JPS5885916A - 薄膜磁気ヘツドおよびその製造法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドおよびその製造法Info
- Publication number
- JPS5885916A JPS5885916A JP18400381A JP18400381A JPS5885916A JP S5885916 A JPS5885916 A JP S5885916A JP 18400381 A JP18400381 A JP 18400381A JP 18400381 A JP18400381 A JP 18400381A JP S5885916 A JPS5885916 A JP S5885916A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- closed
- substrate
- winding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体に磁気ヘッドにより情報を記録
し、該情報を光学的手段によって再生するようにしたい
わゆる磁気記録−光再生方式に使用する磁気ヘッドに係
り、特に記録用狭トラツク幅の薄膜磁気ヘッドおよびそ
の製造法に関する。
し、該情報を光学的手段によって再生するようにしたい
わゆる磁気記録−光再生方式に使用する磁気ヘッドに係
り、特に記録用狭トラツク幅の薄膜磁気ヘッドおよびそ
の製造法に関する。
従来からの磁気記録媒体に磁気ヘッドを用いてディジタ
ル情報を記録し、、また該情報を再生するようになした
方式においては、該方式における記録面密度を、光オー
ディオディスクく光ビデオディスクなどの光学的方法に
よる再生、あるいは光磁気記録などの光学的方法による
記録・再生の場合において実現可能な記録面密度程度に
することは、極めて困難である。これは、従来がらの磁
気記録媒体の長手方向での記録方式においてはいうまで
もなく、近年注目をあびている垂直磁気記録方式におい
ても同様である。上記した記録面密度を向上させること
が困難である理由は、磁気ヘッドによる再生においては
トラック幅を極めて小さくすることが、信号対雑音比（
Ｓ／Ｎ）の観点から無理であることが主たる理由である
。
ル情報を記録し、、また該情報を再生するようになした
方式においては、該方式における記録面密度を、光オー
ディオディスクく光ビデオディスクなどの光学的方法に
よる再生、あるいは光磁気記録などの光学的方法による
記録・再生の場合において実現可能な記録面密度程度に
することは、極めて困難である。これは、従来がらの磁
気記録媒体の長手方向での記録方式においてはいうまで
もなく、近年注目をあびている垂直磁気記録方式におい
ても同様である。上記した記録面密度を向上させること
が困難である理由は、磁気ヘッドによる再生においては
トラック幅を極めて小さくすることが、信号対雑音比（
Ｓ／Ｎ）の観点から無理であることが主たる理由である
。
磁気記録媒体に高面密度に磁気記録された情報を感度よ
く再生する方法として、該磁気記録された情報を、ガー
ネット膜あるいはカドリニウム−コバルト非晶質膜など
の垂直磁化膜（転写膜）に転写させ、該転写された情報
を光学的手段により読み出す方法が考えられている。上
記の方法によれば、光のビーム径程度すなわち１μｄ程
度の面積のビット情報を読み出すことが可能である。従
って、上記した方法においては、極めて高い記録面密度
の情報を読み取ることができる。なお、この場合、上記
の転写膜を再生用の磁気ヘッドとしてもよいし、または
磁気記録媒体構造を、記録媒体と転写膜の２層構造とし
てもよい。
く再生する方法として、該磁気記録された情報を、ガー
ネット膜あるいはカドリニウム−コバルト非晶質膜など
の垂直磁化膜（転写膜）に転写させ、該転写された情報
を光学的手段により読み出す方法が考えられている。上
記の方法によれば、光のビーム径程度すなわち１μｄ程
度の面積のビット情報を読み出すことが可能である。従
って、上記した方法においては、極めて高い記録面密度
の情報を読み取ることができる。なお、この場合、上記
の転写膜を再生用の磁気ヘッドとしてもよいし、または
磁気記録媒体構造を、記録媒体と転写膜の２層構造とし
てもよい。
トラック幅の極めて狭い磁気記録を行なうためには、比
較的トラック幅の広い磁気ヘッドを使用して、トラック
幅方向への該磁気ヘッドの送りを遅くし、部分的に重ね
書きする方法で記録すれば可能となる。
較的トラック幅の広い磁気ヘッドを使用して、トラック
幅方向への該磁気ヘッドの送りを遅くし、部分的に重ね
書きする方法で記録すれば可能となる。
しかしこの場合、隣り合うトラックは連続しており、ま
た転写された情報のトラックも連続しているために、光
再生におけるヘッドトラッキングが極めて困難となる。
た転写された情報のトラックも連続しているために、光
再生におけるヘッドトラッキングが極めて困難となる。
これを回避する一つの方法としては、ａ６合うトラｙり
間でアジマス記録を行なう方法である。他の方法として
は、トラック幅の極めて狭い磁気ヘッドを使用して、隣
り合うトラックが連続しないように記録する方法である
。トラック幅は、再生時に用いる光のビーム径程度に狭
くすれば、もつとも記録面密度をあげることができる。
間でアジマス記録を行なう方法である。他の方法として
は、トラック幅の極めて狭い磁気ヘッドを使用して、隣
り合うトラックが連続しないように記録する方法である
。トラック幅は、再生時に用いる光のビーム径程度に狭
くすれば、もつとも記録面密度をあげることができる。
本発明は上記した記録面密度を向上せしめ、光のビーム
径程度の狭いトラック幅を有する薄膜磁気ヘッドおよび
その製造法を提供することを目的とするものであり、特
にコバルト−クロムなどの垂直磁気記録媒体に情報を磁
気記録−し、ガーネットやガドリニウム−コバルトなど
の転写膜に転写された上記の情報を光学的手段により再
生する、いわゆる磁気記録−光再生方式に用いる記録専
用の磁気ヘッドに好適なものである。
径程度の狭いトラック幅を有する薄膜磁気ヘッドおよび
その製造法を提供することを目的とするものであり、特
にコバルト−クロムなどの垂直磁気記録媒体に情報を磁
気記録−し、ガーネットやガドリニウム−コバルトなど
の転写膜に転写された上記の情報を光学的手段により再
生する、いわゆる磁気記録−光再生方式に用いる記録専
用の磁気ヘッドに好適なものである。
本発明の如き狭トラツク幅のリング型の志気ヘッドを、
バルク磁性材料を用いて作製することは極めて困難であ
る。しかし、薄膜技術を導入することにより、作製は容
易となるものである。以正に、本発明による一実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。
バルク磁性材料を用いて作製することは極めて困難であ
る。しかし、薄膜技術を導入することにより、作製は容
易となるものである。以正に、本発明による一実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。
第１図は、通常の薄膜磁気ヘッドの代表的な構造例であ
る。基板１上に垂直な面内で磁気コア２と３により磁気
回路が構成され、コイル４が形成されてなる構造となっ
ている。上記のような構造の場合、トラック幅を１ミク
ロン程度とすることも不可能ではないが、磁性層、絶縁
層および導体層を基板上に積層しなければならないため
、多くの工程数を必要とし不利である。
る。基板１上に垂直な面内で磁気コア２と３により磁気
回路が構成され、コイル４が形成されてなる構造となっ
ている。上記のような構造の場合、トラック幅を１ミク
ロン程度とすることも不可能ではないが、磁性層、絶縁
層および導体層を基板上に積層しなければならないため
、多くの工程数を必要とし不利である。
第２図は、本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示
す図である。非磁性剛体基板５上に、高透磁率磁性薄膜
６からなる磁気回路を構成し、磁気ギャップ７と巻線窓
８を設け、該巻線窓８を介して巻線９を巻装した構造と
なっている。続いて、第３図ならびに第４図を参照しな
がら、上記した第２図に示した構造からなる薄膜磁気ヘ
ッドの製造法について、その工程順を追って説明する。
す図である。非磁性剛体基板５上に、高透磁率磁性薄膜
６からなる磁気回路を構成し、磁気ギャップ７と巻線窓
８を設け、該巻線窓８を介して巻線９を巻装した構造と
なっている。続いて、第３図ならびに第４図を参照しな
がら、上記した第２図に示した構造からなる薄膜磁気ヘ
ッドの製造法について、その工程順を追って説明する。
まず第３図（１）に示すように、非磁性剛体基板５に巻
線窓用の穴８をあける。該非磁性剛体基板５としては、
表面をよく研摩した非磁性フェライト。
線窓用の穴８をあける。該非磁性剛体基板５としては、
表面をよく研摩した非磁性フェライト。
ガラス、アルミナなどが用いられる。次にｗＪ！５．図
（２）に示すように、上記の非磁性剛体基板５上Ｋ。
（２）に示すように、上記の非磁性剛体基板５上Ｋ。
パーマロイ、センダストあるいはアモルファス膜などの
高透磁率磁性薄膜６を、その膜厚が２ミクロン以下にな
るように蒸着法、スパッタ法などにより形成する。なお
、上記の高透磁率磁性薄膜６の膜厚を２ミクロン以上と
すると、後の工程で行なわれるエツチング法によるギャ
ップ形成に際して、トラック幅方向（高透磁率磁性薄膜
６の膜厚方向）におけるギャップ、ｐ−磁性が損なわれ
るので好ましくない。また、上記した膜厚を０．８ミク
ロン以下とすることは、本発明によるヘッドの使用目的
からして好まシ＜ないものである。次いで、第６図（３
）に示すように、エツチング法によりギャップ７の形成
と、閉磁気回路６Ａの外形の形成すなわち高透磁率磁性
薄膜６における不要部分の除去を行なう。なお、この工
程については、第４図（１）〜（５）を参照して説明す
る。
高透磁率磁性薄膜６を、その膜厚が２ミクロン以下にな
るように蒸着法、スパッタ法などにより形成する。なお
、上記の高透磁率磁性薄膜６の膜厚を２ミクロン以上と
すると、後の工程で行なわれるエツチング法によるギャ
ップ形成に際して、トラック幅方向（高透磁率磁性薄膜
６の膜厚方向）におけるギャップ、ｐ−磁性が損なわれ
るので好ましくない。また、上記した膜厚を０．８ミク
ロン以下とすることは、本発明によるヘッドの使用目的
からして好まシ＜ないものである。次いで、第６図（３
）に示すように、エツチング法によりギャップ７の形成
と、閉磁気回路６Ａの外形の形成すなわち高透磁率磁性
薄膜６における不要部分の除去を行なう。なお、この工
程については、第４図（１）〜（５）を参照して説明す
る。
第４図は、第６図（３）におけるギャップ形成部分を正
面から見た場合を断面して示している。なお、ギャップ
部の形成と同時に閉磁気回路６Ａの外形の形成も行なわ
れることは言うまでもない。ｍ４図（１）は、第６図（
２）に示した状態のものに、ホトレジスト１０（″また
は電子線レジスト）をコーティングした状態を示してい
る。第４図（２）は、上記のレジスト１０をホトエツチ
ングまたは電子ビームによシエッチングし、高透磁率磁
性薄膜６を所要の形状忙エツチングするためのマスクパ
ター７を形成するための工程である。この工程において
、上記レジスト１０のギャップ７に相当する部分に開口
部１１が形成されるとともに、該ギャップを有する閉磁
気回路パターンが形成される。第４図（３）は、上記し
たレジスト１ｏをマスクパターンとする高透磁率磁性薄
膜６のエツチング工程であり、該エツチング妃際しては
ケミカルエツチングまたはイオンエツチング法などが用
いられる。なお、同一基板面上に閉磁気回路を構成する
薄膜磁気ヘッドにおいては、本発明の如く磁性薄膜の膜
厚。
面から見た場合を断面して示している。なお、ギャップ
部の形成と同時に閉磁気回路６Ａの外形の形成も行なわ
れることは言うまでもない。ｍ４図（１）は、第６図（
２）に示した状態のものに、ホトレジスト１０（″また
は電子線レジスト）をコーティングした状態を示してい
る。第４図（２）は、上記のレジスト１０をホトエツチ
ングまたは電子ビームによシエッチングし、高透磁率磁
性薄膜６を所要の形状忙エツチングするためのマスクパ
ター７を形成するための工程である。この工程において
、上記レジスト１０のギャップ７に相当する部分に開口
部１１が形成されるとともに、該ギャップを有する閉磁
気回路パターンが形成される。第４図（３）は、上記し
たレジスト１ｏをマスクパターンとする高透磁率磁性薄
膜６のエツチング工程であり、該エツチング妃際しては
ケミカルエツチングまたはイオンエツチング法などが用
いられる。なお、同一基板面上に閉磁気回路を構成する
薄膜磁気ヘッドにおいては、本発明の如く磁性薄膜の膜
厚。
すなわちトラック幅が極めて狭い場合は、エツチング法
によシギャップ形成が可能であるが、上記の膜厚が厚く
なるとトラック幅方向のギャップ長が一様にならずへ１
ミクロン程度の狭いギャップ長のヘッド作製は不可能と
なる。第４図（４）はレジストの除去工程を示しており
、高透磁率磁性薄膜６のエツチング終了後にレジスト１
０が除去されギャップ部７Ａが形成されるとζもに、閉
磁気回路６Ａの外形が形成される。第４図（５）は、石
英などのガラス１２をスパッタ法などによシコーティン
グする工程であシ、先の工程で形成されたギャップ部７
Ａが石英などによ多充填されると同時に、閉磁気回路６
Ａ全面が上記の石英などによシコーティングされる。な
お、上記したエツチング用のマスクパターンとしては、
非磁性金属マスクを用いても可能である。以上の工程で
得られた閉磁気回路６Ａを含む非磁性剛体基板５を切断
し、磁気記録媒体と摺接するギャップ面を研摩して巻線
を巻装することにより％第２図に示したような狭トラツ
ク幅のリング型の薄膜磁気ヘッドを得ることができる。
によシギャップ形成が可能であるが、上記の膜厚が厚く
なるとトラック幅方向のギャップ長が一様にならずへ１
ミクロン程度の狭いギャップ長のヘッド作製は不可能と
なる。第４図（４）はレジストの除去工程を示しており
、高透磁率磁性薄膜６のエツチング終了後にレジスト１
０が除去されギャップ部７Ａが形成されるとζもに、閉
磁気回路６Ａの外形が形成される。第４図（５）は、石
英などのガラス１２をスパッタ法などによシコーティン
グする工程であシ、先の工程で形成されたギャップ部７
Ａが石英などによ多充填されると同時に、閉磁気回路６
Ａ全面が上記の石英などによシコーティングされる。な
お、上記したエツチング用のマスクパターンとしては、
非磁性金属マスクを用いても可能である。以上の工程で
得られた閉磁気回路６Ａを含む非磁性剛体基板５を切断
し、磁気記録媒体と摺接するギャップ面を研摩して巻線
を巻装することにより％第２図に示したような狭トラツ
ク幅のリング型の薄膜磁気ヘッドを得ることができる。
また、同一基板上に同時に多くの閉磁気回路を形成する
ことも可能であり、上記した製造工程により多数の薄膜
磁気ヘッドを得ることもできる。
ことも可能であり、上記した製造工程により多数の薄膜
磁気ヘッドを得ることもできる。
第１図に示した通常の薄膜磁気ヘッドにおいては、磁気
回路を形成した後に熱処理することは容易なことではな
い、そのために、薄膜材料としてはパーマロイやセンダ
ストなどの結晶質材料に限られている。上記した本発明
によれば、磁気回路全体が石英などの保護膜に被覆され
ているために、磁気ギャップを含む閉磁気回路を形成し
た後に、すなわち第４図（５）に示した工程の後に、空
気中において熱処理して磁気特性の改善および熱安定化
処理などが可能であるため、アモルファス篇透磁率薄膜
をヘッド材料として用いることができる、。
回路を形成した後に熱処理することは容易なことではな
い、そのために、薄膜材料としてはパーマロイやセンダ
ストなどの結晶質材料に限られている。上記した本発明
によれば、磁気回路全体が石英などの保護膜に被覆され
ているために、磁気ギャップを含む閉磁気回路を形成し
た後に、すなわち第４図（５）に示した工程の後に、空
気中において熱処理して磁気特性の改善および熱安定化
処理などが可能であるため、アモルファス篇透磁率薄膜
をヘッド材料として用いることができる、。
さらに、巻線窓用の穴があるため、該穴に銅線を通して
電流を流すことによシ、熱処理時に磁気回路に沿った磁
界を印加することもでき、磁気特性を改善して記録効率
の高い磁気ヘッドを得ることができる〇 以上記載した如く本発明によれば、極めて狭いトラック
幅を有する薄膜磁気ヘッドを、極めて少ない工程数でし
かも同時に多数個作製することのできる薄＊ｉａ気ヘッ
ドおよびその製造法を提供することかできる。
電流を流すことによシ、熱処理時に磁気回路に沿った磁
界を印加することもでき、磁気特性を改善して記録効率
の高い磁気ヘッドを得ることができる〇 以上記載した如く本発明によれば、極めて狭いトラック
幅を有する薄膜磁気ヘッドを、極めて少ない工程数でし
かも同時に多数個作製することのできる薄＊ｉａ気ヘッ
ドおよびその製造法を提供することかできる。
第１図は通常の薄膜磁気ヘッドの構造例を示す図、第２
図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す図、
、＄３図ならびに第４図は本発明による薄膜磁気ヘッド
の製造法を示す図である。 ５：非磁性剛体基板、６：高透磁率磁性薄膜、６Ａ：閉
磁気回路、７：磁気ギャップ、８：巻線窓 ９：
巻 線、 １０ニレジスト、 １２ニガラス。 第３図 第２図 第４図 ０
図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す図、
、＄３図ならびに第４図は本発明による薄膜磁気ヘッド
の製造法を示す図である。 ５：非磁性剛体基板、６：高透磁率磁性薄膜、６Ａ：閉
磁気回路、７：磁気ギャップ、８：巻線窓 ９：
巻 線、 １０ニレジスト、 １２ニガラス。 第３図 第２図 第４図 ０
Claims (3)
- （１）非磁性剛体基板の同一平面上に磁気ギャップおよ
び巻線窓用の穴を有する閉磁路形の磁気回路を有し、上
記閉磁気回路は高透磁率磁性薄膜で形成されるとともに
、上記非磁性剛体基板に設けられた上記巻線窓用の穴を
介して巻線が巻装される如く人した薄膜磁気ヘッドにお
いて、上記閉磁気回路を形成する上記高透磁率磁性薄膜
は、パーマロイ、センダストあるいは鉄−コバルト−シ
リコン−ボロン系、コバルト−ジルコニウム、コバルト
一二ツケルージルコニウムマタハコバルトーハフニウム
などのアモルプアス磁性薄膜からなることを特徴とする
薄膜磁気ヘッド。 - （２）非磁性剛体基板の同一平面上（磁気ギャップおよ
び巻線窓用の穴を有する閉磁路形の磁気回路が形成され
た薄膜磁気ヘッドの製造法において、上記非磁性剛体基
板に巻線窓用の穴をあける工程と、上記非磁性剛体基板
上にパーマロイ、センダスト、アモルファスなどの高透
磁率磁性薄膜を０．８〜２ミクロンの厚さに形成する工
程と、エツチング法により上記磁気ギャップおよび巻線
窓用の穴を含む閉磁気回路の外形を形成する工程と、ガ
ラスなどの非磁性体を上記閉磁気回路を含む上記非磁性
剛体基板上全面にスパッタ法などによりコーディングし
、かつ上記ガラスを磁気ギヤツブ部に充填する工程と、
上記巻線窓用の穴を介して巻線を巻装する工程とからな
る薄膜磁気ヘッドの製造法。 - （３）閉磁気回路を含む非磁性剛体基板上全面にガラス
などの非磁性体をスパッタ法などによりコーティングし
た後、空気中において熱処理を行ない磁気特性の改善を
はかる工程を含むことを特徴とする特許 気ヘッドおよびその製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18400381A JPS5885916A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18400381A JPS5885916A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5885916A true JPS5885916A (ja) | 1983-05-23 |
Family
ID=16145615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18400381A Pending JPS5885916A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5885916A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2605784A1 (fr) * | 1986-10-28 | 1988-04-29 | Europ Composants Electron | Procede de realisation d'un support magnetique bobine plan pour tetes magnetiques de lecture et d'enregistrement et support obtenu par ce procede |
| FR2612676A1 (fr) * | 1987-03-19 | 1988-09-23 | Commissariat Energie Atomique | Tete magnetique de lecture pour piste de tres faible largeur et procede de fabrication |
| JPH0341609A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-22 | Ampex Corp | 薄膜磁気変換器及びその製造法 |
-
1981
- 1981-11-16 JP JP18400381A patent/JPS5885916A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2605784A1 (fr) * | 1986-10-28 | 1988-04-29 | Europ Composants Electron | Procede de realisation d'un support magnetique bobine plan pour tetes magnetiques de lecture et d'enregistrement et support obtenu par ce procede |
| US4821403A (en) * | 1986-10-28 | 1989-04-18 | Compagnie Europeene De Composants Electroniques Lcc | Method for making a flat magnetic structure for read/write magnetic heads |
| FR2612676A1 (fr) * | 1987-03-19 | 1988-09-23 | Commissariat Energie Atomique | Tete magnetique de lecture pour piste de tres faible largeur et procede de fabrication |
| EP0284495A2 (fr) * | 1987-03-19 | 1988-09-28 | Commissariat A L'energie Atomique | Tête magnétique de lecture pour piste de très faible largeur et procédé de fabrication |
| US4901177A (en) * | 1987-03-19 | 1990-02-13 | Commissariat A L'energie Atomique | Magnetic read head for a very narrow track |
| JPH0341609A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-22 | Ampex Corp | 薄膜磁気変換器及びその製造法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6151193A (en) | Thin film magnetic head | |
| US4621030A (en) | Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing method thereof | |
| US5465475A (en) | Method of forming a thin film magnetic head | |
| US4860139A (en) | Planarized read/write head and method | |
| JP3394266B2 (ja) | 磁気書込／読取ヘッドの製造方法 | |
| KR20000004882A (ko) | 자기 헤드 및 그 제조 방법 | |
| JPS5885916A (ja) | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造法 | |
| JPH07105027B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPS6142716A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JP2598018B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS58108017A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| KR0184397B1 (ko) | 박막 자기 헤드 및 그 제조 방법 | |
| JP2816150B2 (ja) | 複合型磁気ヘッド | |
| JPH044642B2 (ja) | ||
| JPS5960723A (ja) | 薄膜磁気ヘツドのコア形成方法 | |
| JPS58179921A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2000020914A (ja) | 金属膜形成方法及び薄膜磁気ヘッドのポール形成方法 | |
| JPH11181564A (ja) | アルミナの成膜方法及び磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
| KR0181088B1 (ko) | 박막 자기 헤드의 제조 방법 | |
| JPH0154766B2 (ja) | ||
| KR100259386B1 (ko) | 박막자기헤드 | |
| US20040161925A1 (en) | Method of manufacturing master disc | |
| JPH0498607A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2000339634A (ja) | Ｍｒ磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2000242910A (ja) | Ｍｒヘッドおよびその製造方法 |