JP2005243061A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 磁性層の形成時には、主磁極層となるべき磁性層の両側しか規制せず、それ以外を全く規制せずにメッキ成長させる。このため非常に広範な領域にまず磁性層をメッキ形成できるので、規制が働く磁性層のメッキ形成部分でもメッキ液の出入りは他の領域と等しく良好にでき、磁性層のメッキ形成時におけるメッキ液の攪拌効果等を向上できる。本発明では、主磁極層のトラック幅Twを高精度に形成することが出来ると共に、最終的にメッキ形成面上に残される主磁極層とヨーク層との膜厚や組成が均一になるように適切に制御でき、さらにスループットを従来に比べて改善することが出来る。
【選択図】 なし
Description
前記第1の磁性層を以下の工程を経ることで形成することを特徴とするものである。
(b) 前記(a)工程での磁極層の形成と共に、前記磁極層の前方、及び後方に広がるメッキ形成面上に磁性層をメッキ形成する工程と、
(c) 少なくとも前記磁性層のうちヨーク層となるべき部分の磁性層が残るように、それ以外の前記磁性層を削って、前記磁極層の後方に、前記磁極層よりも幅寸法がトラック幅方向に広がる前記ヨーク層を形成する工程と、
(d) 所定のトラック幅で形成された磁極層が露出するまで、前記メッキ形成面を前端部から後方に向けて削っていき、前記対向面を形成する工程。
28 第1の磁性層
35 ヨーク層
70 基板
70a メッキ形成面
71 メッキ下地層
72 レジスト層
73 規制部
74、74a、77 磁性層
75 空間
76 マスク層
76a 主磁極パターン
76b ヨークパターン
Claims (13)
- 記録媒体との対向面で、第1の磁性層と第2の磁性層とが膜厚方向に間隔をおいて対向し、前記第1の磁性層と第2の磁性層間にコイル層が形成され、前記第1の磁性層は前記対向面で所定のトラック幅で露出するとともに後方へ所定の長さ寸法で形成された磁極層と、前記磁極層よりもハイト後方に前記トラック幅よりも幅寸法が広がって形成されたヨーク層とを有する磁気ヘッドの製造方法において、
前記第1の磁性層を以下の工程を経ることで形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
(a) 前記対向面となるべき位置よりも前方、及び後方に広がるメッキ形成面上の前端部よりも後方に離れた位置に、前記磁極層を、幅方向の両側を規制しながらメッキ形成し、前記磁極層の幅寸法を所定のトラック幅で形成する工程と、
(b) 前記(a)工程での磁極層の形成と共に、前記磁極層の前方、及び後方に広がるメッキ形成面上に磁性層をメッキ形成する工程と、
(c) 少なくとも前記磁性層のうちヨーク層となるべき部分の磁性層が残るように、それ以外の前記磁性層を削って、前記磁極層の後方に、前記磁極層よりも幅寸法がトラック幅方向に広がる前記ヨーク層を形成する工程と、
(d) 所定のトラック幅で形成された磁極層が露出するまで、前記メッキ形成面を前端部から後方に向けて削っていき、前記対向面を形成する工程。 - 前記(a)工程で、前記メッキ形成面上の前端部よりも後方に離れた位置に、幅方向に所定の間隔を空けて形成された絶縁材料の規制部を形成し、前記規制部間に、前記磁極層をメッキ形成することで、前記磁極層を所定のトラック幅で形成する請求項1記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記規制部はレジストである請求項2記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記レジストはネガ型であり、前記(a)工程で、前記メッキ形成面上の全面にネガ型のレジスト層を形成し、前記規制部となるべき位置を露光し、露光されていない前記レジスト層を除去することで幅方向に所定の間隔が空けられた前記規制部を形成する請求項3記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 露光手段にはEB露光を用いる請求項4記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記(b)工程で、前記規制部が形成された以外の前記メッキ形成面上に前記磁性層をメッキ形成する請求項2ないし5のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記(b)工程と前記(c)工程の間に、前記規制部を除去する工程を有する請求項2ないし6のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記メッキ形成面上にはメッキ下地層が敷いてあり、前記規制部を除去したことで露出したメッキ下地層を除去する請求項7記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記(c)工程で、前記磁極層上及び磁性層上に所定形状のマスク層を形成し、このとき前記マスク層を、前記磁性層上に前記ヨーク層と同じ平面形状のヨークパターンと、前記磁極層よりも幅寸法を広くして前記規制部を除去したことで形成された空間内に入り込む磁極パターンとを有して形成し、前記マスク層に覆われていない磁性層を除去する請求項7または8に記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁極層をトラック幅方向から膜厚方向に切断したとき、その断面形状は下面から上面に向けて幅寸法が徐々に広がる形状である請求項1ないし9のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁極層をトラック幅方向から膜厚方向に切断したとき、その断面形状は下面から上面に向けて一定の幅寸法である請求項1ないし9のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記ヨーク層をトラック幅方向から膜厚方向に切断したとき、その断面形状は下面から上面に向けて幅寸法が徐々に小さくなる形状である請求項1ないし11のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁気ヘッドは、垂直記録磁気ヘッドである請求項1ないし12のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004047571A JP2005243061A (ja) | 2004-02-24 | 2004-02-24 | 磁気ヘッドの製造方法 |
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JP2004047571A JP2005243061A (ja) | 2004-02-24 | 2004-02-24 | 磁気ヘッドの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2005243061A true JP2005243061A (ja) | 2005-09-08 |
Family
ID=35024653
Family Applications (1)
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JP2004047571A Pending JP2005243061A (ja) | 2004-02-24 | 2004-02-24 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005243061A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007156496A (ja) * | 2005-12-08 | 2007-06-21 | Headway Technologies Inc | フォトレジストパターンの形成方法および孤立形状の電気的形成方法 |
-
2004
- 2004-02-24 JP JP2004047571A patent/JP2005243061A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007156496A (ja) * | 2005-12-08 | 2007-06-21 | Headway Technologies Inc | フォトレジストパターンの形成方法および孤立形状の電気的形成方法 |
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