JPS5971115A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPS5971115A JPS5971115A JP57179854A JP17985482A JPS5971115A JP S5971115 A JPS5971115 A JP S5971115A JP 57179854 A JP57179854 A JP 57179854A JP 17985482 A JP17985482 A JP 17985482A JP S5971115 A JPS5971115 A JP S5971115A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic layer
- layer
- thin film
- film head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は垂直磁気記録再生用薄膜ヘッドに関し高い記録
密度と高い記録再生効率を有し、磁気特性にすぐれかつ
作製の容易な構造の薄膜ヘッドに関する。
密度と高い記録再生効率を有し、磁気特性にすぐれかつ
作製の容易な構造の薄膜ヘッドに関する。
磁気記録再生用薄膜ヘッドとして従来種々の構造が提案
されており、その代表例の主要部断面を第１図に示す。
されており、その代表例の主要部断面を第１図に示す。
第１図において記号１は非磁性基板、記号２は下部磁性
層、記号３は下部磁性層と記号４の導体コイル間の電気
的絶縁を行なう無機絶縁物層、記号５は導体コイルと記
号６の高透磁率磁性膜よりなる上部磁性層間の電気的絶
縁を行なう有機絶縁物層である。垂直磁気記録用ヘッド
としては一方の磁性層を非常に薄くして記録再生を行な
うための主磁極とし、他方を非常に厚くして閉磁路を形
成させるための補助磁極とすることが必要であるが（特
願昭５７−７５２５３号明細書。
層、記号３は下部磁性層と記号４の導体コイル間の電気
的絶縁を行なう無機絶縁物層、記号５は導体コイルと記
号６の高透磁率磁性膜よりなる上部磁性層間の電気的絶
縁を行なう有機絶縁物層である。垂直磁気記録用ヘッド
としては一方の磁性層を非常に薄くして記録再生を行な
うための主磁極とし、他方を非常に厚くして閉磁路を形
成させるための補助磁極とすることが必要であるが（特
願昭５７−７５２５３号明細書。
特開昭５２−８２３１８号公報等を参照）、従来は下部
磁性層を厚くして補助磁極とし、下部磁性層と基板とを
Ｍ ｎ −７，ｎフェライトなどの磁性体基板として兼
用している場合が多い。このように従来の垂直磁気記録
用薄膜ヘッドは、（１）下部磁性層が閉磁路を形成する
ための補助磁極となっており、その厚みは上部磁性層よ
りもかなり厚いもので通常はパターニングされていない
、（２）上部磁性層が記録再生を行なうための主磁極と
なってセリ記録再生のトラックを構成するため適当な形
状にバターニングされている、（３）一般に導体コイル
による電流効率の向上のためコイルを複数巻にする（マ
ルチターン化）。このような構造の薄膜ヘッドにおいて
は主磁極の磁気特性を良くすることが困難である。これ
は、上部磁性層が高段差パターンを形成（通常１０μｍ
程度の段差）してｔ−リ、この段差部において磁気特性
の劣化が生じ易いことと電流効率向上を目的としたコイ
ルのマルチターン化により上部磁性層にコイルパターン
に対応したうねシ（小さな凹凸）が生じやすく磁気特性
が劣化するためである。またエツチングによって高段差
のバターニングを行う場合も、マスクスパッタ等の手法
でパターンを形成する場合も主磁極の寸法精度がで々い
という欠点があった。とくに上部磁性層が厚い場合はパ
ターニングが事実上不可能となるので、記録再生に関係
する磁気記録媒体対抗面のＡ部以外の厚みを厚くして磁
気抵抗を減少させ効′率を高めることも困難であった。
磁性層を厚くして補助磁極とし、下部磁性層と基板とを
Ｍ ｎ −７，ｎフェライトなどの磁性体基板として兼
用している場合が多い。このように従来の垂直磁気記録
用薄膜ヘッドは、（１）下部磁性層が閉磁路を形成する
ための補助磁極となっており、その厚みは上部磁性層よ
りもかなり厚いもので通常はパターニングされていない
、（２）上部磁性層が記録再生を行なうための主磁極と
なってセリ記録再生のトラックを構成するため適当な形
状にバターニングされている、（３）一般に導体コイル
による電流効率の向上のためコイルを複数巻にする（マ
ルチターン化）。このような構造の薄膜ヘッドにおいて
は主磁極の磁気特性を良くすることが困難である。これ
は、上部磁性層が高段差パターンを形成（通常１０μｍ
程度の段差）してｔ−リ、この段差部において磁気特性
の劣化が生じ易いことと電流効率向上を目的としたコイ
ルのマルチターン化により上部磁性層にコイルパターン
に対応したうねシ（小さな凹凸）が生じやすく磁気特性
が劣化するためである。またエツチングによって高段差
のバターニングを行う場合も、マスクスパッタ等の手法
でパターンを形成する場合も主磁極の寸法精度がで々い
という欠点があった。とくに上部磁性層が厚い場合はパ
ターニングが事実上不可能となるので、記録再生に関係
する磁気記録媒体対抗面のＡ部以外の厚みを厚くして磁
気抵抗を減少させ効′率を高めることも困難であった。
本発明の目的は垂直磁気記録再生用薄膜ヘッド特にマル
チターンコイル垂直磁気記録再生用薄膜ヘッドの構造と
して高い記録密度と高い記録再生効率を有する磁気特性
のすぐれた構造の薄膜ヘッドを提供することにある。
チターンコイル垂直磁気記録再生用薄膜ヘッドの構造と
して高い記録密度と高い記録再生効率を有する磁気特性
のすぐれた構造の薄膜ヘッドを提供することにある。
性能を決める主磁極が上部磁性層のため上部磁性層の磁
気特性の劣化は直接ヘッド性能の低下につながる。本発
明では上述の磁気特性の劣化を防ぎ上記目的を達成する
ため、主磁極としては平坦な基板上に作製され磁気特性
の劣化の少ないバターニングが容易な下部磁性層を用い
た。これによｐ高記録密度、高記録再生効率を有する磁
気特性のすぐれた薄膜ヘッドが可能となる。
気特性の劣化は直接ヘッド性能の低下につながる。本発
明では上述の磁気特性の劣化を防ぎ上記目的を達成する
ため、主磁極としては平坦な基板上に作製され磁気特性
の劣化の少ないバターニングが容易な下部磁性層を用い
た。これによｐ高記録密度、高記録再生効率を有する磁
気特性のすぐれた薄膜ヘッドが可能となる。
上記の下部磁性層ならびに上部磁性層の厚さは、それぞ
れ従来の主磁極、補助磁極の厚さと同様でよく、通常は
主磁極の磁気記録媒体対向面側２〜５μｍの部分が０．
２〜１μｍ１主磁極のそれ以外の部分が１〜６μｍ１補
助磁極が５〜４０μｍであるが、これらの値に限定する
必要はない。また、主磁極は例えば０．２μｍ〜１μｍ
の均一の厚さとしてもよい。
れ従来の主磁極、補助磁極の厚さと同様でよく、通常は
主磁極の磁気記録媒体対向面側２〜５μｍの部分が０．
２〜１μｍ１主磁極のそれ以外の部分が１〜６μｍ１補
助磁極が５〜４０μｍであるが、これらの値に限定する
必要はない。また、主磁極は例えば０．２μｍ〜１μｍ
の均一の厚さとしてもよい。
また、下部磁性層、上部磁性層以外の各部分の構成は従
来技術に従ってよい。
来技術に従ってよい。
本発明の垂直磁気記録再生用薄膜ヘッドは基板上に形成
された下部磁性層が主磁極となるので、動作中に磁気記
録媒体と主磁極の間に特性を劣化せしめる間隙が生じな
いようにするため、上記基板の記録媒体対向面は下部磁
性層が形成されている基板上面となす角θが９０°では
なく６０°〜８７°にするのがよシ好ましく、さらに好
ましくは８０°〜８５°とするが、従来通ｊり９０’と
しても本発明の効果は認められる。
された下部磁性層が主磁極となるので、動作中に磁気記
録媒体と主磁極の間に特性を劣化せしめる間隙が生じな
いようにするため、上記基板の記録媒体対向面は下部磁
性層が形成されている基板上面となす角θが９０°では
なく６０°〜８７°にするのがよシ好ましく、さらに好
ましくは８０°〜８５°とするが、従来通ｊり９０’と
しても本発明の効果は認められる。
本発明の薄膜ヘッドにおける前記上部磁性層は、マスク
スパッタ、マスク蒸着またはメッキなとの手法により形
成することができ、エツチングの工程を経ないでもよい
。もちろん、従来のように、フォトエツチングの工程を
経て上部磁性層のバタン形成を行なってもよいが、上部
磁性層は補助磁極であるので厚さが厚く、エツチングに
よる成形には困難を伴う場合が多い。
スパッタ、マスク蒸着またはメッキなとの手法により形
成することができ、エツチングの工程を経ないでもよい
。もちろん、従来のように、フォトエツチングの工程を
経て上部磁性層のバタン形成を行なってもよいが、上部
磁性層は補助磁極であるので厚さが厚く、エツチングに
よる成形には困難を伴う場合が多い。
以下実施例によって本発明を説明する。
実施例１
第２図は本実施例における垂直磁気記録再生用薄膜ヘッ
ド主要部の縦断面を示す。図において記号１０は基板で
あり寸法４０笥φ、１■ｔのホトセラム（コーニング社
の商品名）を用いた。
ド主要部の縦断面を示す。図において記号１０は基板で
あり寸法４０笥φ、１■ｔのホトセラム（コーニング社
の商品名）を用いた。
７０５９ガラス（コーニング社の商品名）やＡ４０゜や
Ａ４０ｓ −Ｔ ｉ Ｃのセラミックのような非磁性基
板を用いることもできる。記号１１は７７．５ｗｔ％Ｎ
ｉ−２２，５ｗｔ％ ｐｅ組成のターゲットを用いスパ
ッタ法によ多形成された下部磁性層で記録媒体対抗面Ｂ
部近傍の膜厚を０．５μｍ、後部コア部の膜厚を３μｍ
とした。通常対向面近傍の厚みは０．２〜１５ｍ後部コ
アの厚みは１〜６μｍ程度にするのが望ましい。多少効
率が悪くなるが後部コアを厚くぜず同じ厚みにして作製
プロセスを簡単化することも可能である。対向面近傍の
薄い部分の長さＤＩｃｉ２〜５μｍ程度がよく、ここで
は２μｍとした。記号１２は下部磁性層と記号１３の導
体コイル間の電気的絶縁の役割をする絶縁物層で、ｓｉ
ｏ、をスパッタ法によ多形成し膜厚を３μｍとした。記
号１３の導体コイルはＡｔを蒸着法により形成し、ここ
では導体断面が幅６μｍ高さ４．０μｍの４ターンのス
パイラル型多巻きコイルとした。記号１４は導体コイル
と記号１５の上部磁性層間の電気的絶縁および４タ一ン
マルチコイル上面の平坦化のために用いたポリイミド系
樹側などの有機絶縁物層であシ、ここではポリイミドイ
ソインドロキナゾリンジオン樹脂であるＰＩＱ（日立化
成株式会社の商品名）を用いた。絶縁物層１２の上面か
らの厚さは６μｍとした。ＰＩＱの粘性を利用したコイ
ル上面の平坦化の工程は既に公知である。従来の磁気ヘ
ッドでは主磁極である上部磁性層の磁気特性を劣化させ
ないように、できるだけ平坦にする必要があったが本発
明の磁気ヘッドではこの上には厚く補助磁極が形成され
るのでそれほど平坦である必要はなく場合によっては有
機物を用いず５ｉｏ２など無機絶縁物を用いてもよ葉上
のヘッド作製工程ではバターニングはホトリソグラフィ
技術を用いて行なった。これらの技術およびヘッド主要
部以外の構造は従来公知のものと同様であるのでここで
は省略した。記号１５の上部磁性層は７６ａｔ％Ｃｏ−
１２ａｔ％Ｃｒ−１２ａｔ％Ｚｒなる非晶質合金を約２
０μｍの厚みでスパッタ法によって形成した。スパッタ
時に所望の形状に磁性層を形成するため、マスクをおい
て所望の部分にのみ磁性体がつくようにした。
Ａ４０ｓ −Ｔ ｉ Ｃのセラミックのような非磁性基
板を用いることもできる。記号１１は７７．５ｗｔ％Ｎ
ｉ−２２，５ｗｔ％ ｐｅ組成のターゲットを用いスパ
ッタ法によ多形成された下部磁性層で記録媒体対抗面Ｂ
部近傍の膜厚を０．５μｍ、後部コア部の膜厚を３μｍ
とした。通常対向面近傍の厚みは０．２〜１５ｍ後部コ
アの厚みは１〜６μｍ程度にするのが望ましい。多少効
率が悪くなるが後部コアを厚くぜず同じ厚みにして作製
プロセスを簡単化することも可能である。対向面近傍の
薄い部分の長さＤＩｃｉ２〜５μｍ程度がよく、ここで
は２μｍとした。記号１２は下部磁性層と記号１３の導
体コイル間の電気的絶縁の役割をする絶縁物層で、ｓｉ
ｏ、をスパッタ法によ多形成し膜厚を３μｍとした。記
号１３の導体コイルはＡｔを蒸着法により形成し、ここ
では導体断面が幅６μｍ高さ４．０μｍの４ターンのス
パイラル型多巻きコイルとした。記号１４は導体コイル
と記号１５の上部磁性層間の電気的絶縁および４タ一ン
マルチコイル上面の平坦化のために用いたポリイミド系
樹側などの有機絶縁物層であシ、ここではポリイミドイ
ソインドロキナゾリンジオン樹脂であるＰＩＱ（日立化
成株式会社の商品名）を用いた。絶縁物層１２の上面か
らの厚さは６μｍとした。ＰＩＱの粘性を利用したコイ
ル上面の平坦化の工程は既に公知である。従来の磁気ヘ
ッドでは主磁極である上部磁性層の磁気特性を劣化させ
ないように、できるだけ平坦にする必要があったが本発
明の磁気ヘッドではこの上には厚く補助磁極が形成され
るのでそれほど平坦である必要はなく場合によっては有
機物を用いず５ｉｏ２など無機絶縁物を用いてもよ葉上
のヘッド作製工程ではバターニングはホトリソグラフィ
技術を用いて行なった。これらの技術およびヘッド主要
部以外の構造は従来公知のものと同様であるのでここで
は省略した。記号１５の上部磁性層は７６ａｔ％Ｃｏ−
１２ａｔ％Ｃｒ−１２ａｔ％Ｚｒなる非晶質合金を約２
０μｍの厚みでスパッタ法によって形成した。スパッタ
時に所望の形状に磁性層を形成するため、マスクをおい
て所望の部分にのみ磁性体がつくようにした。
これは通常マスクスパッタ法として知られている技術で
ある。一般にマスクスパッタでマスクと試料とのすきま
から磁性体がまわりこんで試料に付着したシ、パターン
を他の形成パターンと合わせることがむずかしく精度は
よくないが本発明にお（９） いては上部磁性層は単に閉磁路を形成するための補助磁
極となるので十分に目的を達することができる。パター
ン形成のためエツチングしたシすることがないので十分
に厚い膜を使うことができる。
ある。一般にマスクスパッタでマスクと試料とのすきま
から磁性体がまわりこんで試料に付着したシ、パターン
を他の形成パターンと合わせることがむずかしく精度は
よくないが本発明にお（９） いては上部磁性層は単に閉磁路を形成するための補助磁
極となるので十分に目的を達することができる。パター
ン形成のためエツチングしたシすることがないので十分
に厚い膜を使うことができる。
一般にこの上部磁性層の厚みは５〜４０μｍとすること
が磁気ヘッドの特性上望ましい。
が磁気ヘッドの特性上望ましい。
また同様の目的でマスク蒸着やメッキ法等の作製手段を
使うこともできる。
使うこともできる。
本発明の薄膜ヘッドの構成及び機能は従来のものと以下
の点で異なっている。
の点で異なっている。
（υ 高透磁率磁性膜よりなる下部磁性層が主磁極の役
割を果たす。（２）平坦な基板上に作製される下部磁性
層は磁性膜としての磁気特性及びその再現性にすぐれ、
またパターンの形成も容易で寸法精度にすぐれヘッドの
磁気特性を左右する主磁極として非常にすぐれている。
割を果たす。（２）平坦な基板上に作製される下部磁性
層は磁性膜としての磁気特性及びその再現性にすぐれ、
またパターンの形成も容易で寸法精度にすぐれヘッドの
磁気特性を左右する主磁極として非常にすぐれている。
第３図ｔ／′ｉ従来の薄膜ヘッドの鳥敞図を示したもの
で記号２０は下部磁性層、記号２１は主磁極としての上
部磁性層、記号２２はコイルパターンをおおう有機絶縁
物層、記号２３で示す部分は有機（１０） 絶縁物層による断差部を示したものである。なお、第３
図では、下部磁性層２０の具体的形状の記載は省略した
。すなわち、従来の薄膜ヘッドプロセスにおいては上部
磁性層は記録再生のための主磁極とするため第３図に示
されるように高段差のあるパターニングが必要となシ寸
法精度が出ないと上でバターニングを行なうため寸法精
度が向上し、大量に生産したときは歩留りが向上する。
で記号２０は下部磁性層、記号２１は主磁極としての上
部磁性層、記号２２はコイルパターンをおおう有機絶縁
物層、記号２３で示す部分は有機（１０） 絶縁物層による断差部を示したものである。なお、第３
図では、下部磁性層２０の具体的形状の記載は省略した
。すなわち、従来の薄膜ヘッドプロセスにおいては上部
磁性層は記録再生のための主磁極とするため第３図に示
されるように高段差のあるパターニングが必要となシ寸
法精度が出ないと上でバターニングを行なうため寸法精
度が向上し、大量に生産したときは歩留りが向上する。
本実施例のヘッドは基板上に各層の適当なパターンを形
成したのち、切断、研削、研まなど機械加工によって最
終形状にしあげられるが、これらの工程は従来公知の工
程であるのでここでは説明を省略した。第２図に示した
主要部の断面はこれらの機械加工工程を経た最終的なも
のであるが、基板の記録媒体対抗面はパターンが形成さ
れている基板面と直角にはなっていない。これは記録媒
体と主磁極との当ｐをよくし記録媒体と主磁極とをでき
るだけ近づけるためで、基板のすぐ上に主（１１） 磁極がある本発明では基板の記録媒体対抗面は記録媒体
面から逃げる形にする方が望ましいからである。本実施
例では角度θを８４°とした。このように角度をつける
ことは斜め研磨によって容易に達成できる。
成したのち、切断、研削、研まなど機械加工によって最
終形状にしあげられるが、これらの工程は従来公知の工
程であるのでここでは説明を省略した。第２図に示した
主要部の断面はこれらの機械加工工程を経た最終的なも
のであるが、基板の記録媒体対抗面はパターンが形成さ
れている基板面と直角にはなっていない。これは記録媒
体と主磁極との当ｐをよくし記録媒体と主磁極とをでき
るだけ近づけるためで、基板のすぐ上に主（１１） 磁極がある本発明では基板の記録媒体対抗面は記録媒体
面から逃げる形にする方が望ましいからである。本実施
例では角度θを８４°とした。このように角度をつける
ことは斜め研磨によって容易に達成できる。
本実施例のヘッドの記録再生特性をＮ１−ｐｅ金合金上
形成したＣｏ−Ｃｒ垂直記録媒体を用いて、測定した。
形成したＣｏ−Ｃｒ垂直記録媒体を用いて、測定した。
最適記録電流は記録密度が１０ＫＤＰ Ｉ において
約３０ｍＡで、これは第１図に示す従来のヘッドに対す
る値の約１／３であった。
約３０ｍＡで、これは第１図に示す従来のヘッドに対す
る値の約１／３であった。
またＩＫＢＰＩ における再生出力は約０．２４ ｍ
ｖｐ−ｐで、これは従来のヘッドの約１．５倍であった
。
ｖｐ−ｐで、これは従来のヘッドの約１．５倍であった
。
なお、比較に用いた第１図に示す従来のヘッドは、厚さ
１０００μｍの、Ｍ ｎ −Ｚｎフェライトからなる下
部磁性層２を補助磁極とし、記録媒体対向面側を薄くし
ていない上部磁性Ｎ６（厚さ０．５μｍ）を主磁極とし
ている以外は本実施例のヘッドとほぼ同じ構成のもので
ある。
１０００μｍの、Ｍ ｎ −Ｚｎフェライトからなる下
部磁性層２を補助磁極とし、記録媒体対向面側を薄くし
ていない上部磁性Ｎ６（厚さ０．５μｍ）を主磁極とし
ている以外は本実施例のヘッドとほぼ同じ構成のもので
ある。
本実施例においては、主磁極の材料としてはＮｉ−Ｆｅ
合金を用いたが、この材料の飽和磁束（１２） 密度は〜１０ｋＧである。記録を行なう主磁極とくに記
録媒体対抗面近傍の部分では磁気的な飽和が生じないよ
うにできるだけ飽和磁束密度が高い材料を選ぶことが望
ましい。主磁極の材料として、飽和磁束密度が約１８ｋ
ＧのＦ ｅ −６，５ｗｔ％Ｓｉ−１ｗｔ％ｆＬｕ合金
をスパッタ法によ多形成して用いたところ、Ｎ１−ｐｅ
金合金場合に比較して再生出力で約１．５倍の向上がみ
られた。一般にＦｅおよびＳｉを主成分とし、これに０
．５〜２Ｗｉ％の几Ｕや’ｌ：’ｉ、Ｏｒなどの元素を
添加した合金は飽和磁束密度が高いので、本発明を実施
する場合にこれらの合金を主磁極の材料として用いるこ
とが望ましい。これらの合金はスパッタ時の基板温度が
低いと透磁率が低く保磁力が大きいなど良好な磁気特性
が得られず、基板温度を約３５０１Ｚ′〜４００Ｃとす
る必要がある。従来のヘッドではポリイミド樹脂など平
坦化のために用いた有機絶縁物の上に主磁極材料を形成
しなければならないが、３５０１：’程度の高温ではＰ
ＩＱ樹脂はＦｅ−８４合金と接触すると反応して分解し
てしまい（１３） 形成が困難であった。このため従来はｐｅ−Ｓｉ合金を
主磁極材料とするには磁気特性を犠牲にするか、あるい
は工程を増やしてポリイミド樹脂などの有機絶縁物とｐ
ｅ−Ｓｉ合金が直接に接しないようＡｔ、０３ など
の中間膜を入れる必要があった。本発明では主磁極はガ
ラスなどの基板の上に作られるので、基板温度を３５０
Ｃ程度とすることは伺ら問題にならない。
合金を用いたが、この材料の飽和磁束（１２） 密度は〜１０ｋＧである。記録を行なう主磁極とくに記
録媒体対抗面近傍の部分では磁気的な飽和が生じないよ
うにできるだけ飽和磁束密度が高い材料を選ぶことが望
ましい。主磁極の材料として、飽和磁束密度が約１８ｋ
ＧのＦ ｅ −６，５ｗｔ％Ｓｉ−１ｗｔ％ｆＬｕ合金
をスパッタ法によ多形成して用いたところ、Ｎ１−ｐｅ
金合金場合に比較して再生出力で約１．５倍の向上がみ
られた。一般にＦｅおよびＳｉを主成分とし、これに０
．５〜２Ｗｉ％の几Ｕや’ｌ：’ｉ、Ｏｒなどの元素を
添加した合金は飽和磁束密度が高いので、本発明を実施
する場合にこれらの合金を主磁極の材料として用いるこ
とが望ましい。これらの合金はスパッタ時の基板温度が
低いと透磁率が低く保磁力が大きいなど良好な磁気特性
が得られず、基板温度を約３５０１Ｚ′〜４００Ｃとす
る必要がある。従来のヘッドではポリイミド樹脂など平
坦化のために用いた有機絶縁物の上に主磁極材料を形成
しなければならないが、３５０１：’程度の高温ではＰ
ＩＱ樹脂はＦｅ−８４合金と接触すると反応して分解し
てしまい（１３） 形成が困難であった。このため従来はｐｅ−Ｓｉ合金を
主磁極材料とするには磁気特性を犠牲にするか、あるい
は工程を増やしてポリイミド樹脂などの有機絶縁物とｐ
ｅ−Ｓｉ合金が直接に接しないようＡｔ、０３ など
の中間膜を入れる必要があった。本発明では主磁極はガ
ラスなどの基板の上に作られるので、基板温度を３５０
Ｃ程度とすることは伺ら問題にならない。
ｐｅ−１９ｉ合金のほかに高飽和磁束密度材料としては
ｐｅおよびＴｉを主とする合金がめシ、たとえばＦｅ−
８ｗｔ％Ｔｉ合金は飽和磁束密度が１５ｋＧであって、
Ｎ１−ｐｅ金合金シも主磁極材料として望せしい。また
、これらの合金は従来公知のように５ｈｏ２などとの積
層構造とすることによって磁気特性が一層向上する場合
もあシ、これを本発明に応用することも可能である。
ｐｅおよびＴｉを主とする合金がめシ、たとえばＦｅ−
８ｗｔ％Ｔｉ合金は飽和磁束密度が１５ｋＧであって、
Ｎ１−ｐｅ金合金シも主磁極材料として望せしい。また
、これらの合金は従来公知のように５ｈｏ２などとの積
層構造とすることによって磁気特性が一層向上する場合
もあシ、これを本発明に応用することも可能である。
また、本実施例においては、補助磁極の材料としてはＣ
ｏ−Ｃｒ−Ｚｒ非晶質合金を用いたが、これはスパッタ
時の基板温度が低くてても良好な磁気特性の膜が得られ
るので、ポリイミド樹脂や（１４） ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン樹脂なと有機
絶縁体の上に形成しやすいからである。またＮｉ−Ｆｅ
合金やｐｅ−８ｉ合金など結晶質合金は１０μｍ程度以
上の厚い膜になると基板からハク離しやすくなり、十分
な付着力をもった膜が得られないためである。本発明に
おいては補助磁極となる膜は十分に厚く、かつ十分な付
着強度があることが望ましく、非晶質合金材料はこれに
最適である。本発明に適した非晶質合金はＣｏｙ。
ｏ−Ｃｒ−Ｚｒ非晶質合金を用いたが、これはスパッタ
時の基板温度が低くてても良好な磁気特性の膜が得られ
るので、ポリイミド樹脂や（１４） ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン樹脂なと有機
絶縁体の上に形成しやすいからである。またＮｉ−Ｆｅ
合金やｐｅ−８ｉ合金など結晶質合金は１０μｍ程度以
上の厚い膜になると基板からハク離しやすくなり、十分
な付着力をもった膜が得られないためである。本発明に
おいては補助磁極となる膜は十分に厚く、かつ十分な付
着強度があることが望ましく、非晶質合金材料はこれに
最適である。本発明に適した非晶質合金はＣｏｙ。
Ｃｒｌ５ Ｚ ’１３ ＊ ＣＯ？ｌｌ Ｃｒｌｌ Ｚ
ｒｌｌなどＣＯ−Ｃｒ−Ｚｒ系合金、 Ｃｏ、、 Ｍ
ｏ、３Ｚ ｒ、６などＣｏ−ＭＯＣｏ−Ｔｉ系合金など
がある。なお、高周波帯域で使用する場合にＵ％ Ｓ
ｉ０２ 、 Ａ４０ｓ など絶縁物との積層体とする
とさらに好結果が得られる。
ｒｌｌなどＣＯ−Ｃｒ−Ｚｒ系合金、 Ｃｏ、、 Ｍ
ｏ、３Ｚ ｒ、６などＣｏ−ＭＯＣｏ−Ｔｉ系合金など
がある。なお、高周波帯域で使用する場合にＵ％ Ｓ
ｉ０２ 、 Ａ４０ｓ など絶縁物との積層体とする
とさらに好結果が得られる。
な訃、組成式の数字は原子数比を示す。
本発明によれば、下部磁性層を主磁極とすることによシ
良好な磁気特性を有する垂直磁気記録再（１５） 牛用薄膜ヘッドが得られる。従来の上部磁性層を主磁極
とする薄膜ヘッドと比較して本発明による薄膜ヘッドは
記録電流効率にして約３０％以上向上する。またプロセ
ス的に現行のものよシも容易
良好な磁気特性を有する垂直磁気記録再（１５） 牛用薄膜ヘッドが得られる。従来の上部磁性層を主磁極
とする薄膜ヘッドと比較して本発明による薄膜ヘッドは
記録電流効率にして約３０％以上向上する。またプロセ
ス的に現行のものよシも容易
気配録再生用薄膜ヘッドの縦断面図、第３図は従来の垂
直磁気記録再生用薄膜ヘッドの鳥敞図である。 １・・・非磁性基板、２・・・下部磁性層、３・・・無
機絶縁物層、４・・・導体コイル、５・・・有機絶縁物
層、６・・・上部磁性層（主磁極）、１０・・・非磁性
基板、１１・・・下部磁性層（主磁極）、１２・・・無
機絶縁層、１３・・・導体コイル、１４・・・有機絶縁
物層、１５・・・上部磁性層、２０・・・下部磁性層、
２１・・・上部磁性（１６） 層（主磁極）、２２・・・有機絶縁物層、２３・・・有
機絶縁物層の断差部。 代理人 弁理士 薄田利幸 （１７） Ｙ １ 図 第 Ｚ 図 第１頁の続き ０発 明 者 藤原英夫 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ０発 明 者 品用合成 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ０発 明 者 飯島明美 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内
直磁気記録再生用薄膜ヘッドの鳥敞図である。 １・・・非磁性基板、２・・・下部磁性層、３・・・無
機絶縁物層、４・・・導体コイル、５・・・有機絶縁物
層、６・・・上部磁性層（主磁極）、１０・・・非磁性
基板、１１・・・下部磁性層（主磁極）、１２・・・無
機絶縁層、１３・・・導体コイル、１４・・・有機絶縁
物層、１５・・・上部磁性層、２０・・・下部磁性層、
２１・・・上部磁性（１６） 層（主磁極）、２２・・・有機絶縁物層、２３・・・有
機絶縁物層の断差部。 代理人 弁理士 薄田利幸 （１７） Ｙ １ 図 第 Ｚ 図 第１頁の続き ０発 明 者 藤原英夫 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ０発 明 者 品用合成 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ０発 明 者 飯島明美 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に下部磁性層を有し、該下部磁性層上
に第１の絶縁層を介してコイル用導電体第２の絶縁層上
に一端が該第１の絶縁層を介して他端が直接に該下部磁
性層と接する上部磁性層を有し、且つ該下部磁性層が主
磁極で該上部磁性層が補助磁極であることを特徴とする
垂直磁気記録再生用薄膜ヘッド。 ２、上記基板の磁気記録媒体対向面と上記下部磁性層の
形成されている該基板上面とのなす角が９０°未満であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の垂直磁
気記録再生用薄膜ヘッド。 ３、上記下部磁性層の厚さが０．２μｍ〜１μｍで、上
記上部磁性層の厚さが５μｍ〜４０μｍであることを特
徴とする特許請求の範囲第１項もしくは第２項記載の垂
直磁気記録再生用薄膜ヘッド。 ４、上記下部磁性層の磁気記録媒体対向面側２〜５μｍ
の部分の厚さが０．２μｍ〜１μｍ１該下部磁性層の残
部の部分の厚さが１μｍ〜６μｍ１上記上部磁性層の厚
さが５〜４０μｍであることを特徴とする特許請求の範
囲第１項もしくは第２項記載の垂直磁気記録再生用薄膜
ヘッド。 ５、上記下部磁性層の少なくとも一部がｐｅとＳＭを主
成分とする磁性合金もしく ＩｆｉＦ ｅとＴｉを主成
分とする合金であることを特徴とする特許請求の範囲第
１項乃至第４項のいずれかの項に記載の垂直磁気記録再
生用薄膜ヘッド。 ６、上記上部磁性層の少なくとも一部が非晶質磁性合金
でおることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第５
項のいずれかの項に記載の垂直磁気記録再生用薄膜ヘッ
ド。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57179854A JPS5971115A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | 磁気ヘッド |
| US06/539,386 US4636897A (en) | 1982-10-15 | 1983-10-06 | Perpendicular magnetic recording and reproducing thin film head |
| EP83306171A EP0107443B1 (en) | 1982-10-15 | 1983-10-12 | Magnetic recording and reproducing thin film head |
| DE8383306171T DE3380677D1 (en) | 1982-10-15 | 1983-10-12 | Magnetic recording and reproducing thin film head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57179854A JPS5971115A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5971115A true JPS5971115A (ja) | 1984-04-21 |
| JPH0520802B2 JPH0520802B2 (ja) | 1993-03-22 |
Family
ID=16073073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57179854A Granted JPS5971115A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | 磁気ヘッド |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4636897A (ja) |
| EP (1) | EP0107443B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5971115A (ja) |
| DE (1) | DE3380677D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63195818A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
Families Citing this family (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR940004986B1 (ko) * | 1984-08-27 | 1994-06-09 | 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 자성막의 제조방법 및 그것을 사용한 자기헤드 |
| EP0186032B1 (de) * | 1984-12-21 | 1989-05-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Dünnfilm-Magnetkopf für ein senkrecht zu magnetisierendes Aufzeichnungsmedium |
| US4943879A (en) * | 1986-08-22 | 1990-07-24 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head including magnetic layers having high saturation magnetic flux density and metal film for avoiding deterioration during manufacturing |
| JPS63177311A (ja) * | 1987-01-19 | 1988-07-21 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| US5159511A (en) * | 1987-04-01 | 1992-10-27 | Digital Equipment Corporation | Biasing conductor for MR head |
| US4982301A (en) * | 1987-10-30 | 1991-01-01 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording system and process |
| US5108837A (en) * | 1987-12-04 | 1992-04-28 | Digital Equipment Corporation | Laminated poles for recording heads |
| US5075956A (en) * | 1988-03-16 | 1991-12-31 | Digital Equipment Corporation | Method of making recording heads with side shields |
| JPH073685B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1995-01-18 | ヤマハ株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
| US5126907A (en) * | 1989-05-24 | 1992-06-30 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head having at least one magnetic core member made at least partly of a material having a high saturation magnetic flux density |
| EP0459426B1 (en) * | 1990-05-31 | 1996-12-11 | Sony Corporation | Thin film magnetic head |
| JP3364511B2 (ja) * | 1993-06-29 | 2003-01-08 | 株式会社日立製作所 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法、および、薄膜磁気ヘッドの製造に用いる研磨用砥粒 |
| US5452166A (en) * | 1993-10-01 | 1995-09-19 | Applied Magnetics Corporation | Thin film magnetic recording head for minimizing undershoots and a method for manufacturing the same |
| US5617273A (en) * | 1995-06-07 | 1997-04-01 | International Business Machines Corporation | Thin film slider with protruding R/W element formed by chemical-mechanical polishing |
| US5798897A (en) * | 1996-10-21 | 1998-08-25 | International Business Machines Corporation | Inductive write head with insulation stack configured for eliminating reflective notching |
| US5805391A (en) * | 1996-10-28 | 1998-09-08 | International Business Machines Corporation | Write head with recessed stitched yoke on a planar portion of an insulation layer defining zero throat height |
| US6181514B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-01-30 | International Business Machines Corporation | Scaled write head with high recording density and high data rate |
| US6204999B1 (en) * | 1998-12-23 | 2001-03-20 | Read-Rite Corporation | Method and system for providing a write head having a conforming pole structure |
| US6353511B1 (en) | 1999-06-15 | 2002-03-05 | Read-Rite Corporation | Thin film write head for improved high speed and high density recording |
| US6496334B1 (en) | 2000-05-26 | 2002-12-17 | Read-Rite Corportion | Data storage and retrieval apparatus with thin film read head having planarized extra gap and shield layers and method of fabrication thereof |
| US6801408B1 (en) | 2000-11-02 | 2004-10-05 | Western Digital (Fremont), Inc. | Data storage and retrieval apparatus with thin film read head having a planar sensor element and an extra gap and method of fabrication thereof |
| JP3889222B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2007-03-07 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録ヘッドの製造方法 |
| JP3875020B2 (ja) | 2000-12-26 | 2007-01-31 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録ヘッドの製造方法 |
| JP3875019B2 (ja) | 2000-12-26 | 2007-01-31 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 |
| JP3593312B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2004-11-24 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 |
| US7199973B2 (en) * | 2003-09-26 | 2007-04-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording head with trailing shield throat height less than shaping layer distance from ABS |
| US7369358B2 (en) * | 2004-02-05 | 2008-05-06 | Seagate Technology Llc | Grounded writer core |
| US7212379B2 (en) * | 2004-03-31 | 2007-05-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording head with flare and taper configurations |
| US7296337B2 (en) * | 2004-05-25 | 2007-11-20 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Notched trailing shield for perpendicular write head |
| US7296339B1 (en) | 2004-09-08 | 2007-11-20 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for manufacturing a perpendicular magnetic recording head |
| US7343667B2 (en) * | 2004-09-30 | 2008-03-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Methods of making a side-by-side read/write head with a self-aligned trailing shield structure |
| US7552523B1 (en) | 2005-07-01 | 2009-06-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for manufacturing a perpendicular magnetic recording transducer |
| US8333008B1 (en) | 2005-07-29 | 2012-12-18 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for manufacturing a perpendicular magnetic recording transducer |
| US7508627B1 (en) | 2006-03-03 | 2009-03-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing perpendicular magnetic recording transducers |
| US8141235B1 (en) | 2006-06-09 | 2012-03-27 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for manufacturing a perpendicular magnetic recording transducers |
| US8015692B1 (en) | 2007-11-07 | 2011-09-13 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a perpendicular magnetic recording (PMR) head |
| US9099118B1 (en) | 2009-05-26 | 2015-08-04 | Western Digital (Fremont), Llc | Dual damascene process for producing a PMR write pole |
| US8486285B2 (en) | 2009-08-20 | 2013-07-16 | Western Digital (Fremont), Llc | Damascene write poles produced via full film plating |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5284722A (en) * | 1975-12-31 | 1977-07-14 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head and its production |
| JPS53121608A (en) * | 1977-03-31 | 1978-10-24 | Sony Corp | Magnetic recording system |
| JPS5584019A (en) * | 1978-12-21 | 1980-06-24 | Ibm | Induction type thinnfilm transducer |
| JPS57126966A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-06 | Fujitsu Ltd | Formation of thin film using mask |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3344237A (en) * | 1967-09-26 | Desposited film transducing apparatus and method op producing the apparatus | ||
| US4036723A (en) * | 1975-08-21 | 1977-07-19 | International Business Machines Corporation | RF bias sputtering method for producing insulating films free of surface irregularities |
| JPS5447619A (en) * | 1977-09-21 | 1979-04-14 | Toshiba Corp | Thin-film magnetic head for magnetic tapes |
| FR2428886A1 (fr) * | 1978-06-13 | 1980-01-11 | Cii Honeywell Bull | Support d'information magnetique a enregistrement perpendiculaire |
| JPS554730A (en) * | 1978-06-23 | 1980-01-14 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head for vertical magnetic recording |
| JPS5570933A (en) * | 1978-11-21 | 1980-05-28 | Fujitsu Ltd | Manufacture for thin film magnetic head |
| US4219854A (en) * | 1978-12-21 | 1980-08-26 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic head assembly |
| JPS55150116A (en) * | 1979-05-14 | 1980-11-21 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
| US4295173A (en) * | 1979-10-18 | 1981-10-13 | International Business Machines Corporation | Thin film inductive transducer |
| JPS5661018A (en) * | 1979-10-19 | 1981-05-26 | Hitachi Ltd | Manufacture of thin film magnetic head |
| JPS573213A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Toppan Printing Co Ltd | Manufacture of magnetic pickup |
| JPS5766522A (en) * | 1980-10-13 | 1982-04-22 | Hitachi Ltd | Thin-film magnetic head |
| IT1129437B (it) * | 1980-12-16 | 1986-06-04 | Olivetti & Co Spa | Testina magnetica |
| JPS57189320A (en) * | 1981-05-15 | 1982-11-20 | Comput Basic Mach Technol Res Assoc | Thin film magnetic head |
| JPS57208618A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Hitachi Ltd | Production of thin film magnetic head |
| JPS5819717A (ja) * | 1981-07-30 | 1983-02-04 | Fujitsu Ltd | 垂直磁化記録再生用ヘッド |
| US4423451A (en) * | 1981-08-10 | 1983-12-27 | Sperry Corporation | Thin film magnetic head having disparate poles for pulse asymmetry compensation |
| US4458280A (en) * | 1982-01-18 | 1984-07-03 | International Business Machines Corporation | Servo writing transducer design and writing method |
| JPS58143414A (ja) * | 1982-02-19 | 1983-08-26 | Comput Basic Mach Technol Res Assoc | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS59104717A (ja) * | 1982-12-08 | 1984-06-16 | Comput Basic Mach Technol Res Assoc | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
-
1982
- 1982-10-15 JP JP57179854A patent/JPS5971115A/ja active Granted
-
1983
- 1983-10-06 US US06/539,386 patent/US4636897A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-10-12 DE DE8383306171T patent/DE3380677D1/de not_active Expired
- 1983-10-12 EP EP83306171A patent/EP0107443B1/en not_active Expired
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5284722A (en) * | 1975-12-31 | 1977-07-14 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head and its production |
| JPS53121608A (en) * | 1977-03-31 | 1978-10-24 | Sony Corp | Magnetic recording system |
| JPS5584019A (en) * | 1978-12-21 | 1980-06-24 | Ibm | Induction type thinnfilm transducer |
| JPS57126966A (en) * | 1981-01-29 | 1982-08-06 | Fujitsu Ltd | Formation of thin film using mask |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63195818A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0107443B1 (en) | 1989-10-04 |
| US4636897A (en) | 1987-01-13 |
| JPH0520802B2 (ja) | 1993-03-22 |
| EP0107443A2 (en) | 1984-05-02 |
| DE3380677D1 (en) | 1989-11-09 |
| EP0107443A3 (en) | 1986-03-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5971115A (ja) | 磁気ヘッド | |
| US6775902B1 (en) | Method of making a magnetic head with aligned pole tips | |
| JPH0644332B2 (ja) | 垂直記録用の録再磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0514322B2 (ja) | ||
| JPS58212615A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0271413A (ja) | 改良した磁気ドメイン構造を有する極片の製造方法 | |
| JPH05250636A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS61178710A (ja) | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JP2535819B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS58108017A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS62132211A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JP2816150B2 (ja) | 複合型磁気ヘッド | |
| JP2747216B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP3272738B2 (ja) | 軟磁性多層膜 | |
| JPS61248214A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS61158017A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0782612B2 (ja) | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JP3336681B2 (ja) | 薄膜磁気抵抗効果型ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2752199B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0546943A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS63175213A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS60256905A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH05128440A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0352124B2 (ja) | ||
| JPS63275106A (ja) | 磁性薄膜及びその製造方法 |