JP2003100801A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 チップの撓みを抑制してバンプの接合性を向
上すること。 【解決手段】 半導体チップ1に設けた機能バンプ2を
介して半導体チップ1をチップ搭載部材4に電気的に接
続するフリップチップ構造の半導体装置であって、半導
体チップ1とチップ搭載部材4との間に、半導体チップ
1の局部的撓み力に抗するダミーバンプ3を介在させて
いる。
上すること。 【解決手段】 半導体チップ1に設けた機能バンプ2を
介して半導体チップ1をチップ搭載部材4に電気的に接
続するフリップチップ構造の半導体装置であって、半導
体チップ1とチップ搭載部材4との間に、半導体チップ
1の局部的撓み力に抗するダミーバンプ3を介在させて
いる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、機能バンプを用
いたフリップチップ構造の半導体装置に関し、特に、上
記機能バンプの接合信頼性を向上させた半導体装置に関
するものである。
いたフリップチップ構造の半導体装置に関し、特に、上
記機能バンプの接合信頼性を向上させた半導体装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】図15は、従来の半導体装置のチップ1
00上における機能バンプ200の配置例を示す。図1
6に示すように、この機能バンプ200は、チップ搭載
部材、例えば実装基板400に設けられた導体400a
に搭載された後、チップ100が加熱加圧されることに
より両導体100a,400aを接続する。なお、基板
400の上面は、保護膜600によって被覆されてい
る。
00上における機能バンプ200の配置例を示す。図1
6に示すように、この機能バンプ200は、チップ搭載
部材、例えば実装基板400に設けられた導体400a
に搭載された後、チップ100が加熱加圧されることに
より両導体100a,400aを接続する。なお、基板
400の上面は、保護膜600によって被覆されてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、チップ
100は、例えば超音波併用熱圧着ボンディング法のよ
うに、超音波振動を該チップ100に印加した場合に、
その加圧力によって垂直方向に撓む虞れがある。この結
果、図15に示したようにバンプ200が不均一に分布
している場合には、その分布密度の低い部分、特に、図
15に点線で囲んだコーナ部分120の撓みが大きくな
り、バンプ200の接合性が悪化する。
100は、例えば超音波併用熱圧着ボンディング法のよ
うに、超音波振動を該チップ100に印加した場合に、
その加圧力によって垂直方向に撓む虞れがある。この結
果、図15に示したようにバンプ200が不均一に分布
している場合には、その分布密度の低い部分、特に、図
15に点線で囲んだコーナ部分120の撓みが大きくな
り、バンプ200の接合性が悪化する。
【0004】この発明は、上記に鑑みてなされたもの
で、チップの撓みを抑制してバンプの接合性を向上する
ことができる半導体装置を得ることを目的とする。
で、チップの撓みを抑制してバンプの接合性を向上する
ことができる半導体装置を得ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明にかかる半導体装置は、チップに設けた機
能バンプを介して前記チップをチップ搭載部材に電気的
に接続するフリップチップ構造の半導体装置であって、
前記チップと前記チップ搭載部材との間に、前記チップ
の局部的撓み力に抗する支持部材を介在させたことを特
徴とする。
め、この発明にかかる半導体装置は、チップに設けた機
能バンプを介して前記チップをチップ搭載部材に電気的
に接続するフリップチップ構造の半導体装置であって、
前記チップと前記チップ搭載部材との間に、前記チップ
の局部的撓み力に抗する支持部材を介在させたことを特
徴とする。
【0006】この発明によれば、機能バンプをチップ搭
載部材に接続するためにチップを加圧する際、支持部材
がチップに作用する加圧力に抗することになる。
載部材に接続するためにチップを加圧する際、支持部材
がチップに作用する加圧力に抗することになる。
【0007】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記チップの中心を基準とする前記機能
バンプの点対称空所位置に前記支持部材を配置したこと
を特徴とする。
発明において、前記チップの中心を基準とする前記機能
バンプの点対称空所位置に前記支持部材を配置したこと
を特徴とする。
【0008】この発明によれば、支持部材によってチッ
プの中心を基準とする機能バンプの点対称空所位置が支
持される。
プの中心を基準とする機能バンプの点対称空所位置が支
持される。
【0009】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記点対称空所位置を前記チップの所定
のコーナ領域に限定したことを特徴とする。
発明において、前記点対称空所位置を前記チップの所定
のコーナ領域に限定したことを特徴とする。
【0010】この発明によれば、所定のコーナ領域にお
ける点対称空所位置が支持部材によって支持される。
ける点対称空所位置が支持部材によって支持される。
【0011】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記コーナ領域は、前記チップの一方お
よび他方の辺長をそれぞれDおよびEとした場合に、
(D/3)×(E/3)の大きさに設定したことを特徴
とする。
発明において、前記コーナ領域は、前記チップの一方お
よび他方の辺長をそれぞれDおよびEとした場合に、
(D/3)×(E/3)の大きさに設定したことを特徴
とする。
【0012】この発明によれば、上記コーナ領域が前記
チップの一方および他方の辺長DおよびEによって規定
される(D/3)×(E/3)の大きさに制限されるこ
とになる。
チップの一方および他方の辺長DおよびEによって規定
される(D/3)×(E/3)の大きさに制限されるこ
とになる。
【0013】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記チップに設定した所定のバンプ配置
位置において各コーナに最も近接した部分に前記支持部
材を配置したことを特徴とする。
発明において、前記チップに設定した所定のバンプ配置
位置において各コーナに最も近接した部分に前記支持部
材を配置したことを特徴とする。
【0014】この発明によれば、チップの各コーナに最
も近接したバンプ配置位置が支持部材によって支持され
る。
も近接したバンプ配置位置が支持部材によって支持され
る。
【0015】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記支持部材が、前記チップに設けら
れ、かつ前記チップ搭載部材とは電気的に接続しないダ
ミーバンプであることを特徴とする。
発明において、前記支持部材が、前記チップに設けら
れ、かつ前記チップ搭載部材とは電気的に接続しないダ
ミーバンプであることを特徴とする。
【0016】この発明によれば、ダミーバンプによって
チップが支持される。
チップが支持される。
【0017】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記チップ搭載部材のチップ搭載面にお
いて前記ダミーバンプが接触する領域を、電気絶縁性の
保護膜で被覆したことを特徴とする。
発明において、前記チップ搭載部材のチップ搭載面にお
いて前記ダミーバンプが接触する領域を、電気絶縁性の
保護膜で被覆したことを特徴とする。
【0018】この発明によれば、ダミーバンプが金属接
合する際に問題となる機能バンプへの接合エネルギーの
供給ロスを低減することができる。
合する際に問題となる機能バンプへの接合エネルギーの
供給ロスを低減することができる。
【0019】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記支持部材が、前記チップから前記機
能バンプの突出方向にループ状に張り出す金属ワイヤで
あることを特徴とする。
発明において、前記支持部材が、前記チップから前記機
能バンプの突出方向にループ状に張り出す金属ワイヤで
あることを特徴とする。
【0020】この発明によれば、ループ状の金属ワイヤ
によってチップが支持される。
によってチップが支持される。
【0021】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記支持部材が、前記チップおよび前記
チップ搭載部材のいずれか一方から他方に向かって突出
した弾力性のある突起であることを特徴とする。
発明において、前記支持部材が、前記チップおよび前記
チップ搭載部材のいずれか一方から他方に向かって突出
した弾力性のある突起であることを特徴とする。
【0022】この発明によれば、弾性突起によってチッ
プが支持される。
プが支持される。
【0023】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記支持部材が、前記チップおよび前記
チップ搭載部材の双方から相対向して突出した弾力性の
ある突起であることを特徴とする。
発明において、前記支持部材が、前記チップおよび前記
チップ搭載部材の双方から相対向して突出した弾力性の
ある突起であることを特徴とする。
【0024】この発明によれば、チップおよびチップ搭
載部材の双方から突出する突起によってチップが支持さ
れる。
載部材の双方から突出する突起によってチップが支持さ
れる。
【0025】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記支持部材が、前記チップおよび前記
チップ搭載部材の双方から独立した弾力性のあるスペー
サであることを特徴とする。
発明において、前記支持部材が、前記チップおよび前記
チップ搭載部材の双方から独立した弾力性のあるスペー
サであることを特徴とする。
【0026】この発明によれば、チップおよびチップ搭
載部材の双方から独立したスペーサによってチップが支
持される。
載部材の双方から独立したスペーサによってチップが支
持される。
【0027】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記チップと前記チップ搭載部材との間
の間隙にアンダーフィル樹脂を充填したことを特徴とす
る。
発明において、前記チップと前記チップ搭載部材との間
の間隙にアンダーフィル樹脂を充填したことを特徴とす
る。
【0028】この発明によれば、半導体装置が受ける熱
ストレスに起因したバンプ接合部の破断現象をアンダー
フィル樹脂が抑制する。
ストレスに起因したバンプ接合部の破断現象をアンダー
フィル樹脂が抑制する。
【0029】つぎの発明にかかる半導体装置は、上記の
発明において、前記支持部材が、弾力性のあるフィラー
であり、前記チップと前記チップ搭載部材との間の間隙
にアンダーフィル樹脂を充填して、前記フィラーを前記
アンダーフィル樹脂内に埋設したことを特徴とする。
発明において、前記支持部材が、弾力性のあるフィラー
であり、前記チップと前記チップ搭載部材との間の間隙
にアンダーフィル樹脂を充填して、前記フィラーを前記
アンダーフィル樹脂内に埋設したことを特徴とする。
【0030】この発明によれば、アンダーフィル樹脂内
に埋設されたフィラーによってチップが支持される。
に埋設されたフィラーによってチップが支持される。
【0031】
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照して、この
発明にかかる半導体装置の好適な実施の形態を詳細に説
明する。
発明にかかる半導体装置の好適な実施の形態を詳細に説
明する。
【0032】実施の形態1.図1は、この発明の実施の
形態1である半導体装置のダミーバンプの配置例を示す
平面図である。
形態1である半導体装置のダミーバンプの配置例を示す
平面図である。
【0033】この実施の形態1においては、半導体チッ
プ1に対して半導体装置の動作機能に必要な金属バンプ
(以下、機能バンプ2という)と、半導体装置の動作機
能には影響しない、つまり電源、グランド、信号伝送な
どの導体としての役目をしないバンプ(以下、ダミーバ
ンプ3という)とが設けられている。
プ1に対して半導体装置の動作機能に必要な金属バンプ
(以下、機能バンプ2という)と、半導体装置の動作機
能には影響しない、つまり電源、グランド、信号伝送な
どの導体としての役目をしないバンプ(以下、ダミーバ
ンプ3という)とが設けられている。
【0034】各機能バンプ2は、半導体チップ1の中心
に対して必ずしも点対称な位置に設けられていない。そ
こで、この実施の形態1では、この点対称性が成立して
いない機能バンプ2の点対称空所位置に上記ダミーバン
プ3を設けてある。
に対して必ずしも点対称な位置に設けられていない。そ
こで、この実施の形態1では、この点対称性が成立して
いない機能バンプ2の点対称空所位置に上記ダミーバン
プ3を設けてある。
【0035】この実施の形態1によれば、機能バンプ2
とダミーバンプ3とを合わせたバンプ群が半導体チップ
1の中心に対して点対称に分布するので、例えば超音波
併用熱圧着ボンディング法のように、超音波振動を半導
体チップ1に印加した場合にも、半導体チップ1におけ
る機能バンプ2が存在しない部位、あるいは機能バンプ
2の分布密度の小さい部位が局所的に大きく撓むという
不都合が回避されて機能バンプ2の接合性が向上するよ
うになる。
とダミーバンプ3とを合わせたバンプ群が半導体チップ
1の中心に対して点対称に分布するので、例えば超音波
併用熱圧着ボンディング法のように、超音波振動を半導
体チップ1に印加した場合にも、半導体チップ1におけ
る機能バンプ2が存在しない部位、あるいは機能バンプ
2の分布密度の小さい部位が局所的に大きく撓むという
不都合が回避されて機能バンプ2の接合性が向上するよ
うになる。
【0036】実施の形態2.つぎに、この発明の実施の
形態2について説明する。この実施の形態2は、上述し
た実施の形態1の技術を半導体チップ1の各コーナ領域
においてのみ適用したものである。すなわち、半導体チ
ップ1の各コーナ領域において点対称性が成立していな
い機能バンプ2に対し、その点対称空所位置に上記ダミ
ーバンプ3を設けるようにしている。
形態2について説明する。この実施の形態2は、上述し
た実施の形態1の技術を半導体チップ1の各コーナ領域
においてのみ適用したものである。すなわち、半導体チ
ップ1の各コーナ領域において点対称性が成立していな
い機能バンプ2に対し、その点対称空所位置に上記ダミ
ーバンプ3を設けるようにしている。
【0037】この実施の形態2によれば、半導体チップ
1の相対向する各コーナ領域の一方が局所的に大きく撓
むという不都合が回避されて、機能バンプ2の接合性が
向上する。また、たとえ図1のように半導体チップ1の
内方領域に機能バンプ2が存在している場合でも、ダミ
ーバンプ3の配設位置が上記コーナ領域に限定されるの
で、該ダミーバンプ3の配設数が少なくなるという利点
が得られる。
1の相対向する各コーナ領域の一方が局所的に大きく撓
むという不都合が回避されて、機能バンプ2の接合性が
向上する。また、たとえ図1のように半導体チップ1の
内方領域に機能バンプ2が存在している場合でも、ダミ
ーバンプ3の配設位置が上記コーナ領域に限定されるの
で、該ダミーバンプ3の配設数が少なくなるという利点
が得られる。
【0038】なお、この実施の形態2では、半導体チッ
プ1の一方および他方の辺長をそれぞれDおよびEとし
た場合に、上記コーナ領域を(D/3)×(E/3)の
大きさに設定してある。ただし、この領域の大きさは、
バンプ2,3の配列密度等に応じて適宜変更するように
しても良い。
プ1の一方および他方の辺長をそれぞれDおよびEとし
た場合に、上記コーナ領域を(D/3)×(E/3)の
大きさに設定してある。ただし、この領域の大きさは、
バンプ2,3の配列密度等に応じて適宜変更するように
しても良い。
【0039】実施の形態3.つぎに、この発明の実施の
形態3について説明する。図3に示す半導体チップ1
は、そのバンプ配置位置を、該半導体チップ1の全域に
均等に分布するようにマトリックス状に設定したもので
ある。また、図4および図5に示す半導体チップ1は、
そのバンプ配置位置を周縁部に設定し、さらに、図6に
示す半導体チップ1は、そのバンプ配置位置を周縁およ
び内方の一部に設定したものである。
形態3について説明する。図3に示す半導体チップ1
は、そのバンプ配置位置を、該半導体チップ1の全域に
均等に分布するようにマトリックス状に設定したもので
ある。また、図4および図5に示す半導体チップ1は、
そのバンプ配置位置を周縁部に設定し、さらに、図6に
示す半導体チップ1は、そのバンプ配置位置を周縁およ
び内方の一部に設定したものである。
【0040】この実施の形態3では、上記のようなバン
プ配置位置が設定されている場合に、少なくとも半導体
チップ1の各コーナに最も近接したバンプ配置位置にダ
ミーバンプ3を配設するようにしている。したがって、
半導体チップ1のコーナ近傍に垂直方向の撓みが発生し
た場合でも、ダミーバンプ3のみにおいて接合不良が発
生することになる。つまり、機能バンプ2での接合不良
が回避されるようになる。
プ配置位置が設定されている場合に、少なくとも半導体
チップ1の各コーナに最も近接したバンプ配置位置にダ
ミーバンプ3を配設するようにしている。したがって、
半導体チップ1のコーナ近傍に垂直方向の撓みが発生し
た場合でも、ダミーバンプ3のみにおいて接合不良が発
生することになる。つまり、機能バンプ2での接合不良
が回避されるようになる。
【0041】実施の形態4.つぎに、この発明の実施の
形態4について図7を参照して説明する。この実施の形
態4は、チップ搭載部材4(基板、または下側チップ)
においてダミーバンプ3が接触する面を、ダミーバンプ
3とは金属接合しない電気絶縁性の保護膜6で被覆した
構成を有する。なお、この図7において、符号1aは半
導体チップ1に設けたパッド等の導体を示し、符号4a
はチップ搭載部材4に設けたランド等の導体を示してい
る。
形態4について図7を参照して説明する。この実施の形
態4は、チップ搭載部材4(基板、または下側チップ)
においてダミーバンプ3が接触する面を、ダミーバンプ
3とは金属接合しない電気絶縁性の保護膜6で被覆した
構成を有する。なお、この図7において、符号1aは半
導体チップ1に設けたパッド等の導体を示し、符号4a
はチップ搭載部材4に設けたランド等の導体を示してい
る。
【0042】この実施の形態4によれば、ダミーバンプ
3が金属接合する際に問題となる機能バンプ2への接合
エネルギーの供給ロスを低減することができる。
3が金属接合する際に問題となる機能バンプ2への接合
エネルギーの供給ロスを低減することができる。
【0043】なお、上述した絶縁性の保護膜6として
は、基板の表面に設けられる保護膜の材料として使用さ
れるソルダーレジストや、半導体チップ1表面の保護膜
の材料として使用されるポリイミドコートなどを用いる
ことができる。
は、基板の表面に設けられる保護膜の材料として使用さ
れるソルダーレジストや、半導体チップ1表面の保護膜
の材料として使用されるポリイミドコートなどを用いる
ことができる。
【0044】ここで、機能バンプ2およびダミーバンプ
3は、スタッドバンプ法、もしくは、めっき法で形成さ
れたバンプのほか、導電性粒子を含有した接着剤からな
るバンプを含んでいる。
3は、スタッドバンプ法、もしくは、めっき法で形成さ
れたバンプのほか、導電性粒子を含有した接着剤からな
るバンプを含んでいる。
【0045】実施の形態5.図8に示すように、この実
施の形態5では、上述した実施の形態1〜4におけるダ
ミーバンプ3の代わりに、ループ状に形成した金属製の
ワイヤ7を使用している。
施の形態5では、上述した実施の形態1〜4におけるダ
ミーバンプ3の代わりに、ループ状に形成した金属製の
ワイヤ7を使用している。
【0046】この金属ワイヤ7は、金、銅、鉛、錫等の
金属を主成分とした金属細線、もしくは、その表面に絶
縁性被覆を施した細線からなり、一般的なワイヤボンデ
ィング手法と同様な手法によってその両端が半導体チッ
プ1の導体1aに接続される。
金属を主成分とした金属細線、もしくは、その表面に絶
縁性被覆を施した細線からなり、一般的なワイヤボンデ
ィング手法と同様な手法によってその両端が半導体チッ
プ1の導体1aに接続される。
【0047】この実施の形態5によれば、半導体チップ
1の垂直方向の撓みを広い面積で抑制することができる
ので、機能バンプ2の接合性を一層向上することができ
る。
1の垂直方向の撓みを広い面積で抑制することができる
ので、機能バンプ2の接合性を一層向上することができ
る。
【0048】実施の形態6.図9に示すように、この実
施の形態6では、上述した実施の形態1〜4におけるダ
ミーバンプ3に代えて、弾力性のある突起8を設けてあ
る。この弾性突起8は、半導体チップ1とチップ搭載部
材4(基板または下側チップ)との間の間隙とほぼ同等
な高さを有し、例えば図示するように、半導体チップ1
の表面に設けられる。
施の形態6では、上述した実施の形態1〜4におけるダ
ミーバンプ3に代えて、弾力性のある突起8を設けてあ
る。この弾性突起8は、半導体チップ1とチップ搭載部
材4(基板または下側チップ)との間の間隙とほぼ同等
な高さを有し、例えば図示するように、半導体チップ1
の表面に設けられる。
【0049】上記弾性突起8は、図10に示すように、
チップ搭載部材4の表面に設けても良い。
チップ搭載部材4の表面に設けても良い。
【0050】この実施の形態6によれば、ダミーバンプ
3を設けた場合と同様に、半導体チップ1のコーナ部に
位置する機能バンプ2の良好な接合性を確保することが
できる。
3を設けた場合と同様に、半導体チップ1のコーナ部に
位置する機能バンプ2の良好な接合性を確保することが
できる。
【0051】なお、図11に示すように、上記弾性突起
8の高さの略1/2の高さを有する2つの弾性突起8a
および弾性突起8bをそれぞれ半導体チップ1およびチ
ップ搭載部材4の表面に相対向して設けて、それらを当
接させるようにしても良い。
8の高さの略1/2の高さを有する2つの弾性突起8a
および弾性突起8bをそれぞれ半導体チップ1およびチ
ップ搭載部材4の表面に相対向して設けて、それらを当
接させるようにしても良い。
【0052】実施の形態7.図12に示すように、この
実施の形態7は、半導体チップ1とチップ搭載部材4
(基板または下側チップ)との間の間隙に、該半導体チ
ップ1およびチップ搭載部材4から独立し、かつ、この
間隙とほぼ同等の厚さを有した弾力性のあるスペーサ9
を介在させた構成を有する。
実施の形態7は、半導体チップ1とチップ搭載部材4
(基板または下側チップ)との間の間隙に、該半導体チ
ップ1およびチップ搭載部材4から独立し、かつ、この
間隙とほぼ同等の厚さを有した弾力性のあるスペーサ9
を介在させた構成を有する。
【0053】この実施の形態7によれば、半導体チップ
1およびチップ搭載部材4の表面に弾力性を有する部材
を付加することなく、これらの間に介在させた弾性スペ
ーサ9により、前述のダミーバンプ3を使用した場合と
同様な機能バンプ2の接合性向上効果が得られる。
1およびチップ搭載部材4の表面に弾力性を有する部材
を付加することなく、これらの間に介在させた弾性スペ
ーサ9により、前述のダミーバンプ3を使用した場合と
同様な機能バンプ2の接合性向上効果が得られる。
【0054】実施の形態8.図13に示すように、この
実施の形態8は、上述した実施の形態1〜7において、
半導体チップ1とチップ搭載部材4(基板または下側チ
ップ)との間の間隙にアンダーフィル樹脂10を充填し
た構成を有する。なお、図13は、図7に示す半導体チ
ップ1とチップ搭載部材4との間にアンダーフィル樹脂
10を充填した状態を示している。
実施の形態8は、上述した実施の形態1〜7において、
半導体チップ1とチップ搭載部材4(基板または下側チ
ップ)との間の間隙にアンダーフィル樹脂10を充填し
た構成を有する。なお、図13は、図7に示す半導体チ
ップ1とチップ搭載部材4との間にアンダーフィル樹脂
10を充填した状態を示している。
【0055】この実施の形態8によれば、半導体装置が
受ける熱ストレスに起因したバンプ接合部の破断現象を
抑制して、バンプ接合部の寿命を向上させるという効果
が得られる。
受ける熱ストレスに起因したバンプ接合部の破断現象を
抑制して、バンプ接合部の寿命を向上させるという効果
が得られる。
【0056】実施の形態9.図14に示すように、この
実施の形態9は、上述した実施の形態8におけるダミー
バンプ3に代えて、半導体チップ1とチップ搭載部材4
(基板または下側チップ)との間の間隙とほぼ同等な高
さを有した弾力性のあるフィラー11をアンダーフィル
樹脂10内に埋設した構成を有する。
実施の形態9は、上述した実施の形態8におけるダミー
バンプ3に代えて、半導体チップ1とチップ搭載部材4
(基板または下側チップ)との間の間隙とほぼ同等な高
さを有した弾力性のあるフィラー11をアンダーフィル
樹脂10内に埋設した構成を有する。
【0057】この実施の形態9によれば、ダミーバンプ
3を形成するなどの付加作業を要することなく、アンダ
ーフィル樹脂10に埋設した弾性フィラー11により、
該ダミーバンプ3を使用した実施の形態8と同様の効果
が得られる。
3を形成するなどの付加作業を要することなく、アンダ
ーフィル樹脂10に埋設した弾性フィラー11により、
該ダミーバンプ3を使用した実施の形態8と同様の効果
が得られる。
【0058】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、機能バンプをチップ搭載部材に接続するためにチッ
プを加圧する際、支持部材がチップに作用する加圧力に
抗することになるため、上記超音波振動の印加時におけ
るチップの撓みを抑制することができる。
ば、機能バンプをチップ搭載部材に接続するためにチッ
プを加圧する際、支持部材がチップに作用する加圧力に
抗することになるため、上記超音波振動の印加時におけ
るチップの撓みを抑制することができる。
【0059】つぎの発明によれば、支持部材によってチ
ップの中心を基準とする機能バンプの点対称空所位置が
支持されるため、チップにおける機能バンプが存在しな
い部位、あるいは機能バンプの分布密度の小さい部位が
局所的に大きく撓むという不都合が回避されて、このバ
ンプの接合性が向上する。
ップの中心を基準とする機能バンプの点対称空所位置が
支持されるため、チップにおける機能バンプが存在しな
い部位、あるいは機能バンプの分布密度の小さい部位が
局所的に大きく撓むという不都合が回避されて、このバ
ンプの接合性が向上する。
【0060】つぎの発明によれば、点対称空所位置をチ
ップの所定のコーナ領域に限定したため、支持部材の配
設数が少なくなるという利点が得られる。
ップの所定のコーナ領域に限定したため、支持部材の配
設数が少なくなるという利点が得られる。
【0061】つぎの発明によれば、撓みを生じやすいチ
ップの(D/3)×(E/3)のコーナ領域において支
持部材がチップを支持するため、支持部材の配設数を低
減することができる。
ップの(D/3)×(E/3)のコーナ領域において支
持部材がチップを支持するため、支持部材の配設数を低
減することができる。
【0062】つぎの発明によれば、チップの各コーナに
最も近接したバンプ配置位置が支持部材によって支持さ
れるため、チップのコーナ近傍に垂直方向の撓みが発生
した場合でも、支持部材のみにおいて接合不良が発生す
ることになるため、機能バンプの接合不良が回避され
る。
最も近接したバンプ配置位置が支持部材によって支持さ
れるため、チップのコーナ近傍に垂直方向の撓みが発生
した場合でも、支持部材のみにおいて接合不良が発生す
ることになるため、機能バンプの接合不良が回避され
る。
【0063】つぎの発明によれば、支持部材としてダミ
ーバンプが使用されるため、このダミーバンプによって
チップが支持される。
ーバンプが使用されるため、このダミーバンプによって
チップが支持される。
【0064】つぎの発明によれば、ダミーバンプが接触
するチップ搭載部材の面を電気絶縁性の保護膜で被覆し
ているため、上記ダミーバンプが金属接合する際に問題
となる機能バンプへの接合エネルギーの供給ロスを低減
することができる。
するチップ搭載部材の面を電気絶縁性の保護膜で被覆し
ているため、上記ダミーバンプが金属接合する際に問題
となる機能バンプへの接合エネルギーの供給ロスを低減
することができる。
【0065】つぎの発明によれば、ループ状の金属ワイ
ヤによってチップが支持されるため、このチップの垂直
方向の撓みを広い面積で抑制することができる。
ヤによってチップが支持されるため、このチップの垂直
方向の撓みを広い面積で抑制することができる。
【0066】つぎの発明によれば、チップとチップ搭載
部材のいずれか一方から他方に向かって突出する弾性突
起の支持力によってチップの撓みが抑制される。
部材のいずれか一方から他方に向かって突出する弾性突
起の支持力によってチップの撓みが抑制される。
【0067】つぎの発明によれば、チップとチップ搭載
部材の双方から突出する突起の支持力によってチップの
撓みが抑制される。
部材の双方から突出する突起の支持力によってチップの
撓みが抑制される。
【0068】つぎの発明によれば、支持部材としてチッ
プおよびチップ搭載部材の双方から独立したスペーサを
使用するため、チップおよび基板の表面に弾力性を有す
る部材を付加する必要がない。
プおよびチップ搭載部材の双方から独立したスペーサを
使用するため、チップおよび基板の表面に弾力性を有す
る部材を付加する必要がない。
【0069】つぎの発明によれば、チップとチップ搭載
部材との間に形成された間隙にアンダーフィル樹脂を充
填するため、半導体装置が受ける熱ストレスに起因した
バンプ接合部の破断現象を抑制することができる。
部材との間に形成された間隙にアンダーフィル樹脂を充
填するため、半導体装置が受ける熱ストレスに起因した
バンプ接合部の破断現象を抑制することができる。
【0070】つぎの発明によれば、アンダーフィル樹脂
によって保持させたフィラーによってチップの撓みを抑
制することができる。
によって保持させたフィラーによってチップの撓みを抑
制することができる。
【図1】 この発明の実施の形態1である半導体装置の
ダミーバンプの配置例を示す平面図である。
ダミーバンプの配置例を示す平面図である。
【図2】 この発明の実施の形態2である半導体装置の
ダミーバンプの配置例を示す平面図である。
ダミーバンプの配置例を示す平面図である。
【図3】 この発明の実施の形態3である半導体装置の
ダミーバンプの配置例を示す平面図である。
ダミーバンプの配置例を示す平面図である。
【図4】 上記実施の形態3におけるバンプ配置位置の
他の例を示す平面図である。
他の例を示す平面図である。
【図5】 上記実施の形態3におけるバンプ配置位置の
更に別の例を示す平面図である。
更に別の例を示す平面図である。
【図6】 上記実施の形態3におけるバンプ配置位置の
更に別の例を示す平面図である。
更に別の例を示す平面図である。
【図7】 この発明の実施の形態4である半導体装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図8】 この発明の実施の形態5である半導体装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図9】 この発明の実施の形態6である半導体装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図10】 上記実施の形態6における突起の変形例を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図11】 上記実施の形態6における突起の他の変形
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図12】 この発明の実施の形態7である半導体装置
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図13】 この発明の実施の形態8である半導体装置
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図14】 この発明の実施の形態9である半導体装置
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図15】 従来の半導体装置におけるバンプの配置例
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図16】 上記従来の半導体装置におけるチップへの
撓み力の作用形態を示す断面図である。
撓み力の作用形態を示す断面図である。
1 半導体チップ、2 機能バンプ、3 ダミーバン
プ、4 チップ搭載部材、6 保護膜、7 金属ワイ
ヤ、8 弾性突起、8a,8b 弾性突起、9 弾性ス
ペーサ、10 アンダーフィル樹脂、11 弾性フィラ
ー。
プ、4 チップ搭載部材、6 保護膜、7 金属ワイ
ヤ、8 弾性突起、8a,8b 弾性突起、9 弾性ス
ペーサ、10 アンダーフィル樹脂、11 弾性フィラ
ー。
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フロントページの続き
(72)発明者 畑中 康道
東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三
菱電機株式会社内
(72)発明者 若宮 敬一郎
東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三
菱電機株式会社内
Fターム(参考) 5F044 QQ02
Claims (13)
- 【請求項1】 チップに設けた機能バンプを介して前記
チップをチップ搭載部材に電気的に接続するフリップチ
ップ構造の半導体装置であって、 前記チップと前記チップ搭載部材との間に、前記チップ
の局部的撓み力に抗する支持部材を介在させたことを特
徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記チップの中心を基準とする前記機能
バンプの点対称空所位置に前記支持部材を配置したこと
を特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記点対称空所位置を前記チップの所定
のコーナ領域に限定したことを特徴とする請求項1また
は2に記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記コーナ領域は、前記チップの一方お
よび他方の辺長をそれぞれDおよびEとした場合に、
(D/3)×(E/3)の大きさに設定したことを特徴
とする請求項3に記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記チップに設定した所定のバンプ配置
位置において各コーナに最も近接した部分に前記支持部
材を配置したことを特徴とする請求項1に記載の半導体
装置。 - 【請求項6】 前記支持部材が、前記チップに設けら
れ、かつ前記チップ搭載部材とは電気的に接続しないダ
ミーバンプであることを特徴とする請求項1〜5のいず
れか一つに記載の半導体装置。 - 【請求項7】 前記チップ搭載部材のチップ搭載面にお
いて前記ダミーバンプが接触する領域を、電気絶縁性の
保護膜で被覆したことを特徴とする請求項6に記載の半
導体装置。 - 【請求項8】 前記支持部材が、前記チップから前記機
能バンプの突出方向にループ状に張り出す金属ワイヤで
あることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記
載の半導体装置。 - 【請求項9】 前記支持部材が、前記チップおよび前記
チップ搭載部材のいずれか一方から他方に向かって突出
した弾力性のある突起であることを特徴とする請求項1
〜5のいずれか一つに記載の半導体装置。 - 【請求項10】 前記支持部材が、前記チップおよび前
記チップ搭載部材の双方から相対向して突出した弾力性
のある突起であることを特徴とする請求項1〜5のいず
れか一つに記載の半導体装置。 - 【請求項11】 前記支持部材が、前記チップおよび前
記チップ搭載部材の双方から独立した弾力性のあるスペ
ーサであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一
つに記載の半導体装置。 - 【請求項12】 前記チップと前記チップ搭載部材との
間の間隙にアンダーフィル樹脂を充填したことを特徴と
する請求項1〜11のいずれか一つに記載の半導体装
置。 - 【請求項13】 前記支持部材が、弾力性のあるフィラ
ーであり、前記チップと前記チップ搭載部材との間の間
隙にアンダーフィル樹脂を充填して、前記フィラーを前
記アンダーフィル樹脂内に埋設したことを特徴とする請
求項1〜5のいずれか一つに記載の半導体装置。
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