JP2001520951A - 半導体装置の基質としてのガラス積層体の使用 - Google Patents

半導体装置の基質としてのガラス積層体の使用

Info

Publication number
JP2001520951A
JP2001520951A JP2000517842A JP2000517842A JP2001520951A JP 2001520951 A JP2001520951 A JP 2001520951A JP 2000517842 A JP2000517842 A JP 2000517842A JP 2000517842 A JP2000517842 A JP 2000517842A JP 2001520951 A JP2001520951 A JP 2001520951A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
layer
layers
coating
displays
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000517842A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4773617B2 (ja
Inventor
タホン，ジヤン−ピエール
ベルリンデン，バーソロミユーズ
ゴーデウエーク，ルデイ
Original Assignee
アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ filed Critical アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ
Publication of JP2001520951A publication Critical patent/JP2001520951A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4773617B2 publication Critical patent/JP4773617B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10009—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets
    • B32B17/10018—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets comprising only one glass sheet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10009—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets
    • B32B17/10082—Properties of the bulk of a glass sheet
    • B32B17/10119—Properties of the bulk of a glass sheet having a composition deviating from the basic composition of soda-lime glass, e.g. borosilicate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10174—Coatings of a metallic or dielectric material on a constituent layer of glass or polymer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
    • B32B17/1033—Laminated safety glass or glazing containing temporary protective coatings or layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10541—Functional features of the laminated safety glass or glazing comprising a light source or a light guide
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/14—Printing or colouring
    • B32B38/145—Printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305—Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/795—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of macromolecular substances
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/795—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of macromolecular substances
    • G03C1/7954—Polyesters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G03C1/853—Inorganic compounds, e.g. metals
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/02—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the selection of materials, e.g. to avoid wear during transport through the machine
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/04—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the shape
    • G06K19/041—Constructional details
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/06009—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code with optically detectable marking
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49855—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers for flat-cards, e.g. credit cards
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/562—Protection against mechanical damage
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/564—Details not otherwise provided for, e.g. protection against moisture
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/57—Protection from inspection, reverse engineering or tampering
    • H01L23/573—Protection from inspection, reverse engineering or tampering using passive means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/585—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries comprising conductive layers or plates or strips or rods or rings
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/841—Self-supporting sealing arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/202—Conductive
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2367/00—Polyesters, e.g. PET, i.e. polyethylene terephthalate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/7614—Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C8/00—Diffusion transfer processes or agents therefor; Photosensitive materials for such processes
    • G03C8/02—Photosensitive materials characterised by the image-forming section
    • G03C8/04—Photosensitive materials characterised by the image-forming section the substances transferred by diffusion consisting of inorganic or organo-metallic compounds derived from photosensitive noble metals
    • G03C8/06—Silver salt diffusion transfer
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11—Device type
    • H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204—Optical Diode
    • H01L2924/12044—OLED
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 基質上に機能層を被覆する工程を含む半導体装置の製造法において、該基質は支持材とガラス層とを含む積層体であり、該ガラス層は７００μｍよりも薄いことを特徴とする方法が記載されている。支持材はプラスティックスの箔であることが好ましい。積層体は軽量であることと高強度であることが組み合わされ、従って液晶ディスプレー、プラズマ・ディスプレー、フィールド・エミッション・ディスプレーまたは有機性発光ポリマー・ディスプレーのようなフラットパネル・ディスプレーを製造するのに適した基質である。機能層の好適な例は例えば電気伝導層、液晶配向層、カラー・フィルター、エレクトロリュミネッセンス層、不動態化層および燐の層である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の分野】
本発明は半導体装置、特にフラットパネル・ディスプレーの製造の際に機能層
を被覆する基質としてのガラス積層品の使用に関する。
【０００２】
【発明の背景】
液晶ディスプレー（ＬＣＤ）はここ数年の間低価格の情報用ディスプレーとし
て例えば計算器、時計、ビデオゲーム、オーディオおよびビデオ装置、携帯用計
算機、自動車のダッシュボード等、即ち軽量であることが重要な特徴となる移動
式の装置に使用されて来た。さらにその品質および大きさが改善され、ＬＣＤは
これまでテレビセットおよび卓上型コンピュータに広く使用されて来た陰極線管
（ＣＲＴ）の有望な代替品となっている。最近では他のフラットパネル型のディ
スプレー（ＦＰＤ）、例えばプラズマ・ディスプレー（ＰＤ）、フィールド・エ
ミッション・ディスプレー（Ｆｉｅｌｄ ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｄｉｓｐｌａｙ、
ＦＥＤ）および有機性発光ポリマー・ディスプレー（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈ
ｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｐｏｌｙｍｅｒ ｄｉｓｐｌａｙ、ＯＬＥＤ）がＬＣＤ
の潜在的な代替品として多くの注目を浴びている。ＰＤ、ＦＥＤまたはＯＬＥＤ
は発光型のディスプレーであり、ＬＣＤに伴う二つの主要な問題、即ち視覚が小
さいことおよび効率が低いこと（典型的には入射光または背景光の数％しかＬＣ
Ｄを通って読取り得る画像をつくらない）に対する解決策を与えることができる
。
【０００３】 これらのすべてのＦＰＤにおいては、２枚のガラスを使用して機能層、例えば
ピクセルのアドレッシング（ａｄｄｒｅｓｓｉｎｇ）を行なうための電気伝導層
、カラー・フィルター、ＬＣＤの液晶配向層または整列層、或いはＦＥＤおよび
ＰＤの燐の層を担持させる。このような機能層が取付られた２枚のガラス板の間
には充填剤、例えば液晶化合物（ＬＣＤ）、発光ポリマー（ＯＬＥＤ）またはプ
ラズマ生成ガス（ＰＤ）が被覆されている。しばしばディスプレー・セルと呼ば
れるこのようなサンドイッチ構造体を組み立てた後、１枚またはそれ以上の箔を
ガラスの基質の外側の表面に積層化することができる。ＬＣＤでは偏光子の箔が
必要な構成成分であり、これをガラスの基質に積層化する。また画像の品質を改
善するために数種の他の種類の箔が広く使用されている。例えば遅延フィルム、
反射または反射防止用の箔、視覚を改善するための箔、光を分散させる箔等が使
用される。
【０００４】 ＦＰＤに使用されるガラス板は０．７〜１．１ｍｍの典型的な厚さをもってい
る。ガラスの比重は大きいから、ディスプレーの全重量は主としてこれらのガラ
ス板の大きさおよび厚さで決定される。「Ｄｉｓｐｌａｙ Ｄｅｖｉｃｅｓ」誌
、１９９６年春発行（東京、電波出版社（Ｄｅｍｐａ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ
Ｉｎｃ．）Ｓｅｒｉａｌ ｎｏ．１３、１４〜１９頁記載の「第４世代のＬＣ
Ｄ − ＥＩＡＪ装置の予測」には、ＦＰＤの重量の減少が研究すべき主要な課
題であることが強調されている。移動式のディスプレー並びに大きな静止型のデ
ィスプレー、例えばテレビセットまたは卓上型のコンピュータのディスプレーの
いずれに対しても重量の減少は重要である。しかしこのような薄いガラスは脆い
ために、ガラス板の厚さをこれ以上減少させることには限度がある。
【０００５】 或る種の低価格の用途に対しては、ＬＣＤの軽量の基質としてプラスティック
スのシートが使用されている。プラスティックスは強度が大きく可撓性をもって
いるために、可撓性のディスプレーをつくることも可能である。しかしこのよう
なプラスティックス・シートの間にある液晶組成物および他の機能層は化学薬品
、酸素、水分、機械的衝撃および他の外からの影響から十分には保護されておら
ず、その結果このようなプラスティックス・ディスプレーの寿命が制限される。
またプラスティックスはガラスに比べ、高品質のディスプレーを得るために必要
な本質的な性質である熱的安定性および寸度安定性が非常に低い。
【０００６】 ガラスシートとプラスティックスの箔との積層体も当業界に公知である。良く
知られた例としてはフランス特許２．１３８．０２１号およびヨーロッパ特許Ａ
−６６９ ２０５号記載のような自動車の風防ガラスに使用される安全ガラスが
ある。該ヨーロッパ特許明細書には、ガラス板、中間接着層およびプラスティッ
クスの板から成り、ガラスの厚さが３０〜１０００μｍであるガラス／プラステ
ィックス積層体が記載されている。このガラスは好ましくは化学的に硬化させた
ガラスであり、積層化する前に機能層をガラスに被覆することができる。積層化
した後、この機能層をガラスとプラスティックス層との間でサンドイッチにし、
これによって外界の影響から保護する。薄い化学的に硬化させたガラスとプラス
ティックス支持体との積層体は米国特許３，４７１，３５６号にも記載されてい
る。
【０００７】
【発明の概要】
本発明の目的は、比重が小さく且つ脆性が低く、また寸度安定性および熱的安
定性が高く、かたさおよび引っ掻き耐性が大きく、有機溶媒または反応性試薬の
ような化学薬品に対する耐性が良好な基質に機能層を被覆する工程を含む半導体
装置を製造する方法を提供することである。この目的は請求の範囲１記載の方法
によって実現される。本発明の好適具体化例は添付請求の範囲に記載されている
。下記の詳細な説明において本発明のさらに他の利点および具体化例の説明を行
なう。
【０００８】
【発明の詳細な記述】
本発明方法に使用される積層体は薄いガラス層と支持材から成っている。本明
細書において使用される「積層体」という言葉は、「多数の接合された層から成
る材料」と理解すべきである。ガラス層および支持材はそれらの間に中間接着層
を被覆することによって互いに接合することができるが、下記に説明するように
真空積層法を使用することもできる。本明細書において「支持材」という言葉は
「自己支持性の層」、例えばプラスティックスの層の意味で使用し、支持材の上
に被覆できるが自己支持性ではない層、例えば本明細書の冒頭に説明しまたさら
に下記に説明するような機能層と区別する。
【０００９】 ガラスは引っ掻き、水分、溶媒およびガスから支持材を保護し、支持材の寸度
安定性および熱的安定性を改善している。積層体の寸度安定性はガラスと支持材
との相対的な厚さに依存し、またこれら両方の材料の弾性に依存している。薄い
ガラスの基質と例えばプラスティックスの支持材とから成る積層体は、プラステ
ィックスの支持材そのものに比べて著しく改善された寸度安定性をもっている。
積層体になった支持材が存在することによってガラスが割れる危険性が著しく減
少する。その表面に高い局所的な圧力がかかることによってガラスが割れた場合
でも、ガラスの破片は積層体になった支持材に固定されて留まる。積層体にしな
い場合には、特に薄いガラスを基質に使用した場合、割れる確率は非常に高く、
ガラスの破片は製造工程を著しく撹乱するであろう。また積層体全体としての比
重はガラスの比重よりも実質的に小さくなり、特に積層体の支持材として例えば
プラスティックスを使用した場合にはそうである。
【００１０】 本発明に使用される積層体のガラスは厚さが７００μｍよりも薄い。或る用途
に対しては３００μｍよりも、特に２００μｍよりも薄いことが好適である。脆
性を小さくするためには３０μｍよりも薄くないこと、特に５０μｍよりも薄く
ないことが好適である。これらの規格のガラスは当業界に公知である。ヨーロッ
パ特許Ａ−７１６ ３３９号には厚さが１．２ｍｍよりも薄く、破断応力（引張
り応力下における）が１×１０7Ｐａ以上、弾性モジュラス（ヤング率）が１× １０11Ｐａ以下の薄いガラス基質が記載されている。
【００１１】 ガラスは例えばナトリウム・フロートガラス（ｆｌｏａｔ ｇｌａｓｓ）、化
学的に強化されたガラス、または硼珪酸塩ガラスであることができる。このよう
なガラスは半熔融したガラスを金属のローラの間で絞って薄いウエッブにするこ
とによって製造することができる。米国特許４，３８８，３６８号には可撓性の
ガラスシートをつくるための下記の方法が記載されている。１５５０℃で熔融さ
せたソーダライムガラス（重量比Ｎａ2Ｏ・ＣａＯ・ＳｉＯ2＝１５：１３：７２
）を延伸しロールにかける。このようにしてつくったガラスの両端をクリップで
支持し、約３５０℃に加熱する。次にこのガラスシートに上記加熱温度よりも低
い温度、例えば約７００℃の高温の空気を吹き付けながら、ガラスシートを元の
シートの面積の１．０５〜１０倍に伸長する。このようにしてガラスシートを薄
い部分の方が速く冷却するようにし、伸長したガラスシートの厚さを均一に保つ
。同様な方法は日本特許Ａ−５８，０９５，６２２号に記載されている。日本特
許Ａ−５８，１４５，６２７号に記載された他の方法では、熔融したガラスのウ
エッブを上方に引張った後大きなローラを用いて熔融した金属浴の表面上に直ち
に水平に延伸し、次いで徐々に冷却する。このようにしてつくられたガラスは平
らさが改善される。
【００１２】 本発明に使用するのに極めて好適なガラスは薄い硼珪酸塩ガラスであり、これ
は通常のナトリウム・フロートガラスに比べ非常に大きな強度をもっている。硼
珪酸塩ガラスはＳｉＯ2およびＢ2Ｏ3から成っている。或る種の硼珪酸塩ガラス の詳細な組成は例えば米国特許４，８７０，０３４号、同４，５５４，２５９号
および同５，５４７，９０４号に記載されている。
【００１３】 化学的に強化されたフロートガラスは通常のフロートガラスよりも大きな強度
をもっていることが知られている。化学的に強化されたガラスは両方の表面層の
所でもともと存在したアルカリイオンが大きな半径をもったアルカリイオンで少
なくとも部分的に置換されているガラスである。化学的に強化されたナトリウム
・ライム・シリカガラスにおいては、ガラス表面付近のナトリウムイオンは少な
くとも部分的にカリウムイオンで置き換えられ、化学的に強化されたリチウム・
ライム・シリカガラスでは、表面付近のリチウムイオンは少なくとも部分的にナ
トリウムおよび／またはカリウムで置き換えられている。化学的に強化されたガ
ラスの公知製造法では日本特許Ａ−５６，０４１，８５９号、英国特許１，２０
８，１５３号および米国特許３，６３９，１９８号記載のようにガラスをイオン
交換が起こる条件に露出する。ガラスの化学的な強化法のもっと詳細な点は例え
ば「Ｇｌａｓｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」誌、第６巻第３号（１９６５年６月）
９０〜９７頁に記載されている。
【００１４】 薄いガラスは例えばＰｉｌｋｉｎｇｔｏｎおよびＣｏｒｎｉｎｇから市販され
ている。本発明方法に使用するのに好適な薄い硼珪酸塩ガラスは例えばＳｃｈｏ
ｔｔグループの会社であるＤｅｕｔｃｈｅ Ｓｐｅｚｉａｌｇｌａｓｓ ＡＧ（
Ｄｅｓａｇ、ドイツ）からＡＦ４５およびＤ２６３型として厚さ最低３０μｍの
ものが市販されている。Ｄｅｓａｇから１９９５年に出版された技術資料「無ア
ルカリおよび低アルカリの薄いガラス」、副題「ＡＦ４５およびＤ２６３：電子
的用途のガラス」によれば、薄い硼珪酸塩ガラスは厚さが３０μｍ、５０μｍ、
７０μｍ、１００μｍ、１４５μｍ、１７５μｍ、２１０μｍ、３００μｍ、４
００μｍ、５５０μｍおよび７００μｍのものが市販されている。
【００１５】 本発明に従ってガラスに積層化させる支持材は紙または金属、さらに好ましく
はプラスティックスの箔、例えば酢酸セルロース、ポリ（ビニルアセタール）、
ポリスチレン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ（エチレンテレフタレート）（
ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）
であることができる。また例えばアクリロニトリル、スチレンおよびブタジエン
の共重合体、或いはシクロオレフィン共重合体（ＣＯＣ）、例えば（ポリ）シク
ロペンタジエン（ＰＤＣＰ）、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＥＳおよびＰＤＣＰの共重合体
が極めて好適である。
【００１６】 支持材は好ましくは５００μｍより、さらに好ましくは２５０μｍよりも薄い
厚さをもっている。高温工程に積層体を使用する場合、非常に薄い支持材、例え
ば１０〜５０μｍの範囲の厚さの支持材を使用し、ガラスと支持材との熱収縮ま
たは熱膨張が異なることによる材料の過度の曲がりを有利に避けることができる
。画像記録材料またはフラットパネル・ディスプレーに使用する場合、支持材は
透明な支持材であることが好ましい。好適具体化例においては支持材並びに接着
層はガラスと実質的に同じ屈折率をもっていることが特徴である。
【００１７】 ガラスを支持材に積層化する方法は公知である。いわゆる真空積層化により接
着剤を用いずに両方の層を積層化することができる。真空積層化によりガラスと
支持材との間に効果的な接合を得るためには、これらの材料は両方とも表面の粗
さが少ないことがことが好ましい。例えば支持材は、しばしばプラスティックス
の箔または箔の上の被膜の中に導入され粘着化を防ぐ隙間剤（ｓｐａｃｉｎｇ
ａｇｅｎｔ）を含んでいないことが好ましい。真空積層化の他に、両面接着テー
プ、または例えば高温熔融物またはラテックスを被覆した後に熱または圧力をか
けて得られる接着層を使用することが極めて好適である。該ラテックスは例えば
ポリウレタン、ポリエチレン、ポリ（アクリル酸メチル）またはエチレン−酢酸
ビニル共重合体である。別法として僅かに湿らせたゼラチン層を接着層として使
用することができる。
【００１８】 接着層はガラス、支持材、または両方に被覆することができ、積層化した直後
に除去し得る剥離層によって保護することができる。積層化の後に、ガラスと支
持材との間の接合は永久的な接合または可逆的な接合であることができる。後者
の場合にはガラスと支持材とを再び互いに剥がすことができる。
【００１９】 ガラスと支持材との積層化は手動で行なうことができるが、いわゆる積層機と
呼ばれる積層化を行なう機械で行なうことが好ましい。典型的な積層機は調節可
能な圧力をかけることができ且つ一定のまたは調節可能な速度で動かし得る一対
の加熱し得るローラを具備している。積層機を用いる積層化はガラスと支持材と
を互いに密着させ、随時両方の材料の間に接着剤を被覆し、積層機のローラの間
に通すことによって行なわれる。
【００２０】 接着層は熱感性の接着剤（ＴＳＡ）の層、圧感性の接着剤（ＰＳＡ）の層また
は紫外線で硬化し得る接着剤（ＵＶＡ）、電子ビームに露光して硬化させ得る接
着剤または熱で硬化させ得る接着剤であることができる。典型的な水で被覆し得
るＴＳＡはガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃よりも低いラテックスである。本発
明の積層体を高温を必要とする工程、例えばフラットパネル・ディスプレーの製
造中に使用する場合、適当なＴＳＡはＴｇがその工程の最高温度よりも少なくと
も１０℃高い重合体を含んでいることが好ましい。同様な理由により、最高１５
０℃、さらに２００℃の温度まで熱的に安定なＰＳＡまたは硬化可能な接着剤が
好適である。
【００２１】 本発明に使用するのに好適なＰＳＡ層は１種またはそれ以上の粘着性のエラス
トマー、例えばスチレン／イソプレンのブロック共重合体、スチレン／ブタジエ
ンゴム、ブチルゴム、イソブチレンの重合体およびシリコーンから成っている。
特に好適なものは天然ゴムおよび米国特許３，８５７，７３１号記載のアクリレ
ート共重合体である。このアクリレート重合体は好ましくは９０〜９９．５重量
％の少なくとも１種のアクリル酸アルキルエステルおよび１０〜０．５重量％の
実質的に油に不溶で水溶性のイオン性単量体およびマレイン酸無水物から成る群
から選ばれる単量体から成っている。このアクリル酸エステル部分は、疎水性で
水で乳化でき、実質的に水に不溶であり、均質重合体としてガラス転移温度が２
０℃以下の単量体から成っていることが好ましい。このような単量体の例にはア
クリル酸イソオクチル、アクリル酸４−メチル−２−ペンチル、アクリル酸２−
メチルブチル、およびアクリル酸ｓｅｃ−ブチルがある。適当な単量体の他の例
には例えばトリメチルアミンメタクリルアミド、トリメチルアミンｐ−ビニルベ
ンズイミド、アクリル酸アンモニウム、アクリル酸ナトリウム、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−Ｎ−１−（２−ヒドロキシプロピル）アミンメタクリルアミドおよびマレイ
ン酸無水物がある。ＰＳＡは、未処理の紙に被覆した場合、連続被覆（被覆率１
００％）剥離接着値が幅１ｃｍ当たり０．１〜１０Ｎである。
【００２２】 ＰＳＡはさらに接合剤を含んでいることができる。適当な接合剤は圧感性接着
剤に対して不活性である。即ち圧感性接着剤と化学的に反応しない。このような
接合剤の例はニトロセルロース、ウレタン、ゼラチン、ポリビニルアルコール等
である。接合剤の量は圧感性接着剤が効果的に積層化するように選ばなければな
らない。接合剤の量は好ましくは圧感性接着剤に関して２．５重量部より、さら
に好ましくは０．６重量部よりも少ない。
【００２３】 ＵＶＡは広い意味で二つの範疇、即ち遊離基で重合したものおよび陽イオン重
合したものに分類することができる。遊離基重合によってつくられた重合体は一
般にアクリルの単量体またはオリゴマーをベースにしており、紫外線を当てて交
叉結合させ高分子量重合体に変える。ＵＶＡは好ましくは光反応開始剤、例えば
ベンゾフェノン−アミン、α−置換アセトフェノンまたはアミノアセトフェノン
を含んでいる。イソプロピルチオキサントンを加えると、光反応開始剤に対し増
感効果があり、有用な露光領域を可視光の近くに移動させることが知られている
。このことは使用者の安全に対しては重要である。ＵＶＡに典型的に使用される
他の成分は可撓化剤、例えばアクリル材料の中に溶媒和された或いは分散された
熱可塑性材料、接着促進剤、例えばポリエチレンまたはポリプロピレン、および
充填剤である。ＵＶＡに関する他の情報はＲａｄＣｕｒｅＬｅｔｔｅｒ Ｎｏ．
５（１９９６）およびＴａｐｐｉ Ｊｏｕｒｎａｌ，１９９２年１月号、１２１
〜１２５頁に記載されている。電子ビームで硬化させ得る接着剤は原理的に紫外
線で硬化させ得る接着剤と同じ機構で動作するが、光反応開始剤を必要としない
。
【００２４】 本発明に使用される適当な接着剤の例には、Ｓｏｌｕｃｒｙｌ（ベルギー、Ｕ
ＣＢの登録商標）、好ましくはＳｏｌｕｃｒｙｌの３５５ＨＰ、３８０および８
２５Ｄ型；Ｒｈｏｄｏｔａｋ（Ｒｈｏｎｅ−Ｐｏｕｌｅｎｃの登録商標）；Ａｃ
ｒｏｎａｌ（ＢＡＳＦの登録商標）；Ｄｕｒｏ−Ｔａｋ３８０−２９５４（Ｎａ
ｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈ ＆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｂ．Ｖ．の登録商標）；
ＰＥＲＭＡｐｒｉｎｔ ＰＰ２０１１型およびＰＥＲＭＡｇａｒｄ ＰＧ７０３
６型（ベルギー、Ｖａｒｉｔａｐｅ Ｎ．Ｖ．の登録商標）がある。
【００２５】 本発明方法においては、機能層を支持材に被覆するが、それを積層体のガラス
側に取り付けることが好ましい。この機能層を被覆する前にガラスの表面を予備
処理する。例えば機能層を良好に接着させるためにエッチングを行なうかまたは
下塗り層で予備被覆を行なうことができる。この目的に特に適した下塗り層は珪
素含有化合物をベースにしたもので、例えば米国特許３，６６１，５８４号およ
び英国特許１，２８６，４６７号に記載されている。該珪素含有化合物は好まし
くはエポキシシランであり、また機能層の被覆組成物に加えることができる。ガ
ラスも好ましくは厚さ少なくとも１μｍ、さらに好ましくは少なくとも１０μｍ
の珪酸塩ゾル／ゲル被覆で被覆することができる。このような珪酸塩ゾル／ゲル
不動態層は典型的にはフラットパネル・ディスプレーに使用されるナトリウムガ
ラスに被覆してナトリウムイオンがガラスに被覆された電気伝導層へ拡散するの
を防ぐのに用いる。アルカリを含まない硼珪酸塩ガラスを本発明の積層体に使用
する場合には、このような珪酸塩ゾル／ゲル被覆は不必要である。
【００２６】 機能層はスパッタリング、物理的蒸着法、化学的蒸着法、並びに液体被覆溶液
からの被覆、例えば回転被覆、浸漬被覆、棒被覆、刃先被覆、空気ナイフ被覆、
グラビア被覆、逆ロール被覆、侵出被覆、スライド被覆、およびカーテン被覆に
よって積層体に被覆することができる。これらの被覆法に関する概説は米国Ｎｅ
ｗ Ｙｏｒｋ、ＶＣＨ ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ．１９９２年発行、Ｅｄ
ｗａｒｄ ＣｏｈｅｎおよびＥｄｇａｒ Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ編、”Ｍｏｄｅｒｎ
Ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”に記載され
ている。例えばスライド被覆またはカーテン被覆のような被覆法によって多数の
層を同時に被覆することができる。
【００２７】 本発明方法に従えば、本発明に使用する積層体の有利な性質、例えば軽量およ
び高強度のような特性のために、この積層体は太陽電池、カメラ、投影ディスプ
レー、特にＦＰＤのような半導体装置を製造するための優れた基質になる。この
積層体はシートまたはウエッブとして使用することができる。ウエッブは後で説
明するようにフラットパネル・ディスプレーをロールからロールへと移動させて
製造するのに特に好適である。
【００２８】 極めて好適なＦＰＤはＬＣＤである。典型的なＬＣＤセルは２枚の平行なガラ
ス板から成り、これらの板はそれぞれその内側の面に電気伝導性の層および液晶
配向層、別名整列層を有している。カラーＬＣＤにおいてはガラス板の１枚には
カラー・フィルターが取り付けられている。前記のようなガラス−積層体に取り
付けられた場合、これらの電気伝導性層、整列層およびカラー・フィルターは本
発明方法に従って被覆されるものと見做される。
【００２９】 液晶配向層は典型的には機械的に擦って液晶分子の配向子自身を擦った方向に
配向させるポリイミドフィルムから成っている。これ以上の情報はＤｉｓｐｌａ
ｙ誌、１９８７年１月号１７〜２１頁のＡ．ＭｏｓｌｅｙおよびＢ．Ｍ．Ｎｉｃ
ｈｏｌａｓの論文「擦った重合体層による液晶の表面整列」に見出すことができ
る。
【００３０】 酸化錫、酸化インジウムまたは錫をドーピングした酸化インジウム（ＩＴＯ）
から成る被膜はフラットパネル・ディスプレーの電気伝導性層として広く使用さ
れている。何故ならこれらの材料は可視スペクトル領域で透明であり、この特性
がかなり低い電気抵抗と組み合わされているからである。ＩＴＯは例えば米国Ｎ
ｅｗ Ｙｏｒｋ、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ（Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ、
１９７７年発行）Ｊ．Ｌ．Ｖｏｓｓｅｎ著、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ ｔｈｉｎ
ｆｉｌｍｓ、１〜７１ページ記載のＩＴＯ標的材料からＲＦスパッタリングを行
なう方法、またはＴｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ誌、８３巻２５９〜２６０
頁（１９８１年）および７２巻４６９〜４７４頁（１９８０年）記載のインジウ
ム−錫標的材料から反応性ＤＣマグネトロン・スパッタリングを行なう方法を実
施した後熱処理を行なって被覆することができる。
【００３１】 本発明に従えば、本発明の積層体は非連続的な（ｎｏｎ−ｃｏｎｔｉｇｕｏｕ
ｓ）機能層、例えばパッシブ・マトリックスＬＣＤまたは薄層トランジスター（
ＴＦＴ）のマルティプレックス・アドレッシング（ｍｕｌｔｉｐｌｅｘ−ａｄｄ
ｒｅｓｓｉｎｇ）に使用される行と列のような電子部品を規定する電気伝導性の
パターン、およびアクティブ・マトリックスＬＣＤに使用されるピクセル電極が
取り付けられている。このようなパターンを被覆するためには、写真石版法並び
にプリント法を使用することができる。また例えば積層化の後で積層剥離、イン
クジェット、トナージェット、電子写真または熱昇華法を行なうことによって積
層体の上に非連続的な層をつくることができる。
【００３２】 上記の電気伝導性のパターンおよび層と同様にＬＣＤばかりでなく他の型のＦ
ＰＤにも使用されるカラー・フィルターは、本発明方法によって被覆できる非連
続性の層の他の例である。カラー・フィルターはゼラチンをベースにしたフィル
ター、真空蒸着フィルター、プリントされたフィルター、干渉フィルター、電解
沈着フィルター等であることができる。若干の適当な例は例えばＪａｐａｎ Ｄ
ｉｓｐｌａｙ誌、１９８６年、３２０〜３２２頁のＴ．Ｕｅｎｏ，Ｔ．Ｍｏｔｏ
ｍｕｒａ，Ｓ．Ｎａｅｍｕｒａ，Ｋ．ＮｏｇｕｃｈｉおよびＣ．Ｔａｎｉの論文
「カラーＬＣＤに対する高品質有機顔料カラー・フィルター」；ＳＩＤ Ｉｎｔ
．Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏｎｆ．誌、１９８９年、４３４〜４３７頁のＴ．Ｕｎａ
ｔｅ，Ｔ．Ｎａｋａｇａｗａ，Ｙ．Ｍａｔｓｕｓｈｉｔａ，Ｙ．Ｕｇａｉおよび
Ｓ．Ａｃｋｉの論文「光学的干渉フィルターを使用する高透過度のアクティブ・
マトリックス・カラーＬＣＤ」；ＳＩＤ Ｉｎｔ．Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏｎｆ．
誌、１９９０年、２４０〜２４４３頁のＡ．Ｍａｔｓｕｓｈｉｔａ，Ｍ．Ｏｈａ
ｔａおよびＫ．Ｉｓｈｉｋａｗａの論文「ＬＣＤに対する多重カラー・フィルタ
ーの新しい製造法」；Ｅｕｒｏｄｉｓｐｌａｙ’８７予稿集、３７９〜３８２頁
および３９５〜３９６頁；ヨーロッパ特許Ｂ−３９６ ８２４号およびヨーロッ
パ特許Ａ−６１５ １６１号に記載されている。
【００３３】 これらの機能層を上記のガラス−積層体に被覆した後、組立工程でこのような
二つの積層体を組み合わせ、ガラス板の間の空間が液晶組成物およびスペーサー
で充填されたていわゆるＬＣＤセルを得る。支持材はこの組立工程の前または後
で取除くことができるか、或いはガラスに固定したままにしておくことができる
。組立工程の後に偏光子または他の箔、例えば画像の品質を改善する箔、例えば
遅延フィルム、反射または反射防止用の箔、視覚を改善する箔、光分散用の箔等
をＬＣＤセルに対して積層化することができる。これらの箔は本発明によって被
覆し得る機能層とは見做さない。何故ならばこれらの箔は自己支持性の層であり
、従って上記の「機能層」の定義に合わないからである。
【００３４】 上記の方法はパッシブ・マトリックス（ｐａｓｓｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ）ＬＣ
Ｄ並びにアクティブ・マトリックス（ａｃｔｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ）ＬＣＤ、例
えば薄層トランジスター（ＴＦＴ）ディスプレーの製造の際に使用することがで
きる。特定の例としてはツイステッド・ネマティック（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍ
ａｔｉｃ）（ＴＮ）、スーパーツイステッド・ネマティック（ＳＴＮ）、二重ス
ーパーツイステッド・ネマティック（ＤＳＴＮ）、遅延フィルムスーパーツイス
テッド・ネマティック（ＲＦＳＴＮ）、強誘電性（ＦＬＣ）、ゲスト−ホスト（
ＧＨ）、重合体分散型（ＰＦ）、重合体ネットワーク型（ＰＮ）液晶ディスプレ
ー等がある。
【００３５】 本発明の利点を得ることができる発光ＦＰＤ型のディスプレーは例えばプラズ
マ・ディスプレー（ＰＤ）、フィールド・エミッション・ディスプレー（ＦＥＤ
）およびいわゆる有機性発光ポリマー・ディスプレー（ＯＬＥＤ）である。この
ようなエレクトロリュミネッセンス型のディスプレーでは少なくとも１枚のガラ
ス板の上にある電気伝導層またはパターンを不透明の材料、例えば銀またはニッ
ケルで置き換えることができる。
【００３６】 ＰＤＳはガスを充填した容積を取り囲む２枚のガラス板から成り、ガスは典型
的には希ガスまたはその混合物である。ガスを充填したキャビティーの中にある
電極に高圧、典型的には約１００Ｖの電圧をかけることにより、プラズマ放電が
起こって紫外線が放出される。多くの設計においては、放電はガラス板の間に絶
縁材料の壁でつくられた別々のセル（ピクセル）の中に閉じ込められている。紫
外線によってセルの壁上に存在する燐が励起され、カラー画像が得られる。プラ
ズマからやはり放出される橙色の光を除去するために、ＦＥＤにもカラー・フィ
ルターが使用される。電気伝導層またはパターンは、例えば酸化鉛または酸化マ
グネシウムから成る誘電体の保護層を被覆することによりプラズマから遮蔽する
ことができる。このような絶縁体の壁、燐、カラー・フィルターおよび誘電体の
保護層は本発明方法により被覆し得る（非連続的な）機能層と見做される。
【００３７】 ＦＥＤもまた機能層を備えた２枚のガラス板から成っている。ＬＣＤおよびＰ
Ｄに見られるような電気伝導層またはパターンの他に、ＦＥＤのガラス板の一つ
にはそれぞれ微小な電子銃として作用する例えばモリブデンから成る多数のマイ
クロチップが取り付けられている。２００〜８００Ｖの高電圧をかけると、これ
らのマイクロチップは反対側のガラス板の上の燐の層の方へ電子ビームを放出す
る。反対側のガラス板には対向電極として典型的にはＩＴＯ層が被覆されている
。ＦＥＤの電気伝導層およびパターン、マイクロチップおよび燐の層は本発明方
法によって被覆し得る機能層と見做される。
【００３８】 ＯＬＥＤは発光性の化合物としてエレクトロリュミネッセンス重合体、例えば
ｐ−フェニレンビニレン、フルオレン誘導体およびジスチリルベンゼン化合物を
含んでいる。幾つかの特定の例は例えば米国特許５，２４７，１９０号および５
，４０１，８２７号に記載されている。Ｓ．ＭｉｙａｔａおよびＨ．Ｓ．Ｎａｌ
ｗａ編、Ｇｏｒｄｏｎ ａｎｄ Ｂｒｅａｃｈ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ１９９７
年発行の”Ｏｒｇａｎｉｃ ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ ｍａｔｅ
ｒｉａｌｓ ａｎｄ ｄｅｖｉｃｅｓ”に広範な概説が記載されている。典型的
なＯＬＥＤは反射陽極、電子輸送層、発光層、正孔輸送層および透明な陽極から
成っており、すべてのこれらの層は２枚のガラス板またはプラスティックス・シ
ートの間にサンドイッチ状に挟まれている。カラーＯＬＥＤは、それぞれ三原色
の一つを放出するこのような３個の基本的なセルを互いに積み重ねることによっ
てつくることができる。上記のガラス積層体に被覆した場合、ＯＬＥＤに見られ
るこれらの機能層は本発明方法で被覆し得る機能層と見做される。
【００３９】 本発明に使用される積層体はまた可撓性の材料であることができる。本明細書
において使用される「可撓性」という特徴は、その材料が芯の周りに巻くことが
できることを意味する。好適な可撓性の積層体は半径１．５ｍの円筒形の芯の周
りに破断することなく巻き付けることができる。ガラスの厚さが薄いほど可撓性
は高く、破断を生じることなく材料を巻き付け得る芯の半径は小さくなる。しか
しガラスの脆性はガラスの厚さに反比例し、用途に応じて可撓性と脆性との間で
折衷を図る。従って本発明に使用される可撓性をもった積層体には連続式ウエッ
ブ被覆装置を用いて機能層を取り付けることができ、フラットパネル・ディスプ
レーをロールからロールに移動させて工業的に製造することができ、これによっ
て現在使用されているようなバッチ法に比べ工程のコストを著しく低下させるこ
とができる。
【００４０】 本発明の利点が得られるＦＰＤの他の例はいわゆる電子ブック、例えば世界特
許公開明細書９７／０４３９８号記載の装置である。
【００４１】
【実施例】
上記ＡＦ４５型の厚さ１００μｍの可撓性をもった硼珪酸塩ガラスのシートを
、厚さ１７０μｍのＰＥＴ箔に対し、ガラスとＰＥＴ箔との間の接着層としてＳ
ｏｌｕｃｒｙｌ（ベルギー、ＵＣＢの登録商標）３５５ＨＰを使用して積層化し
た。この積層体を基質として使用しそのガラス側にハレーション防止層、青に感
度をもつ乳化層、第１の中間層、緑に感度をもつ乳化層、第２の中間層、および
赤に感度をもつ乳化層を被覆する。これらの層はハロゲン化銀写真用フィルムの
製造に使用される標準的な被覆装置を用いて被覆した。このようにして得られた
カラー・ネガの材料を用い下記のカラー・フィルターをつくる。これらの層の組
成はヨーロッパ特許Ａ−８０２ ４５３号に記載されており、これを下記に再録
する。
【００４２】 ハレーション防止層 式ＹＤの非拡散性黄色染料をゼラチンに分散させる。この分散物に接着促進剤
として作用するエポキシシランＥを加えた。黄色染料ＹＤ、ゼラチンおよびエポ
キシシランＥの被覆率はそれぞれ０．５、１．５および０．１ｇ／ｍ2である。
【００４３】 青に感度をもつ層 平均粒径０．４μｍの１００％塩化銀の乳剤を式ＳＢのスペクトル増感剤で青
の光に対して増感する。式Ｙ１の黄色染料生成用カプラーをこの乳剤に加える。
ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーＹ１の量はそれぞれ０．５７、
３．３０および１．０ｇ／ｍ2である。
【００４４】 第１の中間層 酸化されたカラー現像剤を浄化し得る式ＳＤ１の物質をゼラチンに分散させ、
ＳＤ１を０．０８ｇ／ｍ2、ゼラチンを０．７７ｇ／ｍ2の被覆率で被覆した。
【００４５】 緑に感度をもつ層 平均粒径が０．１２μｍの塩化臭化銀（モル比９０／１０）を式ＳＧのスペク
トル増感剤で緑の光に対して増感する。式Ｍ１のマゼンタ染料生成用カプラーを
この乳剤に加えた。ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーＭ１の量は
それぞれ０．７１、２．８および０．５３ｇ／ｍ2であった。
【００４６】 第２の中間層 この層は第１の中間層と同じ組成をもっている。
【００４７】 赤に感度をもつ層 平均粒径が０．１２μｍの塩化臭化銀（モル比９０／１０）を式ＳＲのスペク
トル増感剤で赤の光に対して増感する。式Ｃ１のシアン染料生成用カプラーをこ
の乳剤に加えた。ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーＣ１の量はそ
れぞれ０．４９、６および０．９５ｇ／ｍ2であった。
【００４８】 アキュタンス（ａｃｃｕｔａｎｃｅ）染料として作用する黄色、マゼンタおよ
びシアンの水溶性染料がそれぞれ適当な被覆率で青、緑および赤に感度をもつ層
の中に存在し、硬化剤として作用するヒドロキシトリクロロトリアジンは０．０
３５ｇ／ｍ2の被覆率で赤に感度をもつ層の中に存在している。
【００４９】
【化１】
【００５０】
【化２】
【００５１】
【化３】
【００５２】 次にこの材料に対し多重カラー・マスターを用いて単一工程のピクセル毎の露
光を行ない、下記の方法に従って処理する。
【００５３】 現像剤 亜硫酸ナトリウム（無水） ４ｇ ４−アミノ−３−メチル−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン塩酸塩 ３ｇ 炭酸ナトリウム（無水） １７ｇ 臭化ナトリウム １．７ｇ 硫酸、７Ｎ ０．６２ｍｌ 水を加えて １０００ｍｌ 現像後、水を最高１リットル〜５０ｍｌの７Ｎ硫酸に加えてつくった酸性停止
浴中で材料を処理する。
【００５４】 停止浴で処理した後、通常の水で２分間濯いだ後、下記の組成の水溶液中で３
分間定着を行なう。
【００５５】 （ＮＨ4）2Ｓ2Ｏ3の５８％水溶液 １００ｍｌ 亜硫酸ナトリウム（無水） ２．５ｇ 亜硫酸水素ナトリウム（無水） １０．３ｇ 水を加えて １０００ｍｌ 通常の水で２分間濯いだ後、下記の組成の水溶液中で３分間漂白処理を行なう
。
【００５６】 ヘキサシアノ鉄酸カリウム（ＩＩＩ）（無水） ３０ｇ 臭化ナトリウム（無水） １７ｇ 水を加えて １０００ｍｌ 次にこの材料を再び定着液で処理し、通常の水で３分間水洗する。
【００５７】 最後にｐＨが９で２０ｍｌ中に硬化剤として作用するフォルムアルデヒド４０
％水溶液を含む溶液で処理する。
【００５８】 上記の処理を行なった後、ＦＰＤに適した多重カラー・フィルターを得たが、
このフィルターは黄色の画像、マゼンタの画像およびシアンの画像をそれぞれ最
高の密度で含んでいる。例えばヨーロッパ特許Ａ−８０２ ４５３号に記載のよ
うな厚さ１．５ｍｍのガラス板に同じ組成物が被覆されている従来法に比べれば
、本実施例の多重カラー・フィルターは遥かに軽量である特徴をもっている。ま
た積層体の熱的安定性および寸度安定性はこの例に使用されたＰＥＴ箔のような
プラスティックスの基質に比べ著しく良好である。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年４月１７日（２０００．４．１７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 半導体装置の基質としてのガラス積層体の使用
【特許請求の範囲】
【請求項１４】 ガラスが硼珪酸塩であることを特徴とする請求項１〜１３ 記載の方法 。
【請求項１５】 ウエッブ被覆装置で機能層を基質に被覆することを特徴と する請求項１〜１４記載の方法 。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の分野】 本発明は半導体装置、特にフラットパネル・ディスプレーの製造の際に機能層
を被覆する基質としてのガラス積層品の使用に関する。
【０００２】
【発明の背景】 液晶ディスプレー（ＬＣＤ）はここ数年の間低価格の情報用ディスプレーとし
て例えば計算器、時計、ビデオゲーム、オーディオおよびビデオ装置、携帯用計
算機、自動車のダッシュボード等、即ち軽量であることが重要な特徴となる移動
式の装置に使用されて来た。さらにその品質および大きさが改善され、ＬＣＤは
これまでテレビセットおよび卓上型コンピュータに広く使用されて来た陰極線管
（ＣＲＴ）の有望な代替品となっている。最近では他のフラットパネル型のディ
スプレー（ＦＰＤ）、例えばプラズマ・ディスプレー（ＰＤ）、フィールド・エ
ミッション・ディスプレー（Ｆｉｅｌｄ ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｄｉｓｐｌａｙ、
ＦＥＤ）および有機性発光ポリマー・ディスプレー（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈ
ｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｐｏｌｙｍｅｒ ｄｉｓｐｌａｙ、ＯＬＥＤ）がＬＣＤ
の潜在的な代替品として多くの注目を浴びている。ＰＤ、ＦＥＤまたはＯＬＥＤ
は発光型のディスプレーであり、ＬＣＤに伴う二つの主要な問題、即ち視覚が小
さいことおよび効率が低いこと（典型的には入射光または背景光の数％しかＬＣ
Ｄを通って読取り得る画像をつくらない）に対する解決策を与えることができる
。
【０００３】 これらのすべてのＦＰＤにおいては、２枚のガラスを使用して機能層、例えば
ピクセルのアドレッシング（ａｄｄｒｅｓｓｉｎｇ）を行なうための電気伝導層
、カラー・フィルター、ＬＣＤの液晶配向層または整列層、或いはＦＥＤおよび
ＰＤの燐の層を担持させる。このような機能層が取付られた２枚のガラス板の間
には充填剤、例えば液晶化合物（ＬＣＤ）、発光ポリマー（ＯＬＥＤ）またはプ
ラズマ生成ガス（ＰＤ）が被覆されている。しばしばディスプレー・セルと呼ば
れるこのようなサンドイッチ構造体を組み立てた後、１枚またはそれ以上の箔を
ガラスの基質の外側の表面に積層化することができる。ＬＣＤでは偏光子の箔が
必要な構成成分であり、これをガラスの基質に積層化する。また画像の品質を改
善するために数種の他の種類の箔が広く使用されている。例えば遅延フィルム、
反射または反射防止用の箔、視覚を改善するための箔、光を分散させる箔等が使
用される。
【０００４】 ＦＰＤに使用されるガラス板は０．７〜１．１ｍｍの典型的な厚さをもってい
る。ガラスの比重は大きいから、ディスプレーの全重量は主としてこれらのガラ
ス板の大きさおよび厚さで決定される。「Ｄｉｓｐｌａｙ Ｄｅｖｉｃｅｓ」誌
、１９９６年春発行（東京、電波出版社（Ｄｅｍｐａ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ
Ｉｎｃ．）Ｓｅｒｉａｌ ｎｏ．１３、１４〜１９頁記載の「第４世代のＬＣ
Ｄ − ＥＩＡＪ装置の予測」には、ＦＰＤの重量の減少が研究すべき主要な課
題であることが強調されている。移動式のディスプレー並びに大きな静止型のデ
ィスプレー、例えばテレビセットまたは卓上型のコンピュータのディスプレーの
いずれに対しても重量の減少は重要である。しかしこのような薄いガラスは脆い
ために、ガラス板の厚さをこれ以上減少させることには限度がある。
【０００５】 ヨーロッパ特許Ａ−７５９ ５６５号には、ポリカーボネートの受取り層が取 り付けられた可撓性のある薄いガラスの上に機能層が被覆する方法が記載されて いる。このような基質は、破断を起こす確率が受取り層によって改善されないか ら、非常に脆い 。
【０００６】 或る種の低価格の用途に対しては、ＬＣＤの軽量の基質としてプラスティック
スのシートが使用されている。プラスティックスは強度が大きく可撓性をもって
いるために、可撓性のディスプレーをつくることも可能である。しかしこのよう
なプラスティックス・シートの間にある液晶組成物および他の機能層は化学薬品
、酸素、水分、機械的衝撃および他の外からの影響から十分には保護されておら
ず、その結果このようなプラスティックス・ディスプレーの寿命が制限される。
またプラスティックスはガラスに比べ、高品質のディスプレーを得るために必要
な本質的な性質である熱的安定性および寸度安定性が非常に低い。
【０００７】 ガラスシートとプラスティックスの箔との積層体も当業界に公知である。良く
知られた例としてはフランス特許２．１３８．０２１号およびヨーロッパ特許Ａ
−６６９ ２０５号記載のような自動車の風防ガラスに使用される安全ガラスが
ある。該ヨーロッパ特許明細書には、ガラス板、中間接着層およびプラスティッ
クスの板から成り、ガラスの厚さが３０〜１０００μｍであるガラス／プラステ
ィックス積層体が記載されている。このガラスは好ましくは化学的に硬化させた
ガラスであり、積層化する前に機能層をガラスに被覆することができる。積層化
した後、この機能層をガラスとプラスティックス層との間でサンドイッチにし、
これによって外界の影響から保護する。薄い化学的に硬化させたガラスとプラス
ティックス支持体との積層体は米国特許３，４７１，３５６号にも記載されてい
る。
【０００８】
【発明の概要】 本発明の目的は、比重が小さく且つ脆性が低く、また寸度安定性および熱的安
定性が高く、かたさおよび引っ掻き耐性が大きく、有機溶媒または反応性試薬の
ような化学薬品に対する耐性が良好な基質に機能層を被覆する工程を含む半導体
装置を製造する方法を提供することである。この目的は請求の範囲１記載の方法
によって実現される。本発明の好適具体化例は添付請求の範囲に記載されている
。下記の詳細な説明において本発明のさらに他の利点および具体化例の説明を行
なう。
【０００９】
【発明の詳細な記述】 本発明方法に使用される積層体は薄いガラス層と支持材から成っている。本明
細書において使用される「積層体」という言葉は、「多数の接合された層から成
る材料」と理解すべきである。ガラス層および支持材はそれらの間に中間接着層
を被覆することによって互いに接合することができるが、下記に説明するように
真空積層法を使用することもできる。本明細書において「支持材」という言葉は
「自己支持性の層」、例えばプラスティックスの層の意味で使用し、支持材の上
に被覆できるが自己支持性ではない層、例えば本明細書の冒頭に説明しまたさら
に下記に説明するような機能層と区別する。
【００１０】 ガラスは引っ掻き、水分、溶媒およびガスから支持材を保護し、支持材の寸度
安定性および熱的安定性を改善している。積層体の寸度安定性はガラスと支持材
との相対的な厚さに依存し、またこれら両方の材料の弾性に依存している。薄い
ガラスの基質と例えばプラスティックスの支持材とから成る積層体は、プラステ
ィックスの支持材そのものに比べて著しく改善された寸度安定性をもっている。
積層体になった支持材が存在することによってガラスが割れる危険性が著しく減
少する。その表面に高い局所的な圧力がかかることによってガラスが割れた場合
でも、ガラスの破片は積層体になった支持材に固定されて留まる。積層体にしな
い場合には、特に薄いガラスを基質に使用した場合、割れる確率は非常に高く、
ガラスの破片は製造工程を著しく撹乱するであろう。また積層体全体としての比
重はガラスの比重よりも実質的に小さくなり、特に積層体の支持材として例えば
プラスティックスを使用した場合にはそうである。
【００１１】 本発明に使用される積層体のガラスは厚さが７００μｍよりも薄い。或る用途
に対しては３００μｍよりも、特に２００μｍよりも薄いことが好適である。脆
性を小さくするためには３０μｍよりも薄くないこと、特に５０μｍよりも薄く
ないことが好適である。これらの規格のガラスは当業界に公知である。ヨーロッ
パ特許Ａ−７１６ ３３９号には厚さが１．２ｍｍよりも薄く、破断応力（引張
り応力下における）が１×１０7Ｐａ以上、弾性モジュラス（ヤング率）が１× １０11Ｐａ以下の薄いガラス基質が記載されている。
【００１２】 ガラスは例えばナトリウム・フロートガラス（ｆｌｏａｔ ｇｌａｓｓ）、化
学的に強化されたガラス、または硼珪酸塩ガラスであることができる。このよう
なガラスは半熔融したガラスを金属のローラの間で絞って薄いウエッブにするこ
とによって製造することができる。米国特許４，３８８，３６８号には可撓性の
ガラスシートをつくるための下記の方法が記載されている。１５５０℃で熔融さ
せたソーダライムガラス（重量比Ｎａ2Ｏ・ＣａＯ・ＳｉＯ2＝１５：１３：７２
）を延伸しロールにかける。このようにしてつくったガラスの両端をクリップで
支持し、約３５０℃に加熱する。次にこのガラスシートに上記加熱温度よりも低
い温度、例えば約７００℃の高温の空気を吹き付けながら、ガラスシートを元の
シートの面積の１．０５〜１０倍に伸長する。このようにしてガラスシートを薄
い部分の方が速く冷却するようにし、伸長したガラスシートの厚さを均一に保つ
。同様な方法は日本特許Ａ−５８，０９５，６２２号に記載されている。日本特
許Ａ−５８，１４５，６２７号に記載された他の方法では、熔融したガラスのウ
エッブを上方に引張った後大きなローラを用いて熔融した金属浴の表面上に直ち
に水平に延伸し、次いで徐々に冷却する。このようにしてつくられたガラスは平
らさが改善される。
【００１３】 本発明に使用するのに極めて好適なガラスは薄い硼珪酸塩ガラスであり、これ
は通常のナトリウム・フロートガラスに比べ非常に大きな強度をもっている。硼
珪酸塩ガラスはＳｉＯ2およびＢ2Ｏ3から成っている。或る種の硼珪酸塩ガラス の詳細な組成は例えば米国特許４，８７０，０３４号、同４，５５４，２５９号
および同５，５４７，９０４号に記載されている。
【００１４】 化学的に強化されたフロートガラスは通常のフロートガラスよりも大きな強度
をもっていることが知られている。化学的に強化されたガラスは両方の表面層の
所でもともと存在したアルカリイオンが大きな半径をもったアルカリイオンで少
なくとも部分的に置換されているガラスである。化学的に強化されたナトリウム
・ライム・シリカガラスにおいては、ガラス表面付近のナトリウムイオンは少な
くとも部分的にカリウムイオンで置き換えられ、化学的に強化されたリチウム・
ライム・シリカガラスでは、表面付近のリチウムイオンは少なくとも部分的にナ
トリウムおよび／またはカリウムで置き換えられている。化学的に強化されたガ
ラスの公知製造法では日本特許Ａ−５６，０４１，８５９号、英国特許１，２０
８，１５３号および米国特許３，６３９，１９８号記載のようにガラスをイオン
交換が起こる条件に露出する。ガラスの化学的な強化法のもっと詳細な点は例え
ば「Ｇｌａｓｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」誌、第６巻第３号（１９６５年６月）
９０〜９７頁に記載されている。
【００１５】 薄いガラスは例えばＰｉｌｋｉｎｇｔｏｎおよびＣｏｒｎｉｎｇから市販され
ている。本発明方法に使用するのに好適な薄い硼珪酸塩ガラスは例えばＳｃｈｏ
ｔｔグループの会社であるＤｅｕｔｃｈｅ Ｓｐｅｚｉａｌｇｌａｓｓ ＡＧ（
Ｄｅｓａｇ、ドイツ）からＡＦ４５およびＤ２６３型として厚さ最低３０μｍの
ものが市販されている。Ｄｅｓａｇから１９９５年に出版された技術資料「無ア
ルカリおよび低アルカリの薄いガラス」、副題「ＡＦ４５およびＤ２６３：電子
的用途のガラス」によれば、薄い硼珪酸塩ガラスは厚さが３０μｍ、５０μｍ、
７０μｍ、１００μｍ、１４５μｍ、１７５μｍ、２１０μｍ、３００μｍ、４
００μｍ、５５０μｍおよび７００μｍのものが市販されている。
【００１６】 本発明に従ってガラスに積層化させる支持材は紙または金属、さらに好ましく
はプラスティックスの箔、例えば酢酸セルロース、ポリ（ビニルアセタール）、
ポリスチレン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ（エチレンテレフタレート）（
ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）
であることができる。また例えばアクリロニトリル、スチレンおよびブタジエン
の共重合体、或いはシクロオレフィン共重合体（ＣＯＣ）、例えば（ポリ）シク
ロペンタジエン（ＰＤＣＰ）、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＥＳおよびＰＤＣＰの共重合体
が極めて好適である。
【００１７】 支持材は好ましくは５００μｍより、さらに好ましくは２５０μｍよりも薄い
厚さをもっている。高温工程に積層体を使用する場合、非常に薄い支持材、例え
ば１０〜５０μｍの範囲の厚さの支持材を使用し、ガラスと支持材との熱収縮ま
たは熱膨張が異なることによる材料の過度の曲がりを有利に避けることができる
。画像記録材料またはフラットパネル・ディスプレーに使用する場合、支持材は
透明な支持材であることが好ましい。好適具体化例においては支持材並びに接着
層はガラスと実質的に同じ屈折率をもっていることが特徴である。
【００１８】 ガラスを支持材に積層化する方法は公知である。いわゆる真空積層化により接
着剤を用いずに両方の層を積層化することができる。真空積層化によりガラスと
支持材との間に効果的な接合を得るためには、これらの材料は両方とも表面の粗
さが少ないことがことが好ましい。例えば支持材は、しばしばプラスティックス
の箔または箔の上の被膜の中に導入され粘着化を防ぐ隙間剤（ｓｐａｃｉｎｇ
ａｇｅｎｔ）を含んでいないことが好ましい。真空積層化の他に、両面接着テー
プ、または例えば高温熔融物またはラテックスを被覆した後に熱または圧力をか
けて得られる接着層を使用することが極めて好適である。該ラテックスは例えば
ポリウレタン、ポリエチレン、ポリ（アクリル酸メチル）またはエチレン−酢酸
ビニル共重合体である。別法として僅かに湿らせたゼラチン層を接着層として使
用することができる。
【００１９】 接着層はガラス、支持材、または両方に被覆することができ、積層化した直後
に除去し得る剥離層によって保護することができる。積層化の後に、ガラスと支
持材との間の接合は永久的な接合または可逆的な接合であることができる。後者
の場合にはガラスと支持材とを再び互いに剥がすことができる。
【００２０】 ガラスと支持材との積層化は手動で行なうことができるが、いわゆる積層機と
呼ばれる積層化を行なう機械で行なうことが好ましい。典型的な積層機は調節可
能な圧力をかけることができ且つ一定のまたは調節可能な速度で動かし得る一対
の加熱し得るローラを具備している。積層機を用いる積層化はガラスと支持材と
を互いに密着させ、随時両方の材料の間に接着剤を被覆し、積層機のローラの間
に通すことによって行なわれる。
【００２１】 接着層は熱感性の接着剤（ＴＳＡ）の層、圧感性の接着剤（ＰＳＡ）の層また
は紫外線で硬化し得る接着剤（ＵＶＡ）、電子ビームに露光して硬化させ得る接
着剤または熱で硬化させ得る接着剤であることができる。典型的な水で被覆し得
るＴＳＡはガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃よりも低いラテックスである。本発
明の積層体を高温を必要とする工程、例えばフラットパネル・ディスプレーの製
造中に使用する場合、適当なＴＳＡはＴｇがその工程の最高温度よりも少なくと
も１０℃高い重合体を含んでいることが好ましい。同様な理由により、最高１５
０℃、さらに２００℃の温度まで熱的に安定なＰＳＡまたは硬化可能な接着剤が
好適である。
【００２２】 本発明に使用するのに好適なＰＳＡ層は１種またはそれ以上の粘着性のエラス
トマー、例えばスチレン／イソプレンのブロック共重合体、スチレン／ブタジエ
ンゴム、ブチルゴム、イソブチレンの重合体およびシリコーンから成っている。
特に好適なものは天然ゴムおよび米国特許３，８５７，７３１号記載のアクリレ
ート共重合体である。このアクリレート重合体は好ましくは９０〜９９．５重量
％の少なくとも１種のアクリル酸アルキルエステルおよび１０〜０．５重量％の
実質的に油に不溶で水溶性のイオン性単量体およびマレイン酸無水物から成る群
から選ばれる単量体から成っている。このアクリル酸エステル部分は、疎水性で
水で乳化でき、実質的に水に不溶であり、均質重合体としてガラス転移温度が２
０℃以下の単量体から成っていることが好ましい。このような単量体の例にはア
クリル酸イソオクチル、アクリル酸４−メチル−２−ペンチル、アクリル酸２−
メチルブチル、およびアクリル酸ｓｅｃ−ブチルがある。適当な単量体の他の例
には例えばトリメチルアミンメタクリルアミド、トリメチルアミンｐ−ビニルベ
ンズイミド、アクリル酸アンモニウム、アクリル酸ナトリウム、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−Ｎ−１−（２−ヒドロキシプロピル）アミンメタクリルアミドおよびマレイ
ン酸無水物がある。ＰＳＡは、未処理の紙に被覆した場合、連続被覆（被覆率１
００％）剥離接着値が幅１ｃｍ当たり０．１〜１０Ｎである。
【００２３】 ＰＳＡはさらに接合剤を含んでいることができる。適当な接合剤は圧感性接着
剤に対して不活性である。即ち圧感性接着剤と化学的に反応しない。このような
接合剤の例はニトロセルロース、ウレタン、ゼラチン、ポリビニルアルコール等
である。接合剤の量は圧感性接着剤が効果的に積層化するように選ばなければな
らない。接合剤の量は好ましくは圧感性接着剤に関して２．５重量部より、さら
に好ましくは０．６重量部よりも少ない。
【００２４】 ＵＶＡは広い意味で二つの範疇、即ち遊離基で重合したものおよび陽イオン重
合したものに分類することができる。遊離基重合によってつくられた重合体は一
般にアクリルの単量体またはオリゴマーをベースにしており、紫外線を当てて交
叉結合させ高分子量重合体に変える。ＵＶＡは好ましくは光反応開始剤、例えば
ベンゾフェノン−アミン、α−置換アセトフェノンまたはアミノアセトフェノン
を含んでいる。イソプロピルチオキサントンを加えると、光反応開始剤に対し増
感効果があり、有用な露光領域を可視光の近くに移動させることが知られている
。このことは使用者の安全に対しては重要である。ＵＶＡに典型的に使用される
他の成分は可撓化剤、例えばアクリル材料の中に溶媒和された或いは分散された
熱可塑性材料、接着促進剤、例えばポリエチレンまたはポリプロピレン、および
充填剤である。ＵＶＡに関する他の情報はＲａｄＣｕｒｅＬｅｔｔｅｒ Ｎｏ．
５（１９９６）およびＴａｐｐｉ Ｊｏｕｒｎａｌ，１９９２年１月号、１２１
〜１２５頁に記載されている。電子ビームで硬化させ得る接着剤は原理的に紫外
線で硬化させ得る接着剤と同じ機構で動作するが、光反応開始剤を必要としない
。
【００２５】 本発明に使用される適当な接着剤の例には、Ｓｏｌｕｃｒｙｌ（ベルギー、Ｕ
ＣＢの登録商標）、好ましくはＳｏｌｕｃｒｙｌの３５５ＨＰ、３８０および８
２５Ｄ型；Ｒｈｏｄｏｔａｋ（Ｒｈｏｎｅ−Ｐｏｕｌｅｎｃの登録商標）；Ａｃ
ｒｏｎａｌ（ＢＡＳＦの登録商標）；Ｄｕｒｏ−Ｔａｋ３８０−２９５４（Ｎａ
ｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈ ＆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｂ．Ｖ．の登録商標）；
ＰＥＲＭＡｐｒｉｎｔ ＰＰ２０１１型およびＰＥＲＭＡｇａｒｄ ＰＧ７０３
６型（ベルギー、Ｖａｒｉｔａｐｅ Ｎ．Ｖ．の登録商標）がある。
【００２６】 本発明方法においては、機能層を支持材に被覆するが、それを積層体のガラス
側に取り付けることが好ましい。この機能層を被覆する前にガラスの表面を予備
処理する。例えば機能層を良好に接着させるためにエッチングを行なうかまたは
下塗り層で予備被覆を行なうことができる。この目的に特に適した下塗り層は珪
素含有化合物をベースにしたもので、例えば米国特許３，６６１，５８４号およ
び英国特許１，２８６，４６７号に記載されている。該珪素含有化合物は好まし
くはエポキシシランであり、また機能層の被覆組成物に加えることができる。ガ
ラスも好ましくは厚さ少なくとも１μｍ、さらに好ましくは少なくとも１０μｍ
の珪酸塩ゾル／ゲル被覆で被覆することができる。このような珪酸塩ゾル／ゲル
不動態層は典型的にはフラットパネル・ディスプレーに使用されるナトリウムガ
ラスに被覆してナトリウムイオンがガラスに被覆された電気伝導層へ拡散するの
を防ぐのに用いる。アルカリを含まない硼珪酸塩ガラスを本発明の積層体に使用
する場合には、このような珪酸塩ゾル／ゲル被覆は不必要である。
【００２７】 機能層はスパッタリング、物理的蒸着法、化学的蒸着法、並びに液体被覆溶液
からの被覆、例えば回転被覆、浸漬被覆、棒被覆、刃先被覆、空気ナイフ被覆、
グラビア被覆、逆ロール被覆、侵出被覆、スライド被覆、およびカーテン被覆に
よって積層体に被覆することができる。これらの被覆法に関する概説は米国Ｎｅ
ｗ Ｙｏｒｋ、ＶＣＨ ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ．１９９２年発行、Ｅｄ
ｗａｒｄ ＣｏｈｅｎおよびＥｄｇａｒ Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ編、”Ｍｏｄｅｒｎ
Ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”に記載され
ている。例えばスライド被覆またはカーテン被覆のような被覆法によって多数の
層を同時に被覆することができる。
【００２８】 本発明方法に従えば、本発明に使用する積層体の有利な性質、例えば軽量およ
び高強度のような特性のために、この積層体は太陽電池、カメラ、投影ディスプ
レー、特にＦＰＤのような半導体装置を製造するための優れた基質になる。この
積層体はシートまたはウエッブとして使用することができる。ウエッブは後で説
明するようにフラットパネル・ディスプレーをロールからロールへと移動させて
製造するのに特に好適である。
【００２９】 極めて好適なＦＰＤはＬＣＤである。典型的なＬＣＤセルは２枚の平行なガラ
ス板から成り、これらの板はそれぞれその内側の面に電気伝導性の層および液晶
配向層、別名整列層を有している。カラーＬＣＤにおいてはガラス板の１枚には
カラー・フィルターが取り付けられている。前記のようなガラス−積層体に取り
付けられた場合、これらの電気伝導性層、整列層およびカラー・フィルターは本
発明方法に従って被覆されるものと見做される。
【００３０】 液晶配向層は典型的には機械的に擦って液晶分子の配向子自身を擦った方向に
配向させるポリイミドフィルムから成っている。これ以上の情報はＤｉｓｐｌａ
ｙ誌、１９８７年１月号１７〜２１頁のＡ．ＭｏｓｌｅｙおよびＢ．Ｍ．Ｎｉｃ
ｈｏｌａｓの論文「擦った重合体層による液晶の表面整列」に見出すことができ
る。
【００３１】 酸化錫、酸化インジウムまたは錫をドーピングした酸化インジウム（ＩＴＯ）
から成る被膜はフラットパネル・ディスプレーの電気伝導性層として広く使用さ
れている。何故ならこれらの材料は可視スペクトル領域で透明であり、この特性
がかなり低い電気抵抗と組み合わされているからである。ＩＴＯは例えば米国Ｎ
ｅｗ Ｙｏｒｋ、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ（Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ、
１９７７年発行）Ｊ．Ｌ．Ｖｏｓｓｅｎ著、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ ｔｈｉｎ
ｆｉｌｍｓ、１〜７１ページ記載のＩＴＯ標的材料からＲＦスパッタリングを行
なう方法、またはＴｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ誌、８３巻２５９〜２６０
頁（１９８１年）および７２巻４６９〜４７４頁（１９８０年）記載のインジウ
ム−錫標的材料から反応性ＤＣマグネトロン・スパッタリングを行なう方法を実
施した後熱処理を行なって被覆することができる。
【００３２】 本発明に従えば、本発明の積層体は非連続的な（ｎｏｎ−ｃｏｎｔｉｇｕｏｕ
ｓ）機能層、例えばパッシブ・マトリックスＬＣＤまたは薄層トランジスター（
ＴＦＴ）のマルティプレックス・アドレッシング（ｍｕｌｔｉｐｌｅｘ−ａｄｄ
ｒｅｓｓｉｎｇ）に使用される行と列のような電子部品を規定する電気伝導性の
パターン、およびアクティブ・マトリックスＬＣＤに使用されるピクセル電極が
取り付けられている。このようなパターンを被覆するためには、写真石版法並び
にプリント法を使用することができる。また例えば積層化の後で積層剥離、イン
クジェット、トナージェット、電子写真または熱昇華法を行なうことによって積
層体の上に非連続的な層をつくることができる。
【００３３】 上記の電気伝導性のパターンおよび層と同様にＬＣＤばかりでなく他の型のＦ
ＰＤにも使用されるカラー・フィルターは、本発明方法によって被覆できる非連
続性の層の他の例である。カラー・フィルターはゼラチンをベースにしたフィル
ター、真空蒸着フィルター、プリントされたフィルター、干渉フィルター、電解
沈着フィルター等であることができる。若干の適当な例は例えばＪａｐａｎ Ｄ
ｉｓｐｌａｙ誌、１９８６年、３２０〜３２２頁のＴ．Ｕｅｎｏ，Ｔ．Ｍｏｔｏ
ｍｕｒａ，Ｓ．Ｎａｅｍｕｒａ，Ｋ．ＮｏｇｕｃｈｉおよびＣ．Ｔａｎｉの論文
「カラーＬＣＤに対する高品質有機顔料カラー・フィルター」；ＳＩＤ Ｉｎｔ
．Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏｎｆ．誌、１９８９年、４３４〜４３７頁のＴ．Ｕｎａ
ｔｅ，Ｔ．Ｎａｋａｇａｗａ，Ｙ．Ｍａｔｓｕｓｈｉｔａ，Ｙ．Ｕｇａｉおよび
Ｓ．Ａｃｋｉの論文「光学的干渉フィルターを使用する高透過度のアクティブ・
マトリックス・カラーＬＣＤ」；ＳＩＤ Ｉｎｔ．Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏｎｆ．
誌、１９９０年、２４０〜２４４３頁のＡ．Ｍａｔｓｕｓｈｉｔａ，Ｍ．Ｏｈａ
ｔａおよびＫ．Ｉｓｈｉｋａｗａの論文「ＬＣＤに対する多重カラー・フィルタ
ーの新しい製造法」；Ｅｕｒｏｄｉｓｐｌａｙ’８７予稿集、３７９〜３８２頁
および３９５〜３９６頁；ヨーロッパ特許Ｂ−３９６ ８２４号およびヨーロッ
パ特許Ａ−６１５ １６１号に記載されている。
【００３４】 これらの機能層を上記のガラス−積層体に被覆した後、組立工程でこのような
二つの積層体を組み合わせ、ガラス板の間の空間が液晶組成物およびスペーサー
で充填されたていわゆるＬＣＤセルを得る。支持材はこの組立工程の前または後
で取除くことができるか、或いはガラスに固定したままにしておくことができる
。組立工程の後に偏光子または他の箔、例えば画像の品質を改善する箔、例えば
遅延フィルム、反射または反射防止用の箔、視覚を改善する箔、光分散用の箔等
をＬＣＤセルに対して積層化することができる。これらの箔は本発明によって被
覆し得る機能層とは見做さない。何故ならばこれらの箔は自己支持性の層であり
、従って上記の「機能層」の定義に合わないからである。
【００３５】 上記の方法はパッシブ・マトリックス（ｐａｓｓｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ）ＬＣ
Ｄ並びにアクティブ・マトリックス（ａｃｔｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ）ＬＣＤ、例
えば薄層トランジスター（ＴＦＴ）ディスプレーの製造の際に使用することがで
きる。特定の例としてはツイステッド・ネマティック（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍ
ａｔｉｃ）（ＴＮ）、スーパーツイステッド・ネマティック（ＳＴＮ）、二重ス
ーパーツイステッド・ネマティック（ＤＳＴＮ）、遅延フィルムスーパーツイス
テッド・ネマティック（ＲＦＳＴＮ）、強誘電性（ＦＬＣ）、ゲスト−ホスト（
ＧＨ）、重合体分散型（ＰＦ）、重合体ネットワーク型（ＰＮ）液晶ディスプレ
ー等がある。
【００３６】 本発明の利点を得ることができる発光ＦＰＤ型のディスプレーは例えばプラズ
マ・ディスプレー（ＰＤ）、フィールド・エミッション・ディスプレー（ＦＥＤ
）およびいわゆる有機性発光ポリマー・ディスプレー（ＯＬＥＤ）である。この
ようなエレクトロリュミネッセンス型のディスプレーでは少なくとも１枚のガラ
ス板の上にある電気伝導層またはパターンを不透明の材料、例えば銀またはニッ
ケルで置き換えることができる。
【００３７】 ＰＤＳはガスを充填した容積を取り囲む２枚のガラス板から成り、ガスは典型
的には希ガスまたはその混合物である。ガスを充填したキャビティーの中にある
電極に高圧、典型的には約１００Ｖの電圧をかけることにより、プラズマ放電が
起こって紫外線が放出される。多くの設計においては、放電はガラス板の間に絶
縁材料の壁でつくられた別々のセル（ピクセル）の中に閉じ込められている。紫
外線によってセルの壁上に存在する燐が励起され、カラー画像が得られる。プラ
ズマからやはり放出される橙色の光を除去するために、ＦＥＤにもカラー・フィ
ルターが使用される。電気伝導層またはパターンは、例えば酸化鉛または酸化マ
グネシウムから成る誘電体の保護層を被覆することによりプラズマから遮蔽する
ことができる。このような絶縁体の壁、燐、カラー・フィルターおよび誘電体の
保護層は本発明方法により被覆し得る（非連続的な）機能層と見做される。
【００３８】 ＦＥＤもまた機能層を備えた２枚のガラス板から成っている。ＬＣＤおよびＰ
Ｄに見られるような電気伝導層またはパターンの他に、ＦＥＤのガラス板の一つ
にはそれぞれ微小な電子銃として作用する例えばモリブデンから成る多数のマイ
クロチップが取り付けられている。２００〜８００Ｖの高電圧をかけると、これ
らのマイクロチップは反対側のガラス板の上の燐の層の方へ電子ビームを放出す
る。反対側のガラス板には対向電極として典型的にはＩＴＯ層が被覆されている
。ＦＥＤの電気伝導層およびパターン、マイクロチップおよび燐の層は本発明方
法によって被覆し得る機能層と見做される。
【００３９】 ＯＬＥＤは発光性の化合物としてエレクトロリュミネッセンス重合体、例えば
ｐ−フェニレンビニレン、フルオレン誘導体およびジスチリルベンゼン化合物を
含んでいる。幾つかの特定の例は例えば米国特許５，２４７，１９０号および５
，４０１，８２７号に記載されている。Ｓ．ＭｉｙａｔａおよびＨ．Ｓ．Ｎａｌ
ｗａ編、Ｇｏｒｄｏｎ ａｎｄ Ｂｒｅａｃｈ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ１９９７
年発行の”Ｏｒｇａｎｉｃ ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ ｍａｔｅ
ｒｉａｌｓ ａｎｄ ｄｅｖｉｃｅｓ”に広範な概説が記載されている。典型的
なＯＬＥＤは反射陽極、電子輸送層、発光層、正孔輸送層および透明な陽極から
成っており、すべてのこれらの層は２枚のガラス板またはプラスティックス・シ
ートの間にサンドイッチ状に挟まれている。カラーＯＬＥＤは、それぞれ三原色
の一つを放出するこのような３個の基本的なセルを互いに積み重ねることによっ
てつくることができる。上記のガラス積層体に被覆した場合、ＯＬＥＤに見られ
るこれらの機能層は本発明方法で被覆し得る機能層と見做される。
【００４０】 本発明に使用される積層体はまた可撓性の材料であることができる。本明細書
において使用される「可撓性」という特徴は、その材料が芯の周りに巻くことが
できることを意味する。好適な可撓性の積層体は半径１．５ｍの円筒形の芯の周
りに破断することなく巻き付けることができる。ガラスの厚さが薄いほど可撓性
は高く、破断を生じることなく材料を巻き付け得る芯の半径は小さくなる。しか
しガラスの脆性はガラスの厚さに反比例し、用途に応じて可撓性と脆性との間で
折衷を図る。従って本発明に使用される可撓性をもった積層体には連続式ウエッ
ブ被覆装置を用いて機能層を取り付けることができ、フラットパネル・ディスプ
レーをロールからロールに移動させて工業的に製造することができ、これによっ
て現在使用されているようなバッチ法に比べ工程のコストを著しく低下させるこ
とができる。
【００４１】 本発明の利点が得られるＦＰＤの他の例はいわゆる電子ブック、例えば世界特
許公開明細書９７／０４３９８号記載の装置である。
【００４２】
【実施例】 上記ＡＦ４５型の厚さ１００μｍの可撓性をもった硼珪酸塩ガラスのシートを
、厚さ１７０μｍのＰＥＴ箔に対し、ガラスとＰＥＴ箔との間の接着層としてＳ
ｏｌｕｃｒｙｌ（ベルギー、ＵＣＢの登録商標）３５５ＨＰを使用して積層化し
た。この積層体を基質として使用しそのガラス側にハレーション防止層、青に感
度をもつ乳化層、第１の中間層、緑に感度をもつ乳化層、第２の中間層、および
赤に感度をもつ乳化層を被覆する。これらの層はハロゲン化銀写真用フィルムの
製造に使用される標準的な被覆装置を用いて被覆した。このようにして得られた
カラー・ネガの材料を用い下記のカラー・フィルターをつくる。これらの層の組
成はヨーロッパ特許Ａ−８０２ ４５３号に記載されており、これを下記に再録
する。
【００４３】 ハレーション防止層 式ＹＤの非拡散性黄色染料をゼラチンに分散させる。この分散物に接着促進剤
として作用するエポキシシランＥを加えた。黄色染料ＹＤ、ゼラチンおよびエポ
キシシランＥの被覆率はそれぞれ０．５、１．５および０．１ｇ／ｍ2である。
【００４４】 青に感度をもつ層 平均粒径０．４μｍの１００％塩化銀の乳剤を式ＳＢのスペクトル増感剤で青
の光に対して増感する。式Ｙ１の黄色染料生成用カプラーをこの乳剤に加える。
ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーＹ１の量はそれぞれ０．５７、
３．３０および１．０ｇ／ｍ2である。
【００４５】 第１の中間層 酸化されたカラー現像剤を浄化し得る式ＳＤ１の物質をゼラチンに分散させ、
ＳＤ１を０．０８ｇ／ｍ2、ゼラチンを０．７７ｇ／ｍ2の被覆率で被覆した。
【００４６】 緑に感度をもつ層 平均粒径が０．１２μｍの塩化臭化銀（モル比９０／１０）を式ＳＧのスペク
トル増感剤で緑の光に対して増感する。式Ｍ１のマゼンタ染料生成用カプラーを
この乳剤に加えた。ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーＭ１の量は
それぞれ０．７１、２．８および０．５３ｇ／ｍ2であった。
【００４７】 第２の中間層 この層は第１の中間層と同じ組成をもっている。
【００４８】 赤に感度をもつ層 平均粒径が０．１２μｍの塩化臭化銀（モル比９０／１０）を式ＳＲのスペク
トル増感剤で赤の光に対して増感する。式Ｃ１のシアン染料生成用カプラーをこ
の乳剤に加えた。ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーＣ１の量はそ
れぞれ０．４９、６および０．９５ｇ／ｍ2であった。
【００４９】 アキュタンス（ａｃｃｕｔａｎｃｅ）染料として作用する黄色、マゼンタおよ
びシアンの水溶性染料がそれぞれ適当な被覆率で青、緑および赤に感度をもつ層
の中に存在し、硬化剤として作用するヒドロキシトリクロロトリアジンは０．０
３５ｇ／ｍ2の被覆率で赤に感度をもつ層の中に存在している。
【００５０】
【化１】
【００５１】
【化２】
【００５２】
【化３】
【００５３】 次にこの材料に対し多重カラー・マスターを用いて単一工程のピクセル毎の露
光を行ない、下記の方法に従って処理する。
【００５４】 現像剤 亜硫酸ナトリウム（無水） ４ｇ ４−アミノ−３−メチル−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン塩酸塩 ３ｇ 炭酸ナトリウム（無水） １７ｇ 臭化ナトリウム １．７ｇ 硫酸、７Ｎ ０．６２ｍｌ 水を加えて １０００ｍｌ 現像後、水を最高１リットル〜５０ｍｌの７Ｎ硫酸に加えてつくった酸性停止
浴中で材料を処理する。
【００５５】 停止浴で処理した後、通常の水で２分間濯いだ後、下記の組成の水溶液中で３
分間定着を行なう。
【００５６】 （ＮＨ4）2Ｓ2Ｏ3の５８％水溶液 １００ｍｌ 亜硫酸ナトリウム（無水） ２．５ｇ 亜硫酸水素ナトリウム（無水） １０．３ｇ 水を加えて １０００ｍｌ 通常の水で２分間濯いだ後、下記の組成の水溶液中で３分間漂白処理を行なう
。
【００５７】 ヘキサシアノ鉄酸カリウム（ＩＩＩ）（無水） ３０ｇ 臭化ナトリウム（無水） １７ｇ 水を加えて １０００ｍｌ 次にこの材料を再び定着液で処理し、通常の水で３分間水洗する。
【００５８】 最後にｐＨが９で２０ｍｌ中に硬化剤として作用するフォルムアルデヒド４０
％水溶液を含む溶液で処理する。
【００５９】 上記の処理を行なった後、ＦＰＤに適した多重カラー・フィルターを得たが、
このフィルターは黄色の画像、マゼンタの画像およびシアンの画像をそれぞれ最
高の密度で含んでいる。例えばヨーロッパ特許Ａ−８０２ ４５３号に記載のよ
うな厚さ１．５ｍｍのガラス板に同じ組成物が被覆されている従来法に比べれば
、本実施例の多重カラー・フィルターは遥かに軽量である特徴をもっている。ま
た積層体の熱的安定性および寸度安定性はこの例に使用されたＰＥＴ箔のような
プラスティックスの基質に比べ著しく良好である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＡＵ，ＣＡ，Ｃ Ｎ，ＪＰ，ＫＲ，ＵＳ (72)発明者 ゴーデウエーク，ルデイ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ Ｆターム(参考） 2H023 FA01 2H090 HB08Y JB02 LA01 4F100 AA02J AA36C AG00A AK02B AK42B AK45B AK54B AK55B AR00C AT00B BA03 BA10A BA10B BA10C GB41 JA11C JA20A JG01C JG05C JK01 JL03 YY00A

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基質上に機能層を被覆する工程を含む半導体装置の製造法に
    おいて、該基質は支持体とガラス層を具備する積層体であり、該ガラス層の厚さ
    は７００μｍよりも薄いことを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 機能層は電気伝導層であることを特徴とする請求項１記載の
    方法。
  3. 【請求項３】 機能層はカラー・フィルターであることを特徴とする請求項
    １記載の方法。
  4. 【請求項４】 機能層は液晶配向層であることを特徴とする請求項１記載の
    方法。
  5. 【請求項５】 機能層は不動態化層であることを特徴とする請求項１記載の
    方法。
  6. 【請求項６】 機能層は燐の層であることを特徴とする請求項１記載の方法
    。
  7. 【請求項７】 機能層は誘電体の保護層であることを特徴とする請求項１記
    載の方法。
  8. 【請求項８】 機能層はエレクトロリュミネッセンス層であることを特徴と
    する請求項１記載の方法。
  9. 【請求項９】 半導体装置はフラットパネル・ディスプレーであることを特
    徴とする請求項１〜８記載の方法。
  10. 【請求項１０】 ガラス層の厚さは５００μｍより薄いことを特徴とする請
    求項１〜９記載の方法。
  11. 【請求項１１】 ガラス層の厚さは３００μｍより薄いことを特徴とする請
    求項１〜１０記載の方法。
  12. 【請求項１２】 支持体は実質的にポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ
    カーボネート、ポリエーテルスルフォンまたはシクロオレフィン共重合体から成
    ることを特徴とする請求項１〜１１記載の方法。
  13. 【請求項１３】 機能層を積層体のガラス側に被覆することを特徴とする請
    求項１〜１２記載の方法。
JP2000517842A 1997-10-24 1998-10-07 ガラス積層体を基質とする半導体装置の製造方法 Expired - Lifetime JP4773617B2 (ja)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP97203312.0 1997-10-24
EP97203312 1997-10-24
EP9805748 1998-09-09
PCT/EP1998/005748 WO1999021707A1 (en) 1997-10-24 1998-09-09 A laminate comprising a thin borosilicate glass substrate as a constituting layer
EPPCT/EP98/05748 1998-09-09
PCT/EP1998/006455 WO1999021708A1 (en) 1997-10-24 1998-10-07 Use of glass laminate as a substrate in semiconductor devices

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001520951A true JP2001520951A (ja) 2001-11-06
JP4773617B2 JP4773617B2 (ja) 2011-09-14

Family

ID=8228861

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000517841A Expired - Lifetime JP4328465B2 (ja) 1997-10-24 1998-09-09 構成層として薄い硼珪酸ガラス基質を含んでなる積層物、その使用方法及び作製方法
JP2000517842A Expired - Lifetime JP4773617B2 (ja) 1997-10-24 1998-10-07 ガラス積層体を基質とする半導体装置の製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000517841A Expired - Lifetime JP4328465B2 (ja) 1997-10-24 1998-09-09 構成層として薄い硼珪酸ガラス基質を含んでなる積層物、その使用方法及び作製方法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6309901B1 (ja)
EP (2) EP1024952B1 (ja)
JP (2) JP4328465B2 (ja)
KR (1) KR20010031379A (ja)
AT (2) ATE219725T1 (ja)
AU (2) AU751890B2 (ja)
CA (2) CA2304576C (ja)
DE (1) DE69806263T2 (ja)
WO (2) WO1999021707A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005119307A (ja) * 2003-10-18 2005-05-12 Schott Ag 基板用の加工接合体
JP2005538536A (ja) * 2002-07-17 2005-12-15 オスラム　オプト　セミコンダクターズ　ゲゼルシャフト　ミット　ベシュレンクテル　ハフツング 破砕防止超薄ガラス及びその取り扱い
JP2007511872A (ja) * 2003-10-21 2007-05-10 コーニング インコーポレイテッド バリア層および歪みレリーフを有するｏｌｅｄ構造
JP2007310417A (ja) * 2007-08-06 2007-11-29 Toshiba Corp アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法
JP2007331996A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Asahi Glass Co Ltd 機能性ガラス体
JP2008026910A (ja) * 2007-08-06 2008-02-07 Toshiba Corp アクティブマトリクス型表示装置

Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2335884A (en) 1998-04-02 1999-10-06 Cambridge Display Tech Ltd Flexible substrates for electronic or optoelectronic devices
JP2000122221A (ja) * 1998-10-19 2000-04-28 Konica Corp 熱現像材料
WO2000041978A1 (de) * 1999-01-11 2000-07-20 Schott Display Glas Gmbh Polymerbeschichtete dünnglasfoliensubstrate
EP1048628A1 (de) * 1999-04-30 2000-11-02 Schott Glas Polymerbeschichtete Dünnglasfoliensubstrate
US6355125B1 (en) 1999-03-26 2002-03-12 Agfa-Gevaert Method for making an electric or electronic module comprising a glass laminate
EP1038663B1 (en) * 1999-03-26 2012-12-19 Chimei InnoLux Corporation Method of making an electronic module comprising a glass laminate
US6949825B1 (en) * 1999-07-09 2005-09-27 Osram Opto Semiconductor Gmbh & Co. Ohg Laminates for encapsulating devices
ATE376707T1 (de) * 1999-07-09 2007-11-15 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verkapselung einer vorrichtung
JP4326635B2 (ja) * 1999-09-29 2009-09-09 三菱樹脂株式会社 ガラスフィルムの取扱い方法及びガラス積層体
DE19959084B4 (de) * 1999-12-08 2005-05-12 Schott Ag Organisches LED-Display und Verfahren zu seiner Herstellung
US6867539B1 (en) 2000-07-12 2005-03-15 3M Innovative Properties Company Encapsulated organic electronic devices and method for making same
DE10047359A1 (de) * 2000-09-25 2002-04-25 Xetos Ag Datenträger in Kartenform
FI4818U1 (fi) * 2000-10-30 2001-01-31 It Innovations Finland Oy Elektronisen laitteen, kuten matkapuhelimen, näyttöruutu
US6867243B2 (en) * 2001-06-29 2005-03-15 University Of Hull Light emitting polymer
US7199167B2 (en) * 2001-06-29 2007-04-03 University Of Hull Light emitting polymer
US7118787B2 (en) * 2001-06-29 2006-10-10 University Of Hull Liquid crystal alignment layer
US6838393B2 (en) 2001-12-14 2005-01-04 Applied Materials, Inc. Method for producing semiconductor including forming a layer containing at least silicon carbide and forming a second layer containing at least silicon oxygen carbide
DE10164016B4 (de) * 2001-12-28 2020-01-23 Osram Opto Semiconductors Gmbh Organische Leuchtdiode (OLED) und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE10200131A1 (de) * 2002-01-04 2003-07-10 Basf Ag Biegeelastische Glas-/Polymerverbunde
JP4052631B2 (ja) * 2002-05-17 2008-02-27 株式会社東芝 アクティブマトリクス型表示装置
US20050136625A1 (en) * 2002-07-17 2005-06-23 Debora Henseler Ultra-thin glass devices
US20040032036A1 (en) * 2002-08-19 2004-02-19 Anandaraman Subramaniam Process for the preparation of flavor or fragrance microcapsules
US7404751B2 (en) * 2002-09-17 2008-07-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of manufacturing a light emitting display panel and a light emitting display panel
WO2004033197A2 (de) * 2002-10-07 2004-04-22 Schott Ag Träger für substrate und verbund aus einem trägersubstrat und einem dünnstsubstrat
US20050259189A1 (en) * 2002-10-16 2005-11-24 Koninkljke Philips Electronics N.V. Low modulus substrate for flexible flat panel display
DE10328140B4 (de) * 2003-06-20 2006-12-07 Schott Ag Organische lichtemittierende Einrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
EP1524884A1 (en) * 2003-10-17 2005-04-20 INFM Instituto Nazionale Per La Fisica Della Materia An electroactive device based on organic compounds, comprising a float-glass substrate
US20050269943A1 (en) * 2004-06-04 2005-12-08 Michael Hack Protected organic electronic devices and methods for making the same
US7201965B2 (en) * 2004-12-13 2007-04-10 Corning Incorporated Glass laminate substrate having enhanced impact and static loading resistance
US7638252B2 (en) * 2005-01-28 2009-12-29 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Electrophotographic printing of electronic devices
DE102005035696A1 (de) * 2005-07-27 2007-02-15 Thüringisches Institut für Textil- und Kunststoff-Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung organischer Feldeffekttransistoren und darauf basierender Schaltungen auf Lösungsmittel- und temperaturempfindlichen Kunststoffoberflächen und organische Feldeffekttransistoren und organische optoelektronische Bauelemente nach diesem Verfahren
US7910822B1 (en) 2005-10-17 2011-03-22 Solaria Corporation Fabrication process for photovoltaic cell
US8227688B1 (en) 2005-10-17 2012-07-24 Solaria Corporation Method and resulting structure for assembling photovoltaic regions onto lead frame members for integration on concentrating elements for solar cells
KR100847598B1 (ko) * 2006-05-10 2008-07-21 주식회사 큐리어스 백라이트 유닛 및 그 제조 방법
US9061480B2 (en) 2007-03-09 2015-06-23 Sabic Global Technologies B.V. Plastic laminates and methods for making the same
WO2008111481A1 (ja) * 2007-03-12 2008-09-18 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 放射線像変換パネル
US20080236651A1 (en) * 2007-04-02 2008-10-02 Solaria Corporation Solar cell concentrator structure including a plurality of concentrator elements with a notch design and method having a predetermined efficiency
US7910392B2 (en) 2007-04-02 2011-03-22 Solaria Corporation Method and system for assembling a solar cell package
US8119902B2 (en) 2007-05-21 2012-02-21 Solaria Corporation Concentrating module and method of manufacture for photovoltaic strips
US9434642B2 (en) * 2007-05-21 2016-09-06 Corning Incorporated Mechanically flexible and durable substrates
US8642176B2 (en) 2007-06-19 2014-02-04 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Plastic laminates and methods for making the same
US8707736B2 (en) 2007-08-06 2014-04-29 Solaria Corporation Method and apparatus for manufacturing solar concentrators using glass process
US8513095B1 (en) 2007-09-04 2013-08-20 Solaria Corporation Method and system for separating photovoltaic strips
US8049098B2 (en) 2007-09-05 2011-11-01 Solaria Corporation Notch structure for concentrating module and method of manufacture using photovoltaic strips
US7910035B2 (en) 2007-12-12 2011-03-22 Solaria Corporation Method and system for manufacturing integrated molded concentrator photovoltaic device
US20090151770A1 (en) * 2007-12-12 2009-06-18 Solaria Corporation Method and material for coupling solar concentrators and photovoltaic devices
EP2273476A4 (en) * 2008-04-24 2014-04-23 Nitto Denko Corp TRANSPARENT SUBSTRATE
CN102113133B (zh) * 2008-05-30 2014-06-11 康宁股份有限公司 光伏玻璃叠层制品和层状制品
DE102008031533B4 (de) 2008-07-03 2021-10-21 Pictiva Displays International Limited Organisches elektronisches Bauelement
DE102008041278A1 (de) 2008-08-15 2010-02-18 Evonik Degussa Gmbh Verwendung von Polyolefinen als Haftvermittler für die Herstellung flächiger Laminate
WO2010076903A1 (en) * 2008-12-29 2010-07-08 Dug-Kyu Kim Touch screen window for applying to display panel such as lcd panel and method for preparing the same
US8207453B2 (en) * 2009-12-17 2012-06-26 Intel Corporation Glass core substrate for integrated circuit devices and methods of making the same
US9420707B2 (en) * 2009-12-17 2016-08-16 Intel Corporation Substrate for integrated circuit devices including multi-layer glass core and methods of making the same
JP5625410B2 (ja) * 2010-03-17 2014-11-19 日本電気硝子株式会社 窓板
USD699176S1 (en) 2011-06-02 2014-02-11 Solaria Corporation Fastener for solar modules
JP5987312B2 (ja) * 2011-12-16 2016-09-07 日本電気硝子株式会社 成膜装置及び膜付ガラスフィルムの製造方法
WO2013133827A1 (en) 2012-03-07 2013-09-12 Intel Corporation Glass clad microelectronic substrate
JP2012134544A (ja) * 2012-03-09 2012-07-12 Nitto Denko Corp 太陽電池用基板、太陽電池素子、太陽電池用モジュールおよび太陽電池用基板の製造方法
US20140014260A1 (en) * 2012-07-12 2014-01-16 Dipakbin Qasem Chowdhury Laminated structures and methods of manufacturing laminated structures
US9001520B2 (en) 2012-09-24 2015-04-07 Intel Corporation Microelectronic structures having laminated or embedded glass routing structures for high density packaging
US10622310B2 (en) 2012-09-26 2020-04-14 Ping-Jung Yang Method for fabricating glass substrate package
US9615453B2 (en) 2012-09-26 2017-04-04 Ping-Jung Yang Method for fabricating glass substrate package
TWI606986B (zh) * 2012-10-03 2017-12-01 康寧公司 用於保護玻璃表面的物理氣相沉積層
WO2014107640A1 (en) * 2013-01-07 2014-07-10 Corning Incorporated Strengthened laminated glass structures
US20140234532A1 (en) * 2013-02-15 2014-08-21 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Laminated composite material for producing display element, optical element, or illumination element
DE102013214108B4 (de) * 2013-07-18 2023-05-17 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Räumlich gekrümmter Glasformkörper und Verfahren zu dessen Herstellung
BE1021369B1 (fr) * 2013-12-13 2015-11-09 Agc Glass Europe Toit de vehicule vitre
WO2015117736A1 (en) * 2014-02-06 2015-08-13 Merck Patent Gmbh Device for the regulation of light transmission
JP2017518246A (ja) * 2014-04-15 2017-07-06 サン−ゴバン グラス フランスＳａｉｎｔ−Ｇｏｂａｉｎ Ｇｌａｓｓ Ｆｒａｎｃｅ 薄い内側板ガラスを含む合わせガラス
JP6318836B2 (ja) * 2014-05-15 2018-05-09 三菱ケミカル株式会社 転写用基材及び転写シート
KR101677542B1 (ko) * 2015-04-15 2016-11-18 연세대학교 산학협력단 무기물질 웨이퍼 내부의 스트레인을 이용한 고성능 유연 무기물질, 그 제조 방법 및 전계효과 트랜지스터
WO2017069090A1 (ja) * 2015-10-20 2017-04-27 旭硝子株式会社 ガラス－樹脂複合体及びその製造方法
EP3408092A1 (en) * 2016-01-29 2018-12-05 SABIC Global Technologies B.V. Cover assembly for an electronic device, method of its manufacture, and device comprising the cover assembly
JP6583844B2 (ja) * 2016-04-26 2019-10-02 エルジー・ケム・リミテッド 接合ガラスおよび接合ガラスの製造方法
CN111051256A (zh) * 2017-07-31 2020-04-21 康宁股份有限公司 具有非玻璃芯体和玻璃包封物的层压制品及其方法
DE102019101291A1 (de) * 2019-01-18 2020-07-23 Dr. Ing. H.C. F. Porsche Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung eines Flächenbauteils für ein Kraftfahrzeug und Flächenbauteil
FR3101198A1 (fr) * 2019-09-19 2021-03-26 Tecmoled Diode électroluminescente organique flexible encapsulée

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1001206B (it) * 1972-12-09 1976-04-20 Reichhold Albert Chemie Ag Prodotti di reazione di polimeri diolefinici con fenoli e acidi di carbossilici insaturi o loro anidri di e processo per loro preparazione
JPS51144183A (en) * 1975-06-06 1976-12-10 Hitachi Ltd Semiconductor element containing surface protection film
JPS62222222A (ja) * 1986-03-24 1987-09-30 Seiko Instr & Electronics Ltd 液晶表示装置
US5058997A (en) * 1989-08-11 1991-10-22 International Business Machines Corporation Tft lcd with optical interference color filters
JP2976483B2 (ja) * 1990-04-24 1999-11-10 日本電気株式会社 液晶表示素子用薄膜トランジスタの製造方法
DE4140946A1 (de) * 1991-12-12 1993-06-17 Agfa Gevaert Ag Farbfotografisches aufzeichnungsmaterial
JP3059866B2 (ja) * 1993-07-30 2000-07-04 シャープ株式会社 表示装置用基板
DE4406097A1 (de) * 1994-02-25 1995-08-31 Dornier Gmbh Verglasung
JPH07287218A (ja) * 1994-04-20 1995-10-31 Toshiba Corp 透明導電性基板およびそれを用いた表示装置
US5686383A (en) * 1995-08-22 1997-11-11 Eastman Kodak Company Method of making a color filter array by colorant transfer and lamination
US5635791A (en) * 1995-08-24 1997-06-03 Texas Instruments Incorporated Field emission device with circular microtip array
EP0802453A1 (en) * 1996-04-18 1997-10-22 Agfa-Gevaert N.V. A silver halide photographic colour material comprising a specific intermediate layer
US6101846A (en) * 1997-02-06 2000-08-15 Micron Technology, Inc. Differential pressure process for fabricating a flat-panel display face plate with integral spacer support structures
JP4264517B2 (ja) * 1997-10-24 2009-05-20 奇美電子股▲分▼有限公司 レーザー記録媒体及び薄いガラス層を含むデータカード
US6197418B1 (en) * 1998-12-21 2001-03-06 Agfa-Gevaert, N.V. Electroconductive glass laminate

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005538536A (ja) * 2002-07-17 2005-12-15 オスラム　オプト　セミコンダクターズ　ゲゼルシャフト　ミット　ベシュレンクテル　ハフツング 破砕防止超薄ガラス及びその取り扱い
JP2005119307A (ja) * 2003-10-18 2005-05-12 Schott Ag 基板用の加工接合体
JP2007511872A (ja) * 2003-10-21 2007-05-10 コーニング インコーポレイテッド バリア層および歪みレリーフを有するｏｌｅｄ構造
JP2007331996A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Asahi Glass Co Ltd 機能性ガラス体
JP2007310417A (ja) * 2007-08-06 2007-11-29 Toshiba Corp アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法
JP2008026910A (ja) * 2007-08-06 2008-02-07 Toshiba Corp アクティブマトリクス型表示装置
JP4550871B2 (ja) * 2007-08-06 2010-09-22 株式会社東芝 アクティブマトリクス型表示装置
JP4621713B2 (ja) * 2007-08-06 2011-01-26 株式会社東芝 アクティブマトリクス型表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4328465B2 (ja) 2009-09-09
CA2306044C (en) 2007-09-04
DE69806263T2 (de) 2009-09-24
ATE398017T1 (de) 2008-07-15
EP1024953A1 (en) 2000-08-09
EP1024952B1 (en) 2002-06-26
WO1999021707A8 (en) 2000-07-13
EP1024953B1 (en) 2008-06-11
ATE219725T1 (de) 2002-07-15
DE69806263D1 (de) 2002-08-01
CA2304576C (en) 2007-07-31
WO1999021708A1 (en) 1999-05-06
WO1999021707A1 (en) 1999-05-06
JP2001520950A (ja) 2001-11-06
CA2304576A1 (en) 1999-05-06
KR20010031379A (ko) 2001-04-16
EP1024952A1 (en) 2000-08-09
AU1152799A (en) 1999-05-17
AU9539098A (en) 1999-05-17
AU751890B2 (en) 2002-08-29
AU739285B2 (en) 2001-10-11
CA2306044A1 (en) 1999-05-06
JP4773617B2 (ja) 2011-09-14
US6309901B1 (en) 2001-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4773617B2 (ja) ガラス積層体を基質とする半導体装置の製造方法
US6287674B1 (en) Laminate comprising a thin borosilicate glass substrate as a constituting layer
US6355125B1 (en) Method for making an electric or electronic module comprising a glass laminate
EP1038663B1 (en) Method of making an electronic module comprising a glass laminate
JP4392127B2 (ja) 区分されたガラスラミネート
JP3206713B2 (ja) 防眩材料及びそれを使用した偏光フィルム
KR101561326B1 (ko) 편광자 부착 적층체, 지지체 부착 표시 장치용 패널, 표시 장치용 패널, 표시 장치 및 이들의 제조 방법
US20060139538A1 (en) Method of forming alignment layer in LCD
WO2002093240A1 (en) Liquid crystal display device and optical laminate
JP2017128083A (ja) 積層体の製造方法、表示装置の製造方法および積層体
JP4819211B2 (ja) ガラス積層物を含む電気的または電子的モジュールの製造法
KR100581249B1 (ko) 구성층으로서 얇은 붕규산 유리 기판을 가지는 라미네이트
JP2003228047A (ja) 液晶表示装置および光学積層体
US20030214624A1 (en) Liquid crystal display device and optical laminate
JPH10119170A (ja) 可とう性積層フィルム
JP2003232921A (ja) ロール状円偏光板、ロール状液晶セル基板および液晶表示装置
JP2913880B2 (ja) エレクトロクロミック表示素子およびその製造方法
KR100817125B1 (ko) 액정표시소자의 컬러필터기판
JPH06202088A (ja) 液晶パネルの製造方法
JP2001330829A (ja) ホログラム反射板を有する液晶表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20050314

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050314

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20050314

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051005

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081007

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090107

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090115

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090209

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090213

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100223

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100519

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20110420

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110531

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110624

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140701

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term