JP2002293791A - 保護化２’−デオキシシチジン誘導体の精製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の欠点を解消した保護化２’−デオキシ
シチジン誘導体の工業的精製方法を提供すること。 【解決方法】 ２’−デオキシシチジン誘導体を良溶媒
に溶解し、貧溶媒中に滴下して再沈澱を行うときに、貧
溶媒中にあらかじめ良溶媒を混合しておく。 【効果】 ２’−デオキシシチジン誘導体工業的に精製
する方法を提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、保護化２’−デオ
キシシチジン誘導体の製造方法に関する。近年、この保
護化２’−デオキシシチジン誘導体〔Ｉ〕は、各種抗ウ
イルス剤、抗ガン剤、抗クローン病剤、抗リュウマチ剤
および診断薬として開発されつつある、オリゴヌクレオ
チド誘導体やアンチセンスＤＮＡ製造のための重要な中
間体化合物として需要が増大している。

【０００２】

【従来の技術】保護化２’−デオキシシチジン誘導体
〔Ｉ〕は通常Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン
誘導体〔ＩＩ〕［化２］

【０００３】

【化２】 をトリチル化することにより合成される。その際の主な
不純物としてはトリチルハライドが２分子置換反応した
一般式〔ＩＩＩ〕［化３］

【０００４】

【化３】 で表されるジトリチル体があげられる。

【０００５】従来、保護化２’−デオキシシチジン誘導
体〔Ｉ〕の精製法としては、ハロゲン溶媒を用いたカラ
ムクロマトグラフィーにより精製する方法が知られてい
る（例えば、Ｎｕｃｌ．＆Ｎｕｃｌ．，４（５），ｐ６
４１（１９８５）、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｐ９６５（１
９８４）、ＪＡＣＳ，１０４，ｐ９６５（１９８２），
Ｍｅｔｈｏｄｓ ｉｎ Ｅｎｚｙｍｏｌｏｇｙ，６５，
ｐ６１０（１９８１）、蛋白質・核酸・酵素，２６
（４），ｐ５３１（１９８１））。しかし、カラムクロ
マトグラフィーによる精製が唯一の精製単離方法である
が、大量のハロゲン溶媒を必要とし、供給量が制限され
る。

【０００６】通常工業的な精製法としては再結晶や分液
による洗浄があげられる。しかし、化合物〔Ｉ〕は通常
用いられる溶媒での再結晶は困難であリ、現在のところ
報告例はない。分液による洗浄においては、残存するＮ
−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン誘導体〔ＩＩ〕
は水洗浄で除けるものの、ジトリチル体〔ＩＩＩ〕が非
常に脂溶性に富むため、水洗浄などで除去することは困
難である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、従来
の欠点を解消した保護化２’−デオキシシチジン誘導体
〔Ｉ〕を工業的に精製する方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
行い、ジトリチル体〔ＩＩＩ〕量を低減する再沈澱条件
を見つけるに至り、本発明を完成させた。すなわち、本
発明は、〔１〕一般式〔Ｉ〕［化４］

【０００９】

【化４】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基を表し、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子または
メトキシ基を表す。）で示される２’−デオキシシチジ
ン誘導体を良溶媒に溶解し、貧溶媒中に滴下して再沈澱
を行う際、貧溶媒中にあらかじめ良溶媒を混合しておく
２’−デオキシシチジン誘導体の精製方法であり、
〔２〕 良溶媒が芳香族炭化水素類、アルキルケトン
類、エステル類である〔１〕記載の２’−デオキシシチ
ジン誘導体の精製方法であり、〔３〕 貧溶媒がアルキ
ルエーテル類、アルカン類である〔１〕または〔２〕記
載の２’−デオキシシチジン誘導体の精製方法であり、
〔４〕 貧溶媒がアルキルエーテル類である〔１〕から
〔３〕記載の２’−デオキシシチジン誘導体の精製方法
であり、〔５〕 貧溶媒中にあらかじめ混合しておく良
溶媒量が貧溶媒に対して5から２０容量％である〔１〕
から〔４〕記載の２’−デオキシシチジン誘導体の精製
方法である。

【００１０】

【発明実施の形態】以下に本発明の方法を具体的に説明
する。本発明で精製を行う対象となる一般式〔Ｉ〕で表
される保護化２’−デオキシシチジン誘導体において、
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基を表
す。

【００１１】Ｒ１の表すハロゲン原子としては、たとえ
ばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが
あげられる。

【００１２】Ｒ１の表す低級アルキル基としては、たと
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基などがあげられる。Ｒ２、Ｒ３
はそれぞれ独立に水素原子またはメトキシ基を表す。

【００１３】本発明において、良溶媒とは保護化２’−
デオキシシチジン誘導体をよく溶解する溶媒のことであ
り、保護化２’−デオキシシチジン誘導体を十分に溶解
すれば特に限定はされない。具体例としてはベンゼン、
トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレ
ン、アニソール、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ジ
クロロベンゼン、ジブロモベンゼンなどの芳香族炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの
アルキルケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチルな
どのエステル類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，
２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエ
タンなどの含ハロゲン溶媒が上げられる。好ましくはベ
ンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、アニソール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンであ
る。本発明において、貧溶媒とは保護化２’−デオキシ
シチジン誘導体を殆ど溶解しない溶媒であり、保護化
２’−デオキシシチジン誘導体の溶解度が低い限り特に
限定されない。具体例としては、ジエチルエーテル、ジ
−ｎ−プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
ブチルエーテルなどのアルキルエーテル類やｎ−ペンタ
ン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、２−
エチルヘキサンなどのアルカン類、ジイソプロピルケト
ンなどの長鎖ケトン類があげられる。好ましくはアルキ
ルエーテル類であり、より好ましくはジイソプロピルエ
ーテルである。

【００１４】再沈澱を行うときは、貧溶媒を攪拌してい
る中に、保護化２’−デオキシシチジン誘導体の溶液を
ゆっくり滴下していく。逆に保護化２’−デオキシシチ
ジン誘導体の溶液中に貧溶媒を滴下していくと、不純物
の組成や残存する反応溶媒量によってはガム化してしま
うことが多いため、安定して沈澱を得るためには貧溶媒
中に保護化２’−デオキシシチジン誘導体の溶液を滴下
する必要がある。このとき貧溶媒中には良溶媒を混合し
ておくことが重要である。貧溶媒のみの中に保護化２’
−デオキシシチジン誘導体の溶液を滴下していくと、滴
下開始時には純度の低い沈澱が析出してしまい、結果と
して精製効果が得られない。貧溶媒中の良溶媒濃度とし
ては５から２０容量％が好ましい。

【００１５】滴下する保護化２’−デオキシシチジン誘
導体の溶液の濃度は５から５０％が好ましく、１０から
４０％がより好ましい。

【００１６】貧溶媒の量は保護化２’−デオキシシチジ
ン誘導体の含量に対して５倍以上であれば特に限定され
ないが、１０倍から３０倍が好ましい。

【００１７】析出した沈澱を濾取することにより、精製
前に比べてジトリチル体〔ＩＩＩ〕含量の低下した保護
化２’−デオキシシチジン誘導体を得ることができる。

【００１８】以上、本発明により、保護化２’−デオキ
シシチジン誘導体〔Ｉ〕をより効率的に精製できるよう
になった。

【００１９】

【実施例】以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。 参考例 Ｎ６−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシ
トリチル）−２’−デオキシシチジン粗結晶の製造 Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン９．０ｇを
ピリジン１０８ｍＬに溶解した。４，４’−ジメトキシ
トリチルクロリド９．８ｇ（含量９．２ｇ）を加え、室
温で２時間攪拌した。炭酸水素ナトリウム２．２８ｇを
加え、反応液を約４０ｇまで濃縮した。水９０ｍＬとト
ルエン９０ｍＬを加えて分液し、有機層を１０％食塩水
で２回洗浄した。有機層を約４０ｇまで濃縮し、ＩＰＥ
１８０ｍＬ中にゆっくりと滴下した。析出した固体を濾
取し、ＩＰＥ５０ｍＬで洗浄した。４０℃減圧下で乾燥
し、Ｎ６−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメト
キシトリチル）−２’−デオキシシチジン粗結晶１５．
１ｇを得た。

【００２０】実施例１ Ｎ６−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシ
トリチル）−２’−デオキシシチジン粗結晶１．１５ｇ
をトルエン２．７５ｇに溶解した。トルエン２．３ｍL
とイソプロピルエーテル１９．５ｍLを室温で激しく攪
拌しながら、粗TdBCのトルエン溶液を5分かけてゆっく
りと滴下した。 得られた固体をろ取し、トルエン０．
２ｍLとイソプロピルエーテル２．０ｍLの混合物で１
回、イソプロピルエーテル２．０mLで１回洗浄したの
ち、４０℃にて３時間減圧乾燥した。 収量０．９１
ｇ。回収率８０％。ＨＰＬＣにおける保護化ｄＣ（Ｎ６
−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリ
チル）−２’−デオキシシチジン）に対するジトリチル
体〔ＩＩＩ〕の面積比は精製前０．８５％から０．２９
％へと減少した。

【００２１】実施例２ Ｎ６−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシ
トリチル）−２’−デオキシシチジン粗結晶１．１５ｇ
を酢酸ブチル２．７５ｇに溶解した。酢酸ブチル２．３
ｍLとイソプロピルエーテル１９．５ｍLを室温で激しく
攪拌しながら、粗TdBCの酢酸ブチルを5分かけてゆっく
りと滴下した。 得られた固体をろ取し、酢酸ブチル
０．２ｍLとイソプロピルエーテル２．０ｍLの混合物で
１回、イソプロピルエーテル２．０mLで１回洗浄したの
ち、４０℃にて３時間減圧乾燥した。収量０．８５ｇ。
回収率７５％。ＨＰＬＣにおける保護化ｄＣ（Ｎ６−ベ
ンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチ
ル）−２’−デオキシシチジン）に対するジトリチル体
〔ＩＩＩ〕の面積比は精製前０．８５％から０．３１％
へと減少した。

【００２２】

【発明の効果】本発明によれば、従来の欠点を解消した
効率的な保護化２’−デオキシシチジン誘導体の工業的
な製造法を提供することができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式〔Ｉ〕［化１］ 【化1】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
   基を表し、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子または
   メトキシ基を表す。）で示される２’−デオキシシチジ
   ン誘導体を良溶媒に溶解し、貧溶媒中に滴下して再沈澱
   を行う際、貧溶媒中にあらかじめ良溶媒を混合しておく
   ことを特徴とする２’−デオキシシチジン誘導体の精製
   方法。
2. 【請求項２】 良溶媒が芳香族炭化水素類、アルキルケ
   トン類、エステル類である請求項1記載の２’−デオキ
   シシチジン誘導体の精製方法。
3. 【請求項３】 貧溶媒がアルキルエーテル類、アルカン
   類である請求項1記載の２’−デオキシシチジン誘導体
   の精製方法。
4. 【請求項４】 貧溶媒がアルキルエーテル類である請求
   項１記載の２’−デオキシシチジン誘導体の精製方法。
5. 【請求項５】 貧溶媒中にあらかじめ混合しておく良溶
   媒量が貧溶媒に対して5から２０容量％である請求項１
   から４記載の２’−デオキシシチジン誘導体の精製方
   法。