JP2005272435A - Ｎ４−アシルシチジン誘導体の金属塩、およびこの金属塩を用いるｎ４−アシルシチジン誘導体の製造方法 - Google Patents
Ｎ４−アシルシチジン誘導体の金属塩、およびこの金属塩を用いるｎ４−アシルシチジン誘導体の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】高純度なＮ４−アシルシチジン誘導体の製造方法を提供すること。
【解決手段】
一般式（１）[化１]
【化１】
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基、またはハロゲン原子を、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜４のアルコキシル基、置換基を有する炭素数１〜４のアルコキシル基、またはハロゲン原子を、Ｒ３は、メチル基、またはフェニル基を、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンを表す。）で表される化合物、およびこれを用いて一般式（２）[化２]
【化２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、前記と同義である。）で表される化合物を製造する。
【選択図】なし
【解決手段】
一般式（１）[化１]
【化１】
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基、またはハロゲン原子を、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜４のアルコキシル基、置換基を有する炭素数１〜４のアルコキシル基、またはハロゲン原子を、Ｒ３は、メチル基、またはフェニル基を、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンを表す。）で表される化合物、およびこれを用いて一般式（２）[化２]
【化２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、前記と同義である。）で表される化合物を製造する。
【選択図】なし
Description
本発明は、近年開発されつつあるアンチセンスＤＮＡ医薬等の重要中間体として利用されるＮ４−アシルシチジン誘導体の製造法に関するものである。
近年、ゲノム創薬の進展に伴い、アンチセンスＤＮＡ医薬が急速に開発されている。そのため、原料となるＤＮＡオリゴマー、オリゴマーの原料となるヌクレオシド誘導体の需要が増大している。
ヌクレオシド誘導体として、例えば、Ｎ４−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−５−メチルシチジン等のＮ４−アシルシチジン誘導体はアンチセンスＤＮＡを製造するための重要な医薬中間体の一つである。また、このような医薬中間体は非常に高純度であることが要求される。
Ｎ４−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−５−メチルシチジンの精製技術としては、例えば、（１）反応混合物を炭酸水素ナトリウムで洗浄した後にエーテル／ｎ−ヘキサンで粉末化する方法（非特許文献１）。（２）カラムクロマトグラフィーによって精製する方法（非特許文献２、非特許文献３）が知られている。
しかしながら、（１）の方法を追試して目的物の純度を高速液体クロマトグラフィー（以下、「ＨＰＬＣ」と略記する。）にて観測した結果、目的物の純度は７７.０％（面積）であり、医薬中間体として提供するには到底満足できるものではなかった。（２）の方法は、純度良く目的物を得る手段の一つであるが、大量の溶媒や減圧濃縮操作を必要とするカラムクロマトグラフィーによる精製は工業的製造法として満足できるものではない。
こうした背景から、高純度なＮ４−アシルシチジン誘導体を効率的に製造する方法が求められていた。
ヌクレイック アシッド リサーチ １５巻（１号） ２１９〜２３２項（１９８７年発行） （Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｖｏｌ．１５，Ｎｏ．１，ｐｐ．２１９−２３２ １９８７） フォトケミストリー アンド フォトバイオロジー 第４５巻 第５号 ５７１〜５７４頁 １９８７年発行（Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｖｏｌ．４５，Ｎｏ．５，ｐｐ．５７１−５７４ １９８７） ケミカル ファーマシューティカル ブルテイン 第３４巻 第1号 ５１〜６０頁 １９８６年発行（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ，Ｖｏｌ．３４，Ｎｏ．１，ｐｐ．５１〜６０ １９８６）
ヌクレイック アシッド リサーチ １５巻（１号） ２１９〜２３２項（１９８７年発行） （Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｖｏｌ．１５，Ｎｏ．１，ｐｐ．２１９−２３２ １９８７） フォトケミストリー アンド フォトバイオロジー 第４５巻 第５号 ５７１〜５７４頁 １９８７年発行（Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｖｏｌ．４５，Ｎｏ．５，ｐｐ．５７１−５７４ １９８７） ケミカル ファーマシューティカル ブルテイン 第３４巻 第1号 ５１〜６０頁 １９８６年発行（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ，Ｖｏｌ．３４，Ｎｏ．１，ｐｐ．５１〜６０ １９８６）
本発明は、高純度なＮ４−アシルシチジン誘導体の製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を克服するために鋭意検討を行った結果、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−アシルシチジン誘導体の金属塩を利用することが上記課題を解決する有効な手段であることが判明した。具体的に述べると、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−アシルシチジン誘導体を含有する反応混合物と金属水酸化物、もしくは有機アミン存在下で金属ハロゲン化物と反応させることにより、相当するＮ４−アシルシチジン誘導体の金属塩が高純度で単離できることを見出した。このシチジン誘導体の金属塩は本発明の特色を成しており、新規な化合物である。さらに、このＮ４−アシルシチジン誘導体の金属塩を酸と反応させることにより高純度の状態を維持したまま目的物であるＮ４−アシルシチジン誘導体が得られることが判明し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
１．一般式（１）[化１]
１．一般式（１）[化１]
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基、またはハロゲン原子を、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜４のアルコキシル基、置換基を有する炭素数１〜４のアルコキシル基、またはハロゲン原子を、Ｒ３は、メチル基、またはフェニル基を、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンを表す。）で表される化合物、
２．一般式（２）[化２]
２．一般式（２）[化２]
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、前記と同義である。）で表される化合物と一般式（３）[化３]
（式中、Ｘは炭素数１〜４のアルコキシド、アミド、または水酸化物イオンの陰イオンを表す。）で表される化合物を反応させるか、もしくは、有機アミンの存在下で一般式（４）[化４]
（式中、Ｍは前記と同義であり、Ｙはハロゲン化物イオンを表す。）で表される化合物を反応させる前記一般式（１）で表される化合物の製造方法、
３．一般式（１）で表される化合物を酸と反応させる、一般式（２）で表される化合物の製造方法、
４．一般式（２）で表される化合物と、一般式（３）で表される化合物を反応させるか、もしくは、有機アミンの存在下で一般式（４）で表される化合物を反応させた後、一般式（１）で表される化合物を単離し、次いで、該一般式（１）で表される化合物と酸を反応させて一般式（２）で表される化合物に変換する工程を含む、一般式（２）で表される化合物の製造方法、
に関するものである。
３．一般式（１）で表される化合物を酸と反応させる、一般式（２）で表される化合物の製造方法、
４．一般式（２）で表される化合物と、一般式（３）で表される化合物を反応させるか、もしくは、有機アミンの存在下で一般式（４）で表される化合物を反応させた後、一般式（１）で表される化合物を単離し、次いで、該一般式（１）で表される化合物と酸を反応させて一般式（２）で表される化合物に変換する工程を含む、一般式（２）で表される化合物の製造方法、
に関するものである。
本発明によれば、高純度なＮ４−アシルシチジン誘導体を、相当するシチジン誘導体の金属塩を利用することにより、簡便に製造することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。
一般式（１）および一般式（２）で表される化合物において、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基、またはハロゲン原子を、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜４のアルコキシル基、置換基を有する炭素数１〜４のアルコキシル基、またはハロゲン原子を、Ｒ３は、メチル基、またはフェニル基を表す。
一般式（１）および一般式（２）におけるＲ２の置換基を有する炭素数１〜４のアルコキシル基に関しては、主鎖の炭素数が該当する範囲に属するアルコキシル基を表し、任意の位置に複数の置換基を有するものを表す。置換基としては、例えば、アルコキシル基、アリール基等が挙げられる。置換基を有する炭素数１〜４のアルコキシル基の具体例を示すとすれば、例えば、メトキシメトキシル基、ブトキシメトキシル基、ペンチルオキシメトキシル基、トリクロロエトキシメトキシル基、メトキシエトキシメトキシル基、メトキシエトキシル基、ベンジルオキシル基、ベンジルオキシメチル基、メトキシベンジルオキシメトキシル基等が挙げられる。
一般式（１）および一般式（２）で表される化合物中のＲ２の立体配置は特に限定されることはなく、Ｒ配置またはＳ配置を取ることができる。
一般式（１）で表される化合物は、使用する溶媒によっては、溶媒和物や水和物として得られることがあり、それらの溶媒和物や水和物も含まれる。
本発明に用いられる一般式（１）で表される化合物のなかでも、一般式（１）中のＲ１が、水素原子またはメチル基、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がフェニル基である化合物は好ましく、一般式（１）中のＲ１が、水素原子またはメチル基、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がフェニル基、Ｍがリチウムイオンである化合物は特に好ましい。また、本発明に用いられる一般式（２）で表される化合物のなかでも、一般式（２）におけるＲ１が、水素原子またはメチル基、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がフェニル基である化合物は好ましい。
一般式（１）で表される化合物の前駆体である一般式（２）で表される化合物の入手方法に制限を設けるものではないが、例えば、前記の非特許文献１、非特許文献２、非特許文献３に例示されている方法を参考にして、一般式（５）[化５]
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、前記と同義である。）で表される化合物と４，４’−ジメトキシトリチルクロリドを反応させる方法および、一般式（６）[化６]
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同義である。）で表される化合物と一般式（７）[化７]
（式中、Ｒ３は前記と同義である。）で表される化合物、または一般式（８）[化８]
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される化合物を反応させる方法により、一般式（２）で表される化合物を製造することができる。本発明は、これらの方法を参考にして合成した一般式（２）で表される化合物の粗生成物に対して、精製法として使用することができる。
一般式（２）で表される化合物の粗生成物の使用形態は、特に制限されることがなく、溶媒を留去した状態や粉末化した状態等である。また、一般式（２）で表される化合物を製造する際に使用した反応溶媒に溶解した状態で、特に溶媒置換をすることなく、そのまま次工程の一般式（１）で表される化合物の製造を行うこともできる。
一般式（２）で表される化合物を一般式（３）で表される化合物と反応させるか、もしくは、有機アミンの存在下で一般式（４）で表される化合物と反応させることにより、一般式（１）で表される化合物を製造することができる。
一般式（３）および一般式（４）中のＭは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンを表す。これらの陽イオンの中でもリチウムイオンは陽イオンとして好ましい。
一般式（３）中のＸは、炭素数１〜４のアルコキシド、アミド、または水酸化物イオンの陰イオンを表す。
一般式（３）中のＸにおけるアミドとしては、例えば、ジイソプロピルアミド、ビス（トリメチルシリル）アミド等が挙げられる。
一般式（３）で表される化合物として、Ｘがイソプロポキシド、ｔ−ブトキシド、または水酸化物イオンである化合物は好ましい。
一般式（３）で表される化合物の使用量は、１当量以上あれば特に限定されることはないが、経済的概念から１当量以上１０当量以下が好ましい。
一般式（４）中のＹは、Ｙはハロゲン化物イオンを表す。
一般式（４）で表される化合物を使用する場合は、有機アミン存在下で行うことが必須である。
一般式（４）で表される化合物を使用する場合は、有機アミン存在下で行うことが必須である。
一般式（４）で表される化合物の使用量に関しては、１当量以上あれば特に限定されることはないが、経済的観点から１当量以上１０当量以下が好ましい。
有機アミンに関しては特に限定されることはないが、２級アミンまたは３級アミンが好ましい。具体例として、ピリジン、コリジン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン等が挙げられる。これらの中でも、トリブチルアミン、トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミンが好ましい。
有機アミンの使用量は、１当量以上であれば特に制限されはないが、経済的観点から１当量以上１０当量以下が好ましい。
一般式（２）で表される化合物を一般式（１）で表される化合物に変換するに際して、使用する溶媒としては、一般式（１）で表される化合物が析出すれば特に限定されることない。このような溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，アニソール等の芳香族系溶媒、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒等が挙げられる。
これらの溶媒は、特に限定されることなく、単独で使用することもできるし、２種類以上を任意の割合で混合して使用することもできる。
使用する溶媒量は、反応に支障のない限りにおいて特に限定されることはないが、通常、基質に対して３倍から３０倍の重量である。
反応温度は、一般式（１）で表される化合物が生成する反応が進行し、かつ、分解しない限り制限されないが、通常、−１０℃以上、使用する溶媒の沸点以下である。
反応圧力は、特に制限されることがなく、通常大気圧である。
一般式（１）で表される化合物の製造において、一般式（２）で表される化合物の粗生成物を用い、生成する一般式（１）で表される化合物を反応溶媒中に析出させることにより、高純度な一般式（１）で表される化合物を効率的に回収することができる。
一般式（１）で表される化合物を酸と反応させることにより、一般式（２）で表される化合物を製造することができる。
酸としては、一般式（２）で表される化合物を分解しないものであれば制限はないが、例えば、有機酸または無機酸を使用することができる。
酸としては、一般式（２）で表される化合物を分解しないものであれば制限はないが、例えば、有機酸または無機酸を使用することができる。
有機酸としては酢酸を、無機酸としては塩酸を好ましいものとして挙げることができる。
酸の使用量に制限は設けないが、反応液のｐＨが３以上７以下になるような量を使用することが目的物の分解を抑制する点で好ましい。
一般式（１）で表される化合物と酸との反応には、生成する目的物を分解しないものであれば制限はない。このような溶媒としては、水、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，アニソール等の芳香族系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒等が挙げられる。
これらの溶媒は、単独で、または、２種類以上の溶媒を混合して使用することができる。２種以上の溶媒を用いる場合、これら溶媒は均一な状態でも、２層に分離した状態でも良い。ただし、２層に分離した状態の場合において、酸の滴下終了後に一般式（２）で表される化合物が析出しなければ、一般式（２）で表される化合物を含有する有機層を分液して、後述する粉末化に使用することが好ましい。
溶媒の使用量に特に制限はないが、基質に対して５０倍以下であるのが好ましい。
反応温度は、一般式（２）で表される化合物が分解しない温度であれば制限されないが、−１０℃以上、５０℃以下が好ましい。
反応温度は、一般式（２）で表される化合物が分解しない温度であれば制限されないが、−１０℃以上、５０℃以下が好ましい。
一般式（１）で表される化合物と酸を反応させて得られる一般式（２）で表される化合物は、以下に示す方法により反応混合物から単離することができる。
反応混合物中に一般式（２）で表される化合物が析出している場合は、濾過することによって目的物を単離することができる。
反応混合物中に一般式（２）で表される化合物が析出していない場合は、一般式（２）で表される化合物を溶解している反応混合物中の溶媒とは異なる溶媒と混合して、この混合物中に一般式（２）で表される化合物の粉末を析出させ、これを濾過して単離することができる。
一般式（２）で表される化合物の粉末を析出させるに際しては、一般式（２）で表される化合物を含む反応混合物を、予め、水、アルカリ水溶液、食塩水等で洗浄することができる。また、反応混合物中の溶媒を、予め、減圧下で留去して任意の濃度に濃縮して使用することもできる。
一般式（２）で表される化合物の粉末を析出させるに際して用いられる溶媒としては、混合する溶媒同士が相溶するものであれば特に限定されることはない。このような溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒が挙げられる。
これらの溶媒は、単独で用いることができるが、２種類以上を併用することもできる。
一般式（２）で表される化合物を溶解している反応混合物中の溶媒とこれに混合する溶媒の好ましい組み合わせとしては、例えば、反応混合物中の溶媒がアセトニトリルである場合は、混合する溶媒である水、アルコール、または含水アルコールに反応混合物を滴下する方法が、反応混合物中の溶媒がメチルイソブチルケトンである場合は、混合する溶媒であるヘキサンまたはシクロへキサンに反応混合物を滴下する方法が挙げられる。
反応混合物と混合する溶媒の使用量は、目的物が析出するように設定すれば限定されることはないが、基質の重量に対して５倍以上１２０倍以下が好ましい。
粉末化を行う際の温度に関しては、目的物が分解されない限りにおいて、特に限定されることはないが、−３０℃以上溶媒の沸点以下が好ましい。
反応混合物中に一般式（２）で表される化合物が析出していない場合の別法として、一般式（２）で表される化合物を含有する溶媒を、通常の後処理のごとく、水、アルカリ水溶液、食塩水等で洗浄した後に、スプレードライヤー等を使用して粉末化することもできる。
粉末化する際の圧力は限定されることはないが、通常、大気圧である。
以上より、前記した一般式（５）または一般式（６）で表される化合物から製造される一般式（２）で表される化合物の粗生成物に対して、一般式（３）で表される化合物、もしくは、有機アミンの存在下で一般式（４）で表される化合物を反応させた後に、高純度な一般式（１）で表される化合物を単離して、次いで酸を反応させて一般式（２）で表される化合物に変換する製造方法において、一般式（１）で表される化合物は有効である。
以下に実施例により、本発明を更に詳細に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−５−メチルシチジンを「（Ｉ）」と、Ｎ４−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−５−メチルシチジンを「（ＩＩ）」と、Ｎ４−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシ−５−メチルシチジンのリチウム塩を「（ＩＩＩ）」と、メチルイソブチルケトンを「ＭＩＢＫ」と、イソプロピルアルコールを「ＩＰＡ」と略記する。
化合物（ＩＩ）と（ＩＩＩ）のＨＰＬＣによる分析条件に関しては、Ｄｅｖｅｌｏｓｉｌ ＯＤＳ−ＭＧ−５（サイズ４.６×２５０ｍｍ 野村化学株式会社製）のカラムを使用し、カラムオーブンの温度を４０℃、溶離液をアセトニトリル：１００ｍＭトリエチルアミン酢酸塩水溶液＝９０：１０、流速を１.０ｍｌ／分、観測波長をλ＝２５４ｎｍに設定して行った。
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオシキシチジンのリチウム塩のＨＰＬＣによる分析条件に関しては、ＹＭＣ‐Ｐａｃｋ ＣＮ Ａ‐５１２（サイズ６.０×２５０ｍｍ 株式会社ワイエムシイ製）のカラムを使用し、カラムオーブンの温度を３５℃、流速を１.０ｍｌ／分、観測波長をλ＝２３５ｎｍに設定して行った。溶離液に関しては、以下に示すグラジェントの条件で行った。
溶離液Ａ： ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４ １.１５ ｇ と （ＮＨ４）２ＨＰＯ４０.９２ ｇ を２Ｌの水に溶解する。
溶離液Ｂ：アセトニトリル１.５Ｌ、メタノール ０.１Ｌ と 溶離液Ａ０.４Ｌ の割合で混合する。
グラジェント条件：０分（溶離液Ｂの割合：１５％）、２５分（溶離液Ｂの割合：５０％）、６０分（溶離液Ｂの割合＝８５％）、８０分（溶離液Ｂの割合＝８５％） 、８２分（溶離液Ｂの割合＝１５％）、１０２分で停止 （溶離液Ｂの割合＝１５％）。
溶離液Ｂ：アセトニトリル１.５Ｌ、メタノール ０.１Ｌ と 溶離液Ａ０.４Ｌ の割合で混合する。
グラジェント条件：０分（溶離液Ｂの割合：１５％）、２５分（溶離液Ｂの割合：５０％）、６０分（溶離液Ｂの割合＝８５％）、８０分（溶離液Ｂの割合＝８５％） 、８２分（溶離液Ｂの割合＝１５％）、１０２分で停止 （溶離液Ｂの割合＝１５％）。
[比較例] 非特許文献１の追試
Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−５−メチルシチジン（０.３ｇ）を脱水ピリジン（２０ｍＬ）にて２回共沸脱水した後に、脱水ピリジン（３０ｍｌ）に溶解した。４，４’−ジメトキシトリチルクロリド３２８ｍｇを加えた後に室温で１０時間反応させた。メタノールを加えて１時間撹拌した後に、溶媒を減圧下で留去した。濃縮残渣にクロロホルム２０ｍＬおよび５重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液３０ｍＬを加えて分液した。有機層をメンブランフィルターで濾過した後に減圧濃縮した。濃縮残渣にジエチルエーテル７ｍＬを加え、析出した成分をメンブランフィルターで濾過した後、ヘキサン１００ｍＬ中に滴下して、さらに２時間撹拌した。析出物を濾過し、さらにヘキサンで洗浄した後に、減圧下で乾燥すると、０.４２ｇの固体を得た。本固体をＨＰＬＣにて分析したところ、（ＩＩ）はわずかに７７.０％（面積）であった。
Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−５−メチルシチジン（０.３ｇ）を脱水ピリジン（２０ｍＬ）にて２回共沸脱水した後に、脱水ピリジン（３０ｍｌ）に溶解した。４，４’−ジメトキシトリチルクロリド３２８ｍｇを加えた後に室温で１０時間反応させた。メタノールを加えて１時間撹拌した後に、溶媒を減圧下で留去した。濃縮残渣にクロロホルム２０ｍＬおよび５重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液３０ｍＬを加えて分液した。有機層をメンブランフィルターで濾過した後に減圧濃縮した。濃縮残渣にジエチルエーテル７ｍＬを加え、析出した成分をメンブランフィルターで濾過した後、ヘキサン１００ｍＬ中に滴下して、さらに２時間撹拌した。析出物を濾過し、さらにヘキサンで洗浄した後に、減圧下で乾燥すると、０.４２ｇの固体を得た。本固体をＨＰＬＣにて分析したところ、（ＩＩ）はわずかに７７.０％（面積）であった。
[実施例１]
ＭＩＢＫ１００ｍｌに、（Ｉ）１０.６ｇ、ジシクロヘキシルアミン４.４５ｇ、無水安息香酸５.２８ｇを加えて、７０℃で４時間反応した。析出した安息香酸のジシクロヘキシルアミン塩を除去し、濾液を３℃まで冷却した。これに、水酸化ナトリウム２.３４ｇを溶解した８０％エタノール５０ｍｌを５℃以下に維持して滴下し、氷冷下で４時間攪拌した。２規定の塩酸水２９ｍｌで中和して、分離した水層を除去した後に、減圧下で溶媒を留去した。残渣に、ＭＩＢＫ１００ｍｌと５重量％の炭酸ナトリウム１００ｍｌを加えて分液した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した後に硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過にて除去した後に、濾液にＩＰＡ２０ｍｌ、水酸化リチウム１水和物０.９２gを加えて、室温で終夜攪拌した。析出物を濾過し、減圧乾燥した。得られた化合物は、（ＩＩＩ）に対して、１分子のＭＩＢＫと１分子の水が溶媒和したものであった（以下、「（ＩＩＩ）の１ＭＩＢＫ・１水和物」と略記する。）。また、収量は１０.８ｇであった。ＨＰＬＣにて観測すると、９９.８％（面積）を示し、十分な精製効果が認められた。
ＭＩＢＫ１００ｍｌに、（Ｉ）１０.６ｇ、ジシクロヘキシルアミン４.４５ｇ、無水安息香酸５.２８ｇを加えて、７０℃で４時間反応した。析出した安息香酸のジシクロヘキシルアミン塩を除去し、濾液を３℃まで冷却した。これに、水酸化ナトリウム２.３４ｇを溶解した８０％エタノール５０ｍｌを５℃以下に維持して滴下し、氷冷下で４時間攪拌した。２規定の塩酸水２９ｍｌで中和して、分離した水層を除去した後に、減圧下で溶媒を留去した。残渣に、ＭＩＢＫ１００ｍｌと５重量％の炭酸ナトリウム１００ｍｌを加えて分液した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した後に硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過にて除去した後に、濾液にＩＰＡ２０ｍｌ、水酸化リチウム１水和物０.９２gを加えて、室温で終夜攪拌した。析出物を濾過し、減圧乾燥した。得られた化合物は、（ＩＩＩ）に対して、１分子のＭＩＢＫと１分子の水が溶媒和したものであった（以下、「（ＩＩＩ）の１ＭＩＢＫ・１水和物」と略記する。）。また、収量は１０.８ｇであった。ＨＰＬＣにて観測すると、９９.８％（面積）を示し、十分な精製効果が認められた。
次に、アセトニトリル１００ｍｌに水５０ｍｌ、酢酸２.３ｍｌを加えて、さらに上記で得た（ＩＩＩ）の１ＭＩＢＫ・１水和物１０.５ｇを装入した。室温で１時間攪拌した後に分液した。さらに、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。氷冷した５０％メタノール水溶液２００ｍｌに、この有機層をゆっくりと滴下した。氷冷を維持したまま４時間攪拌した後、析出物を濾取し、減圧下で乾燥した。得られた化合物は（ＩＩ）であり、収量８.９４ｇであった。ＨＰＬＣにて観測すると９９.８％（面積）であり、非常に高純度であった。
なお、（ＩＩＩ）・１ＭＩＢＫ・１水和物の同定データは次のとおりである。
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）（内標：テトラメチルシラン） ０.８５ｐｐｍ（６Ｈ, ｄ, Ｊ＝６.６０Ｈｚ ：ＭＩＢＫ）, １.６８（３Ｈ, ｓ）, ２.００（１Ｈ, ｍ ：ＭＩＢＫ）, ２.０６（３Ｈ, ｓ ：ＭＩＢＫ）, ２.１６（２Ｈ, ｍ）, ２.２９（２Ｈ, ｄ, Ｊ＝６.９３Ｈｚ ：ＭＩＢＫ）， ３.２２（２Ｈ， ｍ）， ３.７４（６Ｈ， ｓ）， ３.８９（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝３.３０Ｈｚ）， ４.３０（１Ｈ， ｂｒｓ）， ５.２９（１Ｈ， ｓ）， ６.３２（１Ｈ， ｔ， Ｊ＝６.７６Ｈｚ）， ６.９１（４Ｈ， ｄ， Ｊ＝８.５７Ｈｚ）， ７.２−７.４（１２Ｈ， ｍ）， ７.５３（１Ｈ， ｓ）， ８.１２（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝６.２７）.
融点 １９１.６−１９５.４℃（分解）
水分含量（カールフィッシャー法により測定）約２.０重量％
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）（内標：テトラメチルシラン） ０.８５ｐｐｍ（６Ｈ, ｄ, Ｊ＝６.６０Ｈｚ ：ＭＩＢＫ）, １.６８（３Ｈ, ｓ）, ２.００（１Ｈ, ｍ ：ＭＩＢＫ）, ２.０６（３Ｈ, ｓ ：ＭＩＢＫ）, ２.１６（２Ｈ, ｍ）, ２.２９（２Ｈ, ｄ, Ｊ＝６.９３Ｈｚ ：ＭＩＢＫ）， ３.２２（２Ｈ， ｍ）， ３.７４（６Ｈ， ｓ）， ３.８９（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝３.３０Ｈｚ）， ４.３０（１Ｈ， ｂｒｓ）， ５.２９（１Ｈ， ｓ）， ６.３２（１Ｈ， ｔ， Ｊ＝６.７６Ｈｚ）， ６.９１（４Ｈ， ｄ， Ｊ＝８.５７Ｈｚ）， ７.２−７.４（１２Ｈ， ｍ）， ７.５３（１Ｈ， ｓ）， ８.１２（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝６.２７）.
融点 １９１.６−１９５.４℃（分解）
水分含量（カールフィッシャー法により測定）約２.０重量％
[実施例２]
（Ｉ）１０.０ｇ、無水安息香酸５.０ｇ、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｇをＭＩＢＫ１００ｍｌに加えて７０℃で４時間反応した。室温まで冷却した後に分液した。有機層を氷冷し、水酸化ナトリウム２.２１ｇを溶解した８０％エタノール水溶液５０ｍｌを滴下して同温で４時間反応した。２５重量％の酢酸でｐＨ約７まで中和して、水層を分離した。有機層を減圧下で濃縮して、アセトニトリル１００ｍｌ、ＩＰＡ４０ｍｌ、塩化リチウム２.２６ｇを加えて均一状態になるまで攪拌した。これに、トリブチルアミン６.４ｍｌを滴下して５０℃で３時間攪拌した。室温まで冷却した後に、析出物を濾過して減圧下で乾燥した。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、収量は１０.６ｇであった。ＨＰＬＣで純度を観測すると、９９.９％（面積）であった。実施例１とは異なり、溶媒和は形成していなかった。
（Ｉ）１０.０ｇ、無水安息香酸５.０ｇ、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｇをＭＩＢＫ１００ｍｌに加えて７０℃で４時間反応した。室温まで冷却した後に分液した。有機層を氷冷し、水酸化ナトリウム２.２１ｇを溶解した８０％エタノール水溶液５０ｍｌを滴下して同温で４時間反応した。２５重量％の酢酸でｐＨ約７まで中和して、水層を分離した。有機層を減圧下で濃縮して、アセトニトリル１００ｍｌ、ＩＰＡ４０ｍｌ、塩化リチウム２.２６ｇを加えて均一状態になるまで攪拌した。これに、トリブチルアミン６.４ｍｌを滴下して５０℃で３時間攪拌した。室温まで冷却した後に、析出物を濾過して減圧下で乾燥した。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、収量は１０.６ｇであった。ＨＰＬＣで純度を観測すると、９９.９％（面積）であった。実施例１とは異なり、溶媒和は形成していなかった。
上記方法で得た（ＩIＩ）６.０ｇを、酢酸０.７７ｍｌ、水３０ｍｌを含むアセトニトリル６０ｍｌに装入して１時間攪拌した後に分液した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５ｍｌ、飽和食塩水３０ｍｌの順に洗浄した有機層を、氷冷にした５０％メタノール水溶液１２０ｍｌにゆっくりと滴下した。さらに氷冷で４時間攪拌した後に、析出物を濾取し減圧下で乾燥した。得られた化合物は（ＩＩ）であり、収量５.７ｇであった。ＨＰＬＣにて純度を観測すると、９９.９％（面積）であり、非常に高純度であった。
なお、化合物（ＩＩＩ）の同定データは次に示すとおりである。
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）（内標：テトラメチルシラン） １.６９（３Ｈ, ｓ）, ２.１６（２Ｈ, ｍ）, ３.２２（２Ｈ， ｍ）， ３.７４（６Ｈ， ｓ）， ３.９０（１Ｈ， ｍ）， ４.３１（１Ｈ， ｂｒｓ）， ５.２９（１Ｈ， ｓ）， ６.３２（１Ｈ， ｔ， Ｊ＝６.５９Ｈｚ）， ６.９０（４Ｈ， ｄ， Ｊ＝８.２４Ｈｚ）， ７.２−７.４（１２Ｈ， ｍ）， ７.５４（１Ｈ， ｓ）， ８.１４（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝６.２７）.
融点 ２１０.２−２１２.２℃（分解）
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）（内標：テトラメチルシラン） １.６９（３Ｈ, ｓ）, ２.１６（２Ｈ, ｍ）, ３.２２（２Ｈ， ｍ）， ３.７４（６Ｈ， ｓ）， ３.９０（１Ｈ， ｍ）， ４.３１（１Ｈ， ｂｒｓ）， ５.２９（１Ｈ， ｓ）， ６.３２（１Ｈ， ｔ， Ｊ＝６.５９Ｈｚ）， ６.９０（４Ｈ， ｄ， Ｊ＝８.２４Ｈｚ）， ７.２−７.４（１２Ｈ， ｍ）， ７.５４（１Ｈ， ｓ）， ８.１４（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝６.２７）.
融点 ２１０.２−２１２.２℃（分解）
[実施例３]
（Ｉ）０.４３ｇ、無水安息香酸２１５ｍｇ、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液５ｇをＭＩＢＫ５ｍｌに加えて、７０℃で４時間反応した。室温まで冷却し、分液した。分離した有機層を氷冷して、水酸化ナトリウム０.１ｇを溶解した８０％エタノール水溶液３ｍｌを滴下した。同温で４時間反応した後に、２５ｗｔ％酢酸水溶液で中和して分液した。有機層を減圧下で濃縮し、次いでトルエン５ｍｌ、ＩＰＡ２ｍｌ、塩化リチウム９８ｍｇを加えて、均一の状態になるまで攪拌した。トリブチルアミン２７６μｌを滴下して、室温で終夜攪拌した。析出物を濾取し減圧下で乾燥した。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、ＨＰＬＣにて純度を観測すると９９.８％（面積）であった。溶媒和は観測されず、収量は０.２４ｇであった。１Ｈ ＮＭＲは実施例２で合成したものと一致した。
（Ｉ）０.４３ｇ、無水安息香酸２１５ｍｇ、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液５ｇをＭＩＢＫ５ｍｌに加えて、７０℃で４時間反応した。室温まで冷却し、分液した。分離した有機層を氷冷して、水酸化ナトリウム０.１ｇを溶解した８０％エタノール水溶液３ｍｌを滴下した。同温で４時間反応した後に、２５ｗｔ％酢酸水溶液で中和して分液した。有機層を減圧下で濃縮し、次いでトルエン５ｍｌ、ＩＰＡ２ｍｌ、塩化リチウム９８ｍｇを加えて、均一の状態になるまで攪拌した。トリブチルアミン２７６μｌを滴下して、室温で終夜攪拌した。析出物を濾取し減圧下で乾燥した。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、ＨＰＬＣにて純度を観測すると９９.８％（面積）であった。溶媒和は観測されず、収量は０.２４ｇであった。１Ｈ ＮＭＲは実施例２で合成したものと一致した。
[実施例４]
実施例３において、トルエンをメチルエチルケトン５ｍｌにする以外は同様に行った。ＨＰＬＣにて純度を観測すると９９.９％（面積）であった。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、溶媒和は観測されず、収量は０.３１ｇであった。１Ｈ ＮＭＲは実施例２で合成したものと一致した。
実施例３において、トルエンをメチルエチルケトン５ｍｌにする以外は同様に行った。ＨＰＬＣにて純度を観測すると９９.９％（面積）であった。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、溶媒和は観測されず、収量は０.３１ｇであった。１Ｈ ＮＭＲは実施例２で合成したものと一致した。
[実施例５]
実施例３において、トルエンをアセトン５ｍｌにする以外は同様に行った。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、ＨＰＬＣにて純度を観測すると９９.９％（面積）であった。溶媒和は観測されず、収量は０.３８ｇであった。１Ｈ ＮＭＲは実施例２で合成したものと一致した。
実施例３において、トルエンをアセトン５ｍｌにする以外は同様に行った。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、ＨＰＬＣにて純度を観測すると９９.９％（面積）であった。溶媒和は観測されず、収量は０.３８ｇであった。１Ｈ ＮＭＲは実施例２で合成したものと一致した。
[実施例６]
（Ｉ）０.４３ｇ、無水安息香酸２１５ｍｇ、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液５ｇをＭＩＢＫ５ｍｌに加えて、７０℃で４時間反応した。室温まで冷却して分液した。分離した有機層を氷冷して、水酸化ナトリウム０.１ｇを溶解した８０％エタノール水溶液３ｍｌを滴下した。同温で４時間反応した後に２５ｗｔ％酢酸水溶液で中和して分液した。有機層を減圧下で濃縮し、次いで、アセトニトリル１０ｍｌとＩＰＡ４ｍｌを加えて攪拌した。これにリチウムイソプロポキシド６１ｍｇを装入した後に、５０℃まで昇温して２時間攪拌した。室温まで冷却した後に、析出物を濾取した。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、ＨＰＬＣにて純度を観測すると９９.９％（面積）であった。溶媒和は観測されず、収量は０.４５ｇであった。１Ｈ ＮＭＲは実施例２で合成したものと一致した。
（Ｉ）０.４３ｇ、無水安息香酸２１５ｍｇ、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液５ｇをＭＩＢＫ５ｍｌに加えて、７０℃で４時間反応した。室温まで冷却して分液した。分離した有機層を氷冷して、水酸化ナトリウム０.１ｇを溶解した８０％エタノール水溶液３ｍｌを滴下した。同温で４時間反応した後に２５ｗｔ％酢酸水溶液で中和して分液した。有機層を減圧下で濃縮し、次いで、アセトニトリル１０ｍｌとＩＰＡ４ｍｌを加えて攪拌した。これにリチウムイソプロポキシド６１ｍｇを装入した後に、５０℃まで昇温して２時間攪拌した。室温まで冷却した後に、析出物を濾取した。得られた化合物は（ＩＩＩ）であり、ＨＰＬＣにて純度を観測すると９９.９％（面積）であった。溶媒和は観測されず、収量は０.４５ｇであった。１Ｈ ＮＭＲは実施例２で合成したものと一致した。
[実施例７]
実施例１と同様の方法で得た（ＩＩＩ）の１ＭＩＢＫ・１水和物０.５７ｇを、氷冷した８０％メタノール水溶液に装入して、ｐＨが６になるまで酢酸で中和した。氷冷で３時間攪拌した後に析出物を濾取した。得られた化合物は（ＩＩ）であり、収量は０.４３ｇであった。ＨＰＬＣで純度を測定すると、９９.８％（面積）であった。
実施例１と同様の方法で得た（ＩＩＩ）の１ＭＩＢＫ・１水和物０.５７ｇを、氷冷した８０％メタノール水溶液に装入して、ｐＨが６になるまで酢酸で中和した。氷冷で３時間攪拌した後に析出物を濾取した。得られた化合物は（ＩＩ）であり、収量は０.４３ｇであった。ＨＰＬＣで純度を測定すると、９９.８％（面積）であった。
[実施例８]
２’−デオシキ−５−メチルシチジン１０ｇをＤＭＦ９０ｇ、無水安息香酸１０.３ｇを加え、４０℃で５時間反応した。次いで得られた反応混合物にピリジン１０.９ｇを加え１０℃まで冷却し、４，４’−ジメトキシトリチルクロライド１６.７ｇを加え、同温にて１５時間反応した。反応終了後、ＭＩＢＫ１１０.４ｇと５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１１８ｇを加え攪拌し、分液した。得られた有機層を水１１０ｇで２回洗浄した後に、エタノール３４ｇ、３０重量％水酸化ナトリウム水溶液１５.８ｇを加え、氷冷下で１時間攪拌した。次に水３４ｇを加え分液した後に、更に水３４ｇで２回、３重量％酒石酸水溶液、水１７ｇで順次洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮した後に、アセトニトリル２０２ｇ、ＩＰＡ８０.８ｇを加えて攪拌した。これに、塩化リチウム４.５ｇ、トリブチルアミン９.５ｇ、種晶を加え、５０℃で５時間攪拌した後に、氷冷下で２時間攪拌し、析出物を濾取した。得られた析出物を濾過、洗浄、乾燥し、目的物である（ＩＩＩ）１８．５ｇ（６１％）を得た。また、ＨＰＬＣにて観測すると９９.８％（面積）であった。
２’−デオシキ−５−メチルシチジン１０ｇをＤＭＦ９０ｇ、無水安息香酸１０.３ｇを加え、４０℃で５時間反応した。次いで得られた反応混合物にピリジン１０.９ｇを加え１０℃まで冷却し、４，４’−ジメトキシトリチルクロライド１６.７ｇを加え、同温にて１５時間反応した。反応終了後、ＭＩＢＫ１１０.４ｇと５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１１８ｇを加え攪拌し、分液した。得られた有機層を水１１０ｇで２回洗浄した後に、エタノール３４ｇ、３０重量％水酸化ナトリウム水溶液１５.８ｇを加え、氷冷下で１時間攪拌した。次に水３４ｇを加え分液した後に、更に水３４ｇで２回、３重量％酒石酸水溶液、水１７ｇで順次洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮した後に、アセトニトリル２０２ｇ、ＩＰＡ８０.８ｇを加えて攪拌した。これに、塩化リチウム４.５ｇ、トリブチルアミン９.５ｇ、種晶を加え、５０℃で５時間攪拌した後に、氷冷下で２時間攪拌し、析出物を濾取した。得られた析出物を濾過、洗浄、乾燥し、目的物である（ＩＩＩ）１８．５ｇ（６１％）を得た。また、ＨＰＬＣにて観測すると９９.８％（面積）であった。
[実施例９]
Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオシキシチジン１０ｇをピリジン７０ｇに溶解し、１０℃に冷却した後に、４，４’−ジメトキシトリチルクロライド１１.８ｇを加えて５時間反応した。次に、炭酸水素ナトリウム３.２ｇを加え、室温で１時間攪拌した。得られた反応混合物を減圧濃縮後、ＭＩＢＫ１２０ｇ、水６０ｇを加えて分液し、更に有機層を３重量％食塩水で２回洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮後、アセトニトリル１００ｇとイソプロピルアルコール４０ｇを加えて攪拌し、更に塩化リチウム４ｇ、トリブチルアミン８．４ｇ、種晶を加えて、氷冷下、５時間攪拌した。析出物をろ過、洗浄、乾燥し、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオシキシチジンのリチウム塩１１．６ｇ（収率６０％）を得た。また、ＨＰＬＣにて観測すると９９．２％（面積）であった。
Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオシキシチジン１０ｇをピリジン７０ｇに溶解し、１０℃に冷却した後に、４，４’−ジメトキシトリチルクロライド１１.８ｇを加えて５時間反応した。次に、炭酸水素ナトリウム３.２ｇを加え、室温で１時間攪拌した。得られた反応混合物を減圧濃縮後、ＭＩＢＫ１２０ｇ、水６０ｇを加えて分液し、更に有機層を３重量％食塩水で２回洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮後、アセトニトリル１００ｇとイソプロピルアルコール４０ｇを加えて攪拌し、更に塩化リチウム４ｇ、トリブチルアミン８．４ｇ、種晶を加えて、氷冷下、５時間攪拌した。析出物をろ過、洗浄、乾燥し、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオシキシチジンのリチウム塩１１．６ｇ（収率６０％）を得た。また、ＨＰＬＣにて観測すると９９．２％（面積）であった。
なお、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオシキシチジンのリチウム塩の同定データは次に示すとおりである。
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）（内標：テトラメチルシラン）８.１１（ｄｄ,２Ｈ）, ７.７３（ｄ, １Ｈ）, ７.４２-７.２２（ｍ, １３Ｈ）, ６.９１（ｄ, ４Ｈ）, ６.２６（ｔ, １Ｈ）, ５.９６（ｍ, １Ｈ）, ５.３６（ｍ, １Ｈ）, ４.２９（ｍ, １Ｈ）, ３.９２（１Ｈ, ｍ）, ３.７４（ｓ, ６Ｈ）, ３.２６-３.２０（ｍ, ２Ｈ）, ２.２５-２.２２（ｍ, １Ｈ）, ２.１３-２.０７（ｍ, １Ｈ）.
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）（内標：テトラメチルシラン）８.１１（ｄｄ,２Ｈ）, ７.７３（ｄ, １Ｈ）, ７.４２-７.２２（ｍ, １３Ｈ）, ６.９１（ｄ, ４Ｈ）, ６.２６（ｔ, １Ｈ）, ５.９６（ｍ, １Ｈ）, ５.３６（ｍ, １Ｈ）, ４.２９（ｍ, １Ｈ）, ３.９２（１Ｈ, ｍ）, ３.７４（ｓ, ６Ｈ）, ３.２６-３.２０（ｍ, ２Ｈ）, ２.２５-２.２２（ｍ, １Ｈ）, ２.１３-２.０７（ｍ, １Ｈ）.
本発明は、アンチセンスＤＮＡ医薬品の原料となる高純度なＮ４−アシルシチジン誘導体の製造方法として有用である。
Claims (8)
- 一般式（１）[化１]
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基、またはハロゲン原子を、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜４のアルコキシル基、置換基を有する炭素数１〜４のアルコキシル基、またはハロゲン原子を、Ｒ３は、メチル基、またはフェニル基を、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンを表す。）で表される化合物。 - 一般式（１）におけるＲ１が水素原子またはメチル基、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がフェニル基である請求項１に記載の化合物。
- 一般式（１）におけるＭがリチウムイオンである請求項１〜２のいずれか１項に記載の化合物。
- 一般式（２）[化２]
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、前記と同義である。）と一般式（３）[化３]
（式中、Ｘは炭素数１〜４のアルコキシド、アミド、または水酸化物イオンの陰イオンを表す。）で表される化合物を反応させるか、もしくは、有機アミンの存在下で一般式（４）[化４]
（式中、Ｍは前記と同義であり、Ｙはハロゲン化物イオンを表す。）で表される化合物を反応させる、一般式（１）で表される化合物の製造方法。 - 一般式（１）で表される化合物と酸を反応させる、一般式（２）で表される化合物の製造方法。
- 一般式（２）で表される化合物と、一般式（３）で表される化合物を反応させるか、もしくは、有機アミンの存在下で一般式（４）で表される化合物を反応させた後、一般式（１）で表される化合物を単離し、次いで、該一般式（１）で表される化合物と酸を反応させて一般式（２）で表される化合物に変換する工程を含む、一般式（２）で表される化合物の製造方法。
- 一般式（１）および一般式（２）におけるＲ１が水素原子またはメチル基、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がフェニル基である請求項４〜６のいずれか１項に記載の方法。
- 一般式（１）におけるＭがリチウムイオンである請求項４〜７のいずれか１項に記載の方法。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0717994A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-20 | Tokyo Yatsuka Univ | デオキシリボヌクレオシド誘導体の合成法 |
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-
2004
- 2004-10-07 JP JP2004294684A patent/JP2005272435A/ja active Pending
Patent Citations (6)
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