JPS60111313A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60111313A JPS60111313A JP22040583A JP22040583A JPS60111313A JP S60111313 A JPS60111313 A JP S60111313A JP 22040583 A JP22040583 A JP 22040583A JP 22040583 A JP22040583 A JP 22040583A JP S60111313 A JPS60111313 A JP S60111313A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- layer
- magnetic pole
- film coil
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａｌ 発明の技術分野
本発明ば薄膜磁気ヘッドの製造方法に係り、特に基板上
に形成された薄膜コイルの中心部に、該基板面に対して
垂直に主磁極を精度よく形成し得る垂直磁気記録再生用
薄膜ヘッドの製造方法の改良に関するものである。
に形成された薄膜コイルの中心部に、該基板面に対して
垂直に主磁極を精度よく形成し得る垂直磁気記録再生用
薄膜ヘッドの製造方法の改良に関するものである。
（ｂｌ 技術の背景
磁気ヘッドの磁気記録再生方式には、磁気記録媒体面に
対して水平方向の残留磁化を利用する方式と、垂直方向
の残留磁化を利用する方式とが有り、従来においては前
者の水平磁気記録方式が一般に採用されているが、近年
、より高密度な記録再生を可能とする後者の垂直磁気記
録方式についての開発、実用化が盛んに行われ、種々の
タイプのものが提案されている。
対して水平方向の残留磁化を利用する方式と、垂直方向
の残留磁化を利用する方式とが有り、従来においては前
者の水平磁気記録方式が一般に採用されているが、近年
、より高密度な記録再生を可能とする後者の垂直磁気記
録方式についての開発、実用化が盛んに行われ、種々の
タイプのものが提案されている。
（Ｃ１従来技術と問題点
ところで従来の垂直磁気記録再生用薄膜ヘッドは、第１
図に示すように、例えばフェライト等の磁性基板２上に
、図示の如く絶縁層３を介在して薄膜コイル４及び該薄
膜コイル４の中心部にヨークとなるパーマロイ （Ｎｉ
−Ｆｅ）からなる磁性層５が被着形成され、更にその薄
膜コイル４上に絶縁Ｎ６を被覆することによりコイルブ
ロック１を形成する。そして第２図に示すように前記コ
イルブロック１上に、該ブロック１の中心部に位置する
ように主磁極１０を設けた主磁極ブロック７を、接着材
１２によって接着している。尚、該主磁極ブロック７は
、例えば一方の絶縁ガラス基板８の側端面にパーマロイ
（Ｎｉ’−Ｐｅ）などの強磁性体薄膜を蒸着、スパッ
タリング若しくはメッキ等により被着し、フォトリソグ
ラフィなどにより主磁極１０を形成し、該主磁極１０が
形成された絶縁ガラス基板８の側端面に、もう一方の絶
縁ガラス基板９の側端面を接着剤１１により接着するこ
とにより作成される。さてこのヘッド構造によれば、前
記薄膜コイル４の中心部における基板面より垂直に配設
された主磁極１０により、鋭い垂直磁場を形成すること
が出来る利点を有している。
図に示すように、例えばフェライト等の磁性基板２上に
、図示の如く絶縁層３を介在して薄膜コイル４及び該薄
膜コイル４の中心部にヨークとなるパーマロイ （Ｎｉ
−Ｆｅ）からなる磁性層５が被着形成され、更にその薄
膜コイル４上に絶縁Ｎ６を被覆することによりコイルブ
ロック１を形成する。そして第２図に示すように前記コ
イルブロック１上に、該ブロック１の中心部に位置する
ように主磁極１０を設けた主磁極ブロック７を、接着材
１２によって接着している。尚、該主磁極ブロック７は
、例えば一方の絶縁ガラス基板８の側端面にパーマロイ
（Ｎｉ’−Ｐｅ）などの強磁性体薄膜を蒸着、スパッ
タリング若しくはメッキ等により被着し、フォトリソグ
ラフィなどにより主磁極１０を形成し、該主磁極１０が
形成された絶縁ガラス基板８の側端面に、もう一方の絶
縁ガラス基板９の側端面を接着剤１１により接着するこ
とにより作成される。さてこのヘッド構造によれば、前
記薄膜コイル４の中心部における基板面より垂直に配設
された主磁極１０により、鋭い垂直磁場を形成すること
が出来る利点を有している。
しかしながら上記した従来の垂直磁気記録再生用薄膜ヘ
ットの製造方法においては、薄膜コイル４が配設された
コイルブロック１上に、主磁極１０が配設された主磁極
ブロック７を接着剤１２によって接着するといった工程
が採られているため、両ブロックを精度良く位置合わせ
することが容易でない。又、両ブロックの接着方法にお
いても、接着強度の高い低融点ガラスか−らなる接着剤
の通用が好ましいが、最低でも４００〜５００°Ｃの処
理温度を必要とし、主磁極１０を形成するに用いられる
高透磁率、高飽和磁化性のアモルファス磁性体及びコイ
ル形成に用いられるレベリングに優れた熱硬化型の有機
絶縁膜等の耐熱性（２５０〜４００℃）を考慮すれば、
エポキシ樹脂等からなる接着剤を適用せざるを得ない。
ットの製造方法においては、薄膜コイル４が配設された
コイルブロック１上に、主磁極１０が配設された主磁極
ブロック７を接着剤１２によって接着するといった工程
が採られているため、両ブロックを精度良く位置合わせ
することが容易でない。又、両ブロックの接着方法にお
いても、接着強度の高い低融点ガラスか−らなる接着剤
の通用が好ましいが、最低でも４００〜５００°Ｃの処
理温度を必要とし、主磁極１０を形成するに用いられる
高透磁率、高飽和磁化性のアモルファス磁性体及びコイ
ル形成に用いられるレベリングに優れた熱硬化型の有機
絶縁膜等の耐熱性（２５０〜４００℃）を考慮すれば、
エポキシ樹脂等からなる接着剤を適用せざるを得ない。
ところが上記エポキシ樹脂等からなる接着剤では接着強
度が弱いといった欠点があった。
度が弱いといった欠点があった。
（ｄ） 発明の目的
本発明は上記従来の実情に鑑み、薄膜コイルが配設され
たコイルブロック上に、接着工程を用いることなく、コ
イルブロック面に垂直な主磁極と、該主磁極を保護する
絶縁性保護層とを一体に形成するようにした新規なＦ＃
股磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とするも
のである。
たコイルブロック上に、接着工程を用いることなく、コ
イルブロック面に垂直な主磁極と、該主磁極を保護する
絶縁性保護層とを一体に形成するようにした新規なＦ＃
股磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とするも
のである。
ｆｅ） 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、磁性基板上に絶縁層
を介して薄膜コイルと、該薄膜コイルの中心部に強磁性
体であるヨーク層を順次被着形成した後、該薄膜コイル
及びヨーク層上にマスク形成材層を、前記基板面に対し
て垂直な面を有する所定パターンに被着形成する工程と
、該マスク形成材層の所定パターン上に強磁性体層を被
着して所定パターン形状にバターニングした後、前記マ
スク形成＋Ａ層を除去して主磁極を形成する工程とを行
い、前記主磁極を含む薄膜コイル及び強磁性体のヨーク
層上に絶縁性保護膜を被着形成することを特徴とする薄
膜磁気ヘッドの製造方法を提供することによって達成さ
れる。
を介して薄膜コイルと、該薄膜コイルの中心部に強磁性
体であるヨーク層を順次被着形成した後、該薄膜コイル
及びヨーク層上にマスク形成材層を、前記基板面に対し
て垂直な面を有する所定パターンに被着形成する工程と
、該マスク形成材層の所定パターン上に強磁性体層を被
着して所定パターン形状にバターニングした後、前記マ
スク形成＋Ａ層を除去して主磁極を形成する工程とを行
い、前記主磁極を含む薄膜コイル及び強磁性体のヨーク
層上に絶縁性保護膜を被着形成することを特徴とする薄
膜磁気ヘッドの製造方法を提供することによって達成さ
れる。
（ｆｌ 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第３図乃至第９図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である。まず
第３図に示すように例えばフェライト等の磁性基板２１
上に、蒸着、スパフタリング、或いはメッキなどの薄膜
形成技法とフォトリソグラフィを用いて図示の如（５ｉ
０２等からなる第１の絶縁層２２を介在して、銅（Ｃｕ
）からなる薄膜コイル２３及び該薄膜コイル２３の中心
部にパーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ）などの強磁性体からなる
ヨーク層２４を順に被着形成し、更にその薄膜コイル２
３上に第２の絶縁層２５を被覆する。次に該絶縁層２５
及びヨーク層２４上に例えばポリイミド樹脂などの樹脂
材を塗着してから熱硬化させて１０〜１５μｍの厚さの
マスク形成材層２６を形成する。続いて該マスク形成材
層２６上に５ｉ０２膜からなるマスクパターン（図示せ
ず）を形成し、該マスクパターンをマスクにして、前記
マスク形成材層２６を酸素（０２）雰囲気中で反応性イ
オンエンチングを行い、第４図に示すように所定パター
ンにバターニングする。この反応性イオンエツチングは
サイドエツチングが非常に少ないため、形成されたパタ
ーン精度が極めて良好であり本実施例におけるマスク形
成材層２６のバターニングにおいても、前記基板２１面
に対して垂直な側面２６ａを有する所定パターンを形成
することができる。
方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である。まず
第３図に示すように例えばフェライト等の磁性基板２１
上に、蒸着、スパフタリング、或いはメッキなどの薄膜
形成技法とフォトリソグラフィを用いて図示の如（５ｉ
０２等からなる第１の絶縁層２２を介在して、銅（Ｃｕ
）からなる薄膜コイル２３及び該薄膜コイル２３の中心
部にパーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ）などの強磁性体からなる
ヨーク層２４を順に被着形成し、更にその薄膜コイル２
３上に第２の絶縁層２５を被覆する。次に該絶縁層２５
及びヨーク層２４上に例えばポリイミド樹脂などの樹脂
材を塗着してから熱硬化させて１０〜１５μｍの厚さの
マスク形成材層２６を形成する。続いて該マスク形成材
層２６上に５ｉ０２膜からなるマスクパターン（図示せ
ず）を形成し、該マスクパターンをマスクにして、前記
マスク形成材層２６を酸素（０２）雰囲気中で反応性イ
オンエンチングを行い、第４図に示すように所定パター
ンにバターニングする。この反応性イオンエツチングは
サイドエツチングが非常に少ないため、形成されたパタ
ーン精度が極めて良好であり本実施例におけるマスク形
成材層２６のバターニングにおいても、前記基板２１面
に対して垂直な側面２６ａを有する所定パターンを形成
することができる。
次に第５図に示すように、露出された前記第２の絶縁層
２５及びヨーク層２４上からパターニングされたマスク
形成材Ｎ２６上にパーマロイ （Ｎｉ−Ｆｅ）、或いは
アモルファスＣｏ−Ｚｒなとの高飽和磁束密度と高透磁
率を有する所定の厚さの強磁性体薄１！ｔｉ２７を蒸着
、スパッタリング、或いはメッキ等により被着させる。
２５及びヨーク層２４上からパターニングされたマスク
形成材Ｎ２６上にパーマロイ （Ｎｉ−Ｆｅ）、或いは
アモルファスＣｏ−Ｚｒなとの高飽和磁束密度と高透磁
率を有する所定の厚さの強磁性体薄１！ｔｉ２７を蒸着
、スパッタリング、或いはメッキ等により被着させる。
しかる後、第６図に示すように該強磁性体薄膜２７を、
例えば前記マスク形成材Ｎ２６の垂直な側面２６ａに被
着している強磁性体薄膜２７部分が影になるような図中
矢印へで示す方向からイオンエツチングを行う。この時
、例えばアルゴン（＾ｒ）イオンが照射された部分のみ
がエツチングされるため、照射方向に対して影となって
いる前記マスク形成材層２６の垂直な側面２６ａに被着
している強磁性体薄膜２７部分は、エツチング除去され
ずに残置する。引続き前記マスク形成材ｊｔｉ２６のみ
を酸素（０２）プラズマ等によるエツチングによって除
去することにより第７図に示すように主磁極２８を形成
する。
例えば前記マスク形成材Ｎ２６の垂直な側面２６ａに被
着している強磁性体薄膜２７部分が影になるような図中
矢印へで示す方向からイオンエツチングを行う。この時
、例えばアルゴン（＾ｒ）イオンが照射された部分のみ
がエツチングされるため、照射方向に対して影となって
いる前記マスク形成材層２６の垂直な側面２６ａに被着
している強磁性体薄膜２７部分は、エツチング除去され
ずに残置する。引続き前記マスク形成材ｊｔｉ２６のみ
を酸素（０２）プラズマ等によるエツチングによって除
去することにより第７図に示すように主磁極２８を形成
する。
次に上記主磁極２８を含む基板２１上の第２の絶縁層２
５及びヨーク層２４上の全面に、例えば５ｉ０２、或い
はＡＱ２０８等からなる硬い無機絶縁物を蒸着、又はス
パッタリングなどにより被着して第８図に示すように絶
縁性保護膜２９を形成すると共に、第９図に示すように
上記保護１ｉｉｉｉ２９を平坦に研磨仕上げして主磁極
２８の先端が露出した媒体対向面３０を形成する。従っ
て、従来のような接着工程を用いることなく、薄膜コイ
ル２３の中心部に垂直な主磁極２８と、該主磁極２８を
保護する絶縁性保護層２９とを一体に形成することがで
き、信頼性の高い垂直磁気記録再生用の薄膜磁気ヘッド
を得ることが可能となる。
５及びヨーク層２４上の全面に、例えば５ｉ０２、或い
はＡＱ２０８等からなる硬い無機絶縁物を蒸着、又はス
パッタリングなどにより被着して第８図に示すように絶
縁性保護膜２９を形成すると共に、第９図に示すように
上記保護１ｉｉｉｉ２９を平坦に研磨仕上げして主磁極
２８の先端が露出した媒体対向面３０を形成する。従っ
て、従来のような接着工程を用いることなく、薄膜コイ
ル２３の中心部に垂直な主磁極２８と、該主磁極２８を
保護する絶縁性保護層２９とを一体に形成することがで
き、信頼性の高い垂直磁気記録再生用の薄膜磁気ヘッド
を得ることが可能となる。
（ｇｌ 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法によれば、接着工程を用いることなく
、磁性基板上の薄膜コイルの中心部に垂直な主磁極と、
該主磁極を保護する絶縁性保護層とを薄膜形成技法とフ
ォトリソグラフィにより一体に形成することができるの
で、製造工程において主磁極の位置ずれ、磁気特性の劣
化等が生ずることなく信頼性の高い垂直磁気記録再生用
の薄膜磁気ヘッドを容易に得ることができる優れた利点
を有する。
ヘッドの製造方法によれば、接着工程を用いることなく
、磁性基板上の薄膜コイルの中心部に垂直な主磁極と、
該主磁極を保護する絶縁性保護層とを薄膜形成技法とフ
ォトリソグラフィにより一体に形成することができるの
で、製造工程において主磁極の位置ずれ、磁気特性の劣
化等が生ずることなく信頼性の高い垂直磁気記録再生用
の薄膜磁気ヘッドを容易に得ることができる優れた利点
を有する。
第１図及び第２図は従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を
説明するための要部断面図、第３図乃至第９図は本発明
に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実施例を工程順に
示す要部断面図である。 図面において、２１は磁性基板、２２は第１の絶縁層、
２３は薄膜コイル、２４ばヨーク層、２５は第２の絶縁
層、２６はマスク形成材層、２６ａは垂直な僧１面、２
７は強磁性体薄膜、２８は主磁極、２９は絶縁性保護膜
、３０は媒体対向面を示す。 第 １１ 第 ５ 閃 第６図 第 ７図 第 ８閏
説明するための要部断面図、第３図乃至第９図は本発明
に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実施例を工程順に
示す要部断面図である。 図面において、２１は磁性基板、２２は第１の絶縁層、
２３は薄膜コイル、２４ばヨーク層、２５は第２の絶縁
層、２６はマスク形成材層、２６ａは垂直な僧１面、２
７は強磁性体薄膜、２８は主磁極、２９は絶縁性保護膜
、３０は媒体対向面を示す。 第 １１ 第 ５ 閃 第６図 第 ７図 第 ８閏
Claims (1)
- 磁性基板上に絶縁層を介して薄膜コイルと、該薄膜コイ
ルの中心部に強磁性体であるヨーク層を順次被着形成し
た後、該薄膜コイル及びヨーク層上に、マスク形成材層
を前記基板面に対して垂直な面を有する所定パターンに
被着形成する工程と、該マスク形成ＪｆＡ層の所定パタ
ーン上に強磁性体層を被着して所定パターン形状にパタ
ーニングした後、前記マスク形成材層を除去して主磁極
を形成する工程とを行い、前記主磁極を含む薄膜コイル
及び強磁性体のヨーク層上に絶縁性保護膜を被着形成す
ることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22040583A JPS60111313A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22040583A JPS60111313A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60111313A true JPS60111313A (ja) | 1985-06-17 |
Family
ID=16750597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22040583A Pending JPS60111313A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60111313A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60179916A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-09-13 | コミツサリア ア レネルジイ アトミツク | 垂直記録用の録再磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH0210508A (ja) * | 1988-03-09 | 1990-01-16 | Digital Equip Corp <Dec> | 磁気記録用の磁極を製造する方法 |
-
1983
- 1983-11-21 JP JP22040583A patent/JPS60111313A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60179916A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-09-13 | コミツサリア ア レネルジイ アトミツク | 垂直記録用の録再磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH0210508A (ja) * | 1988-03-09 | 1990-01-16 | Digital Equip Corp <Dec> | 磁気記録用の磁極を製造する方法 |
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