JP2002197615A - 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法Info
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Abstract
ドでは、記録パターンにフリンジングが発生し、主磁極
層をパターン精度良く形成できず、また前記主磁極層は
奥側領域までほぼ均一な膜厚で形成されていたので、前
記主磁極層の先端に適切に記録磁界を導くことができな
かった。 【解決手段】 主磁極層24は平坦化された絶縁層33
上に形成され、また前記主磁極層24と別に膜厚の厚い
ヨーク層35が前記主磁極層24上に重ねられて形成さ
れている。また前記主磁極層24の前端面24aは補助
磁極層21から離れるにしたがってトラック幅方向への
幅寸法が広がる形状で形成されている。これにより記録
パターンにフリンジングが発生するのを抑制でき、さら
に主磁極層をパターン精度良く形成でき、また前記主磁
極層の先端に適切に記録磁界を導くことが可能な垂直磁
気記録ヘッドを提供できる。
Description
有するディスクなどの記録媒体に対して垂直磁界を与え
て記録を行う垂直磁気記録ヘッドに係り、特に記録パタ
ーンにフリンジングが発生するのを抑制すると共に主磁
極層をパターン精度良く形成でき、且つヨーク層の膜厚
を厚く形成でき、通過効率を向上させることが可能な垂
直磁気記録ヘッドおよびその製造方法を提供することを
目的としている。
高密度で記録する装置として垂直磁気記録方式がある。
図38は前記垂直磁気記録方式の装置に使用される垂直
磁気記録ヘッドの一般的な構造を示す断面図である。
垂直磁気記録ヘッドHは、記録媒体上を浮上して移動し
または摺動するスライダ1の側端面に設けられるもので
あり、例えばスライダ1の側端面1aにおいて、前記垂
直磁気記録ヘッドHは、非磁性膜2と、非磁性の被覆膜
3との間に配置される。
で形成された補助磁極層4と、前記補助磁極層4の上に
間隔を開けて形成された同じく強磁性材料で形成された
主磁極層5とを有しており、前記補助磁極層4の端面4
aと前記主磁極層5の端面5aとが、記録媒体Mとの対
向面Haに現れている。前記対向面Haよりも奥側にお
いて、前記補助磁極層4と前記主磁極層5は、磁気接続
部6において磁気的に接続されている。
にはAl2O3、SiO2などの無機材料による非磁性絶
縁層7が位置しており、前記対向面Haでは、この非磁
性絶縁層7の端面7aが、前記補助磁極層4の端面4a
と前記主磁極層5の端面5aとの間に現れている。
などの導電性材料で形成されたコイル層8が埋設されて
いる。
aの厚みhwは、補助磁極層4の端面4aの厚みhrよ
りも小さくなっている。また前記主磁極層5のトラック
幅方向(図示X方向)の端面5aの幅寸法はトラック幅
Twであり、この幅寸法は、前記補助磁極層4のトラッ
ク幅方向の端面4aの幅寸法よりも十分に小さくなって
いる。
が行われる記録媒体Mは、垂直磁気記録ヘッドHに対し
てZ方向へ移動するものであり、その表面にハード面M
aが内方にソフト面Mbが設けられている。
助磁極層4と主磁極層5とに記録磁界が誘導されると、
補助磁極層4の端面4aと、主磁極層5の端面5aとの
間での漏れ記録磁界が、記録媒体Mのハード面Maを垂
直に通過し、ソフト面Mbを通る。ここで、前記のよう
に主磁極層5の端面5aの面積が、補助磁極層4の端面
4aでの面積よりも十分に小さくなっているため、主磁
極層5の端面5aの対向部分で磁束Φが集中し、端面5
aが対向する部分での前記ハード面Maに対し、前記磁
束Φにより磁気データが記録される。
示す従来の垂直磁気記録ヘッドHでは、以下のような問
題点が発生した。
絶縁層7の上面に面粗れが発生しており、この上に形成
される主磁極層5のパターン精度は低下する。特に、前
記対向面Haに現れている前記主磁極層5の端面5aの
面積を小さくして洩れ記録磁界を集中させることが必要
であり、また記録媒体Mへの高記録密度を達成するため
に、前記端面5aのトラック幅Twを狭くする必要があ
る。
5aのトラック幅Twをパターン精度良く狭トラック化
して形成することが困難となり、高記録密度化に適切に
対応することができない。
を対向面Haへ導くために、前記主磁極層5の奥側の領
域において、磁束を通過させる断面積を広くすることが
必要である。しかし図38に示す構造では、前記主磁極
層5の膜厚はハイト方向(図示Y方向)後方にかけてほ
ぼ一定した膜厚で形成され、従って前記主磁極層5の膜
厚を奥側領域で大きくできず、効果的に前記コイル層8
からの誘導磁界を前記主磁極層5の先端に導くことがで
きない。
単一の膜で形成されていると、前記主磁極層5の前記端
面5aのトラック幅Twのみを極端に小さくすることが
難しい。すなわち、レジスト層に抜きパターンを形成
し、その抜きパターン内に磁性材料をメッキなどで形成
して前記主磁極層5を形成する場合に、端面5aを形成
する部分でのみ前記抜きパターンの幅寸法を極端に小さ
くすることが難しい。
Mの外周と内周との間を移動する際に、記録媒体Mの回
転接線方向(図示Z方向)に対して前記主磁極層5の端
面5aが傾くスキュー角が発生することがある。ここで
図39に示すように主磁極層5の端面5aが正方形また
は長方形であると、主磁極層5の端面5aが、記録媒体
の回転接線方向(図示Z方向)に対してスキュー角を有
すると、破線で示すように主磁極層の側辺5bがトラッ
ク幅Tw1内に斜めの漏れ磁界を与えてフリンジングF
が発生し、オフトラック性能の低下を招く。
ものであり、前記主磁極層の端面をパターン精度良く狭
トラック化に対応できる垂直磁気記録ヘッド及びその製
造方法を提供することを目的としている。
の膜厚を効果的に大きくすることができ、コイル層から
誘導された磁束を前記主磁極層の端面に適切に導くこと
が可能な垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法を提供す
ることを目的としている。
グが発生するのを抑制でき、オフトラック性能の向上を
図ることが可能な垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法
を提供することを目的としている。
と、前記補助磁極層上に形成された絶縁層と、前記絶縁
層上に形成された主磁極層とが設けられ、前記絶縁層内
に埋設されたコイル層から前記補助磁極層及び前記主磁
極層に記録磁界が与えられることで、前記主磁極層に集
中する垂直磁界によって、記録媒体に磁気データを記録
する垂直磁気記録ヘッドにおいて、前記主磁極層は平坦
化面上に形成され、前記主磁極層の前端面は記録媒体と
の対向面に位置し、前記前端面は前記補助磁極層から離
れるにしたがってトラック幅方向への幅寸法が広がる形
状で形成され、且つ前記前端面の上面のトラック幅方向
の幅寸法がトラック幅Twとして規制され、前記主磁極
層の膜厚よりも厚い膜厚で形成されて前記対向面と平行
な断面での断面積が前記主磁極層の前端面の面積よりも
大きく、且つ前端面が、前記対向面よりも奥側に位置す
るヨーク層が、前記主磁極層と磁気的に接続されている
ことを特徴とするものである。
された絶縁層上に形成される。よって前記主磁極層をパ
ターン精度良く形成することができ、特に前記主磁極層
の前記端面の狭トラック化を適切に図ることができる。
トラック幅方向の寸法が、前記補助磁極層から離れるに
したがって徐々に広がる形状で形成されることにより、
記録パターンにフリンジングが発生するのを適切に抑制
でき、オフトラック特性の向上を図ることが可能であ
る。
の大きいヨーク層が前記主磁極層に磁気的に接続されて
いることにより、前記ヨーク層から前記主磁極層に効果
的に磁束を導くことができ、通過効率が良くなって、オ
ーバーライト特性を向上できる。
造の垂直磁気記録ヘッドを提供することができる。
前記補助磁極層上から立ち上がる接続層が形成され、前
記主磁極層は、平坦化された前記絶縁層上に形成され、
前記ヨーク層は前記主磁極層上に重ねられて形成され、
前記主磁極層の基端部、あるいは前記ヨーク層の基端部
が前記接続層に磁気的に接続されるものである。この実
施形態は図1である。
第2の絶縁層が形成され、この第2の絶縁層の上面と主
磁極層の上面は同一平面上で形成され、前記平面上にヨ
ーク層が形成されることが好ましい。この実施形態は図
11および図12である。
主磁極層の基端部上を除いて第3の絶縁層で覆われ、前
記基端部上に前記ヨーク層が磁気的に接続されているこ
とが好ましい。この実施形態は、図5である。
で前記補助磁極層上から立ち上がる接続層が形成され、
前記主磁極層は、平坦化された前記絶縁層上に形成さ
れ、基端部が前記接続層よりも前記対向面側に位置し、
前記ヨーク層も前記絶縁層上に形成され、その前端面が
前記主磁極層の後端面に磁気的に接続し、前記ヨーク層
の基端部が前記接続層上に磁気的に接続しているもので
ある。この実施形態は図2である。
で前記補助磁極層上から立ち上がる接続層が形成され、
前記ヨーク層は平坦化された前記絶縁層の上に形成さ
れ、基端部が前記接続層上に磁気的に接続し、また前記
ヨーク層の前端面と前記対向面間には第4の絶縁層が形
成され、この第4の絶縁層の上面と前記ヨーク層上面は
平坦化されており、主磁極層は、前記平坦化面上で前記
ヨーク層と重ねられて形成されているものである。この
実施形態は図3および図4である。
側で前記補助磁極層上から立ち上がる接続層が形成さ
れ、平坦化された前記絶縁層上に磁性材料層が形成さ
れ、前記磁性材料層は前記対向面からハイト方向に向け
て所定長さで形成される前方領域と前記前方領域の基端
からハイト方向後方に向けて形成される後方領域とで構
成され、前記後方領域の基端部が前記接続層に磁気的に
接続され、前記前方領域の膜厚は前記後方領域の膜厚に
比べて薄く形成され、前記前方領域が前記主磁極層とな
っており、前記後方領域が前記ヨーク層となっているも
のである。この実施形態は図6である。
下に重ねられた前記ヨーク層の前記前端面は、前記主磁
極層から離れるしたがってハイト方向に傾く傾斜面ある
いは湾曲面で形成されていることが好ましい。
端面のトラック幅方向の両側端部は、傾斜面、あるいは
湾曲面で形成されていることが好ましい。
製造方法は、以下の工程を有することを特徴とするもの
である。 (a)磁性材料で補助磁極層を形成する工程と、(b)
前記補助磁極層上であって、記録媒体との対向面よりも
奥側に接続層を形成し、次に前記対向面と接続層間に、
前記補助磁極層上に絶縁下地層を介してコイル層を形成
した後、前記コイル層上を絶縁層で埋める工程と、
(c)前記絶縁層の表面を削り、前記絶縁層上面と前記
接続層上面を同一面とする工程と、(d)前記絶縁層上
及び接続層上にレジスト層を形成し、次に、少なくとも
前記対向面でのトラック幅方向の内幅寸法が、前記補助
磁極層から離れるにしたがって広がる抜きパターンを前
記レジスト層に形成する工程と、(e)前記抜きパター
ン内に主磁極層をメッキ形成した後、前記レジスト層を
除去する工程と、(f)前記主磁極層よりも厚い膜厚の
レジスト層を前記主磁極層上から前記絶縁層上にかけて
形成し、前記レジスト層に前端面が、前記対向面よりも
奥側に位置するヨーク層の抜きパターンを前記主磁極層
上に形成し、あるいは前記絶縁層上であって前記主磁極
層の後端面からハイト方向に向けて形成し、前記抜きパ
ターン内にヨーク層をメッキ形成した後、前記レジスト
層を除去する工程。
に示す垂直磁気記録ヘッドを製造することができる。
て以下の工程を有するものであってもよい。 (g)前記主磁極層の周囲に第2の絶縁層を形成し、前
記第2の絶縁層の上面と前記主磁極層の上面とを同一面
上に形成する工程と、(h)前記主磁極層よりも厚い膜
厚のレジスト層を前記主磁極層上から前記第2の絶縁層
上にかけて形成し、前記レジスト層に前端面が、前記対
向面よりも奥側に位置するヨーク層の抜きパターンを前
記主磁極層および第2の絶縁層上に形成し、前記抜きパ
ターン内にヨーク層をメッキ形成した後、前記レジスト
層を除去する工程。
示す垂直磁気記録ヘッドを製造することができる。
て以下の工程を有するものであってもよい。 (i)前記主磁極層上から前記絶縁層上にかけて第3の
絶縁層を形成する工程と、(j)少なくとも前記主磁極
層の基端部上に形成された前記第3の絶縁層に穴部を形
成する工程と、(k)前記第3の絶縁層上に前記主磁極
層よりも厚い膜厚のレジスト層を形成した後、前端面
が、前記対向面よりも奥側に位置するヨーク層の抜きパ
ターンを形成し、前記抜きパターン内にヨーク層をメッ
キ形成した後、前記レジスト層を除去する工程。
録ヘッドを製造することができる。また本発明では、前
記(d)工程ないし(f)工程に代えて、以下の工程を
有するものであってもよい。 (l)前記絶縁層上にレジスト層を形成し、前端面が、
前記対向面よりも奥側に位置するヨーク層の抜きパター
ンを形成し、前記抜きパターン内にヨーク層をメッキ形
成した後、前記レジスト層を除去する工程と、(m)前
記ヨーク層上および前記絶縁層上に、新たに第4の絶縁
層を形成し、前記第4の絶縁層を削って、前記第4の絶
縁層の上面と前記ヨーク層の上面を同一面とする工程
と、(n)前記ヨーク層上、および第4の絶縁層上に、
前記ヨーク層よりも薄い膜厚のレジスト層を形成し、前
記ヨーク層の前端面よりも対向面側に位置する前記第4
の絶縁層上のレジスト層から前記ヨーク層上のレジスト
層にかけて主磁極層の抜きパターンを形成する工程と、
(o)前記抜きパターン内に主磁極層をメッキ形成した
後、前記レジスト層を除去する工程。
垂直磁気記録ヘッドを製造することができる。
し(f)工程に代えて以下の工程を有するものであって
もよい。 (p)前記絶縁層上及び接続層上にレジスト層を形成
し、次に、少なくとも前記対向面でのトラック幅方向の
内幅寸法が、前記補助磁極層から離れるにしたがって広
がる抜きパターンを前記レジスト層に形成し、さらに前
記抜きパターンの基端部を前記接続層上にまで形成する
工程と、(q)前記抜きパターン内に磁性材料層をメッ
キ形成した後、前記レジスト層を除去する工程と、
(r)前記磁性材料層上にレジスト層を形成し、露光現
像により前記磁性材料層上の対向面側からハイト方向に
所定距離だけ抜きパターンを形成し、前記抜きパターン
内から露出した前記磁性材料層の一部を除去して膜厚を
薄くし、この部分を主磁極層とし、前記レジスト層下に
形成された磁性材料層をヨーク層とする工程。
録ヘッドを製造することができる。
直磁気記録ヘッドの構造を示す縦断面図である。
体Mに垂直磁界を与え、記録媒体Mのハード面Maを垂
直方向に磁化させるものである。
表面に残留磁化の高いハード面Maが、内方に磁気透過
率の高いソフト面Mbを有しており、ディスクの中心が
回転軸中心となって回転させられる。
はAl2O3・TiCなどのセラミック材料で形成されて
おり、スライダ11の対向面11aが前記記録媒体Mに
対向し、記録媒体Mが回転すると、表面の空気流により
スライダ11が記録媒体Mの表面から浮上し、またはス
ライダ11が記録媒体Mに摺動する。図1においてスラ
イダ11に対する記録媒体Mの移動方向は図示Z方向で
ある。垂直磁気記録ヘッドHはスライダ11のトレーリ
ング側端面に設けられている。
l2O3またはSiO2などの無機材料による非磁性絶縁
層54が形成されて、この非磁性絶縁層54の上に読取
り部HRが形成されている。
ド層52、ギャップ層55、磁気抵抗効果素子53、お
よび上部シールド層51から成る。前記磁気抵抗効果素
子53は、異方性磁気抵抗効果(AMR)素子、巨大磁
気抵抗効果(GMR)素子、トンネル型磁気抵抗効果
(TMR)素子などである。
O3またはSiO2などの無機材料による非磁性絶縁層1
2が形成されて、前記非磁性絶縁層12の上に本発明の
記録用の垂直磁気記録ヘッドHが設けられている。そし
て垂直磁気記録ヘッドHは無機非磁性絶縁材料などで形
成された保護層13により被覆されている。そして前記
垂直磁気記録ヘッドHの記録媒体との対向面H1aは、
前記スライダ11の対向面11aとほぼ同一面である。
イ(Ni−Fe)などの強磁性材料がメッキされて補助
磁極層21が形成されている前記非磁性絶縁層12は、
前記補助磁極層21の下(補助磁極層21とスライダ1
1の側端面11bとの間)および前記補助磁極層21の
周囲に形成されている。そして図1に示すように、補助
磁極層21の表面(上面)21aと前記非磁性絶縁層1
2の表面(上面)12aとは同一の平面上に位置してい
る。
も奥側(ハイト方向、図示Y方向)では、前記補助磁極
層21の表面21a上にNi−Feなどの接続層25が
形成されている。
磁極層21の表面21aおよび前記非磁性絶縁層12の
表面12a上に、Al2O3などの非磁性絶縁層26が形
成されて、この非磁性絶縁層26の上にCuなどの導電
性材料によりコイル層27が形成されている。このコイ
ル層27はフレームメッキ法などで形成されたものであ
り、前記接続層25の周囲に所定の巻き数となるように
螺旋状にパターン形成されている。コイル層27の巻き
中心側の接続端27a上には同じくCuなどの導電性材
料で形成された底上げ層31が形成されている。
レジスト材料などの有機材料の絶縁層32で被覆されて
おり、さらに絶縁層33で覆われている。
ることが好ましく、前記無機絶縁材料としては、Al
O、Al2O3、SiO2、Ta2O5、TiO、AlN、
AlSiN、TiN、SiN、Si3N4、NiO、W
O、WO3、BN、CrN、SiONのうち少なくとも
1種以上を選択できる。
a、底上げ層31の表面(上面)31a、および絶縁層
33の表面(上面)33aは、同一面となるように加工
されている。このような平坦化加工は後述の製造方法で
説明するように、CMP(ケミカル・メカニカル・ポリ
ッシング)技術などを用いて行なわれる。
上に、主磁極層24が形成されており、前記主磁極層2
4の前端面24aは、前記対向面H1aと同一面とされ
ている。また前記主磁極層24の基端部24bは前記接
続層25の上面25a上に形成されて磁気的に接続され
た状態になっている。
には、NiFe合金などのヨーク層35が重ねられて形
成されている。また前記ヨーク層35の前端面35a
は、前記対向面H1aよりもハイト方向奥側に位置して
前記保護層13内に埋没しており、対向面H1aには現
れていない。
2は、主磁極層24の膜厚H1よりも厚く形成される。
下面から上面に向けてハイト方向(図示Y方向)に傾く
傾斜面あるいは湾曲面で形成されている。前記ヨーク層
35の上に形成される主磁極層24の下面と前記ヨーク
層35の前端面35a間の外角θは90°以上であるこ
とが好ましい。これによって前記主磁極層24から前記
ヨーク層35に向けて漏れる磁界を少なくでき前記主磁
極層24により磁界を集中させることができるからであ
る。
の表面31aにはリード層36が形成され、リード層3
6から前記底上げ層31およびコイル層27に記録電流
の供給が可能となっている。なお、前記リード層36
は、前記主磁極層24およびヨーク層35と同じ材料で
形成でき、および主磁極層24およびヨーク層35とリ
ード層36を、同時にメッキで形成することが可能であ
る。そして、前記ヨーク層35および前記リード層36
が前記保護層13に覆われている。
見た(矢印方向)平面図は、例えば図10のように示さ
れる。図10の平面図に示すように、前記主磁極層24
は、前端面24aの上面(主磁極層24のトレーリング
側の面)が微小なトラック幅Twで形成され、この幅寸
法を保ってあるいは若干幅寸法が広がる幅細の前方領域
24cが形成されている。またこの前方領域24cの基
端からは後方領域24dが形成されており、前記後端領
域24dではトラック幅方向の寸法が漸次的に広がって
形成されている。
前記主磁極層24の後端領域24d上に重ねられて形成
されている。前記ヨーク層35は、ハイト方向後方に向
けてトラック幅方向への幅寸法が漸次的に広がる形状で
形成されている。
する前記主磁極層24の前端面24aが、前記補助磁極
層21の前端面21bの面積よりも大きいことが必要
で、例えば図10に示すように、補助磁極層21のトラ
ック幅方向の幅寸法Wrは、前記トラック幅Twよりも
十分に大きい幅寸法で形成されることが好ましい。
発明はこの形状に限定されるものではない。すなわち本
発明では、前記ヨーク層35を前記対向面H1aと平行
な方向から切断したときのある断面の面積が、前記主磁
極層24の前端面24aの面積よりも大きくなればよ
い。
層35のトラック幅方向(図示X方向)への幅寸法を、
前記主磁極層24の後端領域24dでのトラック幅方向
の寸法と同程度かあるいはそれよりも小さい幅寸法で形
成することが好ましい。前記主磁極層24と絶縁層33
間の段差により、前記ヨーク層35が主磁極層24より
もトラック幅方向へはみ出して形成される部分ではパタ
ーン精度が低下し、前記ヨーク層35を所定形状で適切
に形成できない場合があるからである。
に前記主磁極層24のトラック幅方向(図示X方向)の
両側に新たに第2の絶縁層56,56を形成し、CMP
技術などを用いて前記主磁極層24の上面24eと前記
第2の絶縁層56の上面56aとを同一平面上に加工
し、その上に前記ヨーク層35を形成する場合、図12
(平面図)に示すように、前記ヨーク層35を、主磁極
層24のトラック幅方向の幅寸法よりもはみ出して形成
することが可能になる。かかる場合、前記主磁極層24
の上面24eと第2の絶縁層56の上面56aとが適切
に平坦化されていることで、その上に形成されるヨーク
層35をパターン精度良く形成することができる。
で形成されることが好ましく、前記無機絶縁材料として
は、AlO、Al2O3、SiO2、Ta2O5、TiO、
AlN、AlSiN、TiN、SiN、Si3N4、Ni
O、WO、WO3、BN、CrN、SiONのうち少な
くとも1種以上を選択できる。
層24が前記対向面H1aから前記接続層25上にまで
延ばされて形成されているが、例えば前記主磁極層24
が短く形成され、前記接続層25よりも前記対向面H1
a側に基端部が位置するように形成してもよい。
11に示す第2の絶縁層56を形成し、この上にヨーク
層35を形成する。また前記第2の絶縁層56には、前
記接続層25上に穴部を形成し、この穴部内にも前記ヨ
ーク層35をメッキ形成して、前記ヨーク層35と接続
層25とを磁気的に接続させる。
直磁気記録ヘッドの構造を示す縦断面図である。
ーク層35の構造にある。前記ヨーク層35の膜厚H4
が前記主磁極層24の膜厚H3より厚く形成されている
点は同じであるが、前記主磁極層24は、対向面H1a
からハイト方向(図示Y方向)に短く形成され、前記主
磁極層24の後端面24fから前記ヨーク層35の前端
面35aが磁気的に接続し、前記ヨーク層35がハイト
方向後方に向けて前記絶縁層33上に形成されている。
そして前記ヨーク層35の基端部35bが前記接続層2
5の上面25aに形成され磁気的に接続された状態にな
っている。
図である。前記主磁極層24は、前端面24aの上面
(主磁極層24のトレーリング側の面)のトラック幅方
向(図示X方向)への幅寸法が微小なトラック幅Twで
形成され、この幅寸法にて、あるいはこの幅寸法からハ
イト方向(図示Y方向)後方にかけて若干幅寸法が広が
る幅細形状で形成されている。なお図13に示すよう
に、前記主磁極層24にはハイト方向後方に向けてトラ
ック幅方向への幅寸法が漸次的に広がる後端領域24d
が形成されていてもよい。
記ヨーク層35が形成されており、前記ヨーク層35は
ハイト方向後方に向けてトラック幅方向への幅寸法が漸
次的に広がって形成されている。
発明はこの形状に限定されるものではない。すなわち本
発明では、前記ヨーク層35を前記対向面H1aと平行
な方向から切断したときのある断面の面積が、前記主磁
極層の前端面24aの面積よりも大きくなればよい。
磁気記録ヘッドの構造を示す縦断面図である。
ーク層35の構造にある。この実施形態でもヨーク層3
5の膜厚H6は前記主磁極層24の膜厚H5に比べて大
きくなっているが、前記ヨーク層35は前記絶縁層33
の上に形成され、前記ヨーク層35の基端部35bは前
記接続層25の上面25aに磁気的に接続されている。
下面から上面に向けて前記対向面H1aに近づく傾斜面
あるいは湾曲面で形成されている。前記ヨーク層35の
上に形成される主磁極層24の下面と前記ヨーク層35
の前端面35a間の外角θは90°以上であることが好
ましい。これによって前記主磁極層24から前記ヨーク
層35に向けて漏れる磁界を少なくでき前記主磁極層2
4により磁界を集中させることができるからである。
囲は、新たな第4の絶縁層57によって埋められてい
る。なお図3に示すようにヨーク層35の前端面35a
より対向面H1a側は前記第4の絶縁層57によって埋
められ、前記第4の絶縁層57が前記対向面H1aから
現れる。本発明では、前記第4の絶縁層57の上面と前
記ヨーク層35の上面はCMP技術などを用いて平坦化
加工が成されている。
成されることが好ましく、前記無機絶縁材料としては、
AlO、Al2O3、SiO2、Ta2O5、TiO、Al
N、AlSiN、TiN、SiN、Si3N4、NiO、
WO、WO3、BN、CrN、SiONのうち少なくと
も1種以上を選択できる。
4の絶縁層57上からヨーク層35上にかけて主磁極層
24が形成されている。
平面図である。図14に示すように、前記ヨーク層35
は、トラック幅方向への幅寸法が細くされた幅細の前方
領域35cとこの基端からハイト方向後方に向けて前記
幅寸法が漸次的に広がる後端領域35dとで平面形成さ
れている。
への幅寸法は、トラック幅Twよりも大きく形成されて
いる。
7上から前記ヨーク層35上にかけて形成された主磁極
層24は、前端面24aが前記対向面H1aに現れ、前
記前端面24aの上面はトラック幅Twで形成されてい
る。前記主磁極層24は、前記前端面24aからハイト
方向後方へトラック幅寸法で、あるいはそれよりもやや
幅広で形成された前方領域24cと、前記前方領域24
cからハイト方向後方へ向けてトラック幅の寸法が漸次
的に広がる後方領域24dとで平面形成されている。
発明はこの形状に限定されるものではない。すなわち本
発明では、前記ヨーク層35を前記対向面H1aと平行
な方向から切断したときのある断面の面積が、前記主磁
極層の前端面24aの面積よりも大きくなればよい。
5cは形成されず、後方領域35dのみで形成されてい
てもよいし、また主磁極層24には、漸次的に幅寸法が
広がる後方領域24dが形成されず、一点鎖線で示され
るように幅細の領域が後方にまで延ばされて形成されて
いてもよい。
磁気記録ヘッドの構造を示す縦断面図である。
H1aからハイト方向後方に短い長さで形成されている
点だけである。
平面図である。図15に示すように、前記主磁極層24
は、前記ヨーク層35の上面と同一平坦面にされた第4
の絶縁層57上から前記ヨーク層35上にかけて短い長
さで形成されている。前記主磁極層24は、その前端面
24aの上面のトラック幅方向の長さが微小なトラック
幅Twで形成され、この幅寸法を保ってあるいはこの幅
寸法よりもやや幅広になってハイト方向後方に向けて形
成されている。図15に示すヨーク層35には図14に
示すような幅細の前方領域35cが形成されていない
が、形成されていてもかまわない。図15では前記ヨー
ク層35はトラック幅方向の幅寸法が漸次的に広がる形
状で形成されている。
別の平面図であり、図15との違いは前記主磁極層24
は、幅細の前方領域24cとその基端からトラック幅方
向への幅寸法が漸次的に広がる後方領域24dとで構成
されている点である。これにより前記ヨーク層35から
主磁極層24への磁束の導入を良好にすることができ、
効果的に高記録密度化を図ることが可能な垂直記録磁気
ヘッドを製造することが可能である。
に過ぎず、本発明はこの形状に限定されるものではな
い。すなわち本発明では、前記ヨーク層35を前記対向
面H1aと平行な方向から切断したときのある断面の面
積が、前記主磁極層の前端面24aの面積よりも大きく
なればよい。
磁気記録ヘッドの構造を示す縦断面図である。
は、主磁極層24およびヨーク層35の構造が異なる。
H8は主磁極層24の膜厚H7よりも大きく形成されて
いるが、前記主磁極層24は前記絶縁層33の上面33
aであって、前記対向面H1aからハイト方向(図示Y
方向)後方に短い長さで形成されている。さらに前記主
磁極層24の後端面からハイト方向に少し距離をおい
て、新たな第3の絶縁層58が前記絶縁層33上に重ね
て形成されているが、前記第3の絶縁層58は前記接続
層25上、および底上げ層31上には形成されていな
い。
が好ましく、前記無機絶縁材料としては、AlO、Al
2O3、SiO2、Ta2O5、TiO、AlN、AlSi
N、TiN、SiN、Si3N4、NiO、WO、W
O3、BN、CrN、SiONのうち少なくとも1種以
上を選択できる。
主磁極層24の上にも形成されているが、前記主磁極層
24の基端部24b上には形成されていない。前記主磁
極層24上に形成された前記第3の絶縁層58は後述の
製造方法で説明するように、ヨーク層33の周囲に形成
されたメッキ下地層を除去する際のエッチングから前記
主磁極層24を保護する役割を有する。
形成された第3の絶縁層58上にはヨーク層35が形成
されている。前記ヨーク層35の前方は前記第3の絶縁
層58に形成された穴部58aから露出する前記主磁極
層24の基端部24b上に形成されて前記主磁極層24
に磁気的に接続された状態になっている。
面H1aよりも奥側に形成され、前記前端面35aより
も対向面H1a側は、保護層13によって埋められた状
態になっている。また前記前端面35aは図5に示すよ
うに、下面から上面にかけてハイト方向に向けて深くな
る傾斜面あるいは湾曲面で形成されていることが、前記
主磁極層24から前記ヨーク層35に磁界が漏れること
を抑制できて好ましい。
0°以上であることが好ましい。また前記ヨーク層35
の基端部35bは前記接続層25上に形成されて磁気的
に接続された状態になっている。
れたリード層36は、前記底上げ層31上に形成されて
いる。
平面図である。図17に示すように、前記主磁極層24
は、前端面24aの上面のトラック幅方向の幅寸法がト
ラック幅Twの微小な寸法で形成され、この幅寸法を保
って、あるいはハイト方向に向けてやや幅広となる前方
領域24cと、この基端からトラック幅方向への幅寸法
が漸次的に広がる後方領域24dとで構成されている。
あるいは一点鎖線に示すように、前記主磁極層24はト
ラック幅Twを保って、あるいはハイト方向に向けてや
や幅広となる前方領域のみで構成されていてもよい。
基端部24b上に磁気的に接続したヨーク層35は、ハ
イト方向後方に向けて漸次的にトラック幅方向の寸法が
広がる形状で形成されている。なお前記ヨーク層35の
前記対向面H1a側には、図14などで示した幅細の前
方領域35cが形成されていてもかまわない。
発明はこの形状に限定されるものではない。すなわち本
発明では、前記ヨーク層35を前記対向面H1aと平行
な方向から切断したときのある断面の面積が、前記主磁
極層の前端面24aの面積よりも大きくなればよい。
磁気記録ヘッドの構造を示す縦断面図である。
35の構造にある。図6では、前記主磁極層24の部分
と前記ヨーク層35の部分とが一体化した磁性材料層6
9が前記絶縁層33上に形成されている。図6に示すよ
うに前記磁性材料層69は、前記対向面H1aからハイ
ト方向後方に所定の長さまで前方領域の主磁極層24と
前記前方領域の基端からハイト方向に向けて形成される
後方領域のヨーク層35とで構成される。前記ヨーク層
35となる後方領域の基端部35bは前記接続層25の
上面25aに形成され磁気的に接続された状態になって
いる。
ーク層35の膜厚H10は前記主磁極層24の膜厚H9
よりも厚く形成されている。
平面図である。図18に示すように、主磁極層24の前
端面24aの上面はトラック幅方向の幅寸法が微小なト
ラック幅Twで形成されている。この幅寸法を保ってあ
るいはハイト方向に向けてやや幅広となる前方領域24
cが形成され前記前方領域24cが主磁極層24となっ
ている。そして前記前方領域24cの基端からハイト方
向にかけてトラック幅方向の幅寸法が漸次的に広がるヨ
ーク層35となる後端領域が一体化して形成されてい
る。
形態の構造を説明したが、本発明における特徴点をまと
めると次の通りである。
記主磁極層24は平坦化された面上に形成されている。
図1、図2、図5および図6は、絶縁層33上に形成さ
れ、前記絶縁層33の上面33aはCMP技術などによ
る研磨加工によって平坦化されている。また図3および
図4では、第4の絶縁層57およびヨーク層35上に形
成され、前記第4の絶縁層57およびヨーク層35の上
面はCMP技術などの研磨加工によって平坦化されてい
る。
も前記主磁極層24は平坦化面上に形成されているた
め、前記主磁極層24を形成する際のパターン精度を向
上させることができ、前記主磁極層24の特に前端面2
4aの上面を微小なトラック幅Twで正確にしかも容易
に形成することができる。したがって本発明では狭トラ
ック化に適切に対応することができ、今後の高記録密度
化に対応可能な垂直磁気記録ヘッドを製造することが可
能である。なお本発明では前記トラック幅Twは0.7
μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.5
μm以下である。
ーク層35の膜厚を主磁極層24の膜厚よりも厚く形成
することができる。図1ないし図5に示す実施形態で
は、いずれも主磁極層24とヨーク層35とが別々に形
成されている。このように主磁極層24とヨーク層35
との製造工程を別工程とすることにより、容易に膜厚の
薄い主磁極層24と膜厚の厚いヨーク層35を形成する
ことができ、よって前記主磁極層24の前端面24aよ
りも十分に大きい断面積を有する前記ヨーク層35を形
成できる。従って前記ヨーク層35から前記主磁極層2
4に適切に記録磁界を導くことができ、磁束の通過効率
が良くなって、オーバーライト特性を向上できる。
4とヨーク層35とが一体に形成されているが、この実
施形態においても、前記ヨーク層35と主磁極層24間
に段差を設けることで、前記ヨーク層35の膜厚を前記
主磁極層24の膜厚よりも厚く形成することが可能であ
る。なお製造方法については後述する。
は、いずれも主磁極層24およびヨーク層35が別々に
形成されているため、主磁極層24のトラック幅寸法
を、前記ヨーク層35の幅寸法と別のものとして設定で
きる。
ク層35とが一体化された形状であると、トラック幅T
wで形成された主磁極層24のハイト方向への長さ寸法
をできる限り短くし、前記対向面H1aからハイト方向
へそれほど距離が離れていない位置に幅広のヨーク層3
5を形成する方が、前記主磁極層24の磁気飽和を防い
で、前記主磁極層24に磁束を集約させることができ高
記録密度を得ることが可能になる。
長さ寸法を短くしすぎると、パターン精度の問題から、
前記主磁極層24の前端面24aの幅寸法を所定のトラ
ック幅Twで規定しづらく、トラック幅Twや主磁極層
24の形状のばらつきが発生しやすくなる。
ヨーク層35とを別々に形成する場合、例えば図12や
図17に示すように、前記主磁極層24のトラック幅T
wで形成された幅細の前方領域24cを長く形成して
も、前記ヨーク層35を前記主磁極層24の前方領域2
4c上や下に重ねあわせ、前記ヨーク層35を前記対向
面H1a側に近づけて形成することが可能になるので、
磁束の集約を図ることができると共に、前記主磁極層2
4をパターン精度良く、所定のトラック幅Twで形成す
ることが可能になる。また主磁極層24およびヨーク層
35の設計の自由度が増す。
図10に示すように、主磁極層24に形成された幅広の
後方領域24d上にヨーク層35を形成するときは、前
記主磁極層24の前方領域24cをL1に短くしなけれ
ばならず、トラック幅Twや形状にばらつきが発生しや
すくなる。このため図11および図12に示すように、
前記主磁極層24の周囲を第2の絶縁層56で埋めてし
まい、CMP技術によって前記主磁極層24および第2
の絶縁層56を平坦化すれば、ヨーク層35を平坦化さ
れた第2の絶縁層56上に形成することが可能になるの
で、図12に示すように、主磁極層24の前方領域24
c上にヨーク層35を重ねあわせることができ、よって
前記主磁極層24の前方領域24cをL2に長く延ばし
てパターン精度を向上させ、所定のトラック幅Twで形
成することが可能になる。
7および図8(いずれも正面図)に示すように、主磁極
層24の前端面24aの側辺24g,24gが下面から
上面に向けてトラック幅方向(図示X方向)への幅寸法
が広がる傾斜面あるいは湾曲面となっている。そして前
記主磁極層24の前端面24aの上面(主磁極層24の
トレーリング側の端面)がトラック幅Twとして規制さ
れる。
aの側辺24g,24gが傾斜面あるいは湾曲面とさ
れ、前記前端面24aの形状が略逆台形状であると、前
記磁録媒体が図示Z方向に走行し記録を行った時、図9
の破線で示すようにスキュー角を生じたとしても、(i
ii)で示す前記側辺24gが記録トラック幅Tw1か
ら側方へ斜めに大きくはみ出すことがない。よって前記
側辺24gによるフリンジングを防止できるようにな
り、オフトラック性能の向上を図ることができる。
前記主磁極層24の下面両側に形成されている絶縁層3
3,57の上面33a,57bは、主磁極層24から離
れるにしたがって下面方向へ傾斜、あるいは湾曲してい
るが、これは、前記主磁極層24下以外の前記絶縁層3
3,57上に形成された余分なメッキ下地層71を除去
する際のエッチングの影響によるものである。
うに主磁極層24とヨーク層35とを別々に形成する場
合、主磁極層24を前記ヨーク層35よりも高い飽和磁
束密度を有する磁性材料で形成することが可能である。
ク幅方向の断面積が小さい前記主磁極層24の前端面2
4aから記録媒体Mのハード面Maに対し密度の高い磁
束Φを垂直方向に与えることが可能にあり、オーバーラ
イト特性を向上させることができる。
36を介してコイル層27に記録電流が与えられると、
コイル層27を流れる電流の電流磁界によって補助磁極
層21とヨーク層35に記録磁界が誘導される。各実施
形態に示すように、対向面H1aでは、前記主磁極層2
4の前端面24aと補助磁極層21の前端面21bから
の漏れ記録磁界が、記録媒体Mのハード面Maを貫通し
ソフト面Mbを通過する。前記主磁極層24の前端面2
4aの面積が補助磁極層21の前端面21bの面積より
も十分に小さいために、前記主磁極層24の前端面24
aに洩れ記録磁界の磁束Φが集中し、この集中している
磁束Φにより前記ハード面Maが垂直方向へ磁化され
て、磁気データが記録される。
造方法について以下に説明する。図19ないし図21は
各実施形態の共通の製造工程である。なお図19から図
32に示す一工程図は垂直磁気記録ヘッドの縦断面図を
示している。
上に磁性材料製の補助磁極層21を形成した後、前記補
助磁極層21のハイト方向後方も前記非磁性絶縁層12
で埋め、さらに前記補助磁極層21および非磁性絶縁層
12の上面をCMP技術などを用いて平坦化加工する。
に、磁性材料製の接続層25をメッキ形成し、さらに前
記補助磁極層21上面から接続層25の上面にかけて無
機絶縁材料をスパッタして非磁性絶縁層26を形成す
る。
26の上にフレームメッキ法によりコイル層27を形成
し、さらに底上げ層31を同じくメッキにより形成す
る。このときコイル層27は、前記接続層25の高さよ
りも十分に低い位置に形成する。そして前記コイル層2
7と底上げ層31を有機材料の絶縁層32で覆い、さら
に、無機絶縁材料をスパッタして、全ての層を覆う絶縁
層33を形成する。
して、図示上方からCMP技術などを用いて研磨加工を
行なう。この研磨加工は、前記絶縁層33、接続層25
および底上げ層31の全てを横断する水平面(L−L
面)の位置まで行なう。
に、接続層25の表面25a、絶縁層33の表面33a
および底上げ層31の表面31aが全て同一面となるよ
うに加工される。
造工程である。次に図1に示す構造の垂直磁気記録ヘッ
ドの製造方法について説明する。
3の上面33a、接続層25の上面25a、および底上
げ層31の上面31aの全体にレジスト層60を形成
し、露光現像により、主磁極層24の抜きパターン60
aを形成する。前記抜きパターン60aを、記録媒体と
の対向面H1aから、前記接続層25の上面25aにま
で形成する。また前記底上げ層31の上面31aからハ
イト方向(図示Y方向)後方にかけても抜きパターンを
形成する。そして前記抜きパターン60a内に、主磁極
層24をメッキ形成し、その後前記レジスト層60を除
去する。これにより前記対向面H1aから接続層25ま
で延びる主磁極層24が形成される。なお前記主磁極層
24形成時のメッキ下地層(図示しない)が絶縁層33
の全面に敷かれているので、前記主磁極層24の下に形
成された前記メッキ下地層を残して他のメッキ下地層を
エッチングで除去する。このとき、前記主磁極層24も
一部削られるが、これにより前記主磁極層24の上面
(トレーリング側の端面)のトラック幅Twは狭くな
り、狭トラック化に対応可能な垂直磁気記録ヘッドを製
造することが可能になる。
層24上及び絶縁層33上の全面にレジスト層61を形
成する。前記レジスト層61は前記主磁極層24よりも
厚い膜厚とする。その後、露光現像により、ヨーク層3
5の抜きパターン61aを形成する。このとき、前記抜
きパターン61aの前端面61bは、記録媒体との対向
面H1aよりもハイト方向後方に位置するようにする。
そして前記抜きパターン61a内にヨーク層35をメッ
キ形成し、その後前記レジスト層61を除去する。これ
によって前記主磁極層24よりも厚い膜厚のヨーク層3
5が前記主磁極層24の上に重ねられる。
主磁極層24上にのみ形成する場合は、前記メッキ下地
層は必要ないので、前記メッキ下地層の除去工程は必要
ない。
磁極層24の周囲を無機絶縁材料の第2の絶縁層56で
覆った後、CMP技術を用いて前記主磁極層24の上面
及び前記第2の絶縁層56の上面を同一平坦化面に加工
する。その後、図23の工程に示すように、前記主磁極
層24上にヨーク層35を重ねてメッキ形成する。この
とき前記ヨーク層35のトラック幅方向における幅寸法
が前記主磁極層24と重ねられた位置での前記主磁極層
の幅寸法より幅広であってもよい。またかかる場合、図
22工程時に示すように、前記主磁極層24を接続層2
5上にまで長く延ばして形成する必要はなく、前記主磁
極層24を短い長さ寸法で形成できる。またこの場合、
前記ヨーク層35の基端部35bを前記接続層25の上
面25aに形成し、前記ヨーク層35の基端部35bと
接続層25とを磁気的に接続させる。
ン61aの前端面61bよりも対向面H1a側に残され
たレジスト層61は、その後端面61cが、下面から上
面にかけてハイト方向に徐々に深くなる傾斜面、あるい
は湾曲面で形成されているが、これは、レジスト層61
の種類を変え、露光現像された部分を残し、露光現像さ
れていない部分を除去できるレジスト層61を用いるこ
とによって達成できる。またこれにより前記ヨーク層3
5の前端面35aを下面から上面にかけてハイト方向
(図示Y方向)に傾く傾斜面あるいは湾曲面に形成でき
る。
ッドが完成する。図24及び図25は図2に示す垂直磁
気記録ヘッドの製造方法の一工程図である。
上面33a、接続層25の上面25a、および底上げ層
31の上面31aの全体にレジスト層62を形成し、露
光現像により、主磁極層24の抜きパターン62aを形
成する。前記抜きパターン62aを前記対向面H1aか
らハイト方向(図示Y方向)後方に短い長さで形成す
る。そして前記抜きパターン62a内に主磁極層24を
メッキ形成した後、前記レジスト層62を除去する。
24上、および絶縁層33上の全面にレジスト層63を
形成した後、前記レジスト層63にヨーク層35の抜き
パターン63aを形成する。なお前記レジスト層63の
膜厚を前記主磁極層24の膜厚よりも厚く形成する。ま
た前記レジスト層63の抜きパターン63aの前端面6
3bが、前記主磁極層24の後端面24fに位置するよ
うにする。さらに前記抜きパターン63aを接続層25
上にまで形成する。そして前記抜きパターン63a内に
ヨーク層35をメッキ形成し、その後、前記レジスト層
63を除去する。
4fから前記主磁極層24よりも膜厚の大きいヨーク層
35を形成することができる。また前記ヨーク層35は
前記接続層25上に磁気的に接続されている。なおメッ
キ下地層(図示しない)が絶縁層33の全面に敷かれて
いるので、前記主磁極層24の下に形成された前記メッ
キ下地層を残して他のメッキ下地層をエッチングで除去
する。このとき、前記主磁極層24も一部削られるが、
これにより前記主磁極層24のトラック幅Twは狭くな
り、狭トラック化に対応可能な垂直磁気記録ヘッドを製
造することが可能になる。
の除去工程は、ヨーク層35形成後の一回で済み、製造
工程を簡略化できると共に、主磁極層24は1回のエッ
チング工程に曝されるだけなので、前記主磁極層24の
高さ寸法を大きく保ちながら狭トラック化を実現するこ
とができる。
ッドが完成する。図26ないし図28に示す工程は図
3、4に示す垂直磁気記録ヘッドの製造工程を示す一工
程図である。
上面33a、接続層25の上面25a、および底上げ層
31の上面31aの全体にレジスト層64を形成し、露
光現像により、ヨーク層35の抜きパターン64aを形
成する。
aの前端面64bを前記対向面H1aよりもハイト方向
奥側に形成する。また前記前端面64bと前記対向面H
1a間に残されたレジスト層64の後端面64cは、下
面から上面にかけて前記対向面H1a側に傾く傾斜面と
なっているが、この傾斜面は前記レジスト層64に熱処
理を施し、だれを発生させることにより形成することが
可能である。また前記抜きパターン64aを前記接続層
25上にまで形成する。
層35をメッキ形成し、その後前記レジスト層64を除
去する。これによって前端面35aが前記対向面H1a
よりもハイト方向奥側に位置する前記ヨーク層35を形
成することができる。また前記前端面35aは下面から
上面にかけてハイト方向後方に傾く傾斜面あるいは湾曲
面であることが好ましい。また前記傾斜面35aと上面
間の外角θは90°以上であることが好ましい。また前
記ヨーク層35は前記接続層25上に磁気的に接続され
た状態になっている。
記ヨーク層35の下以外の部分に形成されたメッキ下地
層(図示しない)をエッチングで除去する。
35上及び絶縁層33上に、無機絶縁材料による第4の
絶縁層57を形成する。さらに図27に示すM−M線か
ら前記第4の絶縁層57をCMP技術により研磨加工
し、これにより前記第4の絶縁層57の上面とヨーク層
35の上面とを同一平坦化面にできる。
縁層57の上、および前記ヨーク層35の上にレジスト
層65を形成し、前記レジスト層65に主磁極層24の
抜きパターン65aを形成する。
の膜厚を、前記ヨーク層35の膜厚よりも小さくし、し
かも前記レジスト層65の抜きパターン65aの前端面
65bを、対向面H1aと同一面となるように形成す
る。前記抜きパターン65aの後端面65cに関して
は、図28のように、ヨーク層35の後端面と同一面上
にまで形成すれば、主磁極層24の形状を図3のように
形成でき、また前記抜きパターン65の後端面65cを
対向面H1a側に短く形成すれば、前記主磁極層24の
形状を図4のように形成できる。
24をメッキ形成し、その後前記レジスト層65を除去
する。これにより、前端面24aが対向面H1aに現
れ、膜厚がヨーク層35よりも薄い主磁極層24を前記
ヨーク層35の上に重ねて形成することができる。
示しない)が第4の絶縁層57およびヨーク層35の全
面に敷かれているので、前記主磁極層24の下に形成さ
れた前記メッキ下地層を残して他のメッキ下地層をエッ
チングで除去する。このとき、前記主磁極層24も一部
削られるが、これにより前記主磁極層24のトラック幅
Twは狭くなり、狭トラック化に対応可能な垂直磁気記
録ヘッドを製造することが可能になる。
垂直磁気記録ヘッドが完成する。次に図5に示す垂直磁
気記録ヘッドの製造方法について図29ないし図32の
工程図を用いて説明する。
上面33a、接続層25の上面25a、および底上げ層
31の上面31aの全体にレジスト層66を形成し、露
光現像により、主磁極層24の抜きパターン66aを形
成する。前記抜きパターン66aを前記対向面H1aか
らハイト方向(図示Y方向)後方に短い長さで形成す
る。そして前記抜きパターン66a内に主磁極層24を
メッキ形成した後、前記レジスト層66を除去する。な
おメッキ下地層(図示しない)が絶縁層33の全面に敷
かれているので、前記主磁極層24の下に形成された前
記メッキ下地層を残して他のメッキ下地層をエッチング
で除去する。このとき、前記主磁極層24も一部削られ
るが、これにより前記主磁極層24のトラック幅Twは
狭くなり、狭トラック化に対応可能な垂直磁気記録ヘッ
ドを製造することが可能になる。
24上、および絶縁層33上の全面にAl2O3やSiO
2などの無機絶縁材料による薄い膜厚の第3の絶縁層5
8を形成する。
(図示しない)を用いて、前記第3の絶縁層58の一部
を除去して穴部58a,58bを形成する。一方の前記
穴部58aを前記主磁極層24の基端部24b上に形成
する。また他方の穴部58bを、接続層25上に形成す
る。
24よりも厚い膜厚のレジスト層67を前記第3の絶縁
層58上に形成し、前記レジスト層67にヨーク層35
の抜きパターン67aを露光現像により形成する。
7aの前端面67bを、対向面H1aよりもハイト方向
奥側に形成し、また前記抜きパターン67aを前記接続
層25上にまで延ばして形成する。
ン67aの前端面67bよりも対向面H1a側に残され
たレジスト層67は、その後端面67cが、下面から上
面にかけてハイト方向に徐々に深くなる傾斜面、あるい
は湾曲面で形成されているが、これは、レジスト層67
の種類を変え、露光現像された部分を残し、露光現像さ
れていない部分を除去できるレジスト層67を用いるこ
とによって達成できる。
層35をメッキ形成し、前記レジスト層67を除去す
る。これにより前記前端面35aがハイト方向奥側に位
置し、前記主磁極層24よりも膜厚の厚いヨーク層35
を形成することができる。
前記主磁極層24の基端部24b上と接続層25上にそ
れぞれ磁気的に接続されている。また前記レジスト層6
7を除去した後、前記ヨーク層35の下以外の部分に形
成されたメッキ下地層(図示しない)をエッチングで除
去する。このとき前記主磁極層24の上面は第3の絶縁
層58によって保護されているので、前記エッチング工
程で前記主磁極層24が削られることを回避できる。
ヘッドが完成する。次に図6に示す垂直磁気記録ヘッド
の製造方法について図33および図34を用いて説明す
る。
上面33a、接続層25の上面25a、および底上げ層
31の上面31aの全体にレジスト層68を形成し、露
光現像により、磁性材料層69の抜きパターン68aを
形成する。図33に示すように前記抜きパターン68a
の前端面68bを前記対向面H1aと同一面上に形成
し、また前記抜きパターン68aを前記接続層25上に
まで延ばして形成する。
料層69をメッキ形成し、前記レジスト層68を除去す
る。なおメッキ下地層(図示しない)が絶縁層33の全
面に敷かれているので、前記磁性材料層69の下に形成
された前記メッキ下地層を残して他のメッキ下地層をエ
ッチングで除去する。
その前端面69aが前記対向面H1aに現れ、また基端
部69bが前記接続層25上に磁気的に接続された状態
になっている。
層69上にレジスト層70を形成し、露光現像によって
前記磁性材料層69の前方上に主磁極層24形成のため
の抜きパターン70aを形成する。
磁性材料層69の一部をエッチングにて除去する(点線
部分)。これにより前記抜きパターン70a下に残され
た磁性材料層69の膜厚は薄くなり、この部分が主磁極
層24となり、エッチングされず膜厚の厚い磁性材料層
69はヨーク層35となり、前記主磁極層24とヨーク
層35とが一体化された図6の垂直磁気記録ヘッドが完
成する。なおこの製造方法では、膜厚の厚い磁性材料層
69を形成した後、磁性材料層69の下以外のメッキ下
地層を予め除去しているので、例えば図29ないし図3
2の製造工程のように、ヨーク層35形成のエッチング
工程で主磁極層24が削られないように前記主磁極層2
4を保護するための第3の絶縁層58が必要ないなど、
製造工程を簡略化することが可能である。
極層24を平坦化面上に形成できるので、前記主磁極層
24をパターン精度良く形成でき、またメッキ下地層を
除去する際のエッチングにより前記主磁極層24のトラ
ック幅Twを小さくでき、今後の高記録密度化に伴う狭
トラック化に対応可能な垂直磁気記録ヘッドを製造でき
る。
主磁極層24とヨーク層35とを別工程で形成できるか
ら、前記ヨーク層35形成時の膜厚を主磁極層24形成
時の膜厚よりも厚くして前記ヨーク層35の膜厚を主磁
極層24の膜厚よりも容易に大きく形成できる。また図
33および34に示すように主磁極層24とヨーク層3
5とを一体形成する場合も、本発明の製造方法を用いれ
ば、前記主磁極層24の膜厚よりも前記ヨーク層35の
膜厚を厚くできる。
を別々の工程で製造することで、主磁極層24のトラッ
ク幅Twを、前記ヨーク層35の幅寸法と別のものとし
て設定でき、特に図1、3、4のように主磁極層24と
ヨーク層35とを上下で重ねあわせる構造の場合、前記
ヨーク層35を自由に対向面H1aに近い位置に形成で
きるため、従来よりも前記主磁極層24のハイト方向へ
の長さ寸法を長く形成でき、前記主磁極層24を所定の
トラック幅Twで、しかも形状にばらつき無く形成でき
る。
気記録ヘッドの製造方法について説明したが、以下で
は、本発明における前記主磁極層24の前端面24aの
形成方法について説明する。図35ないし図37は正面
図であり、代表的に図1の垂直磁気記録ヘッドの製造工
程(図22)を用いて説明するが、図2ないし図6のい
ずれの垂直磁気記録ヘッドの製造工程にも適用できる。
気記録ヘッドの部分正面図である。図22に示す工程で
は、前記主磁極層24のメッキ下地層71を形成した
後、この上にレジスト層60を形成している。
主磁極層24形成のための抜きパターン60aを形成す
る。その後、熱処理を施し、前記レジスト層60の内側
端面にだれを生じさせる(点線を参照)。これにより前
記抜きパターン60aの内側端面は、下面から上面にか
けてトラック幅方向(図示X方向)の幅寸法が広がる傾
斜面あるいは湾曲面となる。
きパターン60a内に主磁極層24をメッキ形成して前
記レジスト層60を除去する。その状態は図37であ
り、図37に示すように、前記主磁極層24のトラック
幅方向の両側側辺24g,24gには、下面から上面に
かけて幅寸法が広がる傾斜面あるいは湾曲面が形成され
る。
メッキ下地層71以外のメッキ下地層71を異方性エッ
チングにて除去する。なお前記エッチング角度は、垂直
方向に対し45°以上で70°前後傾いていることが好
ましい。このエッチング工程により不要なメッキ下地層
71aは除去される。また前記エッチング工程により主
磁極層24も一部削られる。
両側側辺24g,24gが削られることにより、前記主
磁極層24の上面の幅寸法で規制されるトラック幅Tw
は小さくなり(点線で示す)、狭トラック化に対応可能
な垂直磁気記録ヘッドを製造することができる。
ばCuなどの金属材料を用いた場合、前記主磁極層24
下の周囲に若干延出して前記メッキ下地層71が残され
ていてもかまわないので、前記メッキ下地層71に磁性
金属材料を用いる場合に比べてエッチング制御を簡単に
することができる。
および図36のようなレジスト層60を用いない方法も
ある。これは前記メッキ下地層71を非磁性金属材料で
形成した後、前記メッキ下地層71上に無機絶縁材料の
層を形成する。さらに前記無機絶縁材料の層上に所定の
間隔が空けられたレジスト層を形成し、前記間隔内から
露出する前記無機絶縁材料の層をエッチングにより除去
する。除去された空間内のトラック幅方向の両側端面
は、下面から上面にかけて幅寸法が広がる形状で形成さ
れ、この空間内に主磁極層24をメッキ形成する。これ
によりトラック幅方向の両側側辺24g,24gに下面
から上面にかけて幅寸法が広がる傾斜面あるいは湾曲面
が形成された主磁極層24を形成することが可能であ
る。
少なくとも前記対向面H1aでのトラック幅方向の内幅
寸法が、前記補助磁極層21から離れるにしたがって広
がるように形成されていれば良く、前記対向面よりもハ
イト方向後方における抜きパターンの両側の内端面に図
36に示す傾斜面が形成されていなくてもよい。
読取り部HRが形成されているが、これが形成されてい
なくても良い。
坦化された面上に形成されるので、前記主磁極層を形成
する際のパターン精度を向上させることができ、前記主
磁極層の特に前端面を微小なトラック幅Twで正確にし
かも容易に形成することができる。したがって本発明で
は狭トラック化に適切に対応することができ、今後の高
記録密度化に対応可能な垂直磁気記録ヘッドを製造する
ことが可能である。
層の膜厚よりも厚く形成することができ、前記主磁極層
の前端面よりも十分に大きい断面積を有する前記ヨーク
層を形成できる。従って前記ヨーク層から前記主磁極層
に適切に記録磁界を導くことができ、磁束の通過効率が
良くなって、オーバーライト特性を向上できる。
成し、前記ヨーク層を前記主磁極層の上や下に重ねあわ
せることで、前記主磁極層のトラック幅Twで形成され
た幅細の領域を長く形成しても、前記ヨーク層を記録媒
体との対向面側に自由に近づけて形成することが可能に
なるので、磁束の集約を図ることができると共に、前記
主磁極層をパターン精度良く、所定のトラック幅Twで
形成することが可能になる。
辺は下面から上面に向けてトラック幅方向への幅寸法が
広がる傾斜面あるいは湾曲面となっており、これにより
記録時において、スキュー角を生じたとしても、フリン
ジングを防止できるようになり、オフトラック性能の向
上を図ることができる。
ッドの縦断面図、
ッドの縦断面図、
ッドの縦断面図、
ッドの縦断面図、
ッドの縦断面図、
ッドの縦断面図、
図、
正面図、
した状態を示す説明図、
法を示す一工程図、
図、
図、
す垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す一工程図、
図、
す垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す一工程図、
図、
す垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す一工程図、
図、
図、
す垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す一工程図、
図、
図、
図、
す垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す一工程図、
図、
図、
図、
面図、
した状態を示す説明図、
8、70 レジスト層 69 磁性材料層 71 メッキ下地層
5)
Claims (14)
- 【請求項1】 補助磁極層と、前記補助磁極層上に形成
された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された主磁極層と
が設けられ、前記絶縁層内に埋設されたコイル層から前
記補助磁極層及び前記主磁極層に記録磁界が与えられる
ことで、前記主磁極層に集中する垂直磁界によって、記
録媒体に磁気データを記録する垂直磁気記録ヘッドにお
いて、 前記主磁極層は平坦化面上に形成され、前記主磁極層の
前端面は記録媒体との対向面に位置し、前記前端面は前
記補助磁極層から離れるにしたがってトラック幅方向へ
の幅寸法が広がる形状で形成され、且つ前記前端面の上
面のトラック幅方向の幅寸法がトラック幅Twとして規
制され、 前記主磁極層の膜厚よりも厚い膜厚で形成されて前記対
向面と平行な断面での断面積が前記主磁極層の前端面の
面積よりも大きく、且つ前端面が、前記対向面よりも奥
側に位置するヨーク層が、前記主磁極層と磁気的に接続
されていることを特徴とする垂直磁気記録ヘッド。 - 【請求項2】 前記対向面よりも奥側で前記補助磁極層
上から立ち上がる接続層が形成され、 前記主磁極層は、平坦化された前記絶縁層上に形成さ
れ、前記ヨーク層は前記主磁極層上に重ねられて形成さ
れ、 前記主磁極層の基端部、あるいは前記ヨーク層の基端部
が前記接続層に磁気的に接続される請求項1記載の垂直
磁気記録ヘッド。 - 【請求項3】 前記主磁極層の周囲には第2の絶縁層が
形成され、この第2の絶縁層の上面と主磁極層の上面は
同一平面上で形成され、前記平面上にヨーク層が形成さ
れる請求項2記載の垂直磁気記録ヘッド。 - 【請求項4】 前記主磁極層上は、前記主磁極層の基端
部上を除いて第3の絶縁層で覆われ、前記基端部上に前
記ヨーク層が磁気的に接続されている請求項2記載の垂
直磁気記録ヘッド。 - 【請求項5】 前記対向面よりも奥側で前記補助磁極層
上から立ち上がる接続層が形成され、 前記主磁極層は、平坦化された前記絶縁層上に形成さ
れ、基端部が前記接続層よりも前記対向面側に位置し、 前記ヨーク層も前記絶縁層上に形成され、その前端面が
前記主磁極層の後端面に磁気的に接続し、前記ヨーク層
の基端部が前記接続層上に磁気的に接続している請求項
1記載の垂直磁気記録ヘッド。 - 【請求項6】 前記対向面よりも奥側で前記補助磁極層
上から立ち上がる接続層が形成され、 前記ヨーク層は平坦化された前記絶縁層の上に形成さ
れ、基端部が前記接続層上に磁気的に接続し、また前記
ヨーク層の前端面と前記対向面間には第4の絶縁層が形
成され、この第4の絶縁層の上面と前記ヨーク層上面は
平坦化されており、 主磁極層は、前記平坦化面上で前記ヨーク層と重ねられ
て形成されている請求項1記載の垂直磁気記録ヘッド。 - 【請求項7】 前記対向面よりも奥側で前記補助磁極層
上から立ち上がる接続層が形成され、平坦化された前記
絶縁層上に磁性材料層が形成され、前記磁性材料層は前
記対向面からハイト方向に向けて所定長さで形成される
前方領域と前記前方領域の基端からハイト方向後方に向
けて形成される後方領域とで構成され、前記後方領域の
基端部が前記接続層に磁気的に接続され、 前記前方領域の膜厚は前記後方領域の膜厚に比べて薄く
形成され、前記前方領域が前記主磁極層となっており、
前記後方領域が前記ヨーク層となっている請求項1記載
の垂直磁気記録ヘッド。 - 【請求項8】 前記主磁極層の上または下に重ねられた
前記ヨーク層の前記前端面は、前記主磁極層から離れる
したがってハイト方向に傾く傾斜面あるいは湾曲面で形
成されている請求項2、3、4、6のいずれかに記載の
垂直磁気記録ヘッド。 - 【請求項9】 前記主磁極層の前記前端面のトラック幅
方向の両側端辺は、傾斜面、あるいは湾曲面で形成され
ている請求項1ないし8のいずれかに記載の垂直磁気記
録ヘッド。 - 【請求項10】 以下の工程を有することを特徴とする
垂直磁気記録ヘッドの製造方法。 (a)磁性材料で補助磁極層を形成する工程と、(b)
前記補助磁極層上であって、記録媒体との対向面よりも
奥側に接続層を形成し、次に前記対向面と接続層間に、
前記補助磁極層上に絶縁下地層を介してコイル層を形成
した後、前記コイル層上を絶縁層で埋める工程と、
(c)前記絶縁層の表面を削り、前記絶縁層上面と前記
接続層上面を同一面とする工程と、(d)前記絶縁層上
及び接続層上にレジスト層を形成し、次に、少なくとも
前記対向面でのトラック幅方向の内幅寸法が、前記補助
磁極層から離れるにしたがって広がる抜きパターンを前
記レジスト層に形成する工程と、(e)前記抜きパター
ン内に主磁極層をメッキ形成した後、前記レジスト層を
除去する工程と、(f)前記主磁極層よりも厚い膜厚の
レジスト層を前記主磁極層上から前記絶縁層上にかけて
形成し、前記レジスト層に前端面が、前記対向面よりも
奥側に位置するヨーク層の抜きパターンを前記主磁極層
上に形成し、あるいは前記絶縁層上であって前記主磁極
層の後端面からハイト方向に向けて形成し、前記抜きパ
ターン内にヨーク層をメッキ形成した後、前記レジスト
層を除去する工程。 - 【請求項11】 前記(f)工程に代えて以下の工程を
有する請求項10記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方
法。 (g)前記主磁極層の周囲に第2の絶縁層を形成し、前
記第2の絶縁層の上面と前記主磁極層の上面とを同一面
上に形成する工程と、(h)前記主磁極層よりも厚い膜
厚のレジスト層を前記主磁極層上から前記第2の絶縁層
上にかけて形成し、前記レジスト層に前端面が、前記対
向面よりも奥側に位置するヨーク層の抜きパターンを前
記主磁極層および第2の絶縁層上に形成し、前記抜きパ
ターン内にヨーク層をメッキ形成した後、前記レジスト
層を除去する工程。 - 【請求項12】 前記(f)工程に代えて以下の工程を
有する請求項10記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方
法。 (i)前記主磁極層上から前記絶縁層上にかけて第3の
絶縁層を形成する工程と、(j)少なくとも前記主磁極
層の基端部上に形成された前記第3の絶縁層に穴部を形
成する工程と、(k)前記第3の絶縁層上に前記主磁極
層よりも厚い膜厚のレジスト層を形成した後、前端面
が、前記対向面よりも奥側に位置するヨーク層の抜きパ
ターンを形成し、前記抜きパターン内にヨーク層をメッ
キ形成した後、前記レジスト層を除去する工程。 - 【請求項13】 前記(d)工程ないし(f)工程に代
えて、以下の工程を有する請求項10記載の垂直磁気記
録ヘッドの製造方法。 (l)前記絶縁層上にレジスト層を形成し、前端面が、
前記対向面よりも奥側に位置するヨーク層の抜きパター
ンを形成し、前記抜きパターン内にヨーク層をメッキ形
成した後、前記レジスト層を除去する工程と、(m)前
記ヨーク層上および前記絶縁層上に、新たに第4の絶縁
層を形成し、前記第4の絶縁層を削って、前記第4の絶
縁層の上面と前記ヨーク層の上面を同一面とする工程
と、(n)前記ヨーク層上、および第4の絶縁層上に、
前記ヨーク層よりも薄い膜厚のレジスト層を形成し、前
記ヨーク層の前端面よりも対向面側に位置する前記第4
の絶縁層上のレジスト層から前記ヨーク層上のレジスト
層にかけて主磁極層の抜きパターンを形成する工程と、
(o)前記抜きパターン内に主磁極層をメッキ形成した
後、前記レジスト層を除去する工程。 - 【請求項14】 前記(d)工程ないし(f)工程に代
えて以下の工程を有する請求項10に記載の垂直磁気記
録ヘッドの製造方法。 (p)前記絶縁層上及び接続層上にレジスト層を形成
し、次に、少なくとも前記対向面でのトラック幅方向の
内幅寸法が、前記補助磁極層から離れるにしたがって広
がる抜きパターンを前記レジスト層に形成し、さらに前
記抜きパターンの基端部を前記接続層上にまで形成する
工程と、(q)前記抜きパターン内に磁性材料層をメッ
キ形成した後、前記レジスト層を除去する工程と、
(r)前記磁性材料層上にレジスト層を形成し、露光現
像により前記磁性材料層上の対向面側からハイト方向に
所定距離だけ抜きパターンを形成し、前記抜きパターン
内から露出した前記磁性材料層の一部を除去して膜厚を
薄くし、この部分を主磁極層とし、前記レジスト層下に
形成された磁性材料層をヨーク層とする工程。
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---|---|
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---|---|
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Cited By (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6728065B2 (en) * | 2001-03-29 | 2004-04-27 | Seagate Technology Llc | Single pole magnetic recording head for perpendicular magnetic recording |
US6771464B2 (en) * | 2001-10-19 | 2004-08-03 | Seagate Technology Llc | Perpendicular magnetic recording head with a laminated main write pole |
JP2006004604A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Headway Technologies Inc | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法並びにヘッドジンバルアセンブリおよびハードディスク装置 |
JP2006018988A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Seagate Technology Llc | サイド・トラック消去を減少させる記録ヘッド |
JP2006139898A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Headway Technologies Inc | 薄膜磁気ヘッド用構造物およびその製造方法並びに薄膜磁気ヘッド |
JP2006139899A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Headway Technologies Inc | 薄膜磁気ヘッド用構造物およびその製造方法並びに薄膜磁気ヘッド |
US7061719B2 (en) | 2002-10-01 | 2006-06-13 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
JP2006331612A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Headway Technol Inc | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
US7181827B2 (en) | 2003-11-27 | 2007-02-27 | Tdk Corporation | Method of forming magnetic layer pattern |
US7219414B2 (en) | 2004-03-31 | 2007-05-22 | Tdk Corporation | Method of manufacturing magnetic head for perpendicular magnetic recording |
US7245454B2 (en) | 2003-05-15 | 2007-07-17 | Tdk Corporation | Magnetic head for vertical magnetic recording including main pole layer having varying width and thickness, head gimbal assembly, and hard disk drive |
US7369361B2 (en) | 2005-02-07 | 2008-05-06 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head and magnetic head substructure including resistor element whose resistance corresponds to the length of the track width defining portion of the pole layer |
US7375925B2 (en) | 2005-05-27 | 2008-05-20 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording and method of manufacturing same |
US7382578B2 (en) | 2004-03-30 | 2008-06-03 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head, method of manufacturing the same and magnetic recording apparatus |
US7428123B2 (en) | 2004-05-20 | 2008-09-23 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic head with yoke overlapping inner side portion and increasing in width and thickness along height |
US7433152B2 (en) | 2004-11-05 | 2008-10-07 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording head, method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
US7477483B2 (en) | 2004-12-27 | 2009-01-13 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording head including extended yoke layer |
JP2009009689A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Samsung Electronics Co Ltd | 垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法 |
US7522376B2 (en) | 2002-11-11 | 2009-04-21 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording head and method of manufacturing the same |
WO2009090738A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Fujitsu Limited | 磁気記録ヘッドの製造方法 |
US7626784B2 (en) | 2005-09-26 | 2009-12-01 | Tdk Corporation | Magnetic recording head including main magnetic pole layer, return path layer, and coil layer |
JP2009283067A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直記録用磁気ヘッド及び磁気記録装置 |
US7663839B2 (en) | 2005-05-16 | 2010-02-16 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording with encasing layer |
US7667928B2 (en) | 2005-05-13 | 2010-02-23 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head having a width-thickness configured shield layer positioned by spacer pieces for use in a head gimbal assembly of a hard disk system |
JP2010146641A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直記録用磁気ヘッドとその製造方法及びそれを用いた磁気ディスク装置 |
US7764464B2 (en) | 2005-01-12 | 2010-07-27 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having solenoidal coil and method of manufacturing the same |
US7808743B2 (en) | 2007-03-05 | 2010-10-05 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic write head having a structure that suppresses unintended erasure of information on a write medium at a non-writing time |
JP2011096322A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法 |
US7983009B2 (en) | 2006-05-23 | 2011-07-19 | Tdk Corporation | Magnetic recording/reproducing system, and thin-film magnetic head having shield layers of specified widths |
US8021829B2 (en) | 2006-04-06 | 2011-09-20 | Tdk Corporation | Method of forming photoresist pattern and method of manufacturing perpendicular magnetic recording head |
US8064163B2 (en) | 2007-01-31 | 2011-11-22 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic write head having a thin film coil generating a magnetic flux and method of manufacturing perpendicular magnetic write head, and magnetic write device |
JP2011238343A (ja) * | 2010-05-05 | 2011-11-24 | Headway Technologies Inc | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 |
US8351162B2 (en) | 2004-08-03 | 2013-01-08 | HGST Netherlands BV | Magnetic head with electro lapping guide |
US8400732B2 (en) | 2006-11-10 | 2013-03-19 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Perpendicular magnetic write head, having side shields coupled to a leading shield and apart from a trailing shield |
US8705204B2 (en) | 2012-02-17 | 2014-04-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Recording head with high-frequency oscillator and bi-layer main pole height/width arrangement |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3593312B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2004-11-24 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP3875019B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2007-01-31 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP3735328B2 (ja) * | 2002-08-19 | 2006-01-18 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録薄膜ヘッドの主磁極の形成方法 |
JP2004094997A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US7508624B1 (en) | 2003-08-01 | 2009-03-24 | Lauer Mark A | Transducers for perpendicular recording with write pole tip angled toward media |
US7009812B2 (en) * | 2003-09-29 | 2006-03-07 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic transducer for perpendicular magnetic recording with single pole write head with trailing shield |
US7159302B2 (en) | 2004-03-31 | 2007-01-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for manufacturing a perpendicular write head |
US7394621B2 (en) * | 2004-06-30 | 2008-07-01 | Headway Technologies, Inc. | Using bilayer lithography process to define neck height for PMR |
US7251878B2 (en) | 2004-06-30 | 2007-08-07 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method and apparatus for defining leading edge taper of a write pole tip |
US7672079B2 (en) * | 2004-07-07 | 2010-03-02 | Headway Technologies, Inc. | Pole width control on plated bevel main pole design of a perpendicular magnetic recording head |
US7253992B2 (en) * | 2004-11-04 | 2007-08-07 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Single-pole recording head having trapezoidal main pole and bevel angle promotion layer and methods of fabricating the same |
JP2006139873A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気ヘッドおよび垂直磁気記録装置 |
US7518824B2 (en) * | 2005-03-07 | 2009-04-14 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording that has a pole layer having a shape for easy forming, reducing track width and improved writing characteristics |
JP2006252620A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-21 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
US7688544B1 (en) * | 2005-05-23 | 2010-03-30 | Seagate Technology Llc | Magnetic heads disk drives and methods with floating pole tip or shunted pole tip for reduced pole tip erasure |
US7468863B2 (en) * | 2005-07-05 | 2008-12-23 | Headway Technologies, Inc. | Thin-film magnetic head structure adapted to manufacture a thin-film head having a base magnetic pole part, a yoke magnetic pole part, and an intervening insulative film |
US7768741B2 (en) * | 2006-05-22 | 2010-08-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic write head design for reducing wide area track erasure |
KR100866956B1 (ko) * | 2007-01-26 | 2008-11-05 | 삼성전자주식회사 | 수직 자기 기록 헤드 |
JP2008204526A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Fujitsu Ltd | 磁気記録ヘッドの製造方法 |
US7933094B2 (en) * | 2007-11-27 | 2011-04-26 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording having a shield that includes a part recessed from medium facing surface |
US8031434B2 (en) * | 2007-12-28 | 2011-10-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Hybrid, self aligned magnetic write head with a partially plated pole and method of producing same |
US20090195920A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Bonhote Christian R | Main pole bridge structure |
US8320076B1 (en) | 2008-06-26 | 2012-11-27 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a magnetic recording transducer including an assist pole having surfaces angled with respect to the ABS |
US8252190B2 (en) * | 2008-12-24 | 2012-08-28 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for manufacturing a magnetic write head having a hard mask defined write pole trailing edge step |
US8102622B2 (en) * | 2009-01-05 | 2012-01-24 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic write head, method of manufacturing the same and method of forming magnetic layer pattern |
US8349197B2 (en) * | 2009-11-20 | 2013-01-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for manufacturing a perpendicular magnetic write head having a tapered write pole and non-magnetic bump structure |
US8208220B1 (en) * | 2010-12-07 | 2012-06-26 | Tdk Corporation | Magnetic head, head assembly, and magnetic recording/reproducing apparatus to reduce risk of wide area track erase |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5819717A (ja) | 1981-07-30 | 1983-02-04 | Fujitsu Ltd | 垂直磁化記録再生用ヘッド |
US4546396A (en) * | 1981-11-09 | 1985-10-08 | Staar, S. A. | Loading and unloading system for recording and/or playback apparatus |
JPS5971115A (ja) | 1982-10-15 | 1984-04-21 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド |
JPH0695369B2 (ja) * | 1987-02-09 | 1994-11-24 | 住友金属工業株式会社 | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッドの製造方法 |
US5463518A (en) * | 1987-04-20 | 1995-10-31 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head and magnetic recording and reproducing apparatus using a superconducting quantum interference device |
JPS63292405A (ja) | 1987-05-15 | 1988-11-29 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 垂直磁気記録用磁気ヘツド |
JPS6437703A (en) * | 1987-08-03 | 1989-02-08 | Nippon Telegraph & Telephone | Floating type perpendicular magnetic head and its manufacture |
US5218497A (en) * | 1988-12-02 | 1993-06-08 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording-reproducing apparatus and magnetoresistive head having two or more magnetoresistive films for use therewith |
JP2689613B2 (ja) * | 1989-06-14 | 1997-12-10 | 富士通株式会社 | 垂直記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
JP2949761B2 (ja) * | 1990-03-09 | 1999-09-20 | 富士通株式会社 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
JPH0417105A (ja) * | 1990-05-10 | 1992-01-21 | Fujitsu Ltd | 垂直薄膜磁気ヘッド |
JPH04134610A (ja) * | 1990-09-21 | 1992-05-08 | Fujitsu Ltd | 垂直記録用薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
JPH05174332A (ja) * | 1991-12-20 | 1993-07-13 | Fujitsu Ltd | 垂直記録用薄膜ヘッド |
JP2721783B2 (ja) * | 1992-08-19 | 1998-03-04 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 薄膜磁気ヘッド変換器/懸架部の組合せシステム並びにその製造方法 |
US6101067A (en) * | 1992-12-17 | 2000-08-08 | Sony Corporation | Thin film magnetic head with a particularly shaped magnetic pole piece and spaced relative to an MR element |
JPH08106613A (ja) | 1994-10-05 | 1996-04-23 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録型薄膜磁気ヘッド |
JPH09134505A (ja) * | 1995-11-06 | 1997-05-20 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
JP3112850B2 (ja) * | 1997-01-13 | 2000-11-27 | 学校法人早稲田大学 | Co−Ni−Feを主成分とする軟磁性薄膜,その製造方法,それを用いた磁気ヘッド及び磁気記憶装置 |
JPH10320720A (ja) | 1997-05-23 | 1998-12-04 | Nec Corp | 垂直記録用磁気ヘッド |
US6201670B1 (en) * | 1997-06-16 | 2001-03-13 | International Business Machines Corporation | Merged magnetic head that includes a write head with single-sided notched first pole piece |
JPH11110717A (ja) * | 1997-10-02 | 1999-04-23 | Sony Corp | 薄膜単磁極ヘッド |
JP2000048318A (ja) * | 1998-07-30 | 2000-02-18 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
JP2000057531A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-25 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッド、その製造方法及びディスク装置 |
US6259583B1 (en) * | 1998-09-16 | 2001-07-10 | International Business Machines, Corporation | Laminated yoke head with a domain control element |
JP2000163713A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-16 | Read Rite Smi Kk | 薄膜磁気ヘッドの上部磁極層の形成方法、段差を有する表面の段差底部上に高アスペクト比微細ブロックパターンを形成する方法、並びに、薄膜磁気ヘッド |
JP3856587B2 (ja) * | 1999-04-06 | 2006-12-13 | Tdk株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US6477008B1 (en) * | 1999-05-24 | 2002-11-05 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording transducer with electronic shield |
US6513228B1 (en) * | 2000-01-05 | 2003-02-04 | Seagate Technology Llc | Method for forming a perpendicular recording read/write head |
US6693768B1 (en) * | 2000-03-15 | 2004-02-17 | Seagate Technology Llc | Perpendicular magnetic recording head having a flux focusing main pole |
JP3875019B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2007-01-31 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 |
-
2000
- 2000-12-26 JP JP2000394697A patent/JP3875019B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-12-18 US US10/025,131 patent/US6687084B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-05-09 US US10/435,414 patent/US6958886B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-09-08 US US11/222,441 patent/US7181829B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-01-18 US US11/624,332 patent/US7472470B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6728065B2 (en) * | 2001-03-29 | 2004-04-27 | Seagate Technology Llc | Single pole magnetic recording head for perpendicular magnetic recording |
US6771464B2 (en) * | 2001-10-19 | 2004-08-03 | Seagate Technology Llc | Perpendicular magnetic recording head with a laminated main write pole |
US7061719B2 (en) | 2002-10-01 | 2006-06-13 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
US7522376B2 (en) | 2002-11-11 | 2009-04-21 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording head and method of manufacturing the same |
US7245454B2 (en) | 2003-05-15 | 2007-07-17 | Tdk Corporation | Magnetic head for vertical magnetic recording including main pole layer having varying width and thickness, head gimbal assembly, and hard disk drive |
US7181827B2 (en) | 2003-11-27 | 2007-02-27 | Tdk Corporation | Method of forming magnetic layer pattern |
US7382578B2 (en) | 2004-03-30 | 2008-06-03 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head, method of manufacturing the same and magnetic recording apparatus |
US7219414B2 (en) | 2004-03-31 | 2007-05-22 | Tdk Corporation | Method of manufacturing magnetic head for perpendicular magnetic recording |
US7428123B2 (en) | 2004-05-20 | 2008-09-23 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic head with yoke overlapping inner side portion and increasing in width and thickness along height |
US7718218B2 (en) | 2004-06-18 | 2010-05-18 | Headway Technologies, Inc. | Thin-film magnetic head, method of manufacturing the same, head Gimbal assembly, and hard disk drive |
JP2006004604A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Headway Technologies Inc | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法並びにヘッドジンバルアセンブリおよびハードディスク装置 |
JP2006018988A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Seagate Technology Llc | サイド・トラック消去を減少させる記録ヘッド |
US8351162B2 (en) | 2004-08-03 | 2013-01-08 | HGST Netherlands BV | Magnetic head with electro lapping guide |
US7457080B2 (en) | 2004-11-05 | 2008-11-25 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording head, method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
US7433152B2 (en) | 2004-11-05 | 2008-10-07 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording head, method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
JP2006139899A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Headway Technologies Inc | 薄膜磁気ヘッド用構造物およびその製造方法並びに薄膜磁気ヘッド |
US7978432B2 (en) | 2004-11-12 | 2011-07-12 | Headway Technologies, Inc. | Thin-film magnetic head structure |
US8182704B2 (en) | 2004-11-12 | 2012-05-22 | Headways Technologies, Inc. | Thin-film magnetic head structure, method of manufacturing the same, and thin-film magnetic head |
US7921544B2 (en) | 2004-11-12 | 2011-04-12 | Headway Technologies, Inc. | Method of manufacturing a thin film magnetic head structure |
JP2006139898A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Headway Technologies Inc | 薄膜磁気ヘッド用構造物およびその製造方法並びに薄膜磁気ヘッド |
US7477483B2 (en) | 2004-12-27 | 2009-01-13 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording head including extended yoke layer |
US7764464B2 (en) | 2005-01-12 | 2010-07-27 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having solenoidal coil and method of manufacturing the same |
US7369361B2 (en) | 2005-02-07 | 2008-05-06 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head and magnetic head substructure including resistor element whose resistance corresponds to the length of the track width defining portion of the pole layer |
US7667928B2 (en) | 2005-05-13 | 2010-02-23 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head having a width-thickness configured shield layer positioned by spacer pieces for use in a head gimbal assembly of a hard disk system |
US7663839B2 (en) | 2005-05-16 | 2010-02-16 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording with encasing layer |
JP2006331612A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Headway Technol Inc | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
US8043515B2 (en) | 2005-05-23 | 2011-10-25 | Headway Technologies, Inc. | Thin film magnetic head and manufacturing method thereof |
US7375925B2 (en) | 2005-05-27 | 2008-05-20 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording and method of manufacturing same |
US7626784B2 (en) | 2005-09-26 | 2009-12-01 | Tdk Corporation | Magnetic recording head including main magnetic pole layer, return path layer, and coil layer |
US8021829B2 (en) | 2006-04-06 | 2011-09-20 | Tdk Corporation | Method of forming photoresist pattern and method of manufacturing perpendicular magnetic recording head |
US7983009B2 (en) | 2006-05-23 | 2011-07-19 | Tdk Corporation | Magnetic recording/reproducing system, and thin-film magnetic head having shield layers of specified widths |
US8400732B2 (en) | 2006-11-10 | 2013-03-19 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Perpendicular magnetic write head, having side shields coupled to a leading shield and apart from a trailing shield |
US8064163B2 (en) | 2007-01-31 | 2011-11-22 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic write head having a thin film coil generating a magnetic flux and method of manufacturing perpendicular magnetic write head, and magnetic write device |
US7808743B2 (en) | 2007-03-05 | 2010-10-05 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic write head having a structure that suppresses unintended erasure of information on a write medium at a non-writing time |
JP2009009689A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Samsung Electronics Co Ltd | 垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法 |
WO2009090738A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Fujitsu Limited | 磁気記録ヘッドの製造方法 |
JP2009283067A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直記録用磁気ヘッド及び磁気記録装置 |
JP2010146641A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直記録用磁気ヘッドとその製造方法及びそれを用いた磁気ディスク装置 |
JP2011096322A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法 |
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US8705204B2 (en) | 2012-02-17 | 2014-04-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Recording head with high-frequency oscillator and bi-layer main pole height/width arrangement |
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