JPH0644332B2 - 垂直記録用の録再磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

垂直記録用の録再磁気ヘッドの製造方法

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JPH0644332B2
JPH0644332B2 JP60018784A JP1878485A JPH0644332B2 JP H0644332 B2 JPH0644332 B2 JP H0644332B2 JP 60018784 A JP60018784 A JP 60018784A JP 1878485 A JP1878485 A JP 1878485A JP H0644332 B2 JPH0644332 B2 JP H0644332B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は垂直記録用の磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。本発明はコンピュータの記憶装置に適用でき
る。
（従来の技術） 一般に、垂直記録用の磁気ヘッドは磁性支持体上に設け
られた巻線を具備する。この支持体は巻線の中央に位置
決めされた主磁極片を有する。磁性薄膜は前記磁極片に
延び、磁気ヘッドの表面と同一平面である。この膜は２
つの薄いプレートの間に固定される。
例えば、このような磁気ヘッドは、“垂直記録方式用の
磁気ヘッド”（“A magnetic head for perpendicular
magnetic recording system”）と称して1980年12月11
日に出願され、1981年７月１日に公告された欧州特許第
31,216号明細書に開示されている。
このような磁気ヘッドの従来の製造方法は２つのプレー
ト状の要素の間に磁性薄膜を挿入する工程を有する。組
立体は溶接される。得られた部材は基板に結合される。
この基板は主磁極片とその巻線とを有する。完全な組立
体（エンティティ）は再び接着される。
このような製造方法は実行することが難しく、自動化又
は工業化にふさわしくないことは明らかである。さら
に、処理（ハンドリング）を容易にするため、プレート
は記録及び再生の磁極として作用する磁性膜を挿入する
前に、ある厚さを持たせなければならない。このよう
に、磁極は延長される（なぜなら、磁極の長さはプレー
トの厚さに等しいからである）。この結果、磁気ヘッド
の効率は減少する。
（発明の課題） 本発明は前記問題点を取り除く方法に関する。
従って、本発明は従来技術より高精度で生産性の高い磁
気ヘッドを作ることが可能な薄膜付着操作を利用する方
法を提案する。さらに、磁気ヘッドは磁極の寸法を減じ
た結果としてより良い効率を有する。本発明によれば、
絶縁支持体上に磁性物質の膜をデポジットする工程と、
直線軸を有する細形の中央部分をそのまま残す第１の幅
広の閉じたチャネルを前記磁性膜にエッチングする工程
と、前記第１のチャネルを誘電体物質で満たして誘電体
層を形成し、前記中央部分を取り囲む渦巻状の溝を得る
べく該誘電体層を反応性イオンエッチングし、該渦巻状
の溝内に導電性物質をデポジットし、次いで該渦巻状の
溝を誘電体物質で満たすことにより、該中央部分を取り
囲むコイルを前記第１のチャネル内に形成する工程と、
前記コイル及び前記中央部分上に第１の硬質の誘電体物
質によるコーティングをデポジットする工程と、前記中
央部分に軸の平行な平面の側端を有すると共に該中央部
分に面し、かつ該中央部分を部分的に露出する第２のチ
ャネルを前記コーティングにエッチングする工程と、前
記第１の硬質の誘電体層上及び前記第２のチャネルに磁
性薄膜をデポジットする工程と、前記第２のチャネルの
前記側端上にデポジットされた部分のみを残すように前
記磁性薄膜をエッチングする工程と、前記第１の硬質の
誘電物質と同様の第２の硬質の誘電物質で前記第２のチ
ャネルを満たす工程とを備えた垂直記録用の録再磁気ヘ
ッドの製造方法が提供される。
（実施例） 第１図に示す誘電体の支持体14はセラミック又は別の絶
縁物質である。本発明による好ましい実施例において、
この支持体はシリコンウェハーである。この支持体は熱
酸化によって得られるシリコンコーティング20によって
覆われる。
次に、このコーティング20は磁性膜22の真空蒸着又は他
の適当な手段が行われる。磁性膜22は強い磁化及び高い
透磁率を持つ。MnZn，NiZnのようなフェライトの異なる
型、又はFeNiのような合金、又はCoZrのようなアモルフ
ァスの磁性体が使用される。磁性膜22の厚さは０．５ミ
クロンから数ミクロンの間である。
選択された物質の機能として、コーティング（磁性膜）
22は化学的にエッチングされるか又は反応性イオンエッ
チング（ＲＩＥ）によってエッチングされる。第２図に
おいて、ほぼ楕円又は卵形のチャネル24が得られる。第
８図はこのチャネルを示す平面図である。このチャネル
は中央の直線状部分30がそのまま残る。ホトリソグラフ
ィによって定められる樹脂マスクはこの目的のために使
用される。例えば、エッチングの深さは磁性膜22の厚さ
の半分に達する。
次に、チャネル24は誘電体物質26で満たされる。
この物質26はシリカ、有機樹脂又はＳｉ（ＯＨ）4に基
づくコンパンドである。結果は第３図に示す。
第４図は誘電体物質26のエッチング27を示す。ホトリソ
グラフィによって定められる樹脂マスクを持つ反応性イ
オンエッチングを使用することは可能である。第４図に
示される部分のエッチングは、第９図でもっともよく示
されるような、長方形断面と渦巻形状を有する溝27のよ
うに形成される。
次に、溝27の底において、電導体28の付着（デポジショ
ン）が行われる。溝巻コイルは中央の磁極片30の回りに
形成される。このコイルの入力及び出力は示されない。
なぜなら、それらは構成的な問題を起さないからであ
る。溝27は物質26と同一の物質で満たされる。
硬質の（ハードな）誘電体層32は組立体（エンティテ
ィ）上に付着される（第５図）。この層は１又は数ミク
ロンの間の厚さを有する。この層はアルミナ、シリカ又
は他の硬質の誘電体から形成され、磁気記録ディスク
（図示されない）の表面に良い機構的インタフェースを
保証することができる。さらに、この層32はコイル28を
絶縁するために使用される。
硬質の誘電体層32は中央部分30の軸に対して平行のプレ
ーナ壁34aを有すると共に、前記部分30を約半分露出す
るチャネル34を得るためにエッチングされる。
次に、１ミクロン以下の厚さの磁性薄膜36が付着され
る。この膜36は強い磁化と高い透磁率を有する。この膜
36は膜22の物質と同じグループの物質から選択される。
磁性薄膜３６はプレーナ（平面）壁３４ａを除いて通常
のエッチングで除去され、薄い磁気的なスペーサ（磁性
薄膜）３８を形成する（第６図）。このスペーサは中央
の磁極片３０との磁気的連続性を有する。
最後に、チャネル34は硬質の誘電体物質で満たされる。
この物質は層32の物質と同一であっても、同一でなくて
もよい。第７図はこの結果を示す。
第９図はヘッドの分解平面図を示す。同図はチャネル2
4、渦巻コイル28、壁34aを有する直線状のチャネル34、
及び壁34a上に付着された磁性薄膜38を示す。
第10図は磁気記録ディスクに面した、本発明による垂直
記録用の録再磁気ヘッドを示す。この磁気記録ディスク
は垂直の異方性を有する磁気コーティング10と、磁束を
閉じるための高透磁率の補助層（サブレイヤ）12とから
構成される。
記録する場合、コイル28に電流が流れると、コイル28は
膜22によって経路化された磁束を作り、磁束は部分30
に、特に薄膜38に集中する。サブレイヤ12とよく結合す
る後者は強烈な記録膜40を作る。この膜40は層10に情報
要素を記録する。
閉じる磁束42は主磁束40と比較して減じられる。なぜな
ら、閉じる磁極（コーティング22）と層12との距離は膜
38の端と前記層12との距離より大きく、磁束の閉じる表
面は膜38の部分と比較して非常に大きいからである。
対称的に再生する場合、層10によって作られた磁束は記
録の間と同じパスに従う。磁束の変化は巻線28に増加す
る電流を作り、巻線28の端子の電圧は再生信号を形成す
る。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明によれば、第２のチャネル
の平面側端を正確に垂直に形成することができ、しかも
その側端を中央部分に関して正確に位置させることがで
きるから、対称性の高い磁束を精度よく集中して発生す
ることのできる垂直記録用の磁気ヘッドを生産性よく製
造することができる。さらに、コイルを磁極の下側に位
置する磁性層内に一体化してしかも中央部分を取り囲む
ように形成することができ、また、磁極の近傍には金属
部分は全く残らないので、高精度かつ効率の極めて高い
磁気ヘッドをを生産性よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図乃至第７図は本発明による実施例の製造方法の主
段階を示す図、第８図はチャネルを示す平面図、第９図
は本発明による実施例の磁気ヘッドを示す分解平面図、
第10図は磁気ヘッドの断面を示す図である。 14……支持体、 20……シリコンコーティング、 22……磁性膜、24……チャネル、 26……誘電体物質、27……溝、 28……導電体(コイル)、 30……磁極片(中央部分)、34……チャネル、 34a……プレーナ壁、 38……薄い磁気ディスク(磁性薄膜)。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】絶縁支持体上に磁性物質の膜をデポジット
    する工程と、直線軸を有する細形の中央部分をそのまま
    残す第１の幅広の閉じたチャネルを前記磁性膜にエッチ
    ングする工程と、前記第１のチャネルを誘電体物質で満
    たして誘電体層を形成し、前記中央部分を取り囲む渦巻
    状の溝を得るべく該誘電体層を反応性イオンエッチング
    し、該渦巻状の溝内に導電性物質をデポジットし、次い
    で該渦巻状の溝を誘電体物質で満たすことにより、該中
    央部分を取り囲むコイルを前記第１のチャネル内に形成
    する工程と、前記コイル及び前記中央部分上に第１の硬
    質の誘電体物質によるコーティングをデポジットする工
    程と、前記中央部分の軸に平行な平面の側端を有すると
    共に該中央部分に面し、かつ該中央部分を部分的に露出
    する第２のチャネルを前記コーティングにエッチングす
    る工程と、前記第１の硬質の誘電体層上及び前記第２の
    チャネルに磁性薄膜をデポジットする工程と、前記第２
    のチャネルの前記側端上にデポジットされた部分のみを
    残すように前記磁性薄膜をエッチングする工程と、前記
    第１の硬質の誘電物質と同様の第２の硬質の誘電物質で
    前記第２のチャネルを満たす工程とを備えたことを特徴
    とする垂直記録用の録再磁気ヘッドの製造方法。
JP60018784A 1984-02-03 1985-02-04 垂直記録用の録再磁気ヘッドの製造方法 Expired - Lifetime JPH0644332B2 (ja)

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JPS60179916A (ja) 1985-09-13

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