JP2000122221A - 熱現像材料 - Google Patents
熱現像材料Info
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- JP2000122221A JP2000122221A JP10296748A JP29674898A JP2000122221A JP 2000122221 A JP2000122221 A JP 2000122221A JP 10296748 A JP10296748 A JP 10296748A JP 29674898 A JP29674898 A JP 29674898A JP 2000122221 A JP2000122221 A JP 2000122221A
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明で、寸法の繰り返し精度に優れ、かつ、
ＰＳ版露光時の作業性もよいカラー印刷に好適な印刷製
版用熱現像材料を提供する。 【解決手段】 シクロ環化合物を重合単位として重合さ
れたポリマーを含有するプラスチック支持体を用いる熱
現像材料、及び該熱現像材料が支持体上に有機銀塩及び
感光性ハロゲン化銀粒子を含有する感光性層を有するこ
と。
ＰＳ版露光時の作業性もよいカラー印刷に好適な印刷製
版用熱現像材料を提供する。 【解決手段】 シクロ環化合物を重合単位として重合さ
れたポリマーを含有するプラスチック支持体を用いる熱
現像材料、及び該熱現像材料が支持体上に有機銀塩及び
感光性ハロゲン化銀粒子を含有する感光性層を有するこ
と。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は透明で、寸法の繰り
返し精度に優れ、かつ、ＰＳ版露光時の作業性もよい熱
現像感光材料に関する。
返し精度に優れ、かつ、ＰＳ版露光時の作業性もよい熱
現像感光材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来印刷製版の分野では、画像形成材料
の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題となってお
り、近年では環境保全、省スペースの観点からも処理廃
液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー・イメ
ージセッターにより効率的な露光が可能で、高解像度で
鮮明な黒色画像を形成することができる写真技術用途の
光熱写真材料に関する技術が必要とされている。この技
術として、例えば、米国特許第３，１５２，９０４号、
同３，４８７，０７５号及びＤ．モーガン（Ｍｏｒｇａ
ｎ）による「ドライシルバー写真材料（Ｄｒｙ Ｓｉｌ
ｖｅｒ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌ
ｓ）」（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｍ
ａｔｅｒｉａｌｓ，Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎ
ｃ．第４８頁，１９９１）等に記載の方法が良く知られ
ている。これらの感光材料は通常、８０℃以上の温度で
現像が行われるので、熱現像感光材料と呼ばれている。
の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題となってお
り、近年では環境保全、省スペースの観点からも処理廃
液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー・イメ
ージセッターにより効率的な露光が可能で、高解像度で
鮮明な黒色画像を形成することができる写真技術用途の
光熱写真材料に関する技術が必要とされている。この技
術として、例えば、米国特許第３，１５２，９０４号、
同３，４８７，０７５号及びＤ．モーガン（Ｍｏｒｇａ
ｎ）による「ドライシルバー写真材料（Ｄｒｙ Ｓｉｌ
ｖｅｒ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌ
ｓ）」（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｍ
ａｔｅｒｉａｌｓ，Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎ
ｃ．第４８頁，１９９１）等に記載の方法が良く知られ
ている。これらの感光材料は通常、８０℃以上の温度で
現像が行われるので、熱現像感光材料と呼ばれている。
【０００３】このような熱現像感光材料は、還元可能な
銀源（例えば有機銀塩）、触媒活性量の光触媒（例えば
ハロゲン化銀）、及び還元剤を通常（有機）バインダー
マトリックス中に分散した状態で含有している。熱現像
感光材料は常温で安定であるが、露光後高温に加熱した
場合に還元可能な銀源（酸化剤として機能する）と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対象をな
し、画像の形成がなされる。
銀源（例えば有機銀塩）、触媒活性量の光触媒（例えば
ハロゲン化銀）、及び還元剤を通常（有機）バインダー
マトリックス中に分散した状態で含有している。熱現像
感光材料は常温で安定であるが、露光後高温に加熱した
場合に還元可能な銀源（酸化剤として機能する）と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対象をな
し、画像の形成がなされる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで印刷製版用感
光材料は、カラー印刷をする場合には、通常、各色別に
分解されたフィルムを複数枚使用する。それらをそれぞ
れの刷版に焼き付け、重ねて印刷する。複数の色別に分
解されたフィルムを重ねたとき、全く同一に重ならない
と、印刷物にした場合に、色がずれてしまうという現象
が生ずる。よって印刷製版用感光材料では、現像後も、
寸法がいつも同じになる、つまり繰り返し精度が大事で
ある。
光材料は、カラー印刷をする場合には、通常、各色別に
分解されたフィルムを複数枚使用する。それらをそれぞ
れの刷版に焼き付け、重ねて印刷する。複数の色別に分
解されたフィルムを重ねたとき、全く同一に重ならない
と、印刷物にした場合に、色がずれてしまうという現象
が生ずる。よって印刷製版用感光材料では、現像後も、
寸法がいつも同じになる、つまり繰り返し精度が大事で
ある。
【０００５】しかしながら、従来上記のような熱現像感
光材料では８０℃以上の温度で現像を行うと、前記で述
べた寸法の繰り返し精度はまだ不十分であり、カラー印
刷に用いる場合は実用に耐えるものではなかった。
光材料では８０℃以上の温度で現像を行うと、前記で述
べた寸法の繰り返し精度はまだ不十分であり、カラー印
刷に用いる場合は実用に耐えるものではなかった。
【０００６】これに対して、ポリカーボネートやポリイ
ミドなどの熱収縮しにくい樹脂を、従来用いられている
ポリエチレンテレフタレート支持体に代えて用いる技術
が特開平１０−１０６７１号に記載されている。確か
に、これにより寸法の繰り返し精度は改良されるもの
の、ポリカーボネート樹脂をそのまま支持体として用い
た場合、処理後のフイルムを原稿としてＰＳ版に焼き付
ける作業に、より多くの時間を要し、作業性が非常に悪
くなることがわかった。これは、焼き付けに用いる水銀
灯光源の波長分布が３５０ｎｍ〜４００ｎｍであるが、
ポリカーボネートは４００ｎｍ以下の光をポリエチレン
テレフタレート以上に吸収することに起因している。
ミドなどの熱収縮しにくい樹脂を、従来用いられている
ポリエチレンテレフタレート支持体に代えて用いる技術
が特開平１０−１０６７１号に記載されている。確か
に、これにより寸法の繰り返し精度は改良されるもの
の、ポリカーボネート樹脂をそのまま支持体として用い
た場合、処理後のフイルムを原稿としてＰＳ版に焼き付
ける作業に、より多くの時間を要し、作業性が非常に悪
くなることがわかった。これは、焼き付けに用いる水銀
灯光源の波長分布が３５０ｎｍ〜４００ｎｍであるが、
ポリカーボネートは４００ｎｍ以下の光をポリエチレン
テレフタレート以上に吸収することに起因している。
【０００７】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、透明で、寸法の繰り返し精度に優
れ、かつ、ＰＳ版露光時の作業性もよいカラー印刷に好
適な印刷製版用熱現像材料を提供することにある。
であり、その目的は、透明で、寸法の繰り返し精度に優
れ、かつ、ＰＳ版露光時の作業性もよいカラー印刷に好
適な印刷製版用熱現像材料を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、シ
クロ環化合物を重合単位として重合されたポリマーを含
有するプラスチック支持体を用いる熱現像材料、及び該
熱現像材料が支持体上に有機銀塩及び感光性ハロゲン化
銀粒子を含有する感光性層を有すること、によって達成
される。
クロ環化合物を重合単位として重合されたポリマーを含
有するプラスチック支持体を用いる熱現像材料、及び該
熱現像材料が支持体上に有機銀塩及び感光性ハロゲン化
銀粒子を含有する感光性層を有すること、によって達成
される。
【０００９】以下、本発明について詳しく述べる。
【００１０】本発明に係る支持体は、シクロ環化合物を
重合単位として重合されたポリマーを含有するプラスチ
ックフィルムである。用いるポリマー樹脂は上記条件を
満たすものであれば特に制限はないが、本発明では少な
くとも１種類のジシクロペンタジエンまたは下記一般式
（１）で示されるシクロオレフィンを重合単位として重
合されたポリマーを含むことが、好ましい。
重合単位として重合されたポリマーを含有するプラスチ
ックフィルムである。用いるポリマー樹脂は上記条件を
満たすものであれば特に制限はないが、本発明では少な
くとも１種類のジシクロペンタジエンまたは下記一般式
（１）で示されるシクロオレフィンを重合単位として重
合されたポリマーを含むことが、好ましい。
【００１１】一般式（１）
【００１２】
【化１】
【００１３】〔式中、ｕは０または１であり、ｖは０ま
たは正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ1〜Ｒ
18ならびに、Ｒａ1およびＲｂ1は、それぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子または一価の有機基であり、Ｒ15
〜Ｒ18は、互いに結合して単環または多環を形成しても
よく、かつ該単環または多環が二重結合を有していても
よく、またＲ15とＲ18とでアルキリデン基を形成しても
よい。〕 一般式（１）で表される具体的化合物として、ビシクロ
［２，２，１］−２−ヘプテン（ノルボルネン）、５−
フェニルビシクロ［２，２，１］−２−ヘプテン、５−
メチル−５−フェニルビシクロ［２，２，１］−２−ヘ
プテン、５−メチル−５−カルボキシベンジルビシクロ
［２，２，１］−２−ヘプテン、テトラシクロ［４，
４，０，１2.5，１7.10］−３−ドデセン、８−メチル
−８−カルボキシメチルテトラシクロ［４，４，０，１
2.5，１7.10］−３−ドデセン、８−フェニルテトラシ
クロ［４，４，０，１2.5，１7.10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−フェニルテトラシクロ［４，４，０，
１2.5，１7.10］−３−ドデセン、８−エチリデンテト
ラシクロ［４，４，０，１2.5，１7.10］−３−ドデセ
ン、ヘキサシクロ［６，６，１，１3.6，１10.13，０
2.7，０9.14］−４−ヘプタデセンなどが挙げられる。
たは正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ1〜Ｒ
18ならびに、Ｒａ1およびＲｂ1は、それぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子または一価の有機基であり、Ｒ15
〜Ｒ18は、互いに結合して単環または多環を形成しても
よく、かつ該単環または多環が二重結合を有していても
よく、またＲ15とＲ18とでアルキリデン基を形成しても
よい。〕 一般式（１）で表される具体的化合物として、ビシクロ
［２，２，１］−２−ヘプテン（ノルボルネン）、５−
フェニルビシクロ［２，２，１］−２−ヘプテン、５−
メチル−５−フェニルビシクロ［２，２，１］−２−ヘ
プテン、５−メチル−５−カルボキシベンジルビシクロ
［２，２，１］−２−ヘプテン、テトラシクロ［４，
４，０，１2.5，１7.10］−３−ドデセン、８−メチル
−８−カルボキシメチルテトラシクロ［４，４，０，１
2.5，１7.10］−３−ドデセン、８−フェニルテトラシ
クロ［４，４，０，１2.5，１7.10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−フェニルテトラシクロ［４，４，０，
１2.5，１7.10］−３−ドデセン、８−エチリデンテト
ラシクロ［４，４，０，１2.5，１7.10］−３−ドデセ
ン、ヘキサシクロ［６，６，１，１3.6，１10.13，０
2.7，０9.14］−４−ヘプタデセンなどが挙げられる。
【００１４】これらの化合物は、必ずしも単独で用いる
必要はなく、２種以上を用いることもできる。また、エ
チレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、スチレ
ン、アクリル酸エステルなどのオレフィンのポリマー存
在下に上記化合物を重合してもよいし、共重合してもよ
く、例えば、特開平８−３２３０号、特開平８−２１７
８６０号を参考にして製造することができる。また、こ
れらのポリマーは上市されており、日本ゼオン（商品
名：ゼオネックス）、帝人メトン（商品名：メトン）、
三井化学（商品名：アペル）、ＪＳＲ（商品名：アート
ン）などがあり容易に入手することができる。
必要はなく、２種以上を用いることもできる。また、エ
チレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、スチレ
ン、アクリル酸エステルなどのオレフィンのポリマー存
在下に上記化合物を重合してもよいし、共重合してもよ
く、例えば、特開平８−３２３０号、特開平８−２１７
８６０号を参考にして製造することができる。また、こ
れらのポリマーは上市されており、日本ゼオン（商品
名：ゼオネックス）、帝人メトン（商品名：メトン）、
三井化学（商品名：アペル）、ＪＳＲ（商品名：アート
ン）などがあり容易に入手することができる。
【００１５】これらのポリマーは、一般に溶融押出し法
と呼ばれる方法（メルト法）あるいは、有機溶媒に溶解
して流延する溶液法（ソルベント法）によって製膜する
ことによりフィルムにできる。特に好ましいのは、溶融
押出し法である。フィルム膜厚は１μｍ〜１０００μｍ
であればよいが、作業性の点で５０μｍ〜２００μｍが
好ましい。
と呼ばれる方法（メルト法）あるいは、有機溶媒に溶解
して流延する溶液法（ソルベント法）によって製膜する
ことによりフィルムにできる。特に好ましいのは、溶融
押出し法である。フィルム膜厚は１μｍ〜１０００μｍ
であればよいが、作業性の点で５０μｍ〜２００μｍが
好ましい。
【００１６】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【００１７】実施例１ ［プラスチック支持体の作製］表１に示すポリマーを溶
融押出し後二軸延伸し、厚さ１００μｍのプラスチック
フィルムを作製した。
融押出し後二軸延伸し、厚さ１００μｍのプラスチック
フィルムを作製した。
【００１８】［下引済み写真用支持体の作製］上記で得
られた支持体の両面に８ｗ／ｍ2・分のコロナ放電処理
を施し、一方の面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚
０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ａ−１
とし、また反対側の面に下記下引塗布液ｂ−１を乾燥膜
厚０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ｂ−
１とした。
られた支持体の両面に８ｗ／ｍ2・分のコロナ放電処理
を施し、一方の面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚
０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ａ−１
とし、また反対側の面に下記下引塗布液ｂ−１を乾燥膜
厚０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ｂ−
１とした。
【００１９】 《下引塗布液ａ−１》 ブチルアクリレート（３０重量％） ｔ−ブチルアクリレート（２０重量％） スチレン（２５重量％） ２−ヒドロキシエチルアクリレート（２５重量％） の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ （Ｃ−１） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる 《下引塗布液ｂ−１》 ブチルアクリレート（４０重量％） スチレン（２０重量％） グリシジルアクリレート（４０重量％） の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ （Ｃ−１） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる 引き続き、下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１の上表面に、
８ｗ／ｍ2・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１の上
には、下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μｍ
になる様に下引層Ａ−２として、下引層Ｂ−１の上には
下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８μｍになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層Ｂ−２として塗設し
た。
８ｗ／ｍ2・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１の上
には、下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μｍ
になる様に下引層Ａ−２として、下引層Ｂ−１の上には
下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８μｍになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層Ｂ−２として塗設し
た。
【００２０】 《下引上層塗布液ａ−２》 ゼラチン ０．４ｇ／ｍ2になる重量 （Ｃ−１） ０．２ｇ （Ｃ−２） ０．２ｇ （Ｃ−３） ０．１ｇ シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ 水で１ｌに仕上げる 《下引上層塗布液ｂ−２》 （Ｃ−４） ６０ｇ （Ｃ−５）を成分とするラテックス液（固形分２０％） ８０ｇ 硫酸アンモニウム ０．５ｇ （Ｃ−６） １２ｇ ポリエチレングリコール（重量平均分子量６００） ６ｇ 水で１ｌに仕上げる
【００２１】
【化２】
【００２２】
【化３】
【００２３】（乳剤Ａの調製）水９００ｍｌ中にイナー
トゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解し
て温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４
ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比の臭
化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液及び塩化ロジウ
ムを銀１モル当たり１×１０-4モルを、ｐＡｇ７．７に
保ちながらコントロールドダブルジェット法で１０分間
かけて添加した。その後４−ヒドロキシ−６−メチル−
１，３，３ａ，７−テトラザインデン０．３ｇを添加し
ＮａＯＨでｐＨを５に調整して平均粒子サイズ０．０６
μｍ、投影直径面積の変動係数８％、〔１００〕面比率
８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチ
ン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエ
タノール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に
調整して、ハロゲン化銀乳剤を得た。
トゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解し
て温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４
ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比の臭
化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液及び塩化ロジウ
ムを銀１モル当たり１×１０-4モルを、ｐＡｇ７．７に
保ちながらコントロールドダブルジェット法で１０分間
かけて添加した。その後４−ヒドロキシ−６−メチル−
１，３，３ａ，７−テトラザインデン０．３ｇを添加し
ＮａＯＨでｐＨを５に調整して平均粒子サイズ０．０６
μｍ、投影直径面積の変動係数８％、〔１００〕面比率
８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチ
ン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエ
タノール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に
調整して、ハロゲン化銀乳剤を得た。
【００２４】特開平９−１２７６４３号実施例１の方法
に従い下記のような方法でベヘン酸銀を作成した。
に従い下記のような方法でベヘン酸銀を作成した。
【００２５】（ベヘン酸Ｎａ溶液の調製）３４０ｍｌの
イソプロパノールにベヘン酸３４ｇを６５℃で溶解し
た。次に撹拌しながら０．２５Ｎの水酸化ナトリウム水
溶液をｐＨ８．７になる様に添加した。この際水酸化ナ
トリウム水溶液は約４００ｍｌ必要とした。次にこのベ
ヘン酸ナトリウム水溶液を減圧濃縮を行いベヘン酸ナト
リウムの濃度が重量％で８．９％とした。
イソプロパノールにベヘン酸３４ｇを６５℃で溶解し
た。次に撹拌しながら０．２５Ｎの水酸化ナトリウム水
溶液をｐＨ８．７になる様に添加した。この際水酸化ナ
トリウム水溶液は約４００ｍｌ必要とした。次にこのベ
ヘン酸ナトリウム水溶液を減圧濃縮を行いベヘン酸ナト
リウムの濃度が重量％で８．９％とした。
【００２６】（ベヘン酸銀の調製）７５０ｍｌの蒸留水
中に３０ｇのオセインゼラチンを溶解した溶液に２．９
４Ｍの硝酸銀溶液を加え銀電位を４００ｍＶとした。こ
の中にコントロールドダブルジェット法を用いて７８℃
の温度下で前記ベヘン酸ナトリウム溶液３７４ｍｌを４
４．６ｍｌ／分のスピードで添加し同時に２．９４Ｍの
硝酸銀水溶液を銀電位が４００ｍＶになる様に添加し
た。添加時のベヘン酸ナトリウム及び硝酸銀の使用量は
それぞれ０．０９２モル、０．１０１モルであった。
中に３０ｇのオセインゼラチンを溶解した溶液に２．９
４Ｍの硝酸銀溶液を加え銀電位を４００ｍＶとした。こ
の中にコントロールドダブルジェット法を用いて７８℃
の温度下で前記ベヘン酸ナトリウム溶液３７４ｍｌを４
４．６ｍｌ／分のスピードで添加し同時に２．９４Ｍの
硝酸銀水溶液を銀電位が４００ｍＶになる様に添加し
た。添加時のベヘン酸ナトリウム及び硝酸銀の使用量は
それぞれ０．０９２モル、０．１０１モルであった。
【００２７】添加終了後さらに３０分撹拌し限外濾過に
より水溶性塩類を除去した。
より水溶性塩類を除去した。
【００２８】（感光性乳剤の調製）このベヘン酸銀分散
物に前記ハロゲン化銀乳剤をそれぞれ０．０１モル加
え、更に撹拌しながらポリ酢酸ビニルの酢酸ｎ−ブチル
溶液（１．２ｗｔ％）１００ｇを徐々に添加して分散物
のフロックを形成後、水を取り除き、更に２回の水洗と
水の除去を行った後、バインダーとしてポリビニルブチ
ラール（平均分子量３０００）の２．５ｗｔ％の酢酸ブ
チルとイソプロピルアルコールの１：２混合溶液６０ｇ
を撹拌しながら加えた後、こうして得られたゲル状のベ
ヘン酸及びハロゲン化銀の混合物にバインダーとしてポ
リビニルブチラール（平均分子量４０００）及びイソプ
ロピルアルコールを加え分散した。
物に前記ハロゲン化銀乳剤をそれぞれ０．０１モル加
え、更に撹拌しながらポリ酢酸ビニルの酢酸ｎ−ブチル
溶液（１．２ｗｔ％）１００ｇを徐々に添加して分散物
のフロックを形成後、水を取り除き、更に２回の水洗と
水の除去を行った後、バインダーとしてポリビニルブチ
ラール（平均分子量３０００）の２．５ｗｔ％の酢酸ブ
チルとイソプロピルアルコールの１：２混合溶液６０ｇ
を撹拌しながら加えた後、こうして得られたゲル状のベ
ヘン酸及びハロゲン化銀の混合物にバインダーとしてポ
リビニルブチラール（平均分子量４０００）及びイソプ
ロピルアルコールを加え分散した。
【００２９】表１に示す支持体上に以下の各層を順次形
成し、試料を作成した。尚、乾燥は各々７５℃，５分間
で行った。
成し、試料を作成した。尚、乾燥は各々７５℃，５分間
で行った。
【００３０】（バック面側塗布）以下の組成の液を湿潤
厚さ８０μｍになるように塗布した。
厚さ８０μｍになるように塗布した。
【００３１】 ポリビニルブチラール（１０％イソプロパノール溶液） １５０ｍｌ 染料−Ｂ ７０ｍｇ 染料−Ｃ ７０ｍｇ
【００３２】
【化４】
【００３３】（感光層面側塗布） 感光層１：以下の組成の液を塗布銀量が２．０ｇ／
ｍ2、バインダーとしてのポリビニルブチラールを８ｇ
／ｍ2になる様に塗布した。
ｍ2、バインダーとしてのポリビニルブチラールを８ｇ
／ｍ2になる様に塗布した。
【００３４】 乳剤Ａ 銀量として２ｇ／ｍ2になる量 増感色素−１（０．１％ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶液） ２ｍｇ カブリ防止剤−１：ピリジニウムヒドロブロミドペルブルミド （０．０１％メタノール溶液） ３ｍｌ カブリ防止剤−２（１．５％メタノール溶液） ８ｍｌ カブリ防止剤−３：２−トリプロモメチルスルホニルキノリン （２．４％ＤＭＦ溶液） ５ｍｌ フタラゾン（４．５％ＤＭＦ溶液） ８ｍｌ 現像剤−１（１０％アセトン溶液） １３ｍｌ 硬調化剤Ｈ−１（１％メタノール／ＤＭＦ＝４：１溶液） ２ｍｌ 硬調化剤Ｈ−２（１％メタノール／ＤＭＦ＝４：１溶液） ２ｍｌ
【００３５】
【化５】
【００３６】
【化６】
【００３７】表面保護層：以下の組成の液を湿潤厚さ１
００μｍになる様に各感光層上に塗布した。
００μｍになる様に各感光層上に塗布した。
【００３８】 アセトン １７５ｍｌ ２−プロパノール ４０ｍｌ メタノール １５ｍｌ セルロースアセテート ８．０ｇ フタラジン １．０ｇ ４−メチルフタル酸 ０．７２ｇ テトラクロロフタル酸 ０．２２ｇ テトラクロロフタル酸無水物 ０．５ｇ シリカマット剤（平均粒径５μｍ） ０．５ｇ 《ＰＳ版への焼き付け時間の評価》上記で作成した熱現
像材料に７６０ｎｍの半導体レーザーを有するイメージ
セッターで、画像露光後ヒートドラムを用いて１３０℃
で２５秒熱現像処理し画像を形成した。これを原稿とし
てＰＳ版に密着させ、高圧水銀灯を光源とするプリンタ
ーにて焼き付け後、処理して印刷版を作成した。その
際、１００μｍ厚のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレー
ト）を支持体として用いた熱現像材料で要したＰＳ版へ
の焼き付け時間を分母とし、百分率で算出した。従っ
て、１００より小さくなるほどＰＳ版への焼き付け時間
が短くなり、作業性が良くなることを意味する。
像材料に７６０ｎｍの半導体レーザーを有するイメージ
セッターで、画像露光後ヒートドラムを用いて１３０℃
で２５秒熱現像処理し画像を形成した。これを原稿とし
てＰＳ版に密着させ、高圧水銀灯を光源とするプリンタ
ーにて焼き付け後、処理して印刷版を作成した。その
際、１００μｍ厚のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレー
ト）を支持体として用いた熱現像材料で要したＰＳ版へ
の焼き付け時間を分母とし、百分率で算出した。従っ
て、１００より小さくなるほどＰＳ版への焼き付け時間
が短くなり、作業性が良くなることを意味する。
【００３９】《寸法の繰り返し精度の測定》上記で作成
した熱現像材料に７６０ｎｍの半導体レーザーを有する
イメージセッターで、５００ｍｍ間隔で２本の細線を画
像露光した。その後ヒートドラムを用いて１３０℃で２
５秒熱現像処理した。その際、露光及び現像は２３℃、
５０％ＲＨに調湿した部屋で行った。この作業を４回繰
り返し行い、２本の細線の距離を正確に測定した。その
場合の最大のものと最小のものの差をＲ（ｍｍ）とし
て、下記の式に従い寸法の繰り返し精度Ｔを求めた。
した熱現像材料に７６０ｎｍの半導体レーザーを有する
イメージセッターで、５００ｍｍ間隔で２本の細線を画
像露光した。その後ヒートドラムを用いて１３０℃で２
５秒熱現像処理した。その際、露光及び現像は２３℃、
５０％ＲＨに調湿した部屋で行った。この作業を４回繰
り返し行い、２本の細線の距離を正確に測定した。その
場合の最大のものと最小のものの差をＲ（ｍｍ）とし
て、下記の式に従い寸法の繰り返し精度Ｔを求めた。
【００４０】Ｔ＝（Ｒ／Ｗ）×１００（％） Ｗ：現像前の試料の長さ（ｍｍ） ０．１％未満が実用上の許容レベルである。
【００４１】評価した結果を表１に示す。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【発明の効果】実施例の結果からも明らかな様に、本発
明の熱現像材料は透明でＰＳ版への焼き付け時間が短く
て作業性がよく、かつ、寸法の繰り返し精度に優れるこ
とがわかる。
明の熱現像材料は透明でＰＳ版への焼き付け時間が短く
て作業性がよく、かつ、寸法の繰り返し精度に優れるこ
とがわかる。
Claims (2)
- 【請求項１】 シクロ環化合物を重合単位として重合さ
れたポリマーを含有するプラスチック支持体を用いるこ
とを特徴とする熱現像材料。 - 【請求項２】 支持体上に有機銀塩及び感光性ハロゲン
化銀粒子を含有する感光性層を有することを特徴とする
請求項１に記載の熱現像材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10296748A JP2000122221A (ja) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | 熱現像材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10296748A JP2000122221A (ja) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | 熱現像材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000122221A true JP2000122221A (ja) | 2000-04-28 |
Family
ID=17837614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10296748A Pending JP2000122221A (ja) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | 熱現像材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000122221A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001520950A (ja) * | 1997-10-24 | 2001-11-06 | アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 構成層として薄い硼珪酸ガラス基質を含んでなる積層物 |
-
1998
- 1998-10-19 JP JP10296748A patent/JP2000122221A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001520950A (ja) * | 1997-10-24 | 2001-11-06 | アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 構成層として薄い硼珪酸ガラス基質を含んでなる積層物 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051122 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060328 |