JPH0345446B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0345446B2 JPH0345446B2 JP61034117A JP3411786A JPH0345446B2 JP H0345446 B2 JPH0345446 B2 JP H0345446B2 JP 61034117 A JP61034117 A JP 61034117A JP 3411786 A JP3411786 A JP 3411786A JP H0345446 B2 JPH0345446 B2 JP H0345446B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- main pole
- substrate
- magnetic recording
- magnetic
- winding core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 31
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 3
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は垂直磁気記録用磁気ヘツドおよびその
製造方法に関し、特に主磁極励磁型の垂直磁気記
録用磁気ヘツドおよびその製造方法に関する。
製造方法に関し、特に主磁極励磁型の垂直磁気記
録用磁気ヘツドおよびその製造方法に関する。
従来この種の垂直磁気記録用磁気ヘツドとして
は、例えば特開昭60−136004号公報、特公昭57−
58730号公報等に開示されたものが知られている。
は、例えば特開昭60−136004号公報、特公昭57−
58730号公報等に開示されたものが知られている。
特開昭60−136004号公報に開示された垂直磁気
記録用磁気ヘツドは、非磁性セラミツク基板に対
してその一表面に幅方向の溝を形成した磁性フエ
ライト基板を表面を重ねるようにして接着し、接
着された両基板の隣合う面について非磁性セラミ
ツク基板側の面には磁気記録用の主磁極の先端部
分が磁性フエライト基板側の面には磁気記録用の
主磁極の基端部分が位置するように主磁極を形成
し、両基板の主磁極形成面を主磁極部を残して溝
が露出するまで切除するとともに非磁性セラミツ
ク基板の表面を磁気記録媒体に対する浮上面とす
る研磨加工等を施し、磁性フエライト基板の溝を
通して主磁極にコイルを施して形成される。
記録用磁気ヘツドは、非磁性セラミツク基板に対
してその一表面に幅方向の溝を形成した磁性フエ
ライト基板を表面を重ねるようにして接着し、接
着された両基板の隣合う面について非磁性セラミ
ツク基板側の面には磁気記録用の主磁極の先端部
分が磁性フエライト基板側の面には磁気記録用の
主磁極の基端部分が位置するように主磁極を形成
し、両基板の主磁極形成面を主磁極部を残して溝
が露出するまで切除するとともに非磁性セラミツ
ク基板の表面を磁気記録媒体に対する浮上面とす
る研磨加工等を施し、磁性フエライト基板の溝を
通して主磁極にコイルを施して形成される。
また、特公昭57−58730号公報に開示された磁
気記録用磁気ヘツドは、磁性材料によるスライダ
部基体および巻線部基体とこれら両基体表面側の
非磁性材料によるギヤツプ部基体とからなるヘツ
ドブロツク構造体を設けるとともに、このヘツド
ブロツク構造体の表面所定位置に磁性材料の蒸着
またはスパツタリングなどによつて選択的にスラ
イダ部、トラツク部およびギヤツプ部を薄膜形成
させるようにしたものである。
気記録用磁気ヘツドは、磁性材料によるスライダ
部基体および巻線部基体とこれら両基体表面側の
非磁性材料によるギヤツプ部基体とからなるヘツ
ドブロツク構造体を設けるとともに、このヘツド
ブロツク構造体の表面所定位置に磁性材料の蒸着
またはスパツタリングなどによつて選択的にスラ
イダ部、トラツク部およびギヤツプ部を薄膜形成
させるようにしたものである。
しかし、これら従来の垂直磁気記録用磁気ヘツ
ドはいずれも構造が複雑であり、したがつて製造
方法も複雑で寸法精度の確保が困難であるという
問題点があつた。
ドはいずれも構造が複雑であり、したがつて製造
方法も複雑で寸法精度の確保が困難であるという
問題点があつた。
また、寸法精度が確保が困難なことにより、十
分高い再生出力を得ることができないという問題
点があつた。
分高い再生出力を得ることができないという問題
点があつた。
本発明の目的は、上述の点に鑑み、構造が簡単
で寸法精度の確保が容易なことにより高再生出力
を得ることができるようにした垂直磁気記録用磁
気ヘツドを提供することにある。
で寸法精度の確保が容易なことにより高再生出力
を得ることができるようにした垂直磁気記録用磁
気ヘツドを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、製造が容易で寸法
精度を出しやすい垂直磁気記録用磁気ヘツドの製
造方法を提供することにある。
精度を出しやすい垂直磁気記録用磁気ヘツドの製
造方法を提供することにある。
本発明の垂直磁気記録用磁気ヘツドは、主磁極
励磁型の垂直磁気記録用磁気ヘツドにおいて、非
磁性体でなる基板と、この基板の側面に形成され
た主磁極膜と、この主磁極膜を被覆する保護膜
と、上記基板を上記主磁極膜が上位となるように
貼設された巻線用コアと、この巻線用コアを接着
材を介して固着するスライダとを備える。
励磁型の垂直磁気記録用磁気ヘツドにおいて、非
磁性体でなる基板と、この基板の側面に形成され
た主磁極膜と、この主磁極膜を被覆する保護膜
と、上記基板を上記主磁極膜が上位となるように
貼設された巻線用コアと、この巻線用コアを接着
材を介して固着するスライダとを備える。
また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘツドの製
造方法は、基板上に主磁極膜を形成する工程と、
上記主磁極膜を所定の幅を有するストライプ状の
パターンに加工する工程と、上記主磁極膜を被覆
する保護膜を形成する工程と、上記基板を所望の
寸法となるように切断する工程と、上記基板を上
記主磁極が巻線用コア上に位置するように上記巻
線用コアに貼設する工程と、スライダに巻線用コ
アの両端部を接着材を介して接着する工程とを含
む。
造方法は、基板上に主磁極膜を形成する工程と、
上記主磁極膜を所定の幅を有するストライプ状の
パターンに加工する工程と、上記主磁極膜を被覆
する保護膜を形成する工程と、上記基板を所望の
寸法となるように切断する工程と、上記基板を上
記主磁極が巻線用コア上に位置するように上記巻
線用コアに貼設する工程と、スライダに巻線用コ
アの両端部を接着材を介して接着する工程とを含
む。
本発明の垂直磁気記録用磁気ヘツドでは、主磁
極膜でピツクアツプされた磁気信号は巻線用コア
およびスライダを含む閉磁路を通じてコイルに再
生電圧を発生させる。
極膜でピツクアツプされた磁気信号は巻線用コア
およびスライダを含む閉磁路を通じてコイルに再
生電圧を発生させる。
また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘツドの製
造方法では、主磁極膜が巻線用コア上に位置する
ように基板が巻線用コアに貼設される。
造方法では、主磁極膜が巻線用コア上に位置する
ように基板が巻線用コアに貼設される。
第1図は本発明の一実施例に係る垂直磁気記録
用磁気ヘツドを示す斜視図である。本実施例の垂
直磁気記録用磁気ヘツドは、基板1と、この基板
1に形成された主磁極膜2と、この主磁極膜2を
被覆する保護膜3と、スライダ5に巻線用コア7
を固着する接着材4と、スライダ5と、コイルを
巻装するための巻線用コア7とから構成されてい
る。
用磁気ヘツドを示す斜視図である。本実施例の垂
直磁気記録用磁気ヘツドは、基板1と、この基板
1に形成された主磁極膜2と、この主磁極膜2を
被覆する保護膜3と、スライダ5に巻線用コア7
を固着する接着材4と、スライダ5と、コイルを
巻装するための巻線用コア7とから構成されてい
る。
次に、このように構成された本実施例の磁気ヘ
ツドの製造方法について説明する。
ツドの製造方法について説明する。
まず、第2図aに示すように、ガラス、結晶化
ガラス、フエライト、セラミツク、Al2O3、
Al2O3−TiC等の非磁性材でなる基板1上に、パ
ーマロイ、センダスト、Co−Zr−Nb、Co−Hf
−Ta等のアモルフアス金属等をスパツタリング
することによつて薄膜状の主磁極膜2を形成す
る。このとき形成される主磁極膜2の膜厚によつ
て、記録線密度が決定される。
ガラス、フエライト、セラミツク、Al2O3、
Al2O3−TiC等の非磁性材でなる基板1上に、パ
ーマロイ、センダスト、Co−Zr−Nb、Co−Hf
−Ta等のアモルフアス金属等をスパツタリング
することによつて薄膜状の主磁極膜2を形成す
る。このとき形成される主磁極膜2の膜厚によつ
て、記録線密度が決定される。
続いて、第2図bに示すように、主磁極膜2を
ウエツトエツチングあるいはドライエツチングす
ることによつて所定の幅を有するストライプ状の
パターンに加工する。このとき形成されるパター
ン幅がトラツク幅となり、トラツク密度を決定す
る。
ウエツトエツチングあるいはドライエツチングす
ることによつて所定の幅を有するストライプ状の
パターンに加工する。このとき形成されるパター
ン幅がトラツク幅となり、トラツク密度を決定す
る。
次に、第2図cに示すように、主磁極膜2を被
覆するようにSiO2、Al2O3等の非磁性材をスパツ
タリングすることによつて保護膜3を形成する。
覆するようにSiO2、Al2O3等の非磁性材をスパツ
タリングすることによつて保護膜3を形成する。
続いて、主磁極膜2等が形成された基板1を所
望の寸法となるように図中の一点鎖線に沿つて切
断する。
望の寸法となるように図中の一点鎖線に沿つて切
断する。
このようにして得られた基板1を、第3図に示
すように、主磁極膜2が巻線用コア7上に位置す
るようにMn−Znフエライト、Ni−Znフエライ
ト、アモルフアス金属等によつて断面C字状に形
成された巻線用コア7の上面にガラス、樹脂等で
貼設し、図中に示す一点鎖線に沿つて切断するこ
とにより所定寸法の巻線用コア7を得る。
すように、主磁極膜2が巻線用コア7上に位置す
るようにMn−Znフエライト、Ni−Znフエライ
ト、アモルフアス金属等によつて断面C字状に形
成された巻線用コア7の上面にガラス、樹脂等で
貼設し、図中に示す一点鎖線に沿つて切断するこ
とにより所定寸法の巻線用コア7を得る。
この後、Mn−Znフエライト、Ni−Znフエラ
イト、アモルフアス金属等からなる第4図に示す
ような断面コの字型のスライダ5の前端面の右側
部寄りに、巻線用コア7の両端部をガラス、樹脂
等からなる接着材4で接着する。
イト、アモルフアス金属等からなる第4図に示す
ような断面コの字型のスライダ5の前端面の右側
部寄りに、巻線用コア7の両端部をガラス、樹脂
等からなる接着材4で接着する。
しかる後に、スライダ5の上面部を研削加工し
てエアグループ5aおよびパツド面5bを形成
し、巻線用コア7にコイルを巻装することによ
り、本実施例の垂直磁気記録用磁気ヘツドが製造
される。
てエアグループ5aおよびパツド面5bを形成
し、巻線用コア7にコイルを巻装することによ
り、本実施例の垂直磁気記録用磁気ヘツドが製造
される。
なお、上記垂直磁気記録用磁気ヘツドの製造方
法においては、主磁極膜2および保護膜3をスパ
ツタリングで形成するようにしたが、これらは蒸
着、メツキ、イオンプレーテイング等の他の方法
によつて形成することもできる。
法においては、主磁極膜2および保護膜3をスパ
ツタリングで形成するようにしたが、これらは蒸
着、メツキ、イオンプレーテイング等の他の方法
によつて形成することもできる。
また、スライダ5に巻線用コア7を固着した後
にエアグループ5aおよびパツド面5bを形成す
るようにしたが、これらは巻線用コア7の貼設以
前にあらかじめ形成しておいてもよい。
にエアグループ5aおよびパツド面5bを形成す
るようにしたが、これらは巻線用コア7の貼設以
前にあらかじめ形成しておいてもよい。
次に、このようにして製造された本実施例の磁
気ヘツドを用いて垂直磁気記録媒体に記録および
再生を行うには、スライダ5のパツド面5b上に
垂直磁気記録媒体を載置し、コイルに信号電流を
通電しながら垂直磁気記録媒体を移動させる。す
ると、コイルに誘導された磁束が巻線用コア7お
よび極めて薄い主磁極膜2を介して高磁束密度と
なつて垂直磁気記録媒体に作用し、垂直磁気記録
媒体を厚み方向に磁化して信号の記録を行う。
気ヘツドを用いて垂直磁気記録媒体に記録および
再生を行うには、スライダ5のパツド面5b上に
垂直磁気記録媒体を載置し、コイルに信号電流を
通電しながら垂直磁気記録媒体を移動させる。す
ると、コイルに誘導された磁束が巻線用コア7お
よび極めて薄い主磁極膜2を介して高磁束密度と
なつて垂直磁気記録媒体に作用し、垂直磁気記録
媒体を厚み方向に磁化して信号の記録を行う。
また、本実施例の垂直磁気記録用磁気ヘツドを
用いて垂直磁気記録媒体から記録信号を再生する
には、垂直磁気記録媒体に残留磁気の形で記録さ
れた信号を主磁極膜2でピツクアツプすることに
より、コイルに誘導電圧として再生出力を取り出
す。
用いて垂直磁気記録媒体から記録信号を再生する
には、垂直磁気記録媒体に残留磁気の形で記録さ
れた信号を主磁極膜2でピツクアツプすることに
より、コイルに誘導電圧として再生出力を取り出
す。
以上説明したように、本発明の垂直磁気記録用
磁気ヘツドによれば、 高出力のコア構造により、高トラツク密度の
記録を行うことができる、 垂直磁気記録媒体が低速度でも高出力が得ら
れるので、データの信頼性が高い記録および再
生を行うことができる、 構造が簡単なので、垂直磁気記録媒体と垂直
磁気記録用磁気ヘツドとの間の機械的信頼性が
高い、 等の効果がある。
磁気ヘツドによれば、 高出力のコア構造により、高トラツク密度の
記録を行うことができる、 垂直磁気記録媒体が低速度でも高出力が得ら
れるので、データの信頼性が高い記録および再
生を行うことができる、 構造が簡単なので、垂直磁気記録媒体と垂直
磁気記録用磁気ヘツドとの間の機械的信頼性が
高い、 等の効果がある。
また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘツドの製
造方法によれば、 1回の成膜工程で多数の主磁極膜が得られる
ので、量産性が高い、 記録特性を決定する主磁極膜の膜厚がスパツ
タリング装置の成膜時間で決まるので、高精度
である、 トラツク加工をエツチングで行えるので、精
度がよく量産性が高い、 等の効果がある。
造方法によれば、 1回の成膜工程で多数の主磁極膜が得られる
ので、量産性が高い、 記録特性を決定する主磁極膜の膜厚がスパツ
タリング装置の成膜時間で決まるので、高精度
である、 トラツク加工をエツチングで行えるので、精
度がよく量産性が高い、 等の効果がある。
第1図は、本発明の一実施例に係る垂直磁気記
録用磁気ヘツドの斜視図、第2図a〜cは、第1
図中に示した基板の順次の製造工程を示す斜視
図、第3図は、第1図中に示した巻線用コアの製
造工程を示す斜視図、第4図は、第1図中に示し
たスライダの製造工程を示す斜視図である。 図において、1……基板、2……主磁極膜、3
……保護膜、4……接着材、5……スライダ、5
a……エアグルーブ、5b……パツド面、7……
巻線用コアである。
録用磁気ヘツドの斜視図、第2図a〜cは、第1
図中に示した基板の順次の製造工程を示す斜視
図、第3図は、第1図中に示した巻線用コアの製
造工程を示す斜視図、第4図は、第1図中に示し
たスライダの製造工程を示す斜視図である。 図において、1……基板、2……主磁極膜、3
……保護膜、4……接着材、5……スライダ、5
a……エアグルーブ、5b……パツド面、7……
巻線用コアである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 主磁極励磁型の垂直磁気記録用磁気ヘツドに
おいて、 非磁性体でなる基板と、この基板の側面に形成
された主磁極膜と、この主磁極膜を被覆する保護
膜と、上記基板を上記主磁極膜が上位となるよう
に貼設された巻線用コアと、この巻線用コアを接
着材を介して固着するスライダとを備えることを
特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘツド。 2 基板上に主磁極膜を形成する工程と、上記主
磁極膜を所定の幅を有するストライプ状のパター
ンに加工する工程と、上記主磁極膜を被覆する保
護膜を形成する工程と、上記基板を所望の寸法と
なるように切断する工程と、上記基板を上記主磁
極が巻線用コア上に位置するように上記巻線用コ
アに貼設する工程と、スライダに巻線用コアの両
端部を接着材を介して接着する工程とを含むこと
を特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘツドの製造方
法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61034117A JPS62192016A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 垂直磁気記録用磁気ヘツドおよびその製造方法 |
KR1019860007898A KR900004742B1 (ko) | 1986-02-19 | 1986-09-22 | 수직 자기기록용 자기헤드 및 그 제조방법 |
US06/948,024 US4768121A (en) | 1986-02-19 | 1986-12-31 | Magnetic head formed by composite main pole film and winding core for perpendicular magnetic recording |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61034117A JPS62192016A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 垂直磁気記録用磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62192016A JPS62192016A (ja) | 1987-08-22 |
JPH0345446B2 true JPH0345446B2 (ja) | 1991-07-11 |
Family
ID=12405315
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61034117A Granted JPS62192016A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 垂直磁気記録用磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4768121A (ja) |
JP (1) | JPS62192016A (ja) |
KR (1) | KR900004742B1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE100962T1 (de) * | 1987-10-30 | 1994-02-15 | Seagate Technology | Magnetkopf fuer senkrechtes magnetaufzeichnungssystem und herstellungsverfahren. |
JPH0719460B2 (ja) * | 1989-03-16 | 1995-03-06 | ティーディーケイ株式会社 | 浮動型磁気ヘッド |
US5001589A (en) * | 1989-05-31 | 1991-03-19 | Seagate Technology, Inc. | Tungsten and tantalum diffusion barriers for Metal-In-Gap magnetic heads |
US5270888A (en) * | 1992-02-21 | 1993-12-14 | Applied Magnetics Corporation | Composite slider head with reduced readback oscillation |
JPH09503607A (ja) * | 1993-10-07 | 1997-04-08 | クワンタム・ペリフェラルズ・コロラド・インコーポレーテッド | ロール・モーメントに対する感受性を低下させた定浮上量スライダ |
US6416880B1 (en) * | 1993-12-09 | 2002-07-09 | Seagate Technology, Llc | Amorphous permalloy films and method of preparing the same |
US5808832A (en) * | 1996-02-27 | 1998-09-15 | International Business Machines Corporation | Ultrathin silicon wear coating for a slider and thin film magnetic head elements at an ABS |
JP4519393B2 (ja) * | 2002-04-10 | 2010-08-04 | 新科實業有限公司 | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法、ならびに磁気記録装置 |
US7038882B2 (en) * | 2002-10-03 | 2006-05-02 | Seagate Technology | Low moment-high moment write pole with non-magnetic layer for establishing a magnetic path discontinuity between layers of the write pole |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54119220A (en) * | 1978-03-08 | 1979-09-17 | Olympus Optical Co Ltd | Magnetic head |
US4219853A (en) * | 1978-12-21 | 1980-08-26 | International Business Machines Corporation | Read/write thin film head |
JPS60131613A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-07-13 | Alps Electric Co Ltd | 浮動磁気ヘツド |
US4648087A (en) * | 1984-06-28 | 1987-03-03 | International Business Machines Corporation | Capacitive sensing employing thin film inductors |
JPS6151615A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-14 | Alps Electric Co Ltd | 浮動式磁気ヘツド |
JPS6180519A (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-24 | Victor Co Of Japan Ltd | 浮動形磁気ヘツド |
-
1986
- 1986-02-19 JP JP61034117A patent/JPS62192016A/ja active Granted
- 1986-09-22 KR KR1019860007898A patent/KR900004742B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-12-31 US US06/948,024 patent/US4768121A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR870008282A (ko) | 1987-09-25 |
US4768121A (en) | 1988-08-30 |
JPS62192016A (ja) | 1987-08-22 |
KR900004742B1 (ko) | 1990-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5423116A (en) | Method of manufacturing a multi-track longitudinal, metal-in-gap head | |
JP3394266B2 (ja) | 磁気書込/読取ヘッドの製造方法 | |
JPH0345446B2 (ja) | ||
JPH0344367B2 (ja) | ||
KR900004743B1 (ko) | 수직 자기기록용 자기헤드 및 그 제조방법 | |
KR900004741B1 (ko) | 수직 자기기록용 자기헤드 및 그 제조방법 | |
JPS6313245B2 (ja) | ||
JPS6362804B2 (ja) | ||
KR940004485B1 (ko) | 복합형 자기헤드와 그 제조방법 | |
JP2001023117A (ja) | 磁気抵抗効果型複合ヘッド及びそれを用いた磁気記憶装置並びに磁気抵抗効果型複合ヘッドの製造方法 | |
JP2725878B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JP3055259B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JP2000215411A (ja) | 薄膜磁気ヘッド、並びに、その製造方法 | |
JPH05151534A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘツド | |
JPH0585962B2 (ja) | ||
JPS60191406A (ja) | 垂直記録再生磁気ヘツド | |
JPS61142514A (ja) | 垂直磁気ヘツド及びその製造方法 | |
JPS6276013A (ja) | 磁気コア | |
JPS6151609A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH04123304A (ja) | 誘導型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
JPS61126611A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH02165403A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH0191308A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPS63187410A (ja) | 磁気ヘツド | |
JP2000090410A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 |