反射金属
膜と同じレプリカの薄膜を形成し得られるので、保護膜
による光の屈折や吸収は極めて少なく、全反射率や正反
射率、屈折率の変化が少ない上、樹脂保護膜の如き経時
的失透或は着色劣化も少ない。

（４）光透過性セラミック層は耐熱性、耐光性、耐候性
、耐溶剤性が優れており、その表面は緻密であるため、
経時使用しても、油による汚染を受けても浸食されるこ
とがなく、シかも汚染物の拭き取りによっても摩耗傷も
少ないので、長期使用に耐え得る。

耐油性、耐摩耗性の強いものである。

（５）前記光透過性セラミック膜は樹脂塗料に比べ真空
コーティングにより薄膜でよく、熱伝導度も大きいので
、照明器具反射板と使用する場合コーテイング膜の温度
上昇も小さい。

（６）基板上に平滑な樹脂層を設けたことにより、その
上に真空コーティングした光輝性金属の正反射性の特性
を十分に発揮し得られ、任意の反射面曲率との組合せに
よって極めて鮮明な反射像或いは精度の高い集光性、配
光性を有する優れた反射板が得られる。

等の優れた特長を有するものである。

実施例 １ 厚さ０．０３へ縦横とも２５ののステンレス板を脱脂洗
浄し、乾燥させた後エポキシ樹脂溶液を塗布し、加熱硬
化せしめた。

これを真空コーターのペルジャー内に入れ、ハースライ
ナの真上に平行で３０ｃｒｒＬの距離に保持し、真空度
を２Ｘ１０”Ｔｏｒｒにした後空気雰囲気中で電子ビー
ムを以ってニッケルを加熱蒸発せしめ、基板温度が１５
０℃のもとで表３の１に示す如な、印加電圧、−３ＫＶ
、ＥＢ出力２．５ＫＷコーテイング圧力４×６ＸＩＯ”
−”Ｔｏｒｒの条件下で３０秒間真空コーティングを行
なった。

引き続きペルジャー内の真空度を２Ｘ１０’″″５Ｔｏ
ｒ ｒにした後酸素ガスを導入して５Ｘ１０”−３Ｔｏ
ｒｒに昇圧後再び２ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒに減圧し、
同じ操作を２回繰返した後酸素雰囲気中で電子ビームを
以ってムライトを加熱蒸発せしめ、同表２の１に示した
、印加電圧−０，７ＫＶ、ＥＢ出力１．５ＫＷ、コーテ
ィング圧カフ 〜９Ｘ１０−５Ｔｏｒｒの条件下で基板
温度が１５０℃のもとて５分間真空コーティングを行な
った。

得られた透明なムライト保護膜を有する反射板を１５０
℃の恒温槽中で耐熱テストした結果、異状な変化はなく
、耐熱度の高い反射板であり、その上、ガーゼで強くこ
すっても傷がつかず、ゴバン目テストによる剥離もなく
、耐摩耗性、密着性いずれも優れたものであった。

又、有機溶剤或いは油類に汚されても侵されることなく
、耐溶剤性、耐油性の強いものであり、室内装飾ミラー
、天井材光反射ミラーとして好適である。

実施例 ２ 厚さ０．１ ｃｒｎ１縦横とも１０ＣｒｆＬのアルミニ
ウム板にフェノール樹脂を塗布し、加熱硬化せしめた。

これを真空コーターのペルジャー内のハースライナの真
上８ｃＩｎ、の処に装着された直径１０ｃＴｒＬＳ高さ
１０（１１７７２の高周波発振コイルより上方４ｃｍの
位置に保持し、真空度をＩ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒにし
た後、アルゴンガスを導入して５ Ｘ １０−３Ｔｏｒ
ｒに昇圧後、再びＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに減圧し、
同じ操作を２回繰返した後、アルゴンガスの雰囲気中で
表３の２に示す如き、印加電圧−１，５ＫＶ１ＥＢ出力
１．５〜２ＫＷ１コーテイング圧力５〜６ ＸＩＯ’Ｔ
ｏｒｒの条件下でＲＦ出力３５０Ｗ周波数１３．５６
ＭＨｚ。

基板が常温の状態で電子ビームを以ってアルミニウムを
加熱蒸発させ、蒸発粒子を高周波コイルの中を通過せし
めて、３０秒間コーティングを行なった。

次に、真空度をＩ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒに減圧した後
、酸素ガスを導入して５ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒに昇圧
後再びＩ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒに減圧し、同じ操作を
２回繰返した後酸素雰囲気中で同表２の１に示した印加
電圧−〇、７ＫＶ、ＥＢ出力１．５ ＫＷ、コーティン
グ圧力４〜５ Ｘ １０”−’ Ｔｏｒｒの条件下で上
記と同じ方法でアルミナを５分間コーティングした。

得られた無色透明なアルミナ保護膜を有する反射板を１
５０°Ｃの恒温槽中で耐熱テストを行ない、室温で相対
湿度９０ｆｏの高湿環境中に５日間放置した結果、反射
率を始め、表面の変化もなく、耐熱度の高い反射板であ
った。

その上、ゴバン目テストによる剥離はなく、ガーゼで強
くこすっても傷がつかず、密着性、耐摩耗性いずれも優
れたものであった。

又、従来の化学研磨を施してアルミニウムの上に湿式法
で無水硅酸をコーティングした反射板やアルマイト加工
したものに比べて全反射率は若干優れるのみであるが正
反射率は遥かに優れたものであることも確認された。

従って、正反射性が要求される照明器具の反射板として
最適であり、又、有機溶剤或いは油類に汚染されても侵
されることなく、耐溶剤性、耐油性の強いものであり、
天井材光反射ミラー、室内装飾ミラーとしても好適であ
る。

実施例３及び４ 厚さ０．２ｃｒｒＬの市販ガラス板を縦横とも１５ｃＩ
ｒＬに切り取り、一方、厚さ０．１５Ｃｒｎの真鍮板を
直径３０へ高さ１５傭の放物面反射セードの形状に絞り
加工し、別布研磨及び脱脂洗浄を施し、乾燥した。

それぞれの基板にフェニル基／（メチル基＋フェニル基
）が８３．６モルφの高アリールシリコン樹脂を塗布し
て加熱硬化せしめた樹脂塗着体を真空コーターのペルジ
ャー内に入れ、実施例３の場合はハースライナの真上に
平行な３０ｃＴＬの位置に置き、一方、実施例４の場合
は放物面反射セードの底辺をハースライナの上に平行な
２０ｃｒＩＬの距離に保持し、いずれも真空度を２．５
Ｘ１０−”Ｔｏｒｒに減圧した後空気の雰囲気中で電子
ビームを以って実施例３ではクロム、実施例４ではアル
ミニウムを加熱蒸発させ、表２の３に示す如き、印加電
圧−２ＫＶ、ＥＢ出力０．５〜０．７ＫＷ、−１−ティ
ング圧力１．５〜２ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ、 ２０秒
間、及び同表の４に示した印加電圧−３ＫＶ、ＥＢ出力
２ＫＷ、コーティング圧力６〜７ Ｘ １０−”Ｔｏｒ
ｒ３０秒間それぞれの条件下で真空コーティングを行な
った。

ただし、コーティング時の基板温度は実施例３は１５０
℃で実施例・４は室温である。

その後ペルジャー内の真空度を更にｌＸｌ０−５Ｔｏｒ
ｒにした後いずれも酸素ガスを導入して５×１０−”
Ｔｏｒｒに昇圧後、再びＩ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒに減
圧し、同じ操作を２回繰り返した後、基板を１８０°Ｃ
に加熱した状態で同表２に示す如き実施例３では印加電
圧−〇、７ＫＶ、ＥＢ出力１〜１．２ＫＷ、−１−ティ
ング圧力８〜１０×１Ｏ−５Ｔｏｒｒ１実施例４では印
加電圧−ＩＫＶ、ＥＢ出力１．５ＫＷ、コーティング圧
力８〜９ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ各各の所定条件下で実
施例３では電溶スピネル、実施例４ではアルミナを電子
ビームで以って蒸発せしめ、いずれも５分間真空コーテ
ィングを行なった。

得られた４層構造からなる反射板及び反射セードを１８
０℃の恒温槽中において耐熱試験を行なった結果、反射
率を始め表面の変色もなく、耐熱度の高い反射板であっ
た。

又、水道水中に３日間浸漬しても上記と同じ結果であり
、真空コーティング時のコーティングの角度を０°から
５００の間自由に設定しても同じ特徴の光透過性の保護
膜が得うれ、ゴバン目テストによる剥離もなく、１００
／１００と優れた密着性を示した。

又、有機溶剤或いは、油類に汚されても侵されることな
く、耐溶剤性、耐油性の強いものであり、実施例３のも
のはジョールームやショーウィンドーの内装ミラーとし
て最適であり、一方、実施例４のものはインテリア照明
器具の反射セードとして好適である。

実施例 ５ フェニル基／（メチル基＋フェニル基） ８３．６モル係の高アリールシリコン樹脂で全体を塗布
し、加熱硬化せしめた厚さ０．１ ｃｍ、縦横とも１０
ｃｒｒＬの表面平滑な熱硬化性ポリエステル樹脂板を、
スパッタリング装置内の基板ホルダーに保持し、一方の
ターゲットとしては板状アルミニウムを用いて、基板と
ターゲットとの間の距離を２０のに固定し、ペルジャー
内の減圧度を３Ｘ１０−’Ｔｏｒｒに排気した後アルゴ
ンガスを導入して１×１０−”Ｔｏｒｒに昇圧後、シャ
ッターを閉じたまま出力４．５ＫＷ、周波数１３．５６
ＭＨｚの高周波で以って１０分間クリニングスパッタ
リングをし、ターゲット表面の浄化と放電の安定化を行
ない、その後、シャッターを開き５分間アルミニウムの
スパッタリングを行なった。

次にアルミナターゲットを用い、ペルジャー内の温度を
１５０℃に加熱ベークした後、上記と同じ条件で１０分
間クリニングスパッタリングをした後シャッターを開き
、１００分間アルミナのスパッタリングを行った。

得られたアルミナの透明な保護膜を有する反射板は、こ
れを水道水中に５日間浸漬した結果、表面に異状な変化
はなかった。

又、ガーゼで強くこすっても傷つかず、耐水性、耐摩耗
性とも優れたものであった。

公衆浴場、洗面所等高湿環境中に設けられた姿見ミラー
として用いる事により、従来のガラスミラーに比べて割
れにくいし、若し割れても破片が飛散せず、非常に安全
である。

実施例 ６ 厚さ０．０３へ縦横とも４０ののステンレス板を脱脂洗
浄し乾燥させた後にフェニル基／（メチル基＋フェニル
基）＝８３．６モルφの高アリールシリコン樹脂を塗布
し、加熱硬化せしめた。

この樹脂塗着板を真空コーターのベルジャ内に入れハー
スライナの真上に平行で４２ｃｒｒＬの位置に保持し、
真空度を２ Ｘ １０”−５Ｔｏｒｒにした後アルゴン
ガスを導入して２ Ｘ １０−２Ｔｏｒｒに昇圧後、再
び２×１０”−”Ｔｏｒｒまで減圧にし、同じ操作を２
回繰り返した後、アルゴン雰囲気中で、基板が常温で表
２の６に示す如き、印加電圧−２ＫＷ、抵抗加熱出力１
００Ａ、コーティング圧力２〜３Ｘ１０−２Ｔａｒｒの
条件下でペルジャー内にグロー放電を行なわせ、基板表
面の浄化と放電の安定化を行ない、次に抵抗加熱で以っ
てアルミニウムを加熱蒸発せしめ、１０秒間プラズマイ
オンブレーティングを行なった。

その後、ペルジャー内の真空度を再び２×１０”−’Ｔ
ｏｒｒにした後、酸素ガスを導入して、５Ｘ １０−３
Ｔｏｒｒに昇圧し、上記と同じ操作を２回繰り返した後
、同表２の６に示した印加電圧−〇、３ＫＶ、ＥＢ出力
０．６〜ＩＫＷ、コーティング圧力６〜８ Ｘ １０−
５Ｔａｒｒ条件下で電子ビームを以ってアルミナを加熱
蒸発せしめ、５分間真空コーティングした。

得られた反射板を１８０℃の恒温槽内において耐熱試験
を行なった結果、反射率を始め、表面の変色等の変化も
なく、耐熱度の高い反射板であった。

又、水道水中に３日間浸漬しても上述と同じ結果であっ
た。

この反射板は従来のアルマイト加工したものや化学研磨
を施したアルミの上に湿式法で無水硅酸をコーティング
した反射鏡に比べて全反射率は若干優れるのみであるが
正反射率は遥かに優れたものであった。

得られた反射板は従来の太陽熱反射板に使われたガラス
板の裏面鏡に比べて正反射率は極めて高い。

その上、軽量、運搬、成形のしやすさ、衝撃による破損
しにくい等の利点が挙げられ、太陽熱反射板として極め
て有利に利用し得られる。

表１は本発明の実施態様を表記したものであり、表２は
本発明の各実施例における条件を表記したものである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基板表面に樹脂層を設け、その上に光輝性金属の真
   空コーティング層を設は更にその上に光透過性の結晶性
   セラミックの真空コーティング層を設けた反射板。 ２ 樹脂層がアリール基／（アルキル基十アリール基）
   のモル百分率が６５〜１００φである高アリールシリコ
   ン樹脂である特許請求の範囲第１項記載の反射板。 ３１０−１〜１Ｏ−５Ｔｏｒｒの真空下セラミックの熔
   融状態において、その設定真空度の１００倍以内の真空
   度損失しかもたらさない特許請求の範囲第１項記載のセ
   ラミックを真空コーティングした反射板。 ４ 原料が結晶質であるセラミックを用いて真空コーテ
   ィングした特許請求の範囲第１項記載のセラミックの真
   空コーティング反射板。 ５ 真空コーティングしたセラミック層が結晶質である
   特許請求の範囲第１項記載の反射板。 ６ セラミック材料としては、アルミナ、マグネシアジ
   ルコニア、スピネル等の酸化物系セラミック、高アルミ
   ナ及びムライトセラミック、ジルコンセラミック、バイ
   ロスラムの如きリシャセラミック等を真空コーティング
   した特許請求の範囲第１項記載の反射板。 ７ 樹脂層がアリール基／（アルキル基＋アリール基）
   のモル百分率が６５〜１００％重合し得る官能基の官能
   基数が２〜３で、且つ炭素数／硅素数が４．２５〜１６
   であるポリアリールアルキルシロキサンである特許請求
   の範囲第１項記載の高アリールシリコン樹脂の反射極