JP2002524559A - ポリアルコキシル化ナフトピラン - Google Patents
ポリアルコキシル化ナフトピランInfo
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Abstract
Description
ック重合性ポリアルコキシル化ナフトピラン化合物、そしてこのような新規なフ
ォトクロミック化合物を含有する組成物および物品に関する。多くのフォトクロ
ミック化合物は、日光または水銀灯中の紫外線のような紫外線を含む電磁波に曝
露されると、色の可逆的な変化を示す。紫外線が停止されると、そのようなフォ
トクロミック化合物は、元の色または無色の状態に戻る。
ために、種々のフォトクトミック化合物が合成され、提案されている。米国特許
第3,567,605号公報(ベッカー)は、ある種のベンゾピランおよびナフトピラン
を包含する、一連のピラン誘導体を開示している。米国特許第5,458,814号公報
には、レンズや他のプラスチック透明体に主に使用されるフォトクロミック2,2-
ジ置換-5,6-置換-2H-ナフト[1,2-b]ピラン化合物が開示されている。この化合物
は、高い活性化強度と高い着色速度に加えて、容認できる退色速度を示す。米国
特許第5,585,042号公報には、同様の用途のための3,3-ジ置換-8-置換-3H-ナフト
[2,1-b]ピラン化合物が開示されている。この化合物は、高い太陽光線応答、よ
り非置換のナフトピランよりも高い放射波長、そして容認できる漂白または退色
速度を示す。米国特許第5,645,767号には、高い活性化強度、容認できる退色速
度および高い着色速度を有するフォトクロミックインデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]
ピランが記載されている。
およびインデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランが従来から入手可能であるが、フォ
トクロミック化合物の退色速度を、活性化された色を変化させずに向上させるこ
とが望ましい。このことは、相補的なフォトクロミック化合物の同じ特性と適合
するように、またはそのような化合物をコーティングや薄膜中でまたは剛性プラ
スチックマトリックス中で使用できるように行われ得る。ここで、フォトクロミ
ック化合物の活性化/退色動力学はしばしばゆっくりである。
ォトクロミック化合物、すなわち特定の2H-ナフト[1,2-b]ピラン、3H-ナフト[2,
1-b]ピランおよびインデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランを見出した。ポリアルコ
キシル化置換基の存在は、単一のアルコキシ置換基を有するナフトピランに比べ
て、高い退色速度または漂白速度をもたらす。同じ程度に重要なことには、活性
化された色が置換によって変化しない。ポリアルコキシル化置換基の位置に依存
して、特定の他の置換基を、前記化合物のナフト、ピラノおよびインデノ位に存
在させることもできる。
ト[2,1-b]ピランおよびインデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランの退色速度が、そ
のような化合物への少なくとも1のポリアルコキシル化置換基の包含によって向
上できることが見出された。ポリアルコキシル化置換基は、アルコキシ単位2〜
50を有し、そしてナフトピランのナフトまたはインデノ位および/またはピラ
ノ位に配置され得る。
フトピランは、5および6位に置換基を有していてよく、かつ7、8、9および
10位に別の置換基を有していてよく、3H-ナフトピランは、8および9位に置
換基を有していてよく、かつ5および6位に別の置換基を有していてよく、そし
てインデノ-融合ナフトピランは、5、6、7、8、9、10、11、12また
は13位に特定の置換基を有していてよい。前記ナフトピランは、化学式I、II
およびIIIで表すことができる。化学式中の符号1〜13は、ナフトピランの環
原子を表し、文字a〜nは、ナフトピラン環の側鎖を表している。化学式I、II
およびIIIで示される置換基の定義において、特に断りのない限り、同じ記号は
同じ意味を示す。
で表されるR基であってよい。 −A[(C2H4O)x(C3H6O)y(C4H8O)z]D (式中、ナフトピランのナフト位またはインデノ位に唯一のR基が存在するので
あれば、−Aは、−C(O)O、−CH2Oまたは−Oであり、そしてDはC1-
C3アルキルである。) -(C2H4O)x-基は、ポリ(エチレンオキサイド)を表し、-(C3H6O)
y-は、ポリ(プロピレンオキサイド)を表し、そして-(C4H8O)z-は、ポ
リ(ブチレンオキサイド)を表す。組み合わせて使用すれば、R基のポリ(エチ
レンオキサイド)、ポリ(プロピレンオキサイド)およびポリ(ブチレンオキサ
イド)は、R部位内にランダムにまたはブロック状になっていてよい。文字x、
yおよびzはそれぞれ、0〜50の間の数であり、およびx、yおよびzの和は
2〜50の間である。x、yおよびzの和は、2〜50の範疇にあるどの数も取
り得る(例えば、2、3、4…50)。この和は、2〜50の範囲内の低い方の
数から高い方の数間での範囲であってよい(例えば、6〜50、31〜50)。
x、yおよびzの数は、平均値であって、例えば、9.5などの半端な数である
こともある。
xおよびyがそれぞれ0〜50の間の数であり、zが0であり、およびxとyと
の和は2〜50の間であって、より好ましくは、xが2〜50の間の数であり、
およびyとzはそれぞれ0である。
またはR6は、そのような置換基のうちの1がR基であれば、前記R基以外の基
であってよい。R1は水素、C1−C3アルキルまたは−C(O)W基である(こ
こで、Wは、−OR7、−N(R8)R9、ピペリジニまたはモノホリノであって
、R7は、アリル、C1−C6アルキル、フェニル、モノ(C1−C6)アルキル
置換フェニル、モノ(C1−C6)アルコキシ置換フェニル、フェニル(C1−C
3)アルキル、モノ(C1−C6)アルキル置換フェニル(C1−C3)アルキル、
モノ(C1−C6)アルコキシ置換フェニル(C1−C3)アルキル、C1−C6ア
ルコキシ(C2−C4)アルキルまたはC1−C6ハロアルキルであり、R8およ
びR9はそれぞれ、C1−C6アルキル、C5−C7シクロアルキル、フェニル
およびモノ-またはジ-置換フェニルから成る群より選択され、前記フェニル置換
基はC1−C6アルキルまたはC1−C6アルコキシであり、そしてハロ置換基
は、クロロまたはフルオロである。)。好ましくは、R1は、−C(O)W基であ
る(ここで、Wは、−OR7または−N(R8)R9であって、R7は、C1−C4 アルキル、フェニル、モノ(C2−C4)アルキル置換フェニル、モノ(C1−
C4)アルコキシ置換フェニル、フェニル(C1−C2)アルキル、モノ(C1−C4 )アルキル置換フェニル(C1−C2)アルキル、モノ(C1−C4)アルコキシ
置換フェニル(C1−C2)アルキル、C1−C4アルコキシ(C2−C3)アルキ
ルまたはC1−C4ハロアルキルであり、R8およびR9はそれぞれ、C1−C4 アルキル、C5−C7シクロアルキル、フェニル、モノ置換フェニルおよびジ
置換フェニルから成る群より選択され、前記フェニル置換基はC1−C4アルキ
ルまたはC1−C4アルコキシであり、そしてハロ置換基は、クロロまたはフル
オロである。)。より好ましくは、R1は、−C(O)W基であり、Wは、−OR7 基であって、R7は、C1−C3アルキルである。
および−OC(O)R10から成る群より選択されてよい。ここで、R10は、C1 −C6アルキル、フェニル(C1−C3)−アルキル、モノ(C1−C6)アルキ
ル置換フェニル(C1−C3)アルキル、モノ(C1−C6)アルコキシ置換フェニ
ル(C1−C3)アルキル、C1−C6アルコキシ(C2−C4)アルキル、C3−
C7シクロアルキルまたはモノ(C1−C4)アルキル置換C3−C7シクロアル
キルであり、nは0、1および2の整数から選択され、そしてフェニル置換基は
、R1と同じである。好ましくは、R2、各R3およびR4は、水素、C1−C3 アルキル、C3−C5シクロアルキル、フェニル、モノ-またはジ置換フェニ
ルおよび−OR10基から成る群より選択され(ここで、R10は、C1−C4 アルキル、フェニル(C1−C2)−アルキル、モノ(C1−C4)アルキル置換フ
ェニル(C1−C2)アルキル、モノ(C1−C4)アルコキシ置換フェニル(C1
−C2)アルキル、C1−C4アルコキシ(C2−C4)アルキル、C5−C7シ
クロアルキルまたはモノ(C1−C3)アルキル置換C5−C7シクロアルキルで
ある。)、およびフェニル置換基は、C1−C3アルキルまたはC1−C3アル
コキシである。より好ましくは、R2、各R3およびR4は、水素、C1−C3 アルキル、フェニル、モノ-またはジ-置換フェニルおよび−OR10基から成る
群より選択される(ここで、R10は、C1−C3アルキルであり、およびフェ
ニル置換基は、メチルまたはメトキシである。)。
む炭素原子3〜6個とを有するスピロヘテロ環式基を形成してよく、(-0-(C2 -C5アルカンジイル)-0-)、例えば、スピロ-1,3-ジオキソラン-2、スピロ-1,3
-ジオキサン-2などで表すことができる。またはR5およびR6はそれぞれ、水
素、ヒドロキシ、C1−C6アルキル、C3−C7シクロアルキル、アリル、フ
ェニル、モノ置換フェニル、ベンジル、モノ置換ベンジル、クロロ、フルオロ、
−C(O)X基であり得るか(ここで、Xは、ヒドロキシ、C1−C6アルキル、
C1−C6アルコキシ、フェニル、モノ置換フェニル、アミノ、モノ(C1−C
6)アルキルアミノまたはジ(C1−C6)アルキルアミノ、例えば、ジメチルア
ミノ、メチルプロピルアミノなどである。)、あるいはR5およびR6はそれぞ
れ、−OR11基であリ得る(ここで、R11は、C1−C6アルキル、フェニ
ル(C1−C3)アルキル、モノ(C1−C6)アルキル置換フェニル(C1−C3)
アルキル、モノ(C1−C6)アルコキシ置換フェニル(C1−C3)アルキル、C1 −C6アルコキシ(C2−C4)アルキル、C3−C7シクロアルキル、モノ(
C1−C4)アルキル置換C3−C7シクロアルキル、C1−C6クロロアルキ
ル、C1−C6フルオロアルキル、アリル、−CH(R12)Y基(ここで、R1 2 は、水素またはC1−C3アルキルであり、およびYは、CN、CF3または
COOR13であって、前記R13は、水素またはC1−C3アルキルである。
)であるか、またはR11は、−C(O)Z基(式中、Zは、水素、C1−C6ア
ルキル、C1−C6アルコキシ、非置換、モノ-またはジ-置換アリール基、フェ
ニルまたはナフチル、フェノキシ、モノ-またはジ-(C1−C6)アルキル置換フ
ェノキシ、モノ-またはジ(C1−C6)アルコキシ置換フェノキシ、モノ-または
ジ(C1−C6)アルコキシ置換フェノキシ、アミノ、モノ(C1−C6)アルキル
アミノ、ジ(C1−C6)アルキルアミノ、フェニルアミノ、モノ-またはジ-(C
1−C6)アルキル置換フェニルアミノ、またはモノ-またはジ-(C1−C6)ア
ルコキシ置換フェニルアミノであり、前記フェニル、ベンジルおよびアリール置
換基はそれぞれ、C1−C6アルキルまたはC1−C6アルコキシである。)。
ら成る群より選択され(ここで、R11は、C1−C3アルキル、フェニル(C
1−C2)アルキル、モノ(C1−C3)アルキル置換フェニル(C1−C3)アル
キル、モノ(C1−C3)アルコキシ置換フェニル(C1−C3)アルキル、C1−
C3アルコキシ(C2−C4)アルキル、C1−C3クロロアルキル、C1−C3 フルオロアルキル、−CH(R12)Y基(ここで、R12は、水素またはC1−
C2アルキルであり、およびYは、CNまたはCOOR13であって、前記R1 3 は、水素またはC1−C2アルキルである。)であるか、またはR11は、−
C(O)Z基であり(式中、Zは、水素、C1−C3アルキル、C1−C3アルコ
キシ、フェニルまたはナフチル、モノ置換アリール基、フェニルまたはナフチル
、フェノキシ、モノ-またはジ-(C1−C3)アルキル置換フェノキシ、モノ-ま
たはジ(C1−C3)アルコキシ置換フェノキシ、モノ(C1−C3)アルキルアミ
ノ、フェニルアミノ、モノ-またはジ-(C1−C3)アルキル置換フェニルアミノ
、またはモノ-またはジ-(C1−C3)アルコキシ置換フェニルアミノであり、前
記アリール置換基はそれぞれ、C1−C3アルキルまたはC1−C3アルコキシ
である。)。最も好ましくは、R5およびR6はそれぞれ、水素、ヒドロキシ、
C1−C4アルキルまたは−OR11基であり(ここで、R11は、C1−C3 アルキルである。)。
ナフチル、 (c)非置換、モノ−およびジ−置換ヘテロ芳香族基ピリジル、フラニル、ベ
ンゾフラン-2-イル、ベンゾフラン-3-イル、チエニル、ベンゾチエン-2-イル、
ベンゾチエン-3-イル、ジベンゾフラニル、ジベンゾチエニル、カルバゾリルお
よびフルオレニル(ここで、(b)および(c)中の前記アリールおよびヘテロ芳香族
置換基はそれぞれ、ヒドロキシ、アリール、すなわちフェニルおよびナフチル、
モノ(C1−C6)アルコキシアリール、ジ(C1−C6)アルコキシアリール
、モノ(C1−C6)アルキルアリール、ジ(C1−C6)アルキルアリール、
クロロアリール、フルオロアリール、C3−C7シクロアルキルアリール、C3 −C7シクロアルキル、C3−C7シクロアルキルオキシ、C3−C7シクロア
ルキルオキシ(C1−C6)アルキル、C3−C7シクロアルキルオキシ(C1−
C6)アルコキシ、アリール(C1−C6)アルキル、アリール(C1−C6)アル
コキシ、アリールオキシ、アリールオキシ(C1−C6)アルキル、アリールオキ
シ(C1−C6)アルコキシ、モノおよびジ-(C1−C6)アルキルアリール(C1 −C6)アルキル、モノおよびジ-(C1−C6)アルコキシアリール(C1−
C6)アルキル、モノおよびジ-(C1−C6)アルキルアリール(C1−C6)ア
ルコキシ、モノおよびジ-(C1−C6)アルコキシアリール(C1−C6)アル
コキシ、アミノ、モノ(C1−C6)アルキルアミノ、ジ(C1−C6)アルキ
ルアミノ、ジアリールアミノ、N-(C1−C6)アルキルピペラジノ、N-アリ
ールピペラジノ、アジリジノ、インドリノ、ピペリジノ、アリールピペリジノ、
モルホリノ、チオモルホリノ、テトラヒドロキノリノ、テトラヒドロイソキノリ
ノ、ピリル、C1−C6アルキル、C1−C6クロロアルキル、C1−C6フル
オロアルキル、C1−C6アルコキシ、モノ(C1−C6)アルコキシ(C1−C
4)アルキル、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、ブロモ、クロロおよびフル
オロから成る群より選択される。); (d)以下の式:
て、Gが置換窒素であれば、Eは炭素であり、前記窒素置換基は、水素、C1〜
C6アルキルおよびC2〜C6アシルから成る群より選択され、R14はそれぞ
れ、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシ、クロロまたはフ
ルオロであり、R15およびR16はそれぞれ、水素またはC1〜C6アルキル
であり、およびqは、0、1または2の整数である。) により表される基、 (e)C1〜C6アルキル、C1〜C6クロロアルキル、C1〜C6フルオロ
アルキルおよびC1〜C6アルコキシ(C1〜C4)アルキル、および (f)以下の式:
フェニル、フラニルおよびチエニルから成る基の非置換、モノ−およびジ−置換
された構成因子から成る群より選択され、前記置換基はそれぞれ、C1〜C4ア
ルキル、C1〜C4アルコキシ、フルオロまたはクロロである。) により表される基 から成る群より選択される。
2-イル、チエニル、ベンゾチエン-2-イル、ジベンゾフラン-2-イルおよびジベン
ゾチエン-2-イル(ここで、(b)および(c)中の前記フェニルおよびヘテロ芳香族
置換基はそれぞれ、ヒドロキシ、アリール、アリーロキシ、アリール(C1−C3 )アルキル、アミノ、モノ(C1−C3)アルキルアミノ、ジ(C1−C3)
アルキルアミノ、N-(C1−C3)アルキルピペラジノ、インドリノ、ピペリ
ジノ、モルホリノ、ピリル、C1−C3アルキル、C1−C3クロロアルキル、
C1−C3フルオロアルキル、C1−C3アルコキシ、モノ(C1−C3)アルコ
キシ(C1−C3)アルキル、クロロおよびフルオロから成る群より選択される。
); (d)上記式VAおよびVBで表される基(ここで、Eは、炭素であり、およ
びGは、酸素であり、R14はそれぞれ、C1〜C3アルキルまたはC1〜C3 アルコキシであり、R15およびR16はそれぞれ、水素またはC1〜C4アル
キルであり、およびqは、0または1である。) により表される基、 (e)C1〜C4アルキル (f)上記式VCで表される基(ここで、Lは、水素またはメチルであり、お
よびMは、フェニルまたはモノ置換フェニルであり、前記フェニル置換基は、C1 〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシまたはフルオロである。) により表される基 から成る群より選択される。
はパラ位に置換されたもの、 (c)非置換、モノ−およびジ−置換ヘテロ芳香族基フラニル、ベンゾフラン-
2-イル、チエニルおよびベンゾチエン-2-イル(ここで、(b)および(c)中の前記
フェニルおよびヘテロ芳香族置換基はそれぞれ、ヒドロキシ、C1−C3アルキ
ル、C1−C3アルコキシ、フェニル、インドリノ、フルオロおよびクロロから
成る群より選択される。);および (iv)上記式VAで表される基(ここで、Eは、炭素であり、およびGは、酸
素であり、R14は、C1〜C3アルキルまたはC1〜C3アルコキシであり、
R15およびR16はそれぞれ、水素またはC1〜C4アルキルであり、および
qは、0または1である。) により表される基 から成る群より選択される。
反応Aでは、式VIで表されるポリエチレングリコールメチルエーテル(式中、
xは、R基と同じものである)または他のポリ(アルキレングリコール)メチル
エーテルを、式VIIで表されるトルエンスルホニルクロライドと、トリエチルア
ミン(TEA)存在下で反応させて、式VIIIで表されるメトキシ(ポリエトキ
シ)-p-トルエンスルホネートを生成する。ブラッドショー・ジェイ・エスら、
「シンセシス・オブ・マクロサイクリック・アセタールズ・コンテニング・リポ
フィリック・サブスチューエンツ」、テトラヒドロフラン、第43巻、第19号
、4271〜4276頁、1987年を参照し、この文献の開示内容をここに参照として挿入
する。
IXで表されるナフトピランと無水炭酸カリウム、アセトンおよび熱の存在下で
反応させて、式IAで表されるヒドロキシ末端キャップされたアルコキシル化ナ
フトピランを形成する。あるいは、ハロゲン化アルコキシル化アルコールをアル
コキシル化トルエンスルホネートの代わりに用いて、ヒドロキシ官能基を上記反
応条件を用いてアルキル化する。アルキル化反応は、オーガニック・シンセシス
、第31巻、90〜93頁、ジョン・ワイリー・アンドサンズ、ニューヨーク、ニュー
ヨークにも記載されている。
プリングすることによって調製できる。この手順は、米国特許第5,458,814号公
報第5欄、第10行〜第7欄、第38行に記載されている。プロパルギルアルコール
は、米国特許第5,645,767号公報第5欄、第8行〜第6欄、第30行に記載の方法に
従って調製できる。上記特許公報全てを、参照として個々に挿入する。
エチレングリコールと濃硫酸および熱を用いて反応し、式XIで表されるアルコ
キシル化ナフトールを得る。式X中、R2およびR3は前述のとおりである。式
XIで表されるアルコキシル化ナフトールは式XIIで表されるプロパルギルア
ルコールと結合して式IBで表されるアルコキシル化ナフトピランを得る。
トは式XIIIで表されるヒドロキシ置換ベンゾフェノンと反応して式XIVで
表されるアルコキシル化ベンゾフェノンを得る。アルコキシル化ベンゾフェノン
は適当な溶媒、例えば無水テトラヒドロプラン(THF)中でナトリウムアセチ
リドと反応して式XVで表される対応するプロパルギルアルコールを形成する。
プロパルギルアルコール(XV)は式XVIで表される置換ナフトールと結合し
て式IIAで表されるアルコキシル化ナフトピランを形成する。
トは式XVIIで表されるヒドロキシ置換アセトフェノン、ベンゾフェノンまた
はベンズアルデヒドと反応して、対応するアルコキシル化アセトフェノン、ベン
ゾフェノンまたはベンズアルデヒドを形成する。式XVIIIの化合物はコハク
酸エステル、例えば式XIXで表されるジメチルサクシネートと反応する。反応
体を、塩基としてカリウムt−ブトキシドまたはナトリウムハイドライドを含む
溶媒、例えばトルエンへ付加することにより、式XXで表されるストッブ縮合ハ
ーフエステルを得る。そのハーフエステル(XX)は無水酢酸の存在下にシクロ
脱水をして、式XXIで表されるアルコキシル化アセトキシナフタレンを形成す
る。この生成物は塩酸(H+)および無水アルコール、例えば無水メタノールと
反応して式XXIIで表される対応するナフトールを得る。ナフトール(XXI
I)は式XIIで表されるプロパルギルアルコールと結合して式ICで表される
アルコキシル化ナフトピランを得る。
ド(LAH)によって還元されて式XXIVで表される化合物を生成する。式X
XIIIの化合物を調製する方法は前述の米国特許第5,645,767号に開
示されている。一般式VIで表されるポリ(エチレングリコール)メチルエーテル
(式中、xは基R用と同様である)は酸(H+)を用いて式XXIVの化合物と
反応して式IIIAのアルコキシル化インデノ縮合ナフトピランを生成する。
ルコキシル化ナフトピラン化合物は有機フォトクロミック物質が用いられる用途
、例えば光学レンズ(例えば、視力矯正レンズ、コンタクトレンズおよび平面レ
ンズ)、フェイスシールド、ゴーグル、バイザー、カメラレンズ、ウィンドウ、
自動車用ウィンドウシールド、飛行機および自動車用透明体(T‐ルーフ、サイ
ドライトおよびバックライト)、プラスチックフィルムおよびシート、布および
被膜(例えば、被覆組成物)に用いてもよい。本明細書中において、被覆組成物
はポリウレタン、エポキシ樹脂および合成ポリマーを形成する他の樹脂のごとき
物質から調製されるポリマー状被覆組成物、例えばペイント(即ち、物体の装飾
、保護および/または認識に用いられるピグメント化リキッドまたはペースト)
、およびインク(例えば物体、例えば紙、グラス、セラミックス、木、石造建築
、布、金属およびポリマー有機材料上に描写するピグメント化リキッドまたはペ
ースト)を含む。被覆組成物は光学要素上のポリマー被膜、機密保持書類(例え
ば紙幣、パスポートおよび運転免許証のようなサインまたはサインの確認が必要
な書類)上の確認マークを得るのに用いる。
ミック化合物を水溶性、即ち少なくとも1グラム/リットルの水溶性を付与して
もよい。本発明のフォトクロミック化合物のある程度の水溶性は水不溶性フォト
クロミック化合物によって達成できない取り扱い上の利点を提供する。特に、危
険のある有機溶媒をフォトクロミック化合物のキャリアーとして使用することは
避けられる。また、過剰のフォトクロミック材料をインビビジョンまたはトラン
スファー工程の後ポリマー物質の表面から洗浄するのに用いる溶媒の使用を避け
ることができる。
いし赤/紫の範囲の色への色変化を示す。式IIで表される3H‐ナフト−〔2
,1−b〕ピランは無色から黄色ないしオレンジおよび赤の範囲の色への色変化
を示す。式IIIで表されるインデノ〔2,1−f〕ナフト〔1,2−b〕ピラ
ンは無色からオレンジないし青/灰色の範囲の色への色変化を示す。
トキシフェニル)−5−メトキシカルボニル−6−メトキシ(ポリエトキシ)(1
6EO)−〔2H〕−ナフト〔1,2−b〕ピラン、(b)2,2−ジフェニル
−5−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシカルボニル)−6−フェニル−
〔2H〕−ナフト〔1,2−b〕ピラン、(c)2,ジフェニル−5−(2−(
2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシカルボニル)−6−メチル−
〔2H〕−ナフト〔1,2−b〕ピラン、(d)2,2−ジフェニル−5−(2
−(2−(2−(メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシカルボニル)−6−フ
ェニル−〔2H〕−ナフト〔1,2−b〕ピラン、(e)2,2−ジフェニル−
5−カルボメトキシ−9−(2−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)プ
ロピルオキシ)−〔2H〕−ナフト〔1,2−b〕ピラン、(f)3−フェニル
−3−(4−(2−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシ)フェ
ニル)−〔3H〕−ナフト〔2,1−b〕ピラン、(g)3,3−ジ(4−メト
キシフェニル)−6,11,13−トリメチル−13−(2−(2−(2−メト
キシエトキシ)エトキシ)エトキシ)−インデノ〔2,1−f〕ナフト〔1,2
−b〕ピラン、(h)3−フェニル−3−(4−(2−(2−(2−メトキシエ
トキシ)エトキシ)エトキシ)フェニル)−8−メトキシ−9−(2−(2−(
2−メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシカルボニル)−〔3H〕−ナフト〔
2,1−b〕ピラン、および(i)3−フェニル−3−(4−モルホリノフェニ
ル)−6−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)−11,13−ジメチル
−13−ヒドロキシ−インデノ〔2,1−f〕ナフト〔1,2−b〕ピランが挙
げられる。
ピラン類と組み合わせて、または他の適当な補助的な有機フォトクロミック材料
、即ち、400〜700nmの少なくとも一つの活性吸収を有し活性時に適当な
色素に着色する有機フォトクロミック化合物と組み合わせて用いてもよい。
デノナフトピラン類、クロメン類およびオキサジン類、置換2H−フェナントロ
〔4,3−b〕ピランおよび3H−フェナントロ〔1,2−b〕ピラン化合物類
、ピラン環の2位に置換基を有するベンゾピラン化合物類およびそのようなフォ
トクロミック化合物の混合物が挙げられる。そのようなフォトクロミック化合物
は米国特許3,562,172;3,567,605;3,578,602;4
,215,010;4,342,668;4,816,584;4,818,0
96;4,826,977;4,880,667;4,931,219;5,0
66,818;5,238,981;5,274,132;5,348,077
;5,405,958;5,429,774;5,458,814;5,466
,398;5,514,817;5,552,090;5,552,091;5
,565,147;5,573,712;5,578,252;5,637,2
62;5,645,767;5,656,206;5,658,500;5,6
58,501;5,674,432および5,698,141が挙げられる。ス
ピロ(インドリン)ピラン類はまた1971年ニューヨーク、ジョン・ウィリー
・アンド・サンズ・インクの「テクニークイズ・イン・ケミストリー(Tech
niques in Chemistry)」、第3巻、「ホトクロミズム(P
hotochromism)」のチャプター3(グレン・H・ブラウン)に記載
されている。
、米国特許4,719,296;5,166,345;5,236,958;5
,252,742;5,359,085;および5,488,199に記載のも
のであってよい。
,361,706に記載の如き水銀ジオゾネート;および米国特許4,931,
220の第20欄第5行〜第21欄第38行に記載のフルジド類およびフルジミ
ド類が挙げられる。
発明のホトクロミック物品は、上述の一つのホトクロミック化合物またはその混
合物を含んでよい。
に種々の手段で結合(associate)してもよい。それらは、ホスト材料
中への導入、例えば溶解および/または分散してもよく、ホスト材料の他の成分
と重合してもよく、および/または基材に塗布する被膜、例えばポリマー状有機
ホスト材料の一つの表面に塗布したポリマー被膜で導入してもよい。
さまたは反応条件は、全ての場合「約」で表されるものと理解する。
たはその混合物が所定の色、例えばフィルターを通さない太陽光で活性化された
時に実質上ニュートラルな色、即ち活性化されたフォトクロミック化合物の色が
可能な限りニュートラルな色に近い色を示すような、量(または比率)を用いる
。中間的な灰色および茶色が好ましい。ニュートラルな色および色を記載する方
法は米国特許5,645,767の第12欄第66行〜第13欄第19行にも記
載されている。
ックナフトピランの量は、十分な量が使用されて、活性化時に裸眼で識別できる
フトクロミック効果を発現するのであれば、重要ではない。一般には、そのよう
な量は、フォトクロミック量として記載できる。使用される特定の量は、その照
射時に所望される色の強度に依存し、そしてフォトクロミック化合物うぃお組み
込むかまたは適用するのに使用される方法に依存する。一般には、適用されるか
または組み込まれるフォトクロミック化合物の量が多いほど、色強度は一定の限
界まで大きくなる。
の活性種の色と最終的な所望の色との相対的な強度に部分的に依存する。一般に
、フォトクロミック光学ホスト材料に組み込まれるか適用される合計フォトクロ
ミック化合物の量は、フォトクロミック化合物が組み込まれるかまたは適用され
る体積または表面積1cm2当たり、約0.05〜約1.0mgの範囲、例えば、0.1〜
約0.45mgである。コーティング組成物に組み込まれるフォトクロミック材料の
量は、液体コーティング組成物の重量に対し、0.1〜4.0重量%の範囲であってよ
い。
方法でホスト材料と結合していてよい。例えば、米国特許第5,645,767号公報第1
3欄、第40行〜58行参照。フォトクロミック化合物の水溶液または有機溶媒液を
用いてフォトクロミック化合物をポリマー状有機ホスト材料または他の材料、例
えば布および有機被覆組成物中に導入してもよい。ポリマー状被覆組成物は例え
ば米国特許3,971,872に記載のごとき塗装方法を用いて基材に塗布して
もよい。(上記米国特許の記載をここに導入する)。
ばスプレー塗装、スピン塗装、拡散塗装、カーテン塗装、浸漬塗装、キャスティ
ングまたはロール塗装および米国特許4,873,029に記載のごとき複層物
形成方法を用いてもよい(米国特許の記載をここに挿入する)。選択される塗装
方法はまた硬化被膜の厚さにも依存する。1ないし50μmの範囲の厚さを有す
る被膜が塗装方法を用いて塗布され得る。50μmを超える厚さの被膜は層構造
のために用いる成形方法を必要とする。
い。上記ホスト材料は、フォトクロミック物質を活性化する電磁スペクトルのそ
の部分、即ち上記物質の自由な形態または着色された形態を生成する紫外線(U
V)のその波長およびそのUV活性化形態中の上記物質の吸収最大波長を含む可
視スペクトルのその部分、即ち自由な形態にのみ透過性であることが必要である
。好ましくは、上記ホスト色は、フォトクロミック化合物の活性化形態の色をマ
スクするべきでなく、即ち色変化が容易に観察者に分かることを要する。ホスト
材料に適用できる共存可能な着色は米国特許第5,645,767号第13欄第
59行から第14欄第13行に記載されている。
スト材料の例として、ポリマー、即ちビス(アリルカーボネート)モノマー、ジ
エチレングリコールジメタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノ
マー、エトキシル化ビスフェノールAジメタクリレートモノマー、エチレングリ
コールビスメタクリレートモノマー、ポリ(エチレングリコール)ビスメタクリ
レートモノマー、エトキシル化フェノールビスメタクリレートモノマー、エトキ
シル化トリメチロールプロパントリアクリレートモノマーのようなアルコキシル
化多価アルコールアクリレートモノマー、米国特許第5,373,033号に記
載のもののようなウレタンアクリレートモノマー、米国特許第5,475,07
4号に記載のもの及びスチレンのようなビニルベンゼンモノマー;ポリマー、即
ち多官能性、例えば、1価、2価、または多価の、アクリレートおよび/または
メタクリレートモノマー、ポリ(C1〜C12アルキルメタクリレート)例えばポリ(
メチルメタクリレート)、ポリ(オキシアルキレン)ジメタクリレート、ポリ(
アルコキシル化フェノールメタクリレート)、酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酸酢酪セルロース、ポリ(酢酸ビニル)、ポ
リ(ビニルアルコール)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリウレタ
ン、ポリチオウレタン、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ(エチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン、ポリ(α-メチルスチレン)、コポリ(スチ
レン-メチルメタクリレート)、コポリ(スチレン-アクリロニトリル)、ポリビニ
ルブチラールのホモポリマーおよびコポリマー;およびジアリリデンペンタエリ
トリトール、ポリオール(アリルカーボネート)モノマーとの特殊コポリマー、例
えばジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)、およびアクリレートモノ
マー、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレートのポリマー、即ちホモ
ポリマーおよびコポリマーが挙げられる。ポリマー有機ホスト材料の他の例は米
国特許第5,753,146号第8欄第62行〜第10欄第34行に記載されて
おり、この開示は参照としてここに加える。
ある。好ましくは、フォトクロミックポリマー被覆組成物のためのホスト材料又
は基材は、熱可塑性ポリカーボネート樹脂、例えば商標レクサン(LEXAN)で市販
のビスフェノールAおよびホスゲンから誘導されるカーボネート結合樹脂;ポリ
エステル、例えば商標マイラー(MYLAR)で市販の材料;ポリ(メチルメタクリレー
ト)、例えば商標プレクシグラス(PLEXIGLAS)で市販の材料;ポリオール(アリル
カーボネート)モノマー、特に商標CR-39で市販のジエチレングリコールビス(ア
リルカーボネート)の重合体、およびポリオール(アリルカーボネート)、例えば
ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)の他の共重合性モノマー材料と
のコポリマー、例えば酢酸ビニルとのコポリマー、例えば80〜90%のジエチレン
グリコールビス(アリルカーボネート)と10〜20%の酢酸ビニルとのコポリマー、
特に80〜85%のジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)と15〜20%の酢
酸ビニルとのコポリマー、および米国特許第4,360,653号公報および同大4,994,2
08号に記載の末端ジアクリレート官能基を有するポリウレタンとのコポリマーの
重合体;ポリ(酢酸ビニル)、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、ポリチオウ
レタン、 ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモ
ノマー、エトキシル化ビスフェノールAジメタクリレートモノマー、エチレング
リコールビスメタクリレートモノマー、ポリ(エチレングリコール)ビスメタク
リレートモノマー、エトキシル化フェノールビスメタクリレートモノマー、及び
エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレートモノマーからなる群の構
成因子のポリマー ;酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、セルロースブチレート、酢酸酪酸
セルロース、ポリスチレンおよびスチレンとメチルメタクリレート、酢酸ビニル
およびアクリロニトリルとのコポリマー;から調製される光学的に透明な重合有
機材料である。
料、例えばレンズ、即ち、平面レンズ、眼用レンズ、及びコンタクトレンズを製
造するのに用いられる光学的有機樹脂モノマーと共に本発明のフォトクロミック
ナフトピランを用いることが好ましい。そのような光学的に透明な重合体は、屈
折率約1.48〜約1.75、例えば約1.495〜約1.66を有してもよい。特に好ましいも
のは、PPGインダストリーズ社よりCR−の表示、例えば、CR−307及び
CR−407で販売されている光学レンズの重合体である。
しての以下の実施例により更に説明する。
(35グラム、0.1モル)及び当量のトルエンスルホニルクロリド(19グラ
ム)を、クロロホルム(150mL)及び少し過剰のトリエチルアミン(11グ
ラム)を含有する反応フラスコ中に加えた。得られる混合物を還流温度に加熱し
、その温度に一晩維持した。室温に冷却した後、反応混合物を等体積の水を含有
するビーカーに加えた。得られる有機層を分離し、溶媒、クロロホルムを減圧下
で除去することにより数平均分子量504のメトキシ(ポリエトキシ)−p−ト
ルエンスルホネートを得た。この化合物は更に精製しないで次のステップに用い
た。
)、1モル当量の2,2−ビス(4−メトキシフェニル)−5−メトキシカルボ
ニル−6−ヒドロキシ−2H−ナフト[1,2−b]ピラン(4.4グラム、0
.01モル)、これは米国特許第5,458,814号の実施例1の化合物であ
る、及び粉体炭酸カリウム(2グラム)を含有する反応フラスコに加えた。得ら
れた反応混合物を加熱して還流させ、その温度に一晩維持した。溶媒、アセトン
を減圧下で除去し、得られた残渣をクロロホルムに溶かして、シリカゲルカラム
を用いてクロマトグラフした。残留出発物質及び副生成物を、クロロホルム溶出
液で溶出した後に、溶媒を体積%で10%のエタノールと90%のクロロホルム
の組合わせに代え、所望の生成物をカラムから回収した。核磁気共鳴スペクトル
(NMR)分析の結果、回収生成物、約2グラムの赤色油状物は16エトキシ単
位を有する2,2−ビス(4−メトキシフェニル)−5−メトキシカルボニル−
6−メトキシ(ポリエトキシ)2H−ナフト[1,2−b]ピランと一致する構
造を有することが示された。
コール)メチルエーテル50グラム、及び濃硫酸1グラムを反応フラスコに入れ
た。得られる混合物を還流温度(約190℃)付近に90分かけて加熱した。得
られた混合物を室温に冷却した。水及びクロロホルムをこの混合物に加え、有機
層を分離した。有機層を、200mLの水で2回洗浄し、200mLの希炭酸ナ
トリウム水溶液で2回洗浄した。溶媒、クロロホルムを減圧下で除去し、得られ
た残渣(4グラム)を空気流下で一晩乾燥させて、次のステップに直接用いた。
ラム)、トルエン(50mL)、及びドデシルベンゼンスルホン酸(2、3滴)
を反応フラスコに添加した。得られた混合物を約50℃に4時間加熱し、室温に
冷却した後、減圧乾燥させた。得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル溶出液(
体積比2:1)に溶解し、シリカゲルカラムを用いてクロマトグラフした。フォ
トクロミックの画分を収集し、回転アスピレータを用いて溶媒を除去し、油状物
を得、これは放置すると結晶化した。回収生成物(3グラム)は融点134〜1
35℃であった。核磁気共鳴スペクトル(NMR)分析の結果、生成物は2,2
−ジフェニル−5−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシカルボニル)−6
−フェニル[2H]ナフト[1,2−b]ピランと一致する構造を有することが
示された。
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸を用い、そしてジ(エチレングリコール)メチルエ
ーテルの代わりにトリ(エチレングリコール)メチルエーテルを用いること以外
は実施例2と同様の操作を行った。NMR分析の結果、油状物(2.5グラム)
として回収された生成物は2,2−ジフェニル−5−(2−(2−(2−メトキ
シエトキシ)エトキシ)エトキシカルボニル)−6−メチル−2H−ナフト[1
,2−b]ピランと一致する構造を有することが示された。
ル)メチルエーテルを用いること以外は実施例2と同様の操作を行った。NMR
分析の結果、油状物(2.5グラム)として回収された生成物は2,2−ジフェ
ニル−5−(2−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシカルボニ
ル)−6−フェニル−2H−ナフト[1,2−b]ピランと一致する構造を有す
ることが示された。
6−メトキシ−2H−ナフト[1,2−b]ピランとした。これは、米国特許第
5,458,814号の実施例2に記載の方法と同様にして調製できる。
−ナフト[1,2−b]ピランとした。これは、メチル−1,4−ジヒドロキシ
ナフトエートの代わりにメチル−1−フェニル−4−ヒドロキシ−2−ナフトエ
ートを用いて米国特許第5,458,814号の実施例7に記載の方法と同様に
して調製できる。
ナフト[1,2−b]ピランとした。この化合物は、1,1−ビス(4−メトキ
シフェニル)−2−プロピン−1−オールの代わりに1,1−ビス(4−メトキ
シフェニル)−2−プロピン−1−オールを用いて米国特許第5,458,81
4号の実施例8に記載の方法と同様にして調製できる。
フトピランの試験を行った。1.5×10-3モル溶液を得るように計算した量のフォ
トクロミック化合物を、エトキシル化ビスフェノールAジメタクリレート(BPA 2
EO DMA)4部、ポリ(エチレングリコール)600ジメタクリレート1部および2,2
'-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)(AIBN)0.033重量%のモノマーブレン
ド50gを含有するフラスコに加えた。上記フォトクロミック化合物を、撹拌、要
すれば徐々に加熱することにより、上記モノマーブレンド中に溶解した。透明溶
液を得た後、内部寸法2.2mm×6インチ(15.24cm)×6インチ(15.24cm)を有する
平坦シート金型に注入した。上記金型を密閉し、40℃から95℃まで5時間かけて
昇温して95℃を3時間保持し、60℃まで2時間で低下するようにし、そして60
℃で16時間維持した。金型を開いた後、上記ポリマーシートをダイヤモンドブ
レードソーを用いて2インチ(5.1cm)の正方形試料片に切断した。
、フォトクロミック応答速度に関して試験した。光学ベンチでの試験の前に、正
方形のフォトクロミック試験片を、365nmの紫外線に約15分間曝露して、
フォトクロミック化合物を活性化し、次に、76℃のオーブンに約15分間入れ
て、フォトクロミック化合物を漂白または不活性化した。次に、正方形試験片を
室温まで冷却し、蛍光室内照明に少なくとも2時間曝露し、次に、72°F(2
2.2℃)に維持した光学ベンチで試験する前に少なくとも2時間覆ったままに
した。250Wのキセノンアーク灯、リモートコントロールシャッター、アーク
灯の放熱子として機能する硫酸銅浴、短波長の輻射線を除去するSchott WG-320
nmカットオフ・フィルター;中密度フィルター(neutral density filter)、
および試験される正方形片を挿入するサンプルホルダーを、前記ベンチに取り付
けた。光学ベンチの出力、すなわち、サンプルレンズが露光される光の線量は、
参照標準として用いるフォトクロミック試験正方形で測定した。その結果、出力
は、平方センチメートル当り0.15〜0.20ミリワット(mW/cm2)で
あった。出力の測定は、UV−A検出器(製造番号#22411)を備えたGR
ASEBYオプティックスモデルS−371ポータブルフォトメータ(製造番号
#21536)又は同等装置を用いて行った。出力の調節はランプのワット数の
増減又は光路中に中密度フィルターを置くか除くかにより行なう。
30゜)傾けて、正方形片を通過させた。正方形片を通過した後、タングステン
灯からの光は測定されるフォトクロミック化合物の予め測定された可視最大波長
に設定された、スペクトラルエネルギー社のGM−200モノクロメータを通し
て検出器に向けられた。検出器からの出力信号はラジオメータにより処理した。
ダー中に挿入し、トランスミッタンススケールを100%に調整し、シャッター
をキセノンランプから開放し紫外線を照射してテスト平面を脱色状態から活性化
(即ち、暗色)状態に変化させ、トランスミッタンスを活性化状態で測定し、次
いで光学濃度の変化をΔOD=log(100/%Ta)(式中、%Taは活性
状態におけるトランスミッタンスの%であり、対数の底は10である)で計算す
ることによって決定した。
ミック化合物の紫外線に対する応答の感受性を示すΔOD/分は紫外線照射の最
初の5秒間で測定し分単位で表した。飽和光学濃度(ΔOD@飽和)はΔOD/
分と同一条件下で、紫外線露光を15分継続して行った。ラムダマックス(Vi
s)はテスト平面中でフォトクロミック化合物で活性(着色)形態の最大吸収が
起こる時点での可視スペクトル中での波長(nm)である。ラムダマックス(V
is)波長はバリアン・キャリー3UV−可視スペクトロフォトメータ中でパー
トAのフォトクロミックテスト平面重合物をテストすることにより測定した。ラ
ムダ(λ)マックス(UV)はフォトクロミック化合物の吸収が起こる時点での
可視スペクトルに一番近い紫外領域における波長(nm)である。この吸収はま
た同じスペクトロフォトメータで測定した。脱色率(T1/2)は活性光源の除
去からテスト平面中のフォトクロミック化合物の活性形態の吸収が室温(72°
F、22.2℃)で最高吸収の半分に達するまでの時間(秒)である。
きである。実施例1とCE1との比較、実施例2および4とCE2との比較およ
び実施例3とCE3との比較。対応する比較例はポリアルコキシル化置換基を除
いて実施例化合物と同じ構造を有している。
化(λmax(可視))は全く示さず、脱色率の増大、即ちT1/2の減少を示
すことを表す。特に、実施例1のT1/2はCE1のそれより24%小さく、実
施例2および4の平均はCE2より28%小さく実施例3ではCE3より42%
小さい。T1/2が小さくなるので、実施例の化合物のΔOD@飽和が小さくな
る。実施例化合物と対応する比較例化合物との間の活性波長(λmax(UV)
)に差はないが、実施例1の感受性の結果は対応する比較例1よりも0.02ユ
ニット以上であった。
の範囲を減縮するものと考えてはならず、添付する請求の範囲に含まれる限り本
発明の範囲内である。
Claims (19)
- 【請求項1】 以下の式で表されるナフトピラン化合物。 【化1】 [式中、(a)R1、R2、R3、R4、R5およびR6は、唯一のR基がナフトピ
ランのナフト位またはインデノ位に存在するのであれば、以下の式: −A[(C2H4O)x(C3H6O)y(C4H8O)z]D (式中、−Aは、−C(O)O、−CH2Oまたは−Oであり、DはC1〜C3ア
ルキルであり、x、yおよびzはそれぞれ0〜50の間の数であり、およびx、
yおよびzの和は2〜50の間である。) で表される基Rであり、あるいは (b)R1は、水素、C1−C3アルキルまたは−C(O)W基であり(ここで、W
は、−OR7、−N(R8)R9、ピペリジニまたはモノホリノであって、R7は
アリル、C1−C6アルキル、フェニル、モノ(C1−C6)アルキル置換フェニ
ル、モノ(C1−C6)アルコキシ置換フェニル、フェニル(C1−C3)アルキル
、モノ(C1−C6)アルキル置換フェニル(C1−C3)アルキル、モノ(C1−
C6)アルコキシ置換フェニル(C1−C3)アルキル、C1−C6アルコキシ(C2 −C4)アルキルまたはC1−C6ハロアルキルであり、R8およびR9はそ
れぞれ、C1−C6アルキル、C5−C7シクロアルキル、フェニル、モノ置換
フェニルおよびジ置換フェニルから成る群より選択され、前記フェニル置換基は
C1−C6アルキルまたはC1−C6アルコキシであり、そしてハロ置換基は、
クロロまたはフルオロである。)、 (c)R2、各R3およびR4は、水素、C1−C6アルキル、C3−C7シクロ
アルキル、フェニル、モノ置換フェニル、ジ置換フェニルおよび−OR10基お
よび−OC(O)R10から成る群より選択され(ここで、R10は、C1−C6 アルキル、フェニル(C1−C3)−アルキル、モノ(C1−C6)アルキル置換フ
ェニル(C1−C3)アルキル、モノ(C1−C6)アルコキシ置換フェニル(C1
−C3)アルキル、C1−C6アルコキシ(C2−C4)アルキル、C3−C7シ
クロアルキルまたはモノ(C1−C4)アルキル置換C3−C7シクロアルキルで
ある。)、フェニル置換基は、C1−C6アルキルまたはC1−C6アルコキシ
であり、およびnは、0、1および2の整数から選択され、 (d)R5およびR6は合わせて、オキシ基、酸素原子2個と、スピロ炭素原子を
含む炭素原子3〜6個とを有するスピロヘテロ環式基を形成するか;またはR5 およびR6はそれぞれ、水素、ヒドロキシ、C1−C6アルキル、C3−C7シ
クロアルキル、アリル、フェニル、モノ置換フェニル、ベンジル、モノ置換ベン
ジル、クロロ、フルオロ、−C(O)X基であるか(ここで、Xは、ヒドロキシ、
C1−C6アルキル、C1−C6アルコキシ、フェニル、モノ置換フェニル、ア
ミノ、モノ(C1−C6)アルキルアミノまたはジ(C1−C6)アルキルアミノで
ある。);またはR5およびR6はそれぞれ、−OR11基であり(ここで、R11 は、C1−C6アルキル、フェニル(C1−C3)アルキル、モノ(C1−C
6)アルキル置換フェニル(C1−C3)アルキル、モノ(C1−C6)アルコキシ
置換フェニル(C1−C3)アルキル、C1−C6アルコキシ(C2−C4)アルキ
ル、C3−C7シクロアルキル、モノ(C1−C4)アルキル置換C3−C7シク
ロアルキル、C1−C6クロロアルキル、C1−C6フルオロアルキル、アリル
、−CH(R12)Y基(ここで、R12は、水素またはC1−C3アルキルであ
り、およびYは、CN、CF3またはCOOR13であって、前記R13は、水
素またはC1−C3アルキルである。)であるか、またはR11は、−C(O)Z
基(式中、Zは、水素、C1−C6アルキル、C1−C6アルコキシ、非置換、
モノ-またはジ-置換アリール基、フェニルまたはナフチル、フェノキシ、モノ-
またはジ-(C1−C6)アルキル置換フェノキシ、モノ-またはジ(C1−C6)ア
ルコキシ置換フェノキシ、アミノ、モノ(C1−C6)アルキルアミノ、ジ(C1
−C6)アルキルアミノ、フェニルアミノ、モノ-またはジ-(C1−C6)アルキ
ル置換フェニルアミノ、またはモノ-またはジ-(C1−C6)アルコキシ置換フェ
ニルアミノであり、前記フェニル、ベンジルおよびアリール置換基はそれぞれ、
C1−C6アルキルまたはC1−C6アルコキシである。)、および (e)BおよびB'は合わせて、 (i)モノR-置換フェニル、 (ii)非置換、モノ置換、ジ置換およびトリ置換アリール基、フェニルおよび
ナフチル、 (iii)非置換、モノ−およびジ−置換ヘテロ芳香族基ピリジル、フラニル、
ベンゾフラン-2-イル、ベンゾフラン-3-イル、チエニル、ベンゾチエン-2-イル
、ベンゾチエン-3-イル、ジベンゾフラニル、ジベンゾチエニル、カルバゾリル
およびフルオレニル(ここで、(e)(ii)および(iii)中の前記アリールおよびヘテ
ロ芳香族置換基はそれぞれ、ヒドロキシ、アリール、モノ(C1−C6)アルコ
キシアリール、ジ(C1−C6)アルコキシアリール、モノ(C1−C6)アル
キルアリール、ジ(C1−C6)アルキルアリール、クロロアリール、フルオロ
アリール、C3−C7シクロアルキルアリール、C3−C7シクロアルキル、C3 −C7シクロアルキルオキシ、C3−C7シクロアルキルオキシ(C1−C6)
アルキル、C3−C7シクロアルキルオキシ(C1−C6)アルコキシ、アリール
(C1−C6)アルキル、アリール(C1−C6)アルコキシ、アリールオキシ、ア
リールオキシ(C1−C6)アルキル、アリールオキシ(C1−C6)アルコキシ、
モノおよびジ-(C1−C6)アルキルアリール(C1−C6)アルキル、モノお
よびジ-(C1−C6)アルコキシアリール(C1−C6)アルキル、モノおよび
ジ-(C1−C6)アルキルアリール(C1−C6)アルコキシ、モノおよびジ-(
C1−C6)アルコキシアリール(C1−C6)アルコキシ、アミノ、モノ(C1 −C6)アルキルアミノ、ジ(C1−C6)アルキルアミノ、ジアリールアミノ
、N-(C1−C6)アルキルピペラジノ、N-アリールピペラジノ、アジリジノ
、インドリノ、ピペリジノ、アリールピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノ
、テトラヒドロキノリノ、テトラヒドロイソキノリノ、ピリル、C1−C6アル
キル、C1−C6クロロアルキル、C1−C6フルオロアルキル、C1−C6ア
ルコキシ、モノ(C1−C6)アルコキシ(C1−C4)アルキル、アクリルオキシ
、メタクリルオキシ、ブロモ、クロロおよびフルオロから成る群より選択される
。); (iv)以下の式: 【化2】 (式中、Eは、炭素または酸素であり、およびGは、酸素または置換窒素であっ
て、Gが置換窒素であれば、Eは炭素であり、該窒素置換基は、水素、C1〜C6 アルキルおよびC2〜C6アシルから成る群より選択され、R14はそれぞれ
、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシ、クロロまたはフル
オロであり、R15およびR16はそれぞれ、水素またはC1〜C6アルキルで
あり、およびqは、0、1または2の整数である。) により表される基、 (v)C1〜C6アルキル、C1〜C6クロロアルキル、C1〜C6フルオロ
アルキルおよびC1〜C6アルコキシ(C1〜C4)アルキル、および (vi)以下の式: 【化3】 (式中、Lは、水素またはC1〜C4アルキルであり、およびMは、ナフチル
、フェニル、フラニルおよびチエニルから成る基の非置換、モノ−およびジ−置
換された構成因子から成る群より選択され、前記置換基はそれぞれ、C1〜C4 アルキル、C1〜C4アルコキシ、フルオロまたはクロロである。) により表される基 から成る群より選択される。] - 【請求項2】 (a)R1、R2、R3、R4、R5およびR6が、前記R基
であり、xおよびyがそれぞれ0〜50の間の数であり、zが0であり、および
xとyとの和は2〜50の間であるか、あるいは (b)R1が、−C(O)W基であり(ここで、Wは、−OR7または−N(R8)R
9であって、R7は、C1−C4アルキル、フェニル、モノ(C2−C4)アルキ
ル置換フェニル、モノ(C1−C4)アルコキシ置換フェニル、フェニル(C1−
C2)アルキル、モノ(C1−C4)アルキル置換フェニル(C1−C2)アルキル
、モノ(C1−C4)アルコキシ置換フェニル(C1−C2)アルキル、C1−C4 アルコキシ(C2−C3)アルキルまたはC1−C4ハロアルキルであり、R8お
よびR9はそれぞれ、C1−C4アルキル、C5−C7シクロアルキル、フェニ
ル、モノ置換フェニルおよびジ置換フェニルから成る群より選択され、前記フェ
ニル置換基はC1−C4アルキルまたはC1−C4アルコキシであり、そしてハ
ロ置換基は、クロロまたはフルオロである。)、 (c)R2、各R3およびR4は、水素、C1−C3アルキル、C3−C5シクロ
アルキル、フェニル、モノ置換フェニル、ジ置換フェニルおよび−OR10基か
ら成る群より選択され(ここで、R10は、C1−C4アルキル、フェニル(C
1−C2)−アルキル、モノ(C1−C4)アルキル置換フェニル(C1−C2)ア
ルキル、モノ(C1−C4)アルコキシ置換フェニル(C1−C2)アルキル、C1 −C4アルコキシ(C2−C4)アルキル、C5−C7シクロアルキルまたはモノ
(C1−C3)アルキル置換C5−C7シクロアルキルである。)、およびフェニ
ル置換基は、C1−C3アルキルまたはC1−C3アルコキシであり、 (d)R5およびR6はそれぞれ、水素、ヒドロキシ、C1−C4アルキル、C3
−C6シクロアルキル、クロロ、フルオロおよび−OR11基から成る群より選
択され(ここで、R11は、C1−C3アルキル、フェニル(C1−C2)アルキ
ル、モノ(C1−C3)アルキル置換フェニル(C1−C3)アルキル、モノ(C1
−C3)アルコキシ置換フェニル(C1−C3)アルキル、C1−C3アルコキシ(
C2−C4)アルキル、C1−C3クロロアルキル、C1−C3フルオロアルキ
ル、−CH(R12)Y基(ここで、R12は、水素またはC1−C2アルキルで
あり、およびYは、CNまたはCOOR13であって、前記R13は、水素また
はC1−C2アルキルである。)であるか、またはR11は、−C(O)Z基であ
り(式中、Zは、水素、C1−C3アルキル、C1−C3アルコキシ、フェニル
またはナフチル、モノ置換アリール基、フェニルまたはナフチル、フェノキシ、
モノ-またはジ-(C1−C3)アルキル置換フェノキシ、モノ-またはジ(C1−C3 )アルコキシ置換フェノキシ、モノ(C1−C3)アルキルアミノ、フェニルア
ミノ、モノ-またはジ-(C1−C3)アルキル置換フェニルアミノ、またはモノ-
またはジ-(C1−C3)アルコキシ置換フェニルアミノであり、前記アリール置
換基はそれぞれ、C1−C3アルキルまたはC1−C3アルコキシである。)、
および (e)BおよびB'はそれぞれ、 (i)モノR-置換フェニル、 (ii)フェニル、モノ置換およびジ置換フェニル、 (iii)非置換、モノ−およびジ−置換ヘテロ芳香族基フラニル、ベンゾフラ
ン-2-イル、チエニル、ベンゾチエン-2-イル、ジベンゾフラン-2-イルおよびジ
ベンゾチエン-2-イル(ここで、(e)(ii)および(iii)中の前記フェニルおよびヘ
テロ芳香族置換基はそれぞれ、ヒドロキシ、アリール、アリーロキシ、アリール
(C1−C3)アルキル、アミノ、モノ(C1−C3)アルキルアミノ、ジ(C1 −C3)アルキルアミノ、N-(C1−C3)アルキルピペラジノ、インドリ
ノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピリル、C1−C3アルキル、C1−C3クロロ
アルキル、C1−C3フルオロアルキル、C1−C3アルコキシ、モノ(C1−
C3)アルコキシ(C1−C3)アルキル、クロロおよびフルオロから成る群より
選択される。); (iv)以下の式: 【化4】 (式中、Eは、炭素であり、およびGは、酸素であり、R14はそれぞれ、C1 〜C3アルキルまたはC1〜C3アルコキシであり、R15およびR16はそれ
ぞれ、水素またはC1〜C4アルキルであり、およびqは、0または1である。
) により表される基、 (v)C1〜C4アルキル (v)以下の式: 【化5】 (式中、Lは、水素またはメチルであり、およびMは、フェニルまたはモノ置換
フェニルであり、前記フェニル置換基は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アル
コキシまたはフルオロである。) により表される基 から成る群より選択される、請求項1記載のナフトピラン。 - 【請求項3】 (a)R1、R2、R3、R4、R5およびR6が、前記R基
であり、およびxが2〜50の間の数であり、yおよびzがそれぞれ0であるか
、あるいは (b)R1が、−C(O)W基であり(ここで、Wは、−OR7基であって、R7は
、C1−C3アルキルである。)、 (c)R2、各R3およびR4は、水素、C1−C3アルキル、フェニル、モノ置
換フェニル、ジ置換フェニルおよび−OR10基から成る群より選択され(ここ
で、R10は、C1−C3アルキルであり、およびフェニル置換基は、メチルま
たはメトキシであり、 (d)R5およびR6はそれぞれ、水素、ヒドロキシ、C1−C4アルキルまたは
−OR11基であり(ここで、R11は、C1−C3アルキルである。)、およ
び (e)BおよびB'はそれぞれ、 (i)モノR-置換フェニル、 (ii)フェニル、モノ置換およびジ置換フェニル、 (iii)非置換、モノ−およびジ−置換ヘテロ芳香族基フラニル、ベンゾフラ
ン-2-イル、チエニルおよびベンゾチエン-2-イル(ここで、(e)(ii)および(iii)
中の前記フェニルおよびヘテロ芳香族置換基はそれぞれ、ヒドロキシ、C1−C3 アルキル、C1−C3アルコキシ、フェニル、インドリノ、フルオロおよびク
ロロから成る群より選択される。);および (iv)以下の式: 【化6】 (式中、Eは、炭素であり、およびGは、酸素であり、R14は、C1〜C3ア
ルキルまたはC1〜C3アルコキシであり、R15およびR16はそれぞれ、水
素またはC1〜C4アルキルであり、およびqは、0または1である。) により表される基 から成る群より選択される、請求項2記載のナフトピラン。 - 【請求項4】 (a)2,2-ビス(4-メトキシフェニル)-5-メトキシカルボニル-6
-メトキシ(ポリエトキシ)(16EO)-2H-ナフト[1,2-b]ピラン; (b)2,2-ジフェニル-5-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキシカルボニル)-6-フェ
ニル-2H-ナフト[1,2-b]ピラン; (c)2,2-ジフェニル-5-(2-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシカル
ボニル)-6-メチル-2Hナフト[1,2-b]ピラン; (d)2,2-ジフェニル-5-(2-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシカル
ボニル)-6-フェニル-2Hナフト[1,2-b]ピラン; (e)2,2-ジフェニル-5-カルボメトキシ-9-(2-(2-(2-メトキシエトキシ)エト
キシ)プロピロキシカルボニル)-2H-ナフト[1,2-b]ピラン; (f)3-フェニル-3-(4-(2-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシ)フェ
ニル)-3H-ナフト[1,2-b]ピラン; (g)3,3-ジ(4-メトキシフェニル)-6,11,13-トリメチル-13-(2-(2-(2-メトキ
シエトキシ)エトキシ)エトキシ)-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン; (h)3-フェニル-3-(4-(2-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシ)エト
キシ)フェニル)-8-メトキシ-9-(2-(2-(2-メトキシエチロキシ)エチロキシ)エ
チロキシカルボニル)-3H-ナフト[1,2-b]ピラン;および (i)3-フェニル-3-(4-モルホリノフェニル-6-(2-(2-メトキシエトキシ)エトキ
シ)-11,13-ジトキシ-13-ヒドロキシ-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン から成る群から選択されるナフトピラン化合物。 - 【請求項5】 ポリマー有機ホスト材料およびフォトクロミック量の請求項
1記載のナフトピラン化合物を含有するフォトクロミック物品。 - 【請求項6】 ポリマー有機ホスト材料が、ポリアクリレート、ポリメタク
リレート、ポリ(C1〜C12)アルキルメタクリレート、ポリオキシ(アルキレ
ンメタクリレート)、ポリ(アルコキシル化フェノールメタクリレート)、酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、酢酸ピロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロー
ス、ポリ(酢酸ビニル)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(塩
化ビニリデン)、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポ
リチオウレタン、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリスチレン、ポリ(α-メチ
ルスチレン)、コポリ(スチレン-メチルメタクリレート)、コポリ(スチレン-アク
リロニトリル)、ポリビニルブチラール、および ポリオール(アリルカーボネート)モノマー、多官能性アクリレートモノマー、
多官能性メタクリレートモノマー、ジエチレングリコールジメタクリレートモノ
マー、ジイソプロペニルベンゼンモノマー、アルコキシル化多価アルコールモノ
マーおよびジアリリデンペンタエリトリトールモノマーから成る群から選択され
る構成因子のポリマー から成る群より選択される請求項5載のフォトクロミック物品。 - 【請求項7】 ポリマー有機ホスト材料が、アクリレート、メタクリレート
、メチルメタクリレート、エチレングリコールビスメタクリレート、エトキシル
化ビスフェノールAジメタクリレート、酢酸ビニル、ビニルブチラール、ウレタ
ン、チオウレタン、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)、ジエチ
レングリコールジメタクリレート、ジイソプロペニルベンゼンおよびエトキシル
化トリメチロールプロパントリアクリレートから成る群から選択されるモノマー
のホモポリマーまたはコポリマーである請求項6載のフォトクロミック物品。 - 【請求項8】 フォトクロミック化合物が、前記フォトクロミック物質が導
入または適用されるポリマー有機ホスト材料の表面1cm2当たり、約0.05〜1.
0mgの量で存在する請求項5載のフォトクロミック物品。 - 【請求項9】 ポリマー有機ホスト材料が光学要素である請求項7記載のフ
ォトクロミック物品。 - 【請求項10】 光学要素がレンズである請求項9記載のフォトクロミック
物品。 - 【請求項11】 ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレングリコール
ビスメタクリレート)、ポリ(エトキシル化ビスフェノールAジメタクリレート)
、熱可塑性ポリカーボネート、ポリ(酢酸ビニル)、ポリビニルブチラール、ポリ
ウレタンおよび、 ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)モノマー、ジエチレングリコー
ルジメタクリレートモノマー、エトキシル化フェノールビスメタクリレートモノ
マー、ジイソプロペニルベンゼンモノマーおよびエトキシル化トリメチロールプ
ロパントリアクリレートモノマーから成る群から選択される構成因子のポリマー
から成る群から選択されるポリマー有機ホスト材料と、 フォトクロミック量の請求項3記載のナフトピラン化合物とを含有するフォトク
ロミック物品。 - 【請求項12】 固体基材と、 それぞれフォトクロミック量の、(a)少なくとも1の請求項1記載のナフトピラ
ン化合物、および(b)約400〜700nm領域に少なくとも1つの活性化吸収最大を
有する少なくとも1の他の有機フォトクロミック化合物 とを組合せて含有するフォトクロミック物品。 - 【請求項13】 光学有機樹脂モノマーの重合物と、フォトクロミック量の
請求項1記載のナフトピラン化合物を含有するフォトクロミック物品。 - 【請求項14】 重合物の屈折率が約1.48〜約1.75である請求項13記載の
フォトクロミック物品。 - 【請求項15】 重合物が光学要素である請求項13記載のフォトクロミッ
ク物品。 - 【請求項16】 光学要素が眼用レンズまたはコンタクトレンズである請求
項15記載のフォトクロミック物品。 - 【請求項17】 固体基材と、その少なくとも一表面上の、フォトクロミッ
ク量の請求項1記載のナフトピラン化合物を有する硬化したコーティングまたは
コーティング組成物 とを組合せて含有するフォトクロミック物品。 - 【請求項18】 コーティング組成物が、ポリマーコーティング組成物、塗
料およびインクから成る群より選択される請求項17記載のフォトクロミック物
品。 - 【請求項19】 基材が、ガラス、石膏、織物、セラミック、金属、毛、紙
およびポリマー有機材料から成る群より選択される請求項17記載のフォトクロ
ミック物品。
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