JPH03241511A - 垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法 - Google Patents
垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH03241511A JPH03241511A JP3923290A JP3923290A JPH03241511A JP H03241511 A JPH03241511 A JP H03241511A JP 3923290 A JP3923290 A JP 3923290A JP 3923290 A JP3923290 A JP 3923290A JP H03241511 A JPH03241511 A JP H03241511A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- shielding
- thin film
- layer
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 15
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 15
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 210000004709 eyebrow Anatomy 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
磁気ディスク装置等に用いられる記録・再生用の垂直磁
気薄膜ヘッドの製造方法、特に外部漏洩磁界の影響を受
は難い垂直磁気薄膜へノドの製造方法に関し、 加工保護層上及び接続溝内に露出する磁性基板面に対し
て、接着材を用いずにシールド用磁性部材を配設するよ
うにして、接着材を用いることに起因する問題点を排除
した信頼性の良い垂直磁気薄膜ヘッドを得ることを目的
とし、 磁性基板上の絶縁材が埋設された磁極配設面に、層間絶
縁層で挟まれた薄膜コイルを介して主磁極をその後端部
が該磁性基板面上に磁気的に接続するように形成し、核
上磁極上に更に加工保護層を介してシールド用磁性部材
をその後端部が該磁性基板面上に磁気的に接続するよう
に形成してなる垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法であって
、前記主磁極上に加工保護層を形威し、かつ表面を平坦
化した後、該加工保護層と磁性基板の前記薄膜コイルの
後方部と対応する位置の一部に接続溝を形成する工程と
、前記平坦化した加工保護層上から接続溝内に対してマ
スクめっき法によりシールド用磁性部材として軟磁性層
を形成する工程とを含みｌｌｌ１する。
気薄膜ヘッドの製造方法、特に外部漏洩磁界の影響を受
は難い垂直磁気薄膜へノドの製造方法に関し、 加工保護層上及び接続溝内に露出する磁性基板面に対し
て、接着材を用いずにシールド用磁性部材を配設するよ
うにして、接着材を用いることに起因する問題点を排除
した信頼性の良い垂直磁気薄膜ヘッドを得ることを目的
とし、 磁性基板上の絶縁材が埋設された磁極配設面に、層間絶
縁層で挟まれた薄膜コイルを介して主磁極をその後端部
が該磁性基板面上に磁気的に接続するように形成し、核
上磁極上に更に加工保護層を介してシールド用磁性部材
をその後端部が該磁性基板面上に磁気的に接続するよう
に形成してなる垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法であって
、前記主磁極上に加工保護層を形威し、かつ表面を平坦
化した後、該加工保護層と磁性基板の前記薄膜コイルの
後方部と対応する位置の一部に接続溝を形成する工程と
、前記平坦化した加工保護層上から接続溝内に対してマ
スクめっき法によりシールド用磁性部材として軟磁性層
を形成する工程とを含みｌｌｌ１する。
本発明は磁気ディスク装置等に用いられる記録・再生用
の垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法に係り、特に外部漏洩
磁界の影響を防止した垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法に
関するものである。
の垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法に係り、特に外部漏洩
磁界の影響を防止した垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法に
関するものである。
近来、コンピュータシステムにおける代表的な外部記憶
装置である磁気ディスク装置では、急速に進めら°れて
いる小型、大容量化に伴い、従来より一般に用いられて
いる水平磁気記録方式に比べて高記録密度化が可能な垂
直磁気記録方式が大容量化のための記録方式として有望
視され、垂直磁気記録・再生用の薄膜ヘッドが開発され
ている。
装置である磁気ディスク装置では、急速に進めら°れて
いる小型、大容量化に伴い、従来より一般に用いられて
いる水平磁気記録方式に比べて高記録密度化が可能な垂
直磁気記録方式が大容量化のための記録方式として有望
視され、垂直磁気記録・再生用の薄膜ヘッドが開発され
ている。
この垂直磁気記録・再生用の薄膜ヘッドは、例えば高透
磁率な軟磁性層上に垂直異方性を有する垂直記録層が形
成された二層膜構造の垂直磁気記録媒体と組み合わせ、
該媒体面に対して垂直方向に情報を磁化することによっ
て高密度記録を実現している。
磁率な軟磁性層上に垂直異方性を有する垂直記録層が形
成された二層膜構造の垂直磁気記録媒体と組み合わせ、
該媒体面に対して垂直方向に情報を磁化することによっ
て高密度記録を実現している。
しかしながら、そのような垂直磁気記録方式は外部から
の漏洩磁界の影響を受は易い構成からなるため、外部漏
洩磁界が集中した磁気ヘッドの主磁極が異常に磁化され
て対向する記録媒体の既に記録された磁化情報を部分的
に減磁、或いは消磁するといった１頃向力くある。この
ため、そのような外部漏洩磁界の影響を防止した垂直磁
気薄膜ヘッドを容易に実現できる製造方法を必要として
いる。
の漏洩磁界の影響を受は易い構成からなるため、外部漏
洩磁界が集中した磁気ヘッドの主磁極が異常に磁化され
て対向する記録媒体の既に記録された磁化情報を部分的
に減磁、或いは消磁するといった１頃向力くある。この
ため、そのような外部漏洩磁界の影響を防止した垂直磁
気薄膜ヘッドを容易に実現できる製造方法を必要として
いる。
従来の垂直磁気薄膜ヘッドは第２図（ａｌに示すように
、スライダとなるＭｎ−Ｚｎ、 Ｎｉ−Ｚｎなどのフェ
ライトからなる磁性基板１１の主磁極形成領域を数十μ
ｍ程度削除し、該削除部分に低融点ガラス等の非磁性絶
縁材１２を加熱溶融などにより埋込んでその基板面を平
坦化した後、該非磁性絶縁材１２の埋設領域上に、図示
の如く熱硬化性樹脂材等からなる第一層間絶縁層１３を
介して渦巻状等の薄膜コイル１４と、その上面に第二層
間絶縁層１５を順次積層形威し、更にその表面にＮｉ−
Ｆｅ合金等からなる記録再生用の主磁極１６を、その先
端部１６ａは前記非磁性絶縁材１２の埋設領域上に延在
し、後端部１６ｂは薄膜コイル１４の中心にて前記磁性
基板１１と接続するように形成する。
、スライダとなるＭｎ−Ｚｎ、 Ｎｉ−Ｚｎなどのフェ
ライトからなる磁性基板１１の主磁極形成領域を数十μ
ｍ程度削除し、該削除部分に低融点ガラス等の非磁性絶
縁材１２を加熱溶融などにより埋込んでその基板面を平
坦化した後、該非磁性絶縁材１２の埋設領域上に、図示
の如く熱硬化性樹脂材等からなる第一層間絶縁層１３を
介して渦巻状等の薄膜コイル１４と、その上面に第二層
間絶縁層１５を順次積層形威し、更にその表面にＮｉ−
Ｆｅ合金等からなる記録再生用の主磁極１６を、その先
端部１６ａは前記非磁性絶縁材１２の埋設領域上に延在
し、後端部１６ｂは薄膜コイル１４の中心にて前記磁性
基板１１と接続するように形成する。
そして第２図山）に示すように前記主磁極１６上にＡ
１２０．などからなる厚い加工保護層１７を被着し、か
つ表面を平坦化した後、該加工保護Ｆｉ１７と磁性基Ｖ
ｉｌｌの前記薄膜コイル１４の後方部と対応する位置に
図示のように接続溝１８を機械的な研削加工により形成
する。
１２０．などからなる厚い加工保護層１７を被着し、か
つ表面を平坦化した後、該加工保護Ｆｉ１７と磁性基Ｖ
ｉｌｌの前記薄膜コイル１４の後方部と対応する位置に
図示のように接続溝１８を機械的な研削加工により形成
する。
次に第２図（Ｃ１に示すように前記加工保護層１７上及
び接続溝１８に対して、前記主磁極１６上を覆う面積を
有する１０μ−程度の厚さのＭｎ −Ｚｎなどの軟磁性
フェライト材からなるシールド用磁性部材１９を、磁性
基板１１と磁気的に接続するように低融点ガラス、また
はエポキシ樹脂等の接着材２０により接着配置した後、
かかる積層状のヘッド構成基板を、前記主磁極先端部１
６ａの不要長さ部分と共に図示した一点鎖線Ａに沿って
切除し、その切除面を媒体対向面２１とするスライダ形
状に研磨加工仕上げすることにより第２図（ｄ）に示す
垂直磁気薄膜ヘッドを構成している。
び接続溝１８に対して、前記主磁極１６上を覆う面積を
有する１０μ−程度の厚さのＭｎ −Ｚｎなどの軟磁性
フェライト材からなるシールド用磁性部材１９を、磁性
基板１１と磁気的に接続するように低融点ガラス、また
はエポキシ樹脂等の接着材２０により接着配置した後、
かかる積層状のヘッド構成基板を、前記主磁極先端部１
６ａの不要長さ部分と共に図示した一点鎖線Ａに沿って
切除し、その切除面を媒体対向面２１とするスライダ形
状に研磨加工仕上げすることにより第２図（ｄ）に示す
垂直磁気薄膜ヘッドを構成している。
そしてかかる薄膜ヘッドはディスク基板上に高透磁率な
軟磁性層を介して垂直記録層が積層された二層膜構造の
垂直磁気記録媒体と組み合わせることにより、該薄膜へ
ノドの主磁極１６と垂直磁気記録媒体の軟磁性層及び磁
性基板１１とで記録・再生に係わる磁束に対する閉ルー
プを形威し記録・再生効率を高めると共に、前記シール
ド用磁性部材１９により主磁極工６に対する外部漏洩磁
界の集中をシールドしている。− 〔発明が解決しようとする課題〕 ところで上記した従来の垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法
では、前記シールド用磁性部材１９を前記加工保護層１
７上及び接続溝１８内に露出する磁性基板面に対して低
融点ガラス、またはエポキシ樹脂等の接着材２０により
接着配置しており、例えば該シールド用磁性部材１９を
低融点ガラスにより接着する場合には、５００°Ｃ程度
の加熱処理を必要するため、この加熱処理により既に形
成されているＮｉ−Ｆｅ合金等からなる記録再生用の主
磁極１６の磁気特性が劣化するという問題があった。ま
た、該シールド用磁性部材１９をエポキシ樹脂の接着材
により接着した場合には、その後の環境湿度等により該
接着材が膨潤するため、その膨潤や膨潤による接着材の
滲み出し等により、前記シールド用磁性部材１９に位置
ずれが生して構造上の信頼性が低下するといった欠点が
あった。
軟磁性層を介して垂直記録層が積層された二層膜構造の
垂直磁気記録媒体と組み合わせることにより、該薄膜へ
ノドの主磁極１６と垂直磁気記録媒体の軟磁性層及び磁
性基板１１とで記録・再生に係わる磁束に対する閉ルー
プを形威し記録・再生効率を高めると共に、前記シール
ド用磁性部材１９により主磁極工６に対する外部漏洩磁
界の集中をシールドしている。− 〔発明が解決しようとする課題〕 ところで上記した従来の垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法
では、前記シールド用磁性部材１９を前記加工保護層１
７上及び接続溝１８内に露出する磁性基板面に対して低
融点ガラス、またはエポキシ樹脂等の接着材２０により
接着配置しており、例えば該シールド用磁性部材１９を
低融点ガラスにより接着する場合には、５００°Ｃ程度
の加熱処理を必要するため、この加熱処理により既に形
成されているＮｉ−Ｆｅ合金等からなる記録再生用の主
磁極１６の磁気特性が劣化するという問題があった。ま
た、該シールド用磁性部材１９をエポキシ樹脂の接着材
により接着した場合には、その後の環境湿度等により該
接着材が膨潤するため、その膨潤や膨潤による接着材の
滲み出し等により、前記シールド用磁性部材１９に位置
ずれが生して構造上の信頼性が低下するといった欠点が
あった。
本発明は上記した従来の問題点に鑑み、加工保護層上及
び接続溝内に露出する磁性基板面に対して、接着材を用
いずにシールド用磁性部材を配設するようにして、接着
材を用いることに起因する問題点を排除した信頼性の良
い垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法を提供することを目的
とするものである。
び接続溝内に露出する磁性基板面に対して、接着材を用
いずにシールド用磁性部材を配設するようにして、接着
材を用いることに起因する問題点を排除した信頼性の良
い垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法を提供することを目的
とするものである。
本発明は上記した目的を達成するため、磁性基板上の絶
縁材が埋設された磁極配設面に、眉間絶縁層で挟まれた
薄膜コイルを介して主磁極をその後端部が該磁性基板面
上に磁気的に接続するように形成し、該主磁極上に更に
加工保護層を介してシールド用軟磁性部材をその後端部
力Ｉ亥磁性基板面上に磁気的に接続するように形成して
なる垂直磁気薄膜へノドの製造方法であって、前記主磁
極上に加工保護層を形成し、かつ表面を平坦化した後、
該加工保護層と磁性基板の前記薄膜コイルの後方部と対
応する位置の一部に接続溝を形成する工程と、前記平坦
化した加工保護層上から接続溝内に対してマスクめっき
法によりシールド用磁性部材として軟磁性層を形成する
工程とを含み構成する。
縁材が埋設された磁極配設面に、眉間絶縁層で挟まれた
薄膜コイルを介して主磁極をその後端部が該磁性基板面
上に磁気的に接続するように形成し、該主磁極上に更に
加工保護層を介してシールド用軟磁性部材をその後端部
力Ｉ亥磁性基板面上に磁気的に接続するように形成して
なる垂直磁気薄膜へノドの製造方法であって、前記主磁
極上に加工保護層を形成し、かつ表面を平坦化した後、
該加工保護層と磁性基板の前記薄膜コイルの後方部と対
応する位置の一部に接続溝を形成する工程と、前記平坦
化した加工保護層上から接続溝内に対してマスクめっき
法によりシールド用磁性部材として軟磁性層を形成する
工程とを含み構成する。
本発明の製造方法では、平坦化した加工保護層上から接
続溝内に対してシールド用磁性部材としてＮ１−Ｆｅな
どからなる軟磁性層をマスクめっき法により形成してい
るため、接着材を用いた接着工程を必要としないので、
従来の如き接着材を用いることに起因する問題点の発生
が解消され、信頼性の良い磁気シールド付きの垂直磁気
薄膜ヘッドを得ることができる。
続溝内に対してシールド用磁性部材としてＮ１−Ｆｅな
どからなる軟磁性層をマスクめっき法により形成してい
るため、接着材を用いた接着工程を必要としないので、
従来の如き接着材を用いることに起因する問題点の発生
が解消され、信頼性の良い磁気シールド付きの垂直磁気
薄膜ヘッドを得ることができる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図（ａｌ〜（ｄ＋は本発明に係る垂直磁気薄膜へノ
ドの製造方法の一実施例を工程順に示す要部断面図であ
る。
ドの製造方法の一実施例を工程順に示す要部断面図であ
る。
第１図（ａｌに示すように、スライダとなるＭｎ−Ｚｎ
。
。
Ｎｉ−Ｚｎなどのフェライトからなる磁性基Ｆｉｌｌの
主磁極形成領域を機械的な研削加工等により数十μｍ程
度削除し、該削除部分に低融点ガラス等の非磁性絶縁材
１２を加熱溶融などにより埋込んでその基板面を平坦化
した後、その埋設領域上に、図示の如く熱硬化性樹脂材
等からなる第一層間絶縁Ｊｉｉ１３を介して渦巻状等の
薄膜コイルＩ４と第二層間絶縁層１５を順次積層形威し
、その表面に更にＮｉ−Ｆｅ合金等からなる記録再生用
の主磁極１６を、その先端部１６ａは前記埋設した非磁
性絶縁材１２面上に延在し、後端部１６ｂを薄膜コイル
１４の中心にて前記磁性基Ｗ！、１１と接続するように
スパッタリング法とフォトリソグラフィ工程により形成
する。
主磁極形成領域を機械的な研削加工等により数十μｍ程
度削除し、該削除部分に低融点ガラス等の非磁性絶縁材
１２を加熱溶融などにより埋込んでその基板面を平坦化
した後、その埋設領域上に、図示の如く熱硬化性樹脂材
等からなる第一層間絶縁Ｊｉｉ１３を介して渦巻状等の
薄膜コイルＩ４と第二層間絶縁層１５を順次積層形威し
、その表面に更にＮｉ−Ｆｅ合金等からなる記録再生用
の主磁極１６を、その先端部１６ａは前記埋設した非磁
性絶縁材１２面上に延在し、後端部１６ｂを薄膜コイル
１４の中心にて前記磁性基Ｗ！、１１と接続するように
スパッタリング法とフォトリソグラフィ工程により形成
する。
次に第１図（ｂｌに示すように前記主磁極１６が形成さ
れた磁性基板１１上に、スパッタリング法等により４０
μｍ程度の膜厚のＡ Ａ ２０３などからなる加工保護
１ｉ１７を被着し、かつ表面を平坦に研磨仕上げする。
れた磁性基板１１上に、スパッタリング法等により４０
μｍ程度の膜厚のＡ Ａ ２０３などからなる加工保護
１ｉ１７を被着し、かつ表面を平坦に研磨仕上げする。
ここまでの工程は従来の製造工程と同様である。
その後、かかる加工保護層１７と磁性基板１１の前記薄
膜コイル１４の後方部と対応する位置の一部に図示のよ
うに壁面が傾斜した接続溝３１を機械的な研削加工によ
り形成し、該加工保護層１７上から接Ｍ ａ３１内に対
してスパッタリング法、または真空舊着法等により５０
０人程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなるめっき下地導電膜
３２を被着形成する。
膜コイル１４の後方部と対応する位置の一部に図示のよ
うに壁面が傾斜した接続溝３１を機械的な研削加工によ
り形成し、該加工保護層１７上から接Ｍ ａ３１内に対
してスパッタリング法、または真空舊着法等により５０
０人程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなるめっき下地導電膜
３２を被着形成する。
次に第２図（Ｃ１に示すように前記加工保護層１７面か
ら接続溝内のめっき下地導電膜３２上に対して、マスク
めっき法により前記主磁極１６上を覆うパターン形状を
有する１０μｍ程度の厚さのシールド用磁性部材として
のＮｉ−Ｆｅからなる軟磁性層３３を形成した後、該シ
ールド用軟磁性層３３より露出する前記めっき下地導電
膜３２部分をドライエツチング等により除去し、その除
去した加工保護層１７面及びシールド用軟磁性層３３上
にＡｌ２Ｏ３などからなる厚い絶縁保護膜３４をスパッ
タリング法等により被着する。
ら接続溝内のめっき下地導電膜３２上に対して、マスク
めっき法により前記主磁極１６上を覆うパターン形状を
有する１０μｍ程度の厚さのシールド用磁性部材として
のＮｉ−Ｆｅからなる軟磁性層３３を形成した後、該シ
ールド用軟磁性層３３より露出する前記めっき下地導電
膜３２部分をドライエツチング等により除去し、その除
去した加工保護層１７面及びシールド用軟磁性層３３上
にＡｌ２Ｏ３などからなる厚い絶縁保護膜３４をスパッ
タリング法等により被着する。
そしてかかる積層状のヘッド構成基板を、前記主磁極先
端部１６ａの不要長さ部分と共に図示した一点鎖線Ｂに
沿って切除し、その切除面を媒体対向面３５とするスラ
イダ形状に研磨加工仕上げすることにより第１図（ｄ）
に示す構成の垂直磁気薄膜ヘッドを完成させる。
端部１６ａの不要長さ部分と共に図示した一点鎖線Ｂに
沿って切除し、その切除面を媒体対向面３５とするスラ
イダ形状に研磨加工仕上げすることにより第１図（ｄ）
に示す構成の垂直磁気薄膜ヘッドを完成させる。
このような方法により得られた垂直磁気薄膜ヘッドでは
、平坦化された加工保護層１７上及び接続溝３１内に対
してシールド用軟磁性層３３を接着材を用いずに形成し
ているので、従来の如き接着工程における主磁極の磁気
特性の劣化やシールド用磁性部材の位置ずれ等の問題発
生が解消し、信頼性が向上する。
、平坦化された加工保護層１７上及び接続溝３１内に対
してシールド用軟磁性層３３を接着材を用いずに形成し
ているので、従来の如き接着工程における主磁極の磁気
特性の劣化やシールド用磁性部材の位置ずれ等の問題発
生が解消し、信頼性が向上する。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る垂直磁気
薄膜ヘッドの製造方法によれば、シールド用軟磁性層の
配設工程に接着材を用いないため、接着に起因する主磁
極の磁気特性の劣化やシールド用磁性部材の位置ずれ等
の問題発生が解消されるので、信頼性の高い垂直磁気薄
膜ヘッドを容易に得ることができる等、実用上優れた効
果を奏する。
薄膜ヘッドの製造方法によれば、シールド用軟磁性層の
配設工程に接着材を用いないため、接着に起因する主磁
極の磁気特性の劣化やシールド用磁性部材の位置ずれ等
の問題発生が解消されるので、信頼性の高い垂直磁気薄
膜ヘッドを容易に得ることができる等、実用上優れた効
果を奏する。
第１図（ａｌ〜（ｄｌは本発明に係る垂直磁気薄膜ヘッ
ドの製造方法の一実施例を工程順に示 す要部断面図、 第２図＋ａ）〜（ｄｉは従来の垂直磁気薄膜ヘッドの製
造方法を工程順に説明するための要部 断面図である。 第１図（ａ）〜（ｄｌにおいて、 １１は磁性基板、１２は非磁性絶縁材、１３は第一層間
絶縁層、１４は薄膜コイル、１５は第二層間絶縁層、１
６は主磁極、１７は加工保護層、３１は接続溝、３２は
めっき下地導電膜、３３はシールド用軟磁性層、３４は
絶縁保護膜、３５は媒体対向面をそれぞれ示す。
ドの製造方法の一実施例を工程順に示 す要部断面図、 第２図＋ａ）〜（ｄｉは従来の垂直磁気薄膜ヘッドの製
造方法を工程順に説明するための要部 断面図である。 第１図（ａ）〜（ｄｌにおいて、 １１は磁性基板、１２は非磁性絶縁材、１３は第一層間
絶縁層、１４は薄膜コイル、１５は第二層間絶縁層、１
６は主磁極、１７は加工保護層、３１は接続溝、３２は
めっき下地導電膜、３３はシールド用軟磁性層、３４は
絶縁保護膜、３５は媒体対向面をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 磁性基板（１１）上の絶縁材（１２）が埋設された磁
極配設面に、層間絶縁層（１３、１５）で挟まれた薄膜
コイル（１４）を介して主磁極（１６）をその後端部（
１６ｂ）が該磁性基板（１１）面上に磁気的に接続する
ように形成し、該主磁極（１６）上に更に加工保護層（
１７）を介してシールド用磁性部材をその後端部が該磁
性基板（１１）面上に磁気的に接続するように形成して
なる垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法であって、前記主磁
極（１６）上に加工保護層（１７）を形成し、かつ表面
を平坦化した後、該加工保護層（１７）と磁性基板（１
１）の前記薄膜コイル（１４）の後方部と対応する位置
の一部に接続溝（３１）を形成する工程と、前記平坦化
した加工保護層（１７）上から接続溝（３１）内に対し
てマスクめっき法によりシールド用磁性部材として軟磁
性層（３３）を形成する工程とを含むことを特徴とする
垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3923290A JPH03241511A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3923290A JPH03241511A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03241511A true JPH03241511A (ja) | 1991-10-28 |
Family
ID=12547384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3923290A Pending JPH03241511A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03241511A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7120988B2 (en) | 2003-09-26 | 2006-10-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for forming a write head having air bearing surface (ABS) |
| US7296337B2 (en) | 2004-05-25 | 2007-11-20 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Notched trailing shield for perpendicular write head |
| US7377024B2 (en) | 2005-03-25 | 2008-05-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method of making a magnetic write head with trailing shield throat pad |
| US7748104B2 (en) | 2006-04-25 | 2010-07-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Structure and method for reduced corrosion of auxiliary poles during the fabrication of perpendicular write heads |
-
1990
- 1990-02-19 JP JP3923290A patent/JPH03241511A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7120988B2 (en) | 2003-09-26 | 2006-10-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for forming a write head having air bearing surface (ABS) |
| US7296337B2 (en) | 2004-05-25 | 2007-11-20 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Notched trailing shield for perpendicular write head |
| US7377024B2 (en) | 2005-03-25 | 2008-05-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method of making a magnetic write head with trailing shield throat pad |
| US7748104B2 (en) | 2006-04-25 | 2010-07-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Structure and method for reduced corrosion of auxiliary poles during the fabrication of perpendicular write heads |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6385009B2 (en) | Thin film magnetic head and assembled construction thereof | |
| US6151193A (en) | Thin film magnetic head | |
| JPH0668422A (ja) | 高密度薄膜記録ヘッドの磁極構造 | |
| JPH04366411A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP3394266B2 (ja) | 磁気書込／読取ヘッドの製造方法 | |
| Bajorek et al. | An integrated magnetoresistive read, inductive write high density recording head | |
| JPH03209609A (ja) | 垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法 | |
| JPH03241511A (ja) | 垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法 | |
| JPS59195311A (ja) | 垂直磁気ヘツド | |
| JPS62200517A (ja) | 垂直磁気記録用磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| WO2004003892A1 (ja) | 薄膜磁気ヘッド、およびその製造方法 | |
| JP2707758B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0417105A (ja) | 垂直薄膜磁気ヘッド | |
| JP2707760B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3191390B2 (ja) | 浮上型磁気ヘッド装置 | |
| JPH044642B2 (ja) | ||
| JPH03252909A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 | |
| JP2720097B2 (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド | |
| JPS60157710A (ja) | 垂直記録用単磁極型磁気ヘツド | |
| JPS5853018A (ja) | 磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH03252906A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド | |
| JP3510165B2 (ja) | ヨーク型ｍｒ読み取り磁気ヘッドおよびその製造方法並びに磁気記録再生装置 | |
| JPH03147507A (ja) | 垂直磁気薄膜ヘッドとその製造方法 | |
| JPH04134610A (ja) | 垂直記録用薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH0317807A (ja) | 垂直記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法 |