JP2002275192A - 過剰反応物の除去による保護化２’−デオキシシチジン誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来技術における、ハロゲン溶媒を使ったカ
ラムクロマトグラフィーによる精製といった、工業的製
法としての実用面での欠点を解消し、供給量に制限のな
い、効率的な保護化２’−デオキシシチジン誘導体の製
造方法を提供する。 【解決手段】 使用する反応試薬の当量を規定した上で
反応を行い、反応混合物に対して溶解性の溶媒と目的物
である保護化２’−デオキシシチジン誘導体に対して不
溶性の溶媒との特定の混合溶媒を添加して目的物のみを
晶析単離することにより、簡便な製造方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般式〔４〕

【０００２】

【化５】 （式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。）で表
わされる保護化２’−デオキシシチジン誘導体の製造方
法に関する。近年、この保護化２’−デオキシシチジン
誘導体〔４〕は、各種抗ウイルス剤、抗ガン剤、抗クロ
ーン病剤、抗リュウマチ剤および診断薬として開発され
つつある、オリゴヌクレオチド誘導体やアンチセンスＤ
ＮＡ製造のための重要な中間体化合物として需要が増大
している。

【０００３】

【従来の技術】従来、保護化２’−デオキシシチジン誘
導体〔４〕の製造法として、次の方法が知られていた。
つまり、ベンゾイル２’−デオキシシチジン誘導体
〔１〕と、〔１〕に対して１当量以上のトリチルハライ
ド〔２〕を反応させて、原料のベンゾイル２’−デオキ
シシチジン誘導体〔１〕をほぼ消失させた後、トリチル
ハライド〔２〕が過剰に置換反応した過剰反応物〔３〕
を、ハロゲン溶媒を用いたカラムクロマトグラフィーに
より除去し、精製する方法である。（例えば、Ｎｕｃ
ｌ．＆Ｎｕｃｌ．，４（５），ｐ６４１（１９８５）、
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｐ９６５（１９８４）、ＪＡＣ
Ｓ，１０４，ｐ９６５（１９８２），Ｍｅｔｈｏｄｓ
ｉｎ Ｅｎｚｙｍｏｌｏｇｙ，６５，ｐ６１０（１９８
１）、蛋白質・核酸・酵素，２６（４），ｐ５３１（１
９８１））

【０００４】

【化６】 （式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。）

【０００５】

【化７】 （式中、Ｘは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子または
沃素原子を表す。）

【０００６】

【化８】 （式中、Ｒは、前述と同義である。）

【０００７】前記従来技術による保護化２’−デオキシ
シチジン誘導体〔４〕の製造法は、工業的製造法とし
て、次のような問題点がある。

【０００８】１）過剰反応物〔３〕は、非常に脂溶性に
富むため、抽出操作による水洗浄などで除去することは
困難であり、また、通常用いられるような高極性溶媒、
メタノール、エタノールあるいは酢酸エチルなどでの再
結晶はできない。

【０００９】２）そのため、カラムクロマトグラフィー
による精製が唯一の精製単離方法であるが、大量のハロ
ゲン系溶媒を必要とし、供給量が制限される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このように従来は、過
剰反応物〔３〕の効率的な除去方法が知られていなかっ
たため、大量のハロゲン系溶媒の使用を避けることがで
きなかった。本発明の目的は、ハロゲン系溶媒を使用す
ることなく、効率的に保護化２’−デオキシシチジン誘
導体〔４〕を大量製造可能な方法を提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】従来の欠点を解消し、供
給量に制限のない、効率的な保護化２’−デオキシシチ
ジン誘導体〔４〕の製造法を提供するため、本発明者ら
は鋭意検討を行い、保護化２’−デオキシシチジン誘導
体〔４〕に比較して過剰反応物〔３〕をより良く溶解す
る晶析溶媒を見つけるに至り、本発明を完成させた。す
なわち、本発明は、［１］一般式〔１〕

【００１２】

【化９】 （式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。）で表
されるベンゾイル２’−デオキシシチジン誘導体の１当
量に対し、下記一般式〔２〕

【００１３】

【化１０】 （式中、Ｘは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子または
沃素原子を表す。）で表されるトリチルハライドを１当
量から１．３当量反応させた後、得られた反応混合物か
ら、下記一般式〔３〕

【００１４】

【化１１】 （式中、Ｒは、前述と同義である。）で表される過剰反
応物を除去することにより、下記一般式〔４〕

【００１５】

【化１２】 （式中、Ｒは、前述と同義である。）で表される保護化
２’−デオキシシチジン誘導体を製造する方法であっ
て、前記一般式〔３〕で表される過剰反応物の除去を、
前記反応混合物を、可溶性溶媒に溶解した後、前記一般
式〔４〕に対して不溶性の溶媒を添加して、あるいは該
不溶性溶媒に前記反応混合物を添加した後、前記可溶性
溶媒を添加して、前記一般式〔４〕を晶析することによ
り行うことを特徴とする前記方法、

【００１６】［２］前記可溶性溶媒が芳香族系溶媒であ
り、前記一般式〔４〕に対して不溶性の溶媒がエーテル
系溶媒である［１］に記載の製造方法、［３］芳香族系
溶媒が、トルエン、キシレン、アニソール、クロロアニ
ソールあるいはクメンからなる１種または２種以上の混
合物である［２］に記載の製造方法、［４］エーテル系
溶媒が、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
ｔ−ブチルメチルエーテルあるいはテトラヒドロフラン
からなる１種または２種以上の混合物である［２］に記
載の製造方法、及び［５］トリチルハライド〔２〕の当
量数が、１．０５当量から１．２当量である、［１］〜
［４］のいずれかに記載の製造方法である。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下に本発明の方法を詳細に説明
する。原料の一般式〔１〕で表されるベンゾイル２’−
デオキシシチジン誘導体は、市販されている２’−デオ
キシシチジン誘導体のアミノ基を公知の方法によりベン
ゾイル化することで容易に製造できる。ベンゾイル化剤
としては、ベンゾイルクロライドや安息香酸無水物など
があるがこれらに限定されない。また、後述する参考例
に具体的方法を例示するが、本発明で使用する式〔１〕
の化合物はこの方法によって製造されたものに限定され
るものではない。

【００１８】一方のトリチルハライド〔２〕としては、
４，４’−ジメチルトリチルフロリド、４，４’−ジメ
チルトリチルクロリド、４，４’−ジメチルトリチルブ
ロミドおよび４，４’−ジメチルトリチルヨージドが挙
げられる。これらは、同仁化学（株）などから市販品と
して容易に入手できる。

【００１９】反応に使用する溶媒は、反応を阻害しない
限り限定されないが、具体例としては、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサン、モルホリンなどのエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン類、ピリジン、ピリミジンなどの環
状アミン類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベン
ゾニトリルなどのニトリル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホ
キシド、ジエチルスルホキシド、などのスルホキシド
類、およびジメチルイミダゾリジノンなどのイミダゾリ
ジノン類が挙げられ、これらを単独もしくは必要に応じ
て混合して使用することができる。なかでもアセトン、
メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ピリジン、ジメチルホルムアミドを単独ないしは混
合して使用することが好ましい。

【００２０】ベンゾイル２’−デオキシシチジン誘導体
〔１〕とトリチルハライド〔２〕との反応温度は、−５
℃から５０℃の間で可能であるが、０℃から３０℃が好
ましい。反応時間は０．１時間から８時間の間が好まし
く、１時間から２時間の間が特に好ましい。

【００２１】トリチルハライド〔２〕の使用量は、ベン
ゾイル２’−デオキシシチジン誘導体〔１〕に対して
１．０当量から１．３当量の間であるが、好ましくは
１．０５当量から１．２当量の間である。反応終了時点
で、ベンゾイル２’−デオキシシチジン誘導体〔１〕な
どの親水性不純物を残さないために、この当量数は重要
である。実際にトリチルハライド〔２〕の当量を最適化
した結果について〔表−１〕に示す。

【００２２】

【表１】

【００２３】〔表−１〕に示したように、保護化２’−
デオキシシチジン誘導体〔４〕の収率を向上し、過剰反
応物〔３〕の生成を抑えるためには、ベンゾイル２’−
デオキシシチジン誘導体〔１〕に対するトリチルハライ
ド〔２〕の当量数は、１以上１．３以下が好ましい。特
に１．０５以上１．２以下が好ましい。トリチルハライ
ド〔２〕の使用量をベンゾイル２’−デオキシシチジン
誘導体〔１〕に対して１．０当量未満にすると、原料で
ある〔１〕の残量が増すため、精製上好ましくない。

【００２４】上記反応は、アルコール類を添加して、少
量残存するトリチルハライド〔２〕を消失させること
で、反応を停止することができる。停止反応に使用する
アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノ
ール、フェノールなどが挙げられるが、これに限定され
るものではない。アルコール類の量は、トリチルハライ
ド〔２〕の０．１倍モルから１０倍モルであり、添加時
の温度は−５℃から５０℃の間であり、反応時間は０．
１時間から２時間の間である。

【００２５】反応を停止したのち、反応液を保護化２’
−デオキシシチジン誘導体〔４〕の理論収量の１倍量か
ら１０倍量となるまで４０℃以下で減圧濃縮する。

【００２６】得られた保護化２’−デオキシシチジン誘
導体〔４〕の濃縮溶液を、溶媒に溶解し、水ないしは弱
塩基性水溶液で１回洗浄する。ここで用いる溶媒は、
〔４〕を溶解する限り特に限定されないが、水と２液層
をなす酢酸エチルなどのエステル系溶媒や、ハロゲン系
溶媒が好ましい。洗浄水として弱塩基性水溶液を使用す
る場合は、炭酸水素ナトリウムの０．１モル／Ｌから２
モル／Ｌの溶液が好ましいが、これに限定されるもので
はない。

【００２７】得られた反応混合物に特定の溶媒を加える
と、過剰反応物〔３〕を溶液中に残し、保護化２’−デ
オキシシチジン誘導体〔４〕を晶析することができる。
特定の溶媒としては、〔表−２〕に示したような、可溶
性溶媒と不溶性溶媒の組み合わせが好ましい。特に、過
剰反応物〔３〕をより除きやすい溶媒の組み合わせが好
ましく、可溶性溶媒として、トルエン、クロロアニソー
ル、キシレン、アニソール、クメンなどの芳香族溶媒
と、不溶性溶媒として、イソプロピルエーテル、ジエチ
ルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテルなどのエーテル
系溶媒との組み合わせを挙げることができる。なかで
も、アニソールとイソプロピルエーテルの組み合わせが
特に好ましい。過剰反応物〔３〕を２．２％含む保護化
２’−デオキシシチジン誘導体〔４〕を、初めに可溶性
溶媒に溶解した後、不溶性溶媒を加えて結晶を析出さ
せ、得られた結晶中の過剰反応物〔３〕の量を、ＨＰＬ
Ｃで分析した結果を〔表−２〕に示す。

【００２８】

【表２】

【００２９】〔表−２〕に示したように、保護化２’−
デオキシシチジン誘導体〔４〕に対して２．２％含まれ
ていた過剰反応物〔３〕が、上記処理を経て、結晶中か
ら削減できることがわかる。これら溶媒の使用量として
は、濃縮後重量の１．０倍量から２０倍量加える事がで
きる。処理操作としては、可溶性溶媒に溶かした後、不
溶性溶媒を加える方法も可能であるが、逆に不溶性溶媒
に前記反応混合物を添加した後、前記可溶性溶媒を添加
して、過剰反応物〔３〕を除去することも可能である。

【００３０】

【実施例】以下において、実施例をあげて本発明を説明
するが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。

【００３１】参考例 Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン（式〔１〕
中、Ｒ＝Ｈ）の製造 窒素置換した反応器に、２’−デオキシシチジン８．６
２ｇをピリジン１９０ｍｌに溶解した溶液を加え、この
溶液を攪拌しながら安息香酸無水物１２．８ｇ（デオキ
シシチジンに対して１．５倍モル）を加え、２５℃で５
時間攪拌した。原料のデオキシシチジンの消費を薄層ク
ロマト（ＴＬＣ）で確認した後、減圧下、４０℃以下で
溶媒を溜去した。得られたオイル状物を、水１００ｍｌ
とジエチルエーテル１００ｍｌの混合溶液で振とうし
た。生成した結晶をろ取し、減圧下乾燥して、目的のＮ
４−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン１０．０ｇを
得た。収率８０％。¹ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：１．９０〜２．
４１ｐｐｍ（２Ｈ，ｍ）、３．６２ｐｐｍ（２Ｈ，
ｍ）、３．８５ｐｐｍ（１Ｈ，ｍ）、４．２０ｐｐｍ
（２Ｈ，ｍ）、４．８１〜５．４０ｐｐｍ（２Ｈ，
ｍ）、６．１２ｐｐｍ（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
７．１０〜７．４０ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、８．１２ｐｐ
ｍ（２Ｈ，ｍ）、８．２１ｐｐｍ（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ）

【００３２】実施例１ Ｎ４−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシ
トリチル）−２’−デオキシシチジン〔４〕（Ｒが、水
素原子）の製造 反応器に、予めピリジンと共沸脱水したＮ４−ベンゾイ
ル−２’−デオキシシチジン１．００ｇ（３．００ミリ
モル）とピリジン２４ｍＬを仕込み、室温で攪拌しなが
ら、４，４’−ジメトキシトリチルクロライド１．２０
ｇ（３．５１ミリモル、１．１７当量）を粉体で装入
し、さらに２４℃にて３時間攪拌した。反応液を氷冷下
５℃から８℃に冷却してメタノール０．７２ｇを装入
し、さらに徐々に室温に戻して1時間攪拌した。この溶
液を、減圧下４０℃にて溶媒を留去したのち、酢酸エチ
ル５０ｍLと水２０ｍL中にあけて溶解し、水層を除いて
水で1回洗浄した。有機層を減圧下に留去し、得られた
残留物にトルエンを加え、さらに減圧下４０℃以下で濃
縮し、残存するピリジンを除去した。得られた固体を、
最小量のアニソールに室温で溶解し、その溶液を攪拌し
ながら、使用したアニソールの9倍容積のイソプロピル
エーテルを徐々に加え結晶を析出させた。得られた結晶
をろ取し、少量の、アニソール１０％含有イソプロピル
エーテルにて洗浄後、乾燥した。得られた残留物をＨＰ
ＬＣにて分析すると、表題化合物に対して約１．０６面
積％の過剰反応物が含まれ、原料のＮ４−ベンゾイル−
２’−デオキシシチジンは検出されなかった。収量は
１．２１ｇ、収率は８５％であった。

【００３３】

【発明の効果】以上、本発明により、保護化２’−デオ
キシシチジン誘導体〔４〕をより効率的に製造できるよ
うになった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 敏之 千葉県茂原市東郷1144番地 三井化学株式 会社内 Ｆターム(参考） 4C057 AA03 BB02 DD01 LL17 LL19

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式〔１〕 【化１】 （式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。）で表
   されるベンゾイル２’−デオキシシチジン誘導体の１当
   量に対し、下記一般式〔２〕 【化２】 （式中、Ｘは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子または
   沃素原子を表す。）で表されるトリチルハライドを１当
   量から１．３当量反応させた後、得られた反応混合物か
   ら、下記一般式〔３〕 【化３】 （式中、Ｒは、前述と同義である。）で表される過剰反
   応物を除去することにより、下記一般式〔４〕 【化４】 （式中、Ｒは、前述と同義である。）で表される保護化
   ２’−デオキシシチジン誘導体を製造する方法であっ
   て、前記一般式〔３〕で表される過剰反応物の除去を、
   前記反応混合物を、可溶性溶媒に溶解した後、前記一般
   式〔４〕に対して不溶性の溶媒を添加して、あるいは該
   不溶性溶媒に前記反応混合物を添加した後、前記可溶性
   溶媒を添加して、前記一般式〔４〕を晶析することによ
   り行うことを特徴とする前記方法。
2. 【請求項２】 前記可溶性溶媒が芳香族系溶媒であり、
   前記一般式〔４〕に対して不溶性の溶媒がエーテル系溶
   媒である請求項１に記載の製造方法。
3. 【請求項３】 芳香族系溶媒が、トルエン、キシレン、
   アニソール、クロロアニソールあるいはクメンからなる
   １種または２種以上の混合物である請求項２に記載の製
   造方法。
4. 【請求項４】 エーテル系溶媒が、ジエチルエーテル、
   ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテルあ
   るいはテトラヒドロフランからなる１種または２種以上
   の混合物である請求項２に記載の製造方法。
5. 【請求項５】 トリチルハライド〔２〕の当量数が、
   １．０５当量から１．２当量である、請求項１乃至４の
   いずれか１項記載の製造方法。