JP2003107624A - 水性塗布組成物、赤外線吸収性フィルム及びこれらを用いる画像形成材料又は熱現像感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水系塗布で赤外線吸収層の形成が可能で、形
成された赤外線吸収層の耐水性や強度が高く、かつ吸収
波長が溶剤に溶解している状態と同様の波長を示す赤外
線吸収層を有する赤外線吸収性フィルム及びそれを用い
た画像形成材料、又熱現像感光材料を提供することにあ
る。 【解決手段】 １）赤外線吸収化合物を含浸したラテッ
クスと水性ポリエステルを含有することを特徴とする水
性塗布組成物、２）赤外線吸収化合物を含浸したラテッ
クスと活性メチレン基を有するポリマーラテックスを含
有することを特徴とする水性塗布組成物、これらを基材
フィルム上に塗布乾燥して得た赤外線吸収性フィルム、
これを用いた画像形成材料及び熱現像感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線吸収層を形
成するための水性塗布組成物及びそれらを基材フィルム
上に塗布、乾燥することにより赤外線吸収層を形成した
赤外線吸収性フィルム、これを用いた画像形成材料、
又、熱現像感光材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】光によって画像を形成する画像形成材料
は、露光時に、入射光が材料表面、材料中の層間界面、
材料内部の相分離構造界面で反射屈折し、これによって
像がぼけ、鮮鋭性が劣化することが知られている。これ
を防ぐためにいわゆるアンチハレーション染料（以下、
ＡＨ染料とも言う）やアンチイラジエーション染料（以
下、ＡＩ染料とも言う）が広く用いられている。

【０００３】近年のデジタル化によりレーザー光を用い
た画像形成が行われるようになり、例えば、医療用レー
ザーイメージャーや印刷用イメージセッターの光源の多
くが赤外線レーザーである。

【０００４】これらの出力として使用される画像形成材
料には、熱現像感光材料が用いられ、赤外線を吸収する
化合物がＡＨ染料やＡＩ染料として使用される。

【０００５】赤外線を吸収できる化合物の代表例として
有機染料があり、シアニン色素、オキソノール染料、ス
クアリリウム染料、チオピリリウムクロコニウム染料、
ピリリウムクロコニウム染料、ポリメチン染料等が熱現
像感光材料に使用されることが知られている。これらの
赤外線吸収化合物は親油性化合物である場合と水溶性化
合物の場合があり、前者は疎水性バインダーを用い後者
はバインダーとして水溶性バインダーまたは疎水性ポリ
マーが水に分散したラテックスを用いる。

【０００６】しかし、前者の場合は溶媒として有機溶剤
を使用するため工業的には環境への配慮から溶剤回収装
置など多額の投資が必要である。後者の場合は、水系の
塗布乾燥が可能なため環境面では有利であるが水溶性の
染料を用いるため赤外線吸収層の耐水性が課題となる。

【０００７】水系で塗布、乾燥が可能で且つ耐水性をも
たせる手段として、固体状の親油性染料を細かく粉砕し
て水に分散した分散液を塗布し赤外線吸収層を形成する
方法があるが、染料が有機溶剤に溶解した状態と比較し
て固体状に染料が分散した場合は吸収波長がブロードに
なり所望の波長及び強度の赤外線吸収層の形成が難し
い。 従って、水系の塗布乾燥が可能で、所望の波長及
び強度の得られる赤外線吸収層が得られる水性塗布組成
物及びそれを用いた画像形成材料が求められていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明が解決
しようとする課題は、水系塗布で赤外線吸収層の形成が
可能で、形成された赤外線吸収層の耐水性や強度が高
く、かつ吸収波長が溶剤に溶解している状態と同様の波
長を示す赤外線吸収層を有する赤外線吸収性フィルム及
びそれを用いた画像形成材料、又熱現像感光材料を提供
することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成される、 １．赤外線吸収化合物を含浸したラテックスと水性ポリ
エステルを含有することを特徴とする水性塗布組成物。

【００１０】２．赤外線吸収化合物を含浸したラテック
スと活性メチレン基を有するポリマーラテックスを含有
することを特徴とする水性塗布組成物。

【００１１】３．赤外線吸収化合物を含浸したラテック
ス、水性ポリエステル及び活性メチレン基を有するポリ
マーラテックスを含有することを特徴とする水性塗布組
成物。

【００１２】４．前記１、２又は３記載の水性塗布組成
物を基材フィルム上に塗布、乾燥して得たことを特徴と
する赤外線吸収性フィルム。

【００１３】５．前記４に記載の赤外線吸収性フィルム
を用いることを特徴とする画像形成材料。

【００１４】６．前記４に記載の赤外線吸収性フィルム
を用いることを特徴とする熱現像感光材料。

【００１５】７．バッキング層が前記水性塗布組成物を
塗布、乾燥して得られたものであることを特徴とする前
記５に記載の画像形成材料。

【００１６】８．バッキング層が前記水性塗布組成物を
塗布、乾燥して得られたものであることを特徴とする前
記６に記載の熱現像感光材料。

【００１７】９．赤外線吸収化合物を含浸するラテック
スの樹脂成分がビニル系ポリマーであることを特徴とす
る前記５又は７に記載の画像形成材料。

【００１８】１０．赤外線吸収化合物を含浸するラテッ
クスの樹脂成分がビニル系ポリマーであることを特徴と
する前記６又は８に記載の熱現像感光材料。

【００１９】１１．赤外線吸収化合物が、前記一般式
（１）〜（４）で表される化合物から選ばれることを特
徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の水性塗布組
成物。

【００２０】１２．赤外線吸収化合物が、前記一般式
（１）〜（４）で表される化合物から選ばれることを特
徴とする前記４に記載の赤外線吸収性フィルム。

【００２１】１３．赤外線吸収化合物が、前記一般式
（１）〜（４）で表される化合物から選ばれることを特
徴とする前記５、７又は９に記載の画像形成材料。

【００２２】１４．赤外線吸収化合物が、前記一般式
（１）〜（４）で表される化合物から選ばれるいずれか
１種であることを特徴とする前記６、８又は１０のいず
れか１項記載の熱現像感光材料。

【００２３】以下、本発明を詳細に説明する。 （赤外線吸収化合物）本発明において、赤外線吸収化合
物とは赤外線を吸収する有機化合物であれば特に限定さ
れない。赤外線を吸収できる有機化合物の代表例として
は、赤外染料を挙げることができ、シアニン色素、オキ
ソノール染料、スクアリリウム染料、チオピリリウムク
ロコニウム染料、ピリリウムクロコニウム染料、ポリメ
チン染料等を挙げることができる。

【００２４】本発明に好ましく用いられる赤外線吸収化
合物としては、前記一般式（１）〜（４）で表される染
料である。

【００２５】前記一般式（１）で表される化合物につい
て説明する。前記一般式（１）において、Ｒ₁、Ｒ₂は各
々１価の置換基を表す。１価の置換基には特に制限はな
いが、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、ターシャリーブチル基、メトキシエチル基、
メトキシメチル基、２−エチルヘキシル基、２−ヘキシ
ルデシル基、ベンジル基等）、アリール基（例えばフェ
ニル基、４−クロロフェニル基、２，６−ジメチルフェ
ニル基等）であることが好ましく、アルキル基であるこ
とがより好ましく、ターシャリーブチル基であることが
特に好ましい。Ｒ₁、Ｒ₂は互いに連結して環を形成して
もよい。ｍ、ｎは０〜４の整数を表し、２以下であるこ
とが好ましい。

【００２６】以下に、本発明に好ましく用いられる一般
式（１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。

【００２７】

【化５】

【００２８】

【化６】

【００２９】

【化７】

【００３０】前記一般式（２）で表される化合物につい
て説明する。前記一般式（２）において、Ｚ¹、Ｚ²で表
される縮環してもよい５又は６員の含窒素複素環はオキ
サゾール環、イソオキサゾール環、ベンゾオキサゾール
環、ナフトオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環、ナフトチアゾール環、インドレニン環、ベン
ゾインドレニン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾー
ル環、ナフトイミダゾール環、キノリン環、ピリミジン
環、ピロロピリジン環、フロピロール環等を挙げること
ができるが、好ましくはベンゼン環又はナフタレン環が
縮環した５員の含窒素複素環であり、最も好ましくはイ
ンドレニン環である。

【００３１】これらの置換基としては、低級アルキル基
（例えばメチル基、エチル基等）、アルコキシ基（例え
ばメトキシ基、エトキシ基等）、フェノキシ基（例えば
無置換のフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基等）、
カルボキシル基、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｆ
等の各原子）、アルコキシカルボニル基（例えばエトキ
シカルボニル基）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル
基等を挙げることができる。

【００３２】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁸及びＲ⁹で表されるア
ルキル基は、炭素数１〜１０、より好ましくは１〜６の
アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等）
である。

【００３３】また、ヒドロキシル基、カルボキシル基及
びハロゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ等）で置換されていてもよ
い。Ｒ⁶及びＲ⁷で表されるアルキル基は、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ
⁴、Ｒ⁸及びＲ⁹で表されるアルキル基及びアルコキシカ
ルボニルアルキル基（例えばメトキシカルボニルメチル
基、エトキシカルボニルメチル基等）である。

【００３４】Ｒ³とＲ⁵が互いに連結して形成する５又は
６員環としては、例えばシクロペンテン環、シクロヘキ
セル環が挙げられ、これらの環は置換基（例えばメチル
基、ｔ−ブチル基、フェニル基等）を有してもよい。

【００３５】Ｒ⁴で表されるハロゲン原子にはＦ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ等の原子が挙げられる。Ｒ⁴、Ｒ⁶、Ｒ⁸及びＲ⁹
で表されるアリール基は、炭素数６〜１２５のものが好
ましく、フェニル基又はナフチル基が挙げられる。アリ
ール基はＺ¹の環が有してもよい置換基で述べた置換基
で置換されていてもよい。Ｒ¹、Ｒ²で表されるアルキル
基は炭素数７〜１２のアラルキル基（例えばベンジル
基、フェニルエチル基等）が好ましく、置換基（例えば
メチル基、アルコキシ基、Ｃｌ原子等）を有していても
よい。

【００３６】Ｒ¹、Ｒ²で表されるアルケニル基は炭素数
２〜６のアルケニル基が好ましく、例えば２−ペンテニ
ル基、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、１−プロ
ペニル基等が挙げられる。Ｒ⁷で表されるスルホニル基
は、炭素数１〜１０のスルホニル基が好ましく、例えば
メシル基、トシル基、ベンゼンスルホニル基、エタンス
ルホニル基を挙げることができる。

【００３７】Ｒ⁷で表されるアシル基は、炭素数２〜１
０のアシル基が好ましく、例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基等を挙げることができる。

【００３８】Ｒ⁶、Ｒ⁷は互いに連結してヘテロ環を形成
してもよい。ヘテロ環としては、ピリジン環、モルホリ
ン環、ピペラジン環等を挙げることができ、これらの環
は置換基、例えば、メチル基、フェニル基、エトキシカ
ルボニル基等を有してもよい。

【００３９】よりこのましくはＲ¹、Ｒ²がアルキル基で
あり、Ｒ³、Ｒ⁴が連結して５又は６員環を形成し、Ｒ⁴
が−Ｎ（Ｒ⁶）Ｒ⁷の場合である。さらに好ましくはＲ⁶
又はＲ ⁷の少なくとも一方がフェニル基の場合である。

【００４０】Ｘ^-で表されるアニオンとしては、ハロゲ
ンイオン（例えばＣｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-等）、ｐ−トルエ
ンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ
₄ ^-、ＣｌＯ₄ ^-等が挙げられる。

【００４１】前記一般式（３）で表される化合物につい
て説明する。前記一般式（３）において、Ｚ³及びＺ⁴で
形成されるベンゾ又はナフト縮合環は、Ｚ¹で述べた置
換基で置換されていてもよい。Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹³、
Ｒ¹⁵、Ｒ^{1 6}、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸とＲ²¹及びＲ²²で表されるアル
キル基は、前記一般式（２）で述べたＲ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、
Ｒ⁸及びＲ⁹におけるアルキル基と同義である。

【００４２】Ｒ¹⁵とＲ¹⁶、Ｒ¹⁷とＲ¹⁸が互いに連結して
環（例えばシクロヘキサン環）を形成してもよい。

【００４３】Ｒ¹⁹及びＲ²⁰で表されるアルキル基は、前
記一般式（２）で述べたＲ⁶及びＲ⁷におけるアルキル基
と同義である。Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹で表されるアルキル基及びア
ラルキル基は、Ｒ¹、Ｒ²のアルケニル基及びアラルキル
基と同義である。

【００４４】Ｒ¹³、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹及びＲ²²で表され
るアリール基は、前記一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁶、Ｒ⁷、
Ｒ⁸及びＲ⁹のアリール基と同義である。

【００４５】Ｒ¹³のハロゲン原子は、前記一般式（２）
のＲ⁴のハロゲン原子と同義である。

【００４６】Ｒ¹⁹とＲ²⁰による環形成は、Ｒ⁶とＲ⁷の環
形成と同義である。Ｘ^-は前記一般式（２）のＸ^-と同義
であり、好ましくはＲ¹⁰及びＲ¹¹が各々アルキル基であ
り、Ｒ¹²とＲ¹⁴が連結して５員又は６員環を形成し、Ｒ
¹³が−Ｎ（Ｒ¹⁹）Ｒ²⁰で表される化合物である。特に好
ましくは、Ｒ¹⁹又はＲ²⁰の少なくとも一方にフェニル基
を有する化合物である。

【００４７】前記一般式（４）で表される化合物につい
て説明する。一般式（４）において、Ｚ³及びＺ⁴で形成
されたベンゾ又はナフト縮合環は、前記一般式（２）に
おけるＺ¹で述べた置換基で置換されていてもよい。

【００４８】Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸で
表されるアルキル基は、前記一般式（２）で述べた
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁸及びＲ⁹におけるアルキル基と同義
である。Ｒ¹⁵とＲ¹⁶、Ｒ¹⁷とＲ¹⁸が互いに連結して環
（例えばシクロヘキサン環）を形成してもよい。Ｒ²³及
びＲ²⁴で表されるアルキル基は、前記一般式（２）で述
べたＲ⁶及びＲ⁷におけるアルキル基と同義である。

【００４９】Ｒ¹⁰及びＲ¹¹で表されるアルケニル基及び
アラルキル基は、Ｒ¹及びＲ²のアルケニル基及びアラル
キル基と同義である。Ｒ²³及びＲ²⁴は各々アリール基
は、前記一般式（２）で述べたＲ⁶及びＲ⁷のアリール基
と同義である。Ｒ²³とＲ²⁴による環形成は、Ｒ⁶とＲ⁷の
環形成と同義である。

【００５０】Ｘ^-は前記一般式（２）のＸ^-と同義である
る。さらに好ましくは、Ｒ¹⁰及びＲ ¹¹が各々アルキル基
であり、Ｒ²³及びＲ²⁴が各々フェニル基である。

【００５１】以下に、これら一般式（２）〜（４）で表
される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

【００５２】

【化８】

【００５３】

【化９】

【００５４】

【化１０】

【００５５】

【化１１】

【００５６】

【化１２】

【００５７】

【化１３】

【００５８】

【化１４】

【００５９】

【化１５】

【００６０】

【化１６】

【００６１】これらの化合物は、米国特許第３，６７
１，６４８号などの合成例を参考にして容易に合成でき
る。

【００６２】（赤外線吸収化合物含浸ラテックス）本発
明において、赤外線吸収化合物（赤外染料）を含浸した
ラテックスとは、赤外線吸収化合物をモノマーに溶解し
乳化重合して得たものと、ポリマー微粒子が分散したラ
テックス液に赤外線吸収化合物を溶解した有機溶剤を混
合撹拌し、その後有機溶剤を除去したものとに大別で
き、任意に選択できる。重合中に赤外線吸収化合物の分
解が懸念される場合は、後者の方法が選択される。後者
の方法は、更に、有機溶剤の除去を行った液を一旦作製
しそのまま或いは添加剤等を加えて更に塗布液として加
工し塗布乾燥して使用する方法が好ましいが、塗布乾燥
時に有機溶剤の除去を行うという方法を用いることも出
来る。しかしながら前者の方が吸収波長の変動の観点か
ら塗布乾燥条件の制約が小さく好ましい。

【００６３】親油性の染料を単に水中に分散しラテック
スと混合して塗布乾燥して得た層は、化合物の有機溶剤
溶液の吸収波長と比べブロードになるが、これらの操作
により作製した含浸ラテックスを塗布乾燥して得た層
は、有機溶剤溶液の吸収波長と変化がないことから、赤
外線染料がラテックスポリマー微粒子中に分子状に溶解
し含有されていると考えられる。

【００６４】赤外線吸収化合物（赤外染料）の添加量
は、ポリマー成分に対し０．０１〜１０質量％が好まし
く、ポリマー成分に対して０．０１質量％未満では赤外
線吸収効果が小さくなり、１０質量％を越えると吸収波
長がブロードになってくる。

【００６５】赤外線吸収化合物を含浸したラテックスと
して、好ましく用いられるラテックスとは、水性媒体に
ポリマー微粒子が分散している組成物を言う。ポリマー
微粒子としては、平均粒径が０．０５〜１μｍのポリマ
ー粒子で、ポリマー成分としては、アクリル系樹脂、ポ
リエステル樹脂、ゴム類、ポリ酢酸ビニル類、ポリビニ
ルアルコール変性物、セルロースエステル類、ポリウレ
タン類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類等を
あげることができる。水性媒体に樹脂を分散させる方法
としては、予め樹脂を重合し、これを水性媒体に分散す
る方法とモノマーを水性媒体中で乳化重合法、懸濁重合
法で作製する方法があるが、好ましくは乳化重合法、懸
濁重合法で作製する方法である。

【００６６】ポリマー成分としては、好ましくはビニル
系化合物で、特に好ましくは、アクリル系樹脂、スチレ
ン−アクリル系樹脂、ビニルエステル樹脂、アクリルア
ミド樹脂類である。

【００６７】アクリル酸エステル類又はメタクリル酸エ
ステル類としては、例えば、エチルアクリレート、ｎ−
ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、フェニ
ルアクリレート、２−ナフチルアクリレート等のアクリ
ル酸エステル類、メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリ
シジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、２−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、シクロヘキシルメタクリレート、４−クロロベ
ンジルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート等のメタクリル酸エステル類を挙げることができ
る。

【００６８】ビニルエステル類（例えば、安息香酸ビニ
ル、ピバロイルオキシエチレン等）、アクリルアミド類
（例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エ
チルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチル
アクリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、シクロヘ
キシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒド
ロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリル
アミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニ
ルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチル
アクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、ジ
アセトアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（例え
ば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチ
ルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチ
ルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリルアミ
ド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタク
リルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メト
キシエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメ
タクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチル
メタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β−シ
アノエチルメタクリルアミド等）、スチレン類（例え
ば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、ト
リメチレンスチレン、エチルスチレン、イソプロピルス
チレン、クロロスチレン、メトキシスチレン、アセトキ
シスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロ
ムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル等）、ジビ
ニルベンゼン、アクリルニトリル、メタアクリロニトリ
ル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリド
ン、塩化ビニリデン、フェニルビニルケトン等、アクリ
ル酸；メタクリル酸；イタコン酸、マレイン酸；イタコ
ン酸モノアルキル、例えば、イタコン酸モノメチル、イ
タコン酸モノエチルなど；マレイン酸モノアルキル、例
えば、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチルな
ど；シトラコン酸；スチレンスルホン酸；ビニルベンジ
ルスルホン酸；ビニルスルホン酸；アクリロイルオキシ
アルキルスルホン酸、例えば、アクリロイルオキシメチ
ルスルホン酸、アクリロイルオキシエチルスルホン酸、
アクリロイルオキシプロピルスルホン酸など；メタクリ
ロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、メタクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオキシエ
チルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピルスルホ
ン酸など；アクリルアミドアルキルスルホン酸、例え
ば、２−アクリルアミド−２−メチルエタンスルホン
酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン
酸、２−アクリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸
など；メタクリルアミドアルキルスルホン酸、例えば、
２−メタクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、
２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン
酸、２−メタクリルアミド−２−メチルブタンスルホン
酸等、これらの酸はアルカリ金属（例えば、Ｎａ、Ｋ
等）又はアンモニウム塩を含んでいても良い。

【００６９】これらのモノマーの共重合比は任意で選択
でき特に限定されない。乳化重合法によって調製される
ラテックスの粒子径の好ましい範囲は０．０１〜１．０
μｍである。

【００７０】乳化重合法は少なくとも一種類の乳化剤を
用い、これに水或いは水と水に混和し得る有機溶媒（た
とえばメタノール、エタノール、アセトン等）の混和溶
媒（水性媒体）中でモノマーを乳化させラジカル重合開
始剤を用いて一般に３０〜１００℃、好ましくは４０〜
９０℃の温度で行なわれる。

【００７１】水に混和し得る有機溶媒の量は水に対して
０〜１００質量％、好ましくは０〜５０質量％である。

【００７２】重合反応は、通常重合すべき単量体に対し
０．０５〜５質量％のラジカル重合開始剤と必要に応じ
て０．１〜１０質量％の乳化剤を用いて行なわれる。

【００７３】重合開始剤としては、アゾビス化合物、パ
ーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、レドックス触
媒など、たとえば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウ
ム、ｔ−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオキ
サイド、イソプロピル−カーボネイト、２，４−ジクロ
ロベンジルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオ
キサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミルパ
ーオキサイド、２，２′−アゾビスイソブチレート、
２，２′−アゾビス（２−アミジノプロパン）ハイドロ
クロライド、亜硫酸カリウムと亜硫酸水素ナトリウムの
組合せなどがある。

【００７４】乳化剤としてはアニオン性、カチオン性、
両性、ノニオン性の界面活性剤を後述する水溶性ポリマ
ーの使用時に併用してもよい。ただし、界面活性剤の使
用量は水溶性ポリマーの使用量に対して０〜２５質量
％、好ましくは０〜１０質量％の範囲にある。界面活性
剤は、例えばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナトリウ
ム、１−オクトキシカルボニルメチル−１−オクトキシ
カルボニルメタンスルホン酸ナトリウム、ドデシルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、ドデシルリン酸ナトリウム、セチルト
リメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチレ
ンアンモニウムクロライド、Ｎ−２−エチルヘキシルピ
リジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンラウリン
エステル等がある。

【００７５】ポリマーラテックスを乳化重合する際に水
溶性ポリマーを使用しても良い。水溶性ポリマーとして
は、分子構造中に水溶性のアニオン性基、カチオン性
基、ノニオン性基を有する水溶性天然ポリマーや水溶性
合成ポリマーのほとんどのものが使用でき、アニオン性
基としてはカルボン酸又はその塩、スルホン酸又はその
塩、リン酸又はその塩、カチオン性基としては第３級ア
ミン又はアンモニウム塩、ノニオン性基としては、水酸
基、アミド基、メトキシ基、アルキレンオキシド基とし
てはオキシエチレン基、ヘテロ原子環としてピロリドン
基等の基を挙げることができる。

【００７６】水溶性合成ポリマーの中では、アニオン性
もしくはノニオン性のものを挙げることができ、スルホ
ン酸塩を有するポリマー、例えばポリスチレンスルホン
酸塩や共役ジエン系スルホン酸塩を含むポリマー等、
又、特願２０００−９７０６５に記載の段落００５３〜
００５８に記載されたＳＰ−１〜ＳＰー２８の様なポリ
マーを用いてもよい。また、水溶性ポリマーを２種以上
を組み合わせて使用してもよい。

【００７７】（水性塗布組成物）本発明において、水性
塗布組成物とは、水を主成分とする組成物である。水以
外に必要があれば水溶性の有機溶媒を含んでいてもよ
い。

【００７８】水溶性有機溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノー
ル、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１
−プロパノール、２−メチル−２−プロパノール、１−
ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、
２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノ
ール、２−メチル−２ブタノール又は３−メチル−２−
ブタノール等のモノアルコール化合物、エチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリトリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール、ポリテトラエチレン
グリコール、１，３−ブタンジオール、グリセリン又は
１，２，６−ヘキサントリオール等の多価アルコール化
合物が挙げられる。これらの水溶性有機溶剤は１種類を
使用してもよく、２種類以上の水溶性有機溶剤を併用し
てもよい。

【００７９】水性有機溶剤の使用量は０〜２０質量％が
好ましい。また、赤外線吸収層の強度を向上させるた
め、組成物中に水性ポリエステルを含ませる。

【００８０】水性ポリエステルとは、ジカルボン酸成分
として少なくともテレフタル酸ユニット（２０〜６０モ
ル％）、イソフタル酸ユニット（２０〜６０モル％）、
スルホイソフタル酸ユニット（３〜１５モル％）を含有
するコポリエステルである。

【００８１】使用するコポリエステルは上記組成比範囲
内であれば、特に限定されない。また、その他のジカル
ボン酸成分を含んでいても良く、脂肪族ジカルボン酸が
含まれているのが好ましい。

【００８２】以下に、好ましく用いられるコポリエステ
ルの例を示す。 ＣＰ−１ ジカルボン酸成分としてテレフタル酸ユニット（４０モ
ル％）、イソフタル酸ユニット（３０モル％）、スルホ
イソフタル酸ユニット（１０モル％）、シクロヘキシル
ジカルボン酸ユニット（２０モル％）を、グリコール成
分としてエチレングリコールユニット（１００モル％）
を含有するコポリエステル。

【００８３】ＣＰ−２ ジカルボン酸成分としてテレフタル酸ユニット（４０モ
ル％）、イソフタル酸ユニット（３８モル％）、スルホ
イソフタル酸ユニット（１０モル％）、シクロヘキシル
ジカルボン酸ユニット（１２モル％）を、グリコール成
分として、エチレングリコールユニット（１００モル
％）を含有するコポリエステル。

【００８４】ＣＰ−３ ジカルボン酸成分としてテレフタル酸ユニット（４０モ
ル％）、イソフタル酸ユニット（３８モル％）、スルホ
イソフタル酸ユニット（８モル％）、シクロヘキシルジ
カルボン酸ユニット（１４モル％）を、グリコール成分
として、エチレングリコールユニット（１００モル％）
を含有するコポリエステル。

【００８５】ＣＰ−４ ジカルボン酸成分としてテレフタル酸ユニット（４０モ
ル％）、イソフタル酸ユニット（３８モル％）、スルホ
イソフタル酸ユニット（１０モル％）、シクロヘキシル
ジカルボン酸ユニット（１２モル％）を、グリコール成
分として、エチレングリコールユニット（１００モル
％）を含有するコポリエステル。

【００８６】ＣＰ−５ ジカルボン酸成分としてテレフタル酸ユニット（４０モ
ル％）、イソフタル酸ユニット（３０モル％）、スルホ
イソフタル酸ユニット（１０モル％）、シクロヘキシル
ジカルボン酸ユニット（２０モル％）を、グリコール成
分として、エチレングリコールユニット（７０モル
％）、シクロヘキシルジメタノールユニット（３０モル
％）を含有するコポリエステル。

【００８７】ＣＰ−６ ジカルボン酸成分としてテレフタル酸ユニット（４５モ
ル％）、イソフタル酸ユニット（４５モル％）、スルホ
イソフタル酸ユニット（１０モル％）を、グリコール成
分として、エチレングリコールユニット（１００モル
％）を含有するコポリエステル。

【００８８】（活性メチレン基を有するポリマーラテッ
クス）次に、活性メチレン基を有するポリマーラテック
スについて説明する。

【００８９】赤外線吸収層と支持体との接着強度を向上
させるため、組成物中に活性メチレン基を有する活性メ
チレンラテックスを含ませることを特徴とする。

【００９０】活性メチレンラテックスは、赤外線吸収化
合物を含浸したラテックスとして使用しても良いし、そ
の他の組成物成分として別途添加してもよい。

【００９１】本発明における活性メチレン基を有するポ
リマーの構造は、特に一般式（５）で表されるものが好
ましい。

【００９２】一般式（５） −（Ａ）_x−（Ｂ）_y−（Ｃ）_z− 一般式（５）において、Ａは下記一般式（６）で表され
る活性メチレン基を有するエチレン性不飽和モノマーよ
り誘導される繰り返し単位を示し、Ｂは単独重合体のガ
ラス転移温度が３５℃以下であるメタクリル酸エステ
ル、アクリル酸エステル、マレイン酸エステルから選ば
れるエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し
単位を表し、ＣはＡ、Ｂ以外のエチレン性不飽和モノマ
ーより誘導される繰り返し単位を表す。

【００９３】ここでｘ、ｙ、ｚはポリマーラテックス中
の各成分の質量百分率比を表し、それぞれ５≦ｘ≦６
０、５≦ｙ≦９０、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００を表す。

【００９４】さらに詳細に説明すると、Ａで表される活
性メチレン基を有するエチレン性不飽和モノマーは、下
記一般式（６）で表される。

【００９５】

【化１７】

【００９６】一般式（６）において、Ｒ¹は水素原子、
炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、ｎ−ブチル等の各基）又はハロゲン原子
（例えば、塩素原子、臭素原子等）を表し、好ましくは
水素原子、メチル基、塩素原子を表す。Ｌは単結合又は
二価の連結基を表し、具体的には下記式で表される。

【００９７】−（Ｌ₁）_m−（Ｌ₂）_n− Ｌ₁は−ＣＯＮ（Ｒ²）−（Ｒ²は水素原子、炭素数１〜
４のアルキル基又は炭素数１〜６の置換アルキル基を表
わす）、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯ−、

【００９８】

【化１８】

【００９９】（上式において、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ独立
に、水素、ヒドロキシル、ハロゲン原子または置換もし
くは無置換のアルキル、アルコキシ、アシルオキシ又は
アリールオキシを表わす）を表わし、Ｌ₂はＬ₁とＸを結
ぶ連結基を表わし、ｍは０又は１を表わしｎは０又は１
を表わす。Ｌ₂で表される連結基は具体的には、下式で
表される。

【０１００】−〔Ｘ₁−（Ｊ₁−Ｘ₂）_p−（Ｊ₂−Ｘ₃）_q
−（Ｊ₃）_r〕_s− Ｊ₁、Ｊ₂、Ｊ₃は同じでも異なっていてもよく−ＣＯ
−、−ＳＯ₂−、−ＣＯＮ（Ｒ₅）−（Ｒ₅は水素原子、
炭素数１〜６の置換、無置換のルキル基、−ＳＯ₂Ｎ
（Ｒ₅）−（Ｒ₅は上記Ｒ₅と同義）、−Ｎ（Ｒ₅）−Ｒ₆
−（Ｒ₅は上記Ｒ₅と同義）、Ｒ₆は炭素数１〜４のアル
キレン基）、−Ｎ（Ｒ₅）−Ｒ₆−Ｎ（Ｒ₇）−（Ｒ₅、Ｒ
₆は上記Ｒ₅、Ｒ₆と同義）、Ｒ₇は水素原子、炭素数１〜
６の置換、無置換のアルキル基を表わし、−Ｏ−、−Ｓ
−、−Ｎ（Ｒ₅）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₇）−（Ｒ₅、Ｒ₇は上記
Ｒ₅、Ｒ₇と同義）、−Ｎ（Ｒ₅）−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₇）−
（Ｒ₅、Ｒ₇は上記Ｒ₅、Ｒ₇と同義）、−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ₅）ＣＯ₂−（Ｒ₅は上記Ｒ₅と同義）、
−Ｎ（Ｒ₅）ＣＯ−（Ｒ₅は上記Ｒ₅と同義）等を挙げる
ことができる。

【０１０１】ｐ、ｑ、ｒ、ｓは０又は１を表す。Ｘ₁、
Ｘ₂、Ｘ₃は互いに同じでも異なっていてもよく、炭素数
１〜１０個の無置換もくしは置換のアルキレン基、アラ
ルキレン基、またはフェニレン基を表わし、アルキレン
基は直鎖でも分岐でもよい。アルキレン基としては例え
ばメチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、ジメ
チレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン、デシルメチレン、アラルキレン基
としては例えばベンジリデン、フェニレン基としては例
えばｐ−フェニレン、ｍ−フェニレン、メチルフェニレ
ン等がある。

【０１０２】Ｘは、活性メチレン基を含む一価の基を表
し、好ましい具体例としては、Ｒ₈−ＣＯ−ＣＨ₂−ＣＯ
Ｏ−、ＣＮ−ＣＨ₂−ＣＯＯ−、Ｒ₈−ＣＯ−ＣＨ₂−Ｃ
Ｏ−、Ｒ₈−ＣＯ−ＣＨ₂−ＣＯＮ（Ｒ₅）−等を挙げる
ことができる。

【０１０３】ここでＲ₅は前記Ｒ₅と同義であり、Ｒ₈は
炭素数１〜１２個の置換又は無置換のアルキル基（例え
ば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−
ブチル、ｎ−ノニル、２−メトキシエチル、４−フェノ
キシブチル、ベンジル、２−メタンスルホンアミドエチ
ル等の各基）、置換又は無置換のアリール基（例えば、
フェニル、ｐ−メチルフェニル、ｐ−メトキシフェニ
ル、ｏ−クロロフェニル等の各基）、アルコキシ基（例
えば、メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ、ｎ−ブ
トキシ等の各基）、シクロアルキルオキシ基（例えば、
シクロヘキシルオキシ基）、アリロキシ基（例えば、フ
ェノキシ、ｐ−メチルフェノキシ、ｏ−クロロフェノキ
シ、ｐ−シアノフェノキシ等の各基）、アミノ基、置換
アミノ基（例えばメチルアミノ、エチルアミノ、ジメチ
ルアミノ、ブチルアミノ等の各基）を表す。

【０１０４】以下に、本発明の一般式（５）で表される
ポリマーにおいて、Ａで表される活性メチレン基を有す
るエチレン性不飽和モノマーを例示するがこれらに限定
されるものではない。

【０１０５】ＭＮ−１ ２−アセトアセトキシエチルメ
タクリレート ＭＮ−２ ２−アセトアセトキシエチルアクリレート ＭＮ−３ ２−アセトアセトキシプロピルメタクリレー
ト ＭＮ−４ ２−アセトアセトキシプロピルアクリレート ＭＮ−５ ２−アセトアセトアミドエチルメタクリレー
ト ＭＮ−６ ２−アセトアセトアミドエチルアクリレート ＭＮ−７ ２−シアノアセトキシエチルメタクリレート ＭＮ−８ ２−シアノアセトキシエチルアクリレート ＭＮ−９ Ｎ−（２−シアノアセトキシエチル）アクリ
ルアミド ＭＮ−１０ ２−プロピオニルアセトキシエチルアクリ
レート ＭＮ−１１ Ｎ−（２−プロピオニルアセトキシエチ
ル）メタクリルアミド ＭＮ−１２ Ｎ−４−（アセトアセトキシベンジル）フ
ェニルアクリルアミド ＭＮ−１３ エチルアクリロイルアセテート ＭＮ−１４ メチルアクリロイルアセテート ＭＮ−１５ Ｎ−メタクリロイルオキシメチルアセトア
セトアミド ＭＮ−１６ エチルメタクリロイルアセトアセテート ＭＮ−１７ Ｎ−アリルシアノアセトアミド ＭＮ−１８ メチルアクリロイルアセトアセテート ＭＮ−１９ Ｎ−（２−メタクリロイルオキシメチル）
シアノアセトアミド ＭＮ−２０ ｐ−（２−アセトアセチル）エチルスチレ
ン ＭＮ−２１ ４−アセトアセチル−１−メタクリロイル
ピペラジン ＭＮ−２２ エチル−α−アセトアセトキシメタクリレ
ート ＭＮ−２３ Ｎ−ブチル−Ｎ−アクリロイルオキシエチ
ルアセトアセトアミド ＭＮ−２４ ｐ−（２−アセトアセトキシ）エチルスチ
レン 前記一般式（５）のＢで表される繰返し単位を与えるエ
チレン性不飽和モノマーは、その単独重合体のガラス転
移温度（以下、Ｔｇ）が３５℃以下となる様なモノマー
であり、具体的には、アルキルアクリレート（例えば、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ベンジルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｉｓｏ
−ノニルアクリレート、ｎ−ドデシルアクリレート
等）、アルキルメタクリレート（例えば、ｎ−ブチルメ
タクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチ
ルヘキシルメタクリレート、ｉｓｏ−ノニルメタクリレ
ート、ｎ−ドデシルメタクリレート等）、ジエン類（例
えばブタジエン、イソプレン等）等を挙げることができ
る。

【０１０６】更に好ましいモノマーとしては、単独重合
体のガラスＴｇが１０℃以下のモノマーであり、この様
なモノマーとしては炭素数２以上のアルキル側鎖を有す
るアルキルアクリレート（例えば、エチルアクリレー
ト、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアク
リレート、ｉ−ノニルアクリレート等）、炭素数６以上
のアルキル側鎖を有するアルキルメタクリレート（例え
ば、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシル
メタクリレート等）、ジエン類（例えばブタジエン、イ
ソプレン等）を特に好ましい例として挙げることができ
る。

【０１０７】前記のポリマーのＴｇの値については、
Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ．Ｅ．Ｈ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ共編
「Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ」第３版（Ｊｏｈ
ｎ Ｗｉｌｙ ＆ Ｓｏｎｓ，１９８９年）ＶＩ／２０
９〜ＶＩ／２７７頁に記載されている。

【０１０８】一般式（５）のＣで表される繰返し単位
は、Ｂ以外の繰返し単位、すなわちその単独重合体のＴ
ｇが３５℃を超える様なモノマーより誘導される繰返し
単位が好ましい。

【０１０９】具体的には、アクリル酸エステル類（例え
ば、ｔ−ブチルアクリレート、フェニルアクリレート、
２−ナフチルアクリレート等）、メタクリル酸エステル
類（例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、クレジルメタクリレート、４−クロロベンジル
メタクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等）、ビニルエステル類
（例えば、安息香酸ビニル、ピバロイルオキシエチレン
等）、アクリルアミド類（例えば、アクリルアミド、メ
チルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルア
クリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジ
ルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、
メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチル
アクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルア
クリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエ
チルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド等）、
メタクリルアミド類（例えば、メタクリルアミド、メチ
ルメタクリルアミド、エチルメタクリルミド、プロピル
メタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ｔ−ブチ
ルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミ
ド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタ
クリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメ
チルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリ
ルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタク
リルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド等）、
スチレン類（例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメ
チルスチレン、トリメチレンスチレン、エチルスチレ
ン、イソプロピルスチレン、クロロスチレン、メトキシ
スチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジク
ロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチル
エステル等）、ジビニルベンゼン、アクリルニトリル、
メタアクリロニトリル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビ
ニルオキサゾリドン、塩化ビニリデン、フェニルビニル
ケトン等を挙げることができる。

【０１１０】また、本発明の一般式（５）で表されるポ
リマーにおいては、特公昭６０−１５９３５号、同４５
−３８２２号、同５３−２８０８６号、米国特許第３，
７００，４５６号等に記載されている様なアニオン性官
能基（例えば、カルボキシル基、スルホン酸基）を有す
るモノマーをラテックスの安定性を向上させる等の目的
で共重合してもよい。

【０１１１】このようなモノマーとしては、以下の化合
物を挙げることができる。アクリル酸、メタクリル酸、
イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル（例
えば、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル
等）、マレイン酸モノアルキル（例えば、マレイン酸モ
ノメチル、マレイン酸モノエチル等）、シトラコン酸、
スチレンスルホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニ
ルスルホン酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸
（例えば、アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アク
リロイルオキシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシ
プロピルスルホン酸等）、メタクリロイルオキシアルキ
ルスルホン酸（例えば、メタクリロイルオキシメチルス
ルホン酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メ
タクリロイルオキシプロピルスルホン酸等）、アクリル
アミドアルキルスルホン酸（例えば、２−アクリルアミ
ド−２−メチルエタンスルホン酸、２−アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリルアミド
−２−メチルブタンスルホン酸等）、メタクリルアミド
アルキルスルホン酸（例えば、２−メタクリルアミド−
２−メチルエタンスルホン酸、２−メタクリルアミド−
２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド
−２−メチルブタンスルホン酸等、これらの酸はアルカ
リ金属（例えば、Ｎａ、Ｋなど）又はアンモニウム塩で
あってもよい。

【０１１２】また、上記のアニオン性官能基を有する単
量体は、その単独重合体のガラス転移温度の大小に依ら
ず、ラテックスの安定付与等の必要に応じて用いること
が可能であり、用いた場合の好ましい量は、ポリマーの
全質量に対し、０．５〜２０質量％、特に好ましくは１
〜１０質量％である。

【０１１３】一般式（５）のｘ，ｙ，ｚはポリマーラテ
ックス中の各成分の質量百分率比を表す。ｘ、ｙ、ｚは
それぞれ ５≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦９０、ｘ＋ｙ＋Ｚ＝
１００である。

【０１１４】また、ポリマーラテックスのＴｇが−６０
℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは−４０
℃以上である。

【０１１５】活性メチレン基を有するポリマーラテック
スは乳化重合法によって調製されることが好ましく、そ
の分散粒子径は特に限定されないが、好ましい範囲は
０．０１〜１．０μｍである。

【０１１６】活性メチレン基を有するポリマーラテック
スは乳化重合法によって調製されることが好ましく、そ
の分散粒子径は特に限定されないが、好ましい範囲は
０．０１〜１．０μｍである。

【０１１７】乳化重合法は少なくとも一種類の乳化剤と
して水溶性ポリマーを用いることが好ましく、これに水
又は水と水に混和し得る有機溶媒（例えば、メタノー
ル、エタノール、アセトン等）の混和溶媒中でモノマー
を乳化させラジカル重合開始剤を用いて一般に３０〜１
００℃、好ましくは４０〜９０℃の温度で行なわれる。

【０１１８】水に混和し得る有機溶媒の量は、水に対し
て体積比で０〜１００％、好ましくは０〜５０％であ
る。

【０１１９】重合反応は、通常重合すべき単量体に対し
０．０５〜５質量％のラジカル重合開始剤と必要に応じ
て０．１〜１０質量％の乳化剤を用いて行なわれる。

【０１２０】重合開始剤、乳化剤、又乳化剤と共に用い
られる水溶性ポリマーとしては前記のものが同様にあげ
られる。

【０１２１】乳化重合においては、その目的に応じて、
重合開始剤、濃度、重合温度、反応時間などを幅広く、
かつ、容易に変更できることは言うまでもない。

【０１２２】また、乳化重合反応は、モノマー、界面活
性剤、水溶性ポリマー、媒体を予め容器に全量入れてお
き、開始剤を投入して行ってもよいし、必要に応じて各
成分の一部又は全量を滴下しながら重合を行ってもよ
い。

【０１２３】本発明の一般式（５）で表されるポリマー
における、Ａで表される活性メチレン基を有するモノマ
ーやポリマーラテックスの種類やその合成法については
上記の他米国特許第３，４５９，７９０号、同３，６１
９，１９５号、同３，９２９，４８２号、同３，７０
０，４５６号、西独特許２，４４２，１６５号、欧州特
許１３，１４７号、特開昭５０−７３６２５号、同５０
−１４６３３１号等の記載を参考に行うことができる。

【０１２４】本発明に用いることのできる活性メチレン
ラテックス化合物の共重合体における各成分の組成比を
以下の表１に示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【０１２５】

【表１】

【０１２６】ＢＡはブチルアクリレート、Ｓｔはスチレ
ン、ＭＭＡはメチルメタクリレート、ＥＡはエチルアク
リレート、ＥＭＡはエチルメタクリレート、ＶＡｃは酢
酸ビニル、ＡＩＮはｉ−ノニルアクリレート、ＣＨＭＡ
はシクロヘキシルメタクリレート、ＧＭＡはグリシジル
メタクリレートを表す。

【０１２７】又、表中、Ｓ−２は、ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウムを示し、ＳＰ−１、ＳＰ−２、ＳＰ
−６、ＳＰ−７、ＳＰ−８、ＳＰ−１３、ＳＰ−２２、
ＳＰ−２５、ＳＰ−２６は以下の構造である。尚、ラテ
ックスの固形分は３０％である。

【０１２８】

【化１９】

【０１２９】

【化２０】

【０１３０】水性塗布組成物には、その他の添加剤をそ
れぞれの目的に応じて添加することができる。例えば、
その他のラテックス、水溶性ポリマー、増粘剤、流動性
改良剤、界面活性剤、電導度調整剤、ｐＨ調整剤、酸化
防止剤、紫外線吸収剤、防腐剤、殺菌剤、消泡剤、浸透
剤を挙げることができる。

【０１３１】（赤外線吸収性フィルム）本発明の赤外線
吸収性フィルムに用いる基材フィルムとしては、赤外線
吸収層を設けることができる基材であれば特に限定され
ないが、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。

【０１３２】プラスチックフィルムとしては、例えば、
セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテ
ートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピ
オネートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリエチレンナフタレートフィルム、特開平６−５
１４３７号明細書に記載の変性ポリエステルフィルム、
ポリカーボネートフィルム等を挙げることができる。

【０１３３】さらに、上述のフィルムの積層物、α−オ
レフィンポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、エチレン−ブテン共重合体）を塗布又はラミネー
トした紙等も挙げることができる。これらのうち、セル
ローストリアセテートフィルム、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、ポリエチレンラミネート紙等は市販さ
れており容易に入手される。

【０１３４】これらのプラスチックフィルムは、使用目
的に応じて着色しても良い。熱現像感光材料の支持体と
して用いる場合は、プラスチックフィルムの厚さは、５
０〜２５０μｍが好ましい。

【０１３５】本発明の水性塗布組成物をプラスチックフ
ィルム上に塗布するにあたり、プラスチックフィルム表
面に前処理を施すことができる。

【０１３６】前処理とは、薬品、アルカリ、混酸等によ
る液剤処理、機械的粗面化処理、コロナ放電処理、紫外
線処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー
処理、オゾン処理等の表面活性化処理を挙げることがで
きる。

【０１３７】本発明における塗布方法としては、例え
ば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテ
ンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート
法、グラビアコート法、あるいは、米国特許第２６８１
２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストル
ージョンコート法等をあげることができる。また、必要
に応じて、米国特許第２７６１７９１号、同３５０８９
４７号、同２９４１８９８号及び同３５２６５２８号、
原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年
朝倉書店発行）等に記載された２層以上の層を同時に塗
布する方法も用いることができる。

【０１３８】乾燥条件は一般的に５０〜２００℃で数秒
〜数十分程度である。本発明の赤外線吸収層は、赤外線
吸収化合物を含浸したラテックスを含む水性塗布組成物
を塗布乾燥して得たものであれば特に限定されない。赤
外線吸収層は支持体上に直接設けても良いし支持体と赤
外線吸収層の間にその他の層があっても構わない。ま
た、赤外線吸収層が支持体から最も離れている層（最外
層）であっても良いし中間層であっても良い。また、支
持体上に１層設けても良いし２層以上設けても良い。熱
現像感光材料に用いる場合には、画像形成層と支持体を
介して反対側のバッキング層側に用いるのが好ましい。
水性塗布組成物が、赤外線吸収化合物を含浸したラテッ
クスと水性ポリエステルを含有する場合や．水性塗布組
成物が、赤外線吸収化合物を含浸したラテックスと活性
メチレン基を有するポリマーラテックスを含有する場合
は、ポリエステル支持体上に直接、熱現像感材用バッキ
ング層を設けることができ熱現像感感光材料用途として
特に好ましい。

【０１３９】本発明の赤外線吸収性フィルムとは、上述
の支持体に上述の赤外線吸収層を設けたものであれば、
特に限定されない。使用目的に応じて、支持体、赤外線
吸収層を選択すれば良い。

【０１４０】（画像形成材料）本発明の画像形成材料と
は、赤外線特に赤外線レーザー光で画像を形成する材料
であって、画像形成材料中の赤外線吸収層によって画像
の品質をコントロールされるものであれば特に限定され
ないが、熱により現像されるため熱現像感光材料は、現
像、又その後のプロセス等において傷がつきやすく、本
発明によると強固な赤外線吸収層が形成されるため、本
発明は特に熱現像感光材料に好ましく使用される。

【０１４１】熱現像感光材料の詳細は、例えば米国特許
第３，１５２，９０４号、同第３，４５７，０７５号明
細書、及びＤ．モーガン（Ｍｏｒｇａｎ）による「ドラ
イシルバー写真材料（Ｄｒｙ Ｓｉｌｖｅｒ Ｐｈｏｔ
ｏｇｒａｐｈｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌ）」又はＤ．Ｈ．
クロスタベール（Ｋｌｏｓｔｅｒｂｏｅｒ）による「熱
によって処理される銀システム（Ｔｈｅｒｍａｌｌｙ
ＰｒｏｃｅｓｓｅｄＳｉｌｖｅｒ Ｓｙｓｔｅｍｓ）」
（イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアル
ズ（Ｉｍａｇｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ａｎｄ Ｍ
ａｔｅｒｉａｌｓ） Ｎｅｂｌｅｔｔｅ 第８版、スタ
ージ（Ｓｔｕｒｇｅ）、Ｖ．ウォールワース（Ｗａｌｗ
ｏｒｔｈ）、Ａ．シェップ（Ｓｈｅｐｐ）編集、第２７
９頁、１９８９年）に開示されている。

【０１４２】このような熱現像感光材料は、還元可能な
銀源（例えば脂肪酸の銀塩等の有機銀塩）、触媒活性量
の光触媒（例えばハロゲン化銀）、銀の色調を制御する
色調剤及び還元剤を通常有機バインダー中に分散した状
態で含有している。熱現像用ハロゲン化銀写真感光材料
は、常温で安定であるが、露光後高温（例えば、８０℃
以上）に加熱した場合に還元可能な銀塩（酸化剤として
機能する）と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を
生成する。この酸化還元反応は露光で発生した潜像の触
媒作用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反
応によって生成した銀は白黒画像を提供し、これは非露
光領域と対照をなし、画像が形成される。

【０１４３】（有機銀塩）本発明において有機銀塩は還
元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有する
有機銀塩の一つとしては、脂肪酸の銀塩であり、特に長
鎖（炭素原子数１０〜３０、好ましくは１５〜２５）の
脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましく、ベヘン酸、アラキ
ジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の
脂肪酸銀塩が特に好ましい。

【０１４４】また、これらの脂肪酸の銀塩の他、ヘテロ
有機酸の銀塩等を用いることもできる。

【０１４５】これらヘテロ有機銀塩としては、配位子が
銀イオンに対する総安定度定数として４．０〜１０．０
の値をもつような有機又は無機の銀塩錯体も有用であ
る。

【０１４６】好適な銀塩の例は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９及び２９９６３に記載
されており、好適な銀塩の例としては以下のものが挙げ
られる。

【０１４７】有機酸の銀塩（例えば、没食子酸、シュウ
酸等の銀塩）、銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩（例
えば、１−（３−カルボキシプロピル）チオ尿素、１−
（３−カルボキシプロピル）−３，３−ジメチルチオ尿
素等の銀塩）、アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カル
ボン酸とのポリマー反応生成物の銀塩又は錯体（例え
ば、アルデヒド類（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド等の銀塩又は錯体）とヒドロキシ
置換酸類（例えば、サリチル酸、安息香酸、３，５−ジ
ヒドロキシ安息香酸、５，５−チオジサリチル酸）との
ポリマー反応生成物の銀塩又は錯体）、チオン類の銀塩
又は錯体（例えば、３−（２−カルボキシエチル）−４
−ヒドロキシメチル−４−チアゾリン−２−チオン、及
び３−カルボキシメチル−４−チアゾリン−２−チオ
ン）、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、１，
２，４−チアゾール及び１Ｈ−テトラゾール、３−アミ
ノ−５−ベンジルチオ−１，２，４−トリアゾール及び
ベンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体
又は塩、サッカリン、５−クロロサリチルアルドキシム
等の銀塩又はメルカプタン誘導体の銀塩等。

【０１４８】有機銀塩の好ましい塗布銀量として３ｇ／
ｍ²以下で含有せしめる。更に好ましくは２ｇ／ｍ²以下
である。

【０１４９】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平９−１２７６４
３号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。

【０１５０】（ハロゲン化銀）本発明の画像形成材料に
使用される感光性ハロゲン化銀は、シングルジェット又
はダブルジェット法などの写真技術の分野で公知の任意
の方法により、例えばアンモニア法乳剤、中性法、酸性
法等のいずれかの方法でも調製できる。

【０１５１】この様に予め調製し、次いで本発明の他の
成分と混合して本発明に用いる組成物中に導入すること
が出来る。この場合に感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の
接触を充分に行わせるため、例えば感光性ハロゲン化銀
を調製するときの保護ポリマーとして米国特許第３，７
０６，５６４号、同第３，７０６，５６５号、同第３，
７１３，８３３号、同第３，７４８，１４３号、英国特
許第１，３６２，９７０号に記載されたポリビニルアセ
タール類などのゼラチン以外のポリマーを用いる手段
や、英国特許第１，３５４，１８６号に記載されている
ような感光性ハロゲン化銀乳剤のゼラチンを酵素分解す
る手段、又は米国特許第４，０７６，５３９号に記載さ
れているように感光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の
存在下で調製することによって保護ポリマーの使用を省
略する手段等の各手段を適用することが出来る。

【０１５２】ハロゲン化銀は、光センサーとして機能す
るものであり、画像形成後の白濁を低く抑える為、ま
た、良好な画質を得るために粒子サイズが小さいものが
好ましい。平均粒子サイズで０．１μｍ以下、好ましく
は０．０１μｍ〜０．１μｍ、特に０．０２μｍ〜０．
０８μｍが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状としては
特に制限はなく、立方体、八面体の所謂正常晶や正常晶
でない球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハロゲン
化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、
塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであっ
てもよい。

【０１５３】ハロゲン化銀の量はハロゲン化銀及び後述
の有機銀塩の総量に対し５０％以下好ましくは２５〜
０．１％、更に好ましくは１５〜０．１％の間である。

【０１５４】本発明の画像形成材料に使用される感光性
ハロゲン化銀は、また英国特許第１，４４７，４５４号
に記載されている様に、有機銀塩を調製する際にハライ
ドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共存さ
せこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩の生成とほぼ
同時に生成させることも出来る。

【０１５５】更に他の方法としては、予め調製された有
機銀塩の溶液もしくは分散液、または有機銀塩を含むシ
ート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀
塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもでき
る。このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩
と有効に接触しており好ましい作用を呈する。

【０１５６】ハロゲン化銀形成成分とは有機銀塩と反応
して感光性ハロゲン化銀を生成しうる化合物であり、ど
のような化合物がこれに該当し有効であるかは次のごと
き簡単な試験で判別する事が出来る。即ち、有機銀塩と
試験されるべき化合物を混入し必要ならば加熱した後に
Ｘ線回折法によりハロゲン化銀に特有のピークがあるか
を調べるものである。かかる試験によって有効であるこ
とが確かめられたハロゲン化銀形成成分としては、無機
ハロゲン化物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水
素類、Ｎ−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物
があり、その具体例については米国特許第４，００９，
０３９号、同第３，４５７，０７５号、同第４，００
３，７４９号、英国特許第１，４９８，９５６号及び特
開昭５３−２７０２７号、同５３−２５４２０号に詳説
されるが以下にその一例を示す。 （１）無機ハロゲン化物、例えばＭＸ_nで表されるハロ
ゲン化物（ここでＭは、Ｈ、ＮＨ₄及び金属原子を表
し、ｎはＭがＨ及びＮＨ₄の時は１を、Ｍが金属原子の
時はその原子価を表す。金属原子としては、リチウム、
ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カル
シウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カドミウ
ム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マンガン、鉄、コ
バルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等がある。）。
また、臭素水などのハロゲン分子も有効である。 （２）オニウムハライド類、例えばトリメチルフェニル
アンモニウムブロマイド、セチルエチルジメチルアンモ
ニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムブ
ロマイドの様な第４級アンモニウムハライド、テトラエ
チルフォスフォニウムブロマイドの様な第４級フォスフ
ォニウムハライド、トリメチルスルフォニウムアイオダ
イドの様な第３級スルフォニウムハライドがある。 （３）ハロゲン化炭化水素類、例えばヨードフォルム、
ブロモフォルム、四塩化炭素、２−ブロム−２−メチル
プロパン等。 （４）Ｎ−ハロゲン化合物、例えばＮ−クロロ琥珀酸イ
ミド、Ｎ−ブロム琥珀酸イミド、Ｎ−ブロムフタルイミ
ド、Ｎ−ブロムアセトアミド、Ｎ−ヨード琥珀酸イミ
ド、Ｎ−ブロムフタラゾン、Ｎ−ブロムオキサゾリノ
ン、Ｎ−クロロフタラゾン、Ｎ−ブロモアセトアニリ
ド、Ｎ，Ｎ−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ブ
ロモ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド、１，３−ジ
ブロモ−４，４−ジメチルヒダントイン、Ｎ−ブロモウ
ラゾール等。 （５）その他のハロゲン含有化合物、例えば、塩化トリ
フェニルメチル、臭化トリフェニルメチル、２−ブロム
酢酸、２−ブロムエタノール、ジクロロベンゾフェノン
等がある。

【０１５７】これらのハロゲン化銀形成成分は、有機銀
塩に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その
範囲は有機銀塩１モルに対し０．００１〜０．７モル、
好ましくは０．０３〜０．５モルである。

【０１５８】ハロゲン化銀形成成分は上記の範囲で２種
以上併用されてもよい。又、これらの方法により形成さ
れたハロゲン化銀は上記のように別途調製されたハロゲ
ン化銀と併用してもよい。この反応は後述する結合剤と
して使用されるポリマーの存在下に行われることが好ま
しい。この際のポリマーの使用量は有機銀塩１質量部当
たり０．０１〜１００質量部、好ましくは０．１〜１０
質量部である。

【０１５９】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
する事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば米国特許第４，０３６，６５０号、英国特許
第１，５１８，８５０号、特開昭５１−２２４３０号、
同５１−７８３１９号、同５１−８１１２４号各公報に
記載されている。又、二酸化チオ尿素およびアスコルビ
ン酸等の還元剤を用いた還元増感、あるいは硝酸銀のよ
うな水溶性銀塩を用いた、いわゆる銀熟成のような還元
増感技術も用いることができる。

【０１６０】また、ハロゲン化銀形成成分により有機銀
塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際に、米国特
許第３，９８０，４８２号明細書に記載されているよう
に、増感を達成するために低分子量のアミド化合物を共
存させてもよい。

【０１６１】また、これらの感光性ハロゲン化銀には、
照度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の６族から１
１族に属する金属、例えばＲｈ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｏ
ｓ、Ｆｅ等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させ
ることが出来る。特に錯イオンとして添加するのが好ま
しく、例えば照度不軌のためにＩｒＣｌ₆ ^2-等のＩｒ錯
イオンを添加してもよい。これらの金属のイオン又は錯
体イオンは一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金
属を二種以上併用してもよい。これらの金属のイオン又
は錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化
銀１モル当たり１×１０^-9〜１×１０^-2モルが適当であ
り、好ましくは１×１０^-8〜１×１０^-4モルである。

【０１６２】これらの金属のイオン又は錯体イオンを提
供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロ
ゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、
化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に核
形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、
更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最
も好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際して
は、数回に亘って分割して添加してもよく、ハロゲン化
銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭６
３−２９６０３号、特開平２−３０６２３６号、同３−
１６７５４５号、同４−７６５３４号、同６−１１０１
４６号、同５−２７３６８３号等に記載されている様に
粒子内に分布をもたせて含有させることもできる。

【０１６３】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶
性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液
とハライド溶液が同時に混合されるとき第３の水溶液と
して添加し、３液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を
調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製
時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある
別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等があ
る。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合
物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解した水溶液を水溶
性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に
添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もし
くは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入することもできる。

【０１６４】（還元剤）本発明の画像形成材料には還元
剤を内蔵させる。好適な還元剤の例は、米国特許第３，
７７０，４４８号、同第３，７７３，５１２号、同第
３，５９３，８６３号、及びＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓ
ｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９及び２９９６３に記載され
ており、次のものがある。

【０１６５】アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
（例えば、２−ヒドロキシピペリジノ−２−シクロヘキ
セノン）、還元剤の前駆体としてアミノリダクトン類
（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅｓ）、エステル（例えば、ピペリ
ジノヘキソースリダクトンモノアセテート）、Ｎ−ヒド
ロキシ尿素誘導体（例えば、Ｎ−ｐ−メチルフェニル−
Ｎ−ヒドロキシ尿素）、アルデヒド又はケトンのヒドラ
ゾン類（例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒド
ラゾン）、ホスファーアミドフェノール類、ホスファー
アミドアニリン類、ポリヒドロキシベンゼン類（例え
ば、ヒドロキノン、ｔ−ブチル−ヒドロキノン、イソプ
ロピルヒドロキノン及び（２，５−ジヒドロキシ−フェ
ニル）メチルスルホン）、スルフヒドロキサム酸類（例
えば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸）、スルホンアミ
ドアニリン類（例えば、４−（Ｎ−メタンスルホンアミ
ド）アニリン）、２−テトラゾリルチオヒドロキノン類
（例えば、２−メチル−５−（１−フェニル−５−テト
ラゾリルチオ）ヒドロキノン）、テトラヒドロキノキサ
リン類（例えば、１，２，３，４−テトラヒドロキノキ
サリン）、アミドオキシム類、アジン類（例えば、脂肪
族カルボン酸アリールヒドラザイド類とアスコルビン酸
の組み合わせ）、ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシ
ルアミンの組み合わせ、リダクトン及び／又はヒドラジ
ン、ヒドロキサム酸類、アジン類とスルホンアミドフェ
ノール類の組み合わせ、α−シアノフェニル酢酸誘導
体、ビス−β−ナフトールと１，３−ジヒドロキシベン
ゼン誘導体の組み合わせ、５−ピラゾロン類、スルホン
アミドフェノール還元剤、２−フェニルインダン−１，
３−ジオン等、クロマン；１，４−ジヒドロピリジン類
（例えば、２，６−ジメトキシ−３，５−ジカルボエト
キシ−１，４−ジヒドロピリジン）、ビスフェノール類
（例えば、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジ
メチルフェニル）−３，５，５−トリメチルヘキサン、
１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロキ
シ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）メタン、（２−
ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メタン、１，
１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）−２−メチルプロパン、１，１，５，５−テトラキ
ス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
２，４−エチルペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）プロパンビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−
５−メチルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、４，５−エチ
リデン−ビス（２−ｔ−ブチル−６−メチル）フェノー
ル）、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体及び３−ピラ
ゾリドン類。

【０１６６】（バインダー）本発明の画像形成材料に好
適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であ
り、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、
その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン、ア
ラビアゴム、ポリ（ビニルアルコール）、ヒドロキシエ
チルセルロース、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、ポリ（ビニルピロリドン）、カゼ
イン、デンプン、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メチルメ
タクリル酸）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（メタクリル
酸）、コポリ（スチレン−無水マレイン酸）、コポリ
（スチレン−アクリロニトリル）、コポリ（スチレン−
ブタジエン）、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、
ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラー
ル））、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フ
ェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（エポキ
シド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ（ビニルアセ
テート）、セルロースエステル類、ポリ（アミド）類が
ある。親水性でも非親水性でもよい。しかしながら、こ
れらのバインダーの中でも特に好ましいのは、セルロー
スアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ
ビニルブチラールのような非水溶性のポリマーであり、
この中で熱現像感光層に用いる特に好ましいポリマーと
してはポリビニルアセタール類が挙げられ、その中でも
特に好ましいのはポリビニルブチラールであり、保護層
バックコート層として特に好ましいポリマーとしてはセ
ルロースアセテート及びセルロースアセテートブチレー
トが挙げられる。

【０１６７】本発明においては、感光性層のバインダー
量が１．５〜６ｇ／ｍ²であることが好ましい。さらに
好ましくは１．７〜５ｇ／ｍ²である。１．５ｇ／ｍ²未
満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない
場合がある。

【０１６８】（マット剤）本発明においては、感光性層
側にマット剤を含有することが好ましく、本発明の寸法
の繰り返し精度を高めるには、ポリマーマット剤又は無
機マット剤を熱現像感光層側の全バインダーに対し、質
量比で０．５〜１０％含有することが好ましい。

【０１６９】本発明において好ましく用いられるマット
剤の材質は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例え
ば、無機物としては、スイス特許第３３０，１５８号等
に記載のシリカ、仏国特許第１，２９６，９９５号等に
記載のガラス粉、英国特許第１，１７３，１８１号等に
記載のアルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸
塩、等をマット剤として用いることができる。有機物と
しては、米国特許第２，３２２，０３７号等に記載の澱
粉、ベルギー特許第６２５，４５１号や英国特許第９８
１，１９８号等に記載された澱粉誘導体、特公昭４４−
３６４３号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特
許第３３０，１５８号等に記載のポリスチレン或いはポ
リメタアクリレート、米国特許第３，０７９，２５７号
等に記載のポリアクリロニトリル、米国特許第３，０２
２，１６９号等に記載されたポリカーボネートの様な有
機マット剤を用いることができる。

【０１７０】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。

【０１７１】本発明に好ましく用いられるマット剤は、
平均粒径が０．５〜１０μｍであることが好ましく、更
に好ましくは１．０〜８．０μｍである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、５０％以下であることが好
ましく、更に好ましくは４０％以下であり、特に好まし
くは３０％以下となるマット剤である。

【０１７２】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。 （粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００ マット剤は任意の構成層中に含むことができるが、本発
明の目的を達成するために好ましくは感光性層以外の構
成層であり、更に好ましくは支持体から見て最も外側の
層である。

【０１７３】マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分
散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布
した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法
を用いてもよい。また複数の種類のマット剤を添加する
場合は、両方の方法を併用してもよい。

【０１７４】（色調剤）本発明の画像形成材料には、色
調剤を添加することが好ましい。好適な色調剤の例はＲ
ｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９号
に開示されており、次のものがある。

【０１７５】イミド類（例えば、フタルイミド）、環状
イミド類、ピラゾリン−５−オン類、及びキナゾリノン
（例えば、スクシンイミド、３−フェニル−２−ピラゾ
リン−５−オン、１−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び２，４−チアゾリジンジオン）、ナフタールイミド
類（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタールイミ
ド）、コバルト錯体（例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート）、メルカプタン類（例えば、３
−メルカプト−１，２，４−トリアゾール）、Ｎ−（ア
ミノメチル）アリールジカルボキシイミド類（例えば、
Ｎ−（ジメチルアミノメチル）フタルイミド）、ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム（ｉｓｏｔｈ
ｉｕｒｏｎｉｕｍ）誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ（例えば、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレン（１−カル
バモイル−３，５−ジメチルピラゾール）、１，８−
（３，６−ジオキサオクタン）ビス（イソチウロニウム
トリフルオロアセテート）、及び２−（トリブロモメチ
ルスルホニル）ベンゾチアゾールの組み合わせ）、フタ
ラジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金
属塩（例えば、４−（１−ナフチル）フタラジノン、６
−クロロフタラジノン、５，７−ジメチルオキシフタラ
ジノン、及び２，３−ジヒドロ−１，４−フタラジンジ
オン）、フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わ
せ（例えば、６−クロロフタラジノン＋ベンゼンスルフ
ィン酸ナトリウム又は８−メチルフタラジノン＋ｐ−ト
リスルホン酸ナトリウム）、フタラジンとフタル酸の組
み合わせ、フタラジン（フタラジンの付加物を含む）と
マレイン酸無水物、及びフタル酸、２，３−ナフタレン
ジカルボン酸又はｏ−フェニレン酸誘導体及びその無水
物（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニト
ロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物）から選択
される少なくとも１つの化合物との組み合わせ、キナゾ
リンジオン類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導
体、ベンズオキサジン−２，４−ジオン類（例えば、
１，３−ベンズオキサジン−２，４−ジオン）；ピリミ
ジン類及び不斉−トリアジン類（例えば、２，４−ジヒ
ドロキシピリミジン）、及びテトラアザペンタレン誘導
体（例えば、３，６−ジメルカプト−１，４−ジフェニ
ル−１Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペン
タレン）。好ましい色調剤としてはフタラゾン又はフタ
ラジンとフタル酸の組み合わせである。

【０１７６】（支持体）本発明の画像形成材料に用いら
れる支持体としては、前記の赤外線吸収性フィルムの基
体としてあげたものが挙げられ、本発明の、赤外線吸収
化合物を含浸したラテックスを含む水性塗布組成物を塗
布乾燥して得た赤外線吸収層を有するものであれば特に
限定されないが、赤外線吸収層は画像形成層と支持体を
介して反対側のバッキング層側に用いるのが好ましい。
支持体の厚みとしては５０〜３００μｍ程度、好ましく
は７０〜１８０μｍである。前記の赤外線吸収性フィル
ムの基体としてあげられた支持体のなかでは、水性塗布
組成物が、赤外線吸収化合物を含浸したラテックスと水
性ポリエステルを含有する場合や．水性塗布組成物が、
赤外線吸収化合物を含浸したラテックスと活性メチレン
基を有するポリマーラテックスを含有する場合は、ポリ
エステルフィルムが好ましく、ポリエステル支持体上に
直接、熱現像感材用バッキング層として設けることがで
き熱現像感感光材料用途として特に好ましい。

【０１７７】（帯電防止剤）本発明においては帯電性を
改良するために金属酸化物および／または導電性ポリマ
ーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることができ
る。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好まし
くは下引層，バッキング層、感光性層と下引の間の層な
どに含まれる。本発明においては米国特許５，２４４，
７７３号カラム１４〜２０に記載された導電性化合物が
好ましく用いられる。

【０１７８】（層構成）本発明の画像形成材料は、前記
支持体上に少なくとも一層の感光性層を有する。支持体
上に感光性層のみを形成してもよいが、感光性層の上に
少なくとも一層の非感光性層を形成するのが好ましい。

【０１７９】（感光性層）本発明の画像形成材料の感光
性層は、感光性ハロゲン化銀として平均粒子サイズ０．
０６μｍ、単分散度１０％の投影面積の変動係数８％の
立方体ヨウ臭化銀、有機銀塩として代表的には、ベヘン
酸、アラギン酸、ステアリン酸等の脂肪酸銀塩を含有す
る感光性ハロゲン化銀／有機銀塩の混合物に親水性ビン
ダーを銀１モル当たり０．５〜２．０ｇ含有し、熱によ
り層中で溶解物理現像を起こさせ画像を形成するため、
熱により軟化するバインダー及び硬膜剤から成り、感光
色素又は強色増感を示す物質などの添加で赤外半導体レ
ーザー光の波長（７８０〜８２０ｎｍ）が好ましく用い
られるが、赤外半導体レーザー露光の波長が７５０ｎｍ
以上、さらに好ましくは８００ｎｍ以上である。

【０１８０】赤外増感色素は、本発明に係る赤外増感色
素の他にも特公昭４８−４２１７２号、同５１−９６０
９号、同５５−３９８１８号、特開昭６２−２８４３４
３号、特開平２−１０５１３５号に記載されたチアカル
ボシアニン類、赤外半導体レーザー光源に対しては特開
昭５９−１９１０３２号、特開昭６０−８０８４１号に
記載されたトリカルボシアニン類、特開昭５９−１９２
２４２号、特開平３−６７２４２号の一般式（III
ａ）、一般式（IIIｂ）に記載された４−キノリン核を
含有するジカルボシアニン類など赤外領域に分光増感作
用を有する色素を好ましくいることができる。

【０１８１】（塗布）塗布方法としては、赤外線吸収性
層、保護層及びバックコート層等は水系塗布で、従来知
られているエアナイフコーティング、ディップコーティ
ング、バーコーティング、カーテンコーティング、ホッ
パーコーティングなどの方法を用いてることができ、感
光性層は塗布液の溶媒としてはメチルエチルケトン（Ｍ
ＥＫ）、酢酸エチル、トルエンの様な有機溶媒が好まし
く用いられる。

【０１８２】また、これらの層を２層以上同時に塗布し
てもよい。 （露光）本発明の画像形成材料中の分光増感色素の種類
によって露光用レーザー光の波長を必要に応じて変更す
ることができる。

【０１８３】本発明において、露光はレーザー走査露光
により行うことが好ましいが、感光材料の露光面と走査
レーザー光のなす角が実質的に垂直になることがないレ
ーザー走査露光機を用いることが好ましい。

【０１８４】ここで、「実質的に垂直になることがな
い」とはレーザー走査中に最も垂直に近い角度として好
ましくは５５〜８８度、より好ましくは６０〜８６度、
更に好ましくは６５〜８４度、最も好ましくは７０〜８
２度であることをいう。

【０１８５】レーザー光が、感光材料に走査されるとき
の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましく
は２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下であ
る。これは、スポット径が小さい方がレーザー入射角度
の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。

【０１８６】なお、ビームスポット直径の下限は１０μ
ｍである。このようなレーザー走査露光を行うことによ
り干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣
化を減じることが出来る。

【０１８７】また、露光は縦マルチである走査レーザー
光を発するレーザー走査露光機を用いて行うことも好ま
しい。縦単一モードの走査レーザー光に比べて干渉縞様
のムラの発生等の画質劣化が減少する。

【０１８８】縦マルチ化するには、合波による、戻り光
を利用する、高周波重畳をかける、などの方法がよい。
なお、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味
し、通常露光波長の分布が５ｎｍ以上、好ましくは１０
ｎｍ以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に
制限はないが、通常６０ｎｍ程度である。

【０１８９】加熱することで有機銀塩（酸化剤として機
能する）と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を
生成する。この反応過程は、外部から水等の処理液の供
給なしに進行する。

【０１９０】本発明の熱現像感光材料は常温で安定であ
るが、露光後高温（例えば、８０〜２００℃）に加熱す
ることで、有機銀塩（酸化剤として機能する）と還元剤
との間の酸化還元反応を通じて露光部に銀を生成するこ
とで現像される。加熱温度としては８０〜２００℃が好
ましく、さらに好ましいのは１００〜１５０℃である。
加熱温度が８０℃未満では短時間に十分な画像濃度が得
られず、又２００℃を越えるとバインダーが溶融し、ロ
ーラーへの転写など、画像そのものだけでなく搬送性
や、現像機等へも悪影響を及ぼす。

【０１９１】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。

【０１９２】実施例 （赤外線含有化合物を含むラテックスの調製）スチレン
２０質量％、ｎ−ブチルアクリレート４０質量％、グリ
シジルメタクリレート４０質量％の共重合ポリマーラテ
ックス（Ｓｔ−ｎＢＡ−ＧＭＡＬｘ；固形分３０質量
％）１０７ｇに、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム５％水溶液５ｇを加えた水溶液に、赤外線吸収化合物
１−１を１ｇ溶解したジブチルフタレート１０ｇ、酢酸
エチル２０ｇの混合溶液を少量づつ添加し、添加終了後
３時間撹拌し、その後、エバポレータにて酢酸エチルを
除去し、含浸ラテックスＡを調製した。

【０１９３】スチレン２０質量％、ｎ−ブチルアクリレ
ート４０質量％、グリシジルメタクリレート４０質量％
の共重合ポリマーラテックス（Ｓｔ−ｎＢＡ−ＧＭＡＬ
ｘ）の代わりに活性メチレンラテックスＬｘ−９を用い
た以外は同様にして含浸ラテックスＢを作製した。

【０１９４】（水性塗布組成物Ａ，Ｂの調製）含浸ラテ
ックスＡ１００ｇにコポリエステルＣＰ−１の１５％水
溶液４００ｇと活性メチレンラテックスＬｘ−１を１０
０ｇ、さらに水を加えて１リットルとして水性塗布組成
物Ａとした。

【０１９５】含浸ラテックスＢを用いた以外は同様にし
て水性塗布組成物Ｂを調製した。 （赤外線吸収性フィルムＡ，Ｂの作製）基材フィルムと
して、濃度０．１６０（コニカ（株）製デンシトメータ
ＰＤＡ−６５）に青色着色した厚み１７５μｍのポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムをもちい、そ
の片面に８ｗ／ｍ²・分のコロナ放電処理を施し、水性
塗布組成物Ａを塗布膜厚１０μｍになるようにワイヤー
バーを用いて塗布、８０℃で乾燥し、赤外線吸収性フィ
ルムＡを作製した。

【０１９６】水性塗布組成物Ｂを用いた以外は同様にし
て赤外線吸収性フィルムＢを作製した。

【０１９７】又、水性塗布組成物Ａと同様にして、但
し、赤外線吸収化合物１−１、Ｓｔ−ｎＢＡ−ＧＭＡＬ
ｘ、コポリエステルＣＰ−１、及び活性メチレンラテッ
クスＬｘ−１に代えてそれぞれ表２に記載のものを用い
て赤外線吸収性フィルムＣ〜Ｌ及びＮ〜Ｏを作製した。

【０１９８】（赤外線吸収性フィルムＭの作製）透明な
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
の両面に８ｗ／ｍ²・分のコロナ放電処理を施し、一方
の面に水性塗布組成物Ａを塗布膜厚１０μｍになるよう
にワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃で乾燥し、さら
に片方の面に水性塗布組成物Ａを塗布膜厚１０μｍにな
るようにワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃で乾燥し
赤外線吸収性フィルムＭを作製した。

【０１９９】（赤外線吸収性フィルムＰの作製）含浸ラ
テックスの替わりに前記赤外線吸収化合物１−１を１ｇ
溶解したジブチルフタレート１０ｇ、酢酸エチル２０ｇ
の混合液を用いた以外は水性塗布組成物Ａと同様に水性
塗布組成物を作製し、赤外線吸収性フィルムＡと同様に
赤外線吸収性フィルムＰを作製した。

【０２００】（比較赤外線吸収性フィルムの作製） （赤外線吸収化合物の固体分散液の作製）界面活性剤
（Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−２００；ローム・アンド・ハース
社製）２．５７部を水２８５．４３部に溶解したものを
２リットルのボールミル（五十嵐機械製造社製）にと
り、これに赤外線吸収化合物１−１を１２部、酸化ジル
コニウムのビーズ（１ｍｍ径）１２００部を加え、１２
００ｒｐｍの回転速度で、１８時間粉砕した。得られた
染料固体分散液は４質量％分散溶液で、染料粒径は０．
１〜１μｍの分布で平均粒径０．２５μｍであった。

【０２０１】（比較水性塗布組成物の作製）含浸ラテッ
クスの代わりに染料固体分散液２５ｇを用い、活性メチ
レンラテックスを２００ｇ用いた以外は水性塗布組成物
Ａと同様にして比較水性塗布組成物を作製した。

【０２０２】（比較赤外線吸収性フィルム及び熱現像感
光材料の作製）赤外線吸収性フィルムＡと同様に、基材
フィルム上に比較水性塗布組成物を塗布膜厚１０μｍに
なるようにワイヤーバーを用いて塗布、乾燥し、比較赤
外線吸収性フィルムを作製した。

【０２０３】以上のようにして赤外線吸収性フィルムＡ
〜Ｐ及び比較赤外線吸収性フィルムを作製した。これを
表２に示す。

【０２０４】

【表２】

【０２０５】（熱現像感光材料の作製）赤外線吸収性フ
ィルムＡ〜Ｌ、Ｎ〜Ｐ及び比較赤外線吸収性フィルムを
用いて熱現像感光材料を作製した。

【０２０６】赤外線吸収性フィルムＡ〜Ｌ及びＮ〜Ｐ及
び比較赤外線吸収性フィルムの赤外線吸収層を設けた反
対側に、それぞれ、８ｗ／ｍ²・分のコロナ放電処理を
施し、下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚０．８μｍにな
るように塗設し下引層ａを設けた。

【０２０７】 （下引塗布液ａ−１） ブチルアクリレート（３０質量％）、ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％） 、スチレン（２５質量％）、４−ヒドロキシエチルアクリレート（２５質量％） の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ 界面活性剤（Ａ） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１リットルに仕上げる。

【０２０８】（感光性ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）水９
００ｍｌ中にイナートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウ
ム１０ｍｇを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０に合わ
せた後、硝酸銀７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８
／２）のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムを硝酸銀
と等モル及び〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕を銀１モル当たり
１×１０^-6モル及び塩化ロジウムを銀１モル当たり１×
１０^-4モル、ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールド
ダブルジェット法で１０分間かけて添加した。その後４
−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラ
ザインデン０．３ｇを添加し、ＮａＯＨでｐＨを５に調
整して平均粒子サイズ０．０６μｍ、単分散度１０％の
投影面積の変動係数８％、〔１００〕面比率８７％の立
方体沃臭化銀粒子を得た。

【０２０９】この乳剤にゼラチン凝集剤を用いてハロゲ
ン化銀粒子を凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノ
ール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整
して、感光性ハロゲン化銀乳剤Ａを得、さらに塩化金酸
５．３×１０^-5モル及び微粒子状に分散した硫黄華を硫
黄原子として７．０×１０^-5モルを加えて化学増感を行
った。

【０２１０】（有機酸銀塩の調製）９４５ｍｌの純水に
ベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９ｇ、ステアリ
ン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に高速で攪拌しな
がら１．５Ｍの水酸化ナトリウム水溶液９８ｍｌを添加
した。次に濃硝酸０．９３ｍｌを加えた後、５５℃に冷
却して３０分撹拌させて有機酸ナトリウム溶液を得た。

【０２１１】（有機酸銀とハロゲン化銀Ａのプレフォー
ム乳剤の調製）上記の有機酸ナトリウム溶液に、前記ハ
ロゲン化銀乳剤Ａを１５．１ｇ添加し、水酸化ナトリウ
ム溶液でｐＨ８．１に調整した後、１Ｍの硝酸銀溶液１
４７ｍｌを７分間かけて添加し、さらに２０分攪拌し、
限外濾過により水溶性塩類を除去した。生成した有機酸
銀塩は、平均粒子サイズ０．８μｍ、単分散度８％の粒
子であった。

【０２１２】分散物のブロックを形成後、水を取り除
き、さらに６回の水洗と水の除去を行った後、乾燥さ
せ、これをプレフォーム乳剤とした。

【０２１３】（熱現像用ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）前
記プレフォーム乳剤を２分割し、ポリビニルブチラール
（平均分子量３０００ Ｍｏｎｓａｎｔｏ社 Ｂｕｔｖ
ａｒ Ｂ−７９）のメチルエチルケトン溶液（１７質量
％）５４４ｇとトルエン１０７ｇを徐々に添加して混合
した後、２７．４６ＭＰａで分散させ熱現像用ハロゲン
化銀乳剤Ａを調製した。

【０２１４】（熱現像感光材料の作製）前記赤外線吸収
性フィルムの赤外線吸収層と反対側にもうけられた、前
記下引層上に、以下の各層を順次形成し、熱現像感光材
料試料Ａ〜Ｌ、Ｎ〜Ｐ及び比較現像感光材料試料を作製
した。なお、乾燥は各々６０℃、１５分間行った。

【０２１５】以下に記載の処方の乳剤層塗布液を塗布銀
量２．１ｇ／ｍ²になるように塗布し、又、乳剤保護層
塗布液を塗布し保護層を形成した。

【０２１６】 熱現像用ハロゲン化銀乳剤Ａ ２４０ｇ 増感色素−１（０．１質量％メタノール溶液） １．７ｍｌ ピリジニウムプロミドペルブロミド（６質量％メタノール溶液） ３ｍｌ 臭化カルシウム（０．１質量％メタノール溶液） １．７ｍｌ カブリ防止剤〔２（２−（トリブロムメチルスルホニル）キノリン）〕 （１０質量％メタノール溶液） １．２ｍｌ ２−（４−クロロベンゾイル安息香酸）（５質量％メタノール溶液） ９．２ｍｌ ２−メルカプトベンズイミダゾール（１質量％メタノール溶液） １１ｍｌ トリブロモメチルスルホキノリン（５質量％メタノール溶液） １７ｍｌ 現像剤〔１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２− メチルプロパン〕（２０質量％メタノール溶液） ２９．５ｍｌ （乳剤保護層塗布液） アセトン ３５ｍｌ メチルエチルケトン １７ｍｌ 酢酸セルロース ２．３ｇ／ｍ² メタノール ７ｍｌ フタラジン ２５０ｍｇ／ｍ² ４−メチルフタル酸 １８０ｍｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸 １５０ｍｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸無水物 １７０ｍｇ／ｍ² マット剤：単分散度１０％、平均粒子サイズ４μｍの単分散シリカ ７０ｍｇ／ｍ² 界面活性剤（Ａ） １０ｍｇ／ｍ² （保護層の各固形成分の添加量は乾燥時の感光材料１ｍ
²あたりの付き量で示す）

【０２１７】

【化２１】

【０２１８】赤外線吸収性フィルムＡ〜Ｐ及び比較赤外
線吸収性フィルム又これを用いて得られた熱現像感光材
料Ａ〜Ｌ、Ｎ〜Ｐ及び比較現像感光材料試料の各試料に
ついて、それぞれ以下の評価を行った。

【０２１９】〈試料の評価〉 （耐水性）赤外線吸収性フィルムを２５℃の水に１５分
間浸した後、赤外分光光度計（ＨＩＴＡＣＨＩ Ｓｐｅ
ｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ Ｕ−３２０）を用いて
赤外光を測定し変化の有無を調べた。

【０２２０】（吸収波長）赤外線吸収性化合物の酢酸エ
チル溶液と該赤外線吸収性化合物を塗布作製した支持体
（赤外線吸収性フィルム）について、赤外線吸収スペク
トルを前記赤外分光光度計を用いて測定して分光特性の
変化の有無を調べた。

【０２２１】（バッキング層面のスクラッチ強度）熱現
像感光材料試料をオーブンで１２０℃で５分間加熱し、
オーブンから取り出し直後、卓上でバッキング層表面を
スポンジたわし（スコッチブライトＴＭ）の不織布面で
こすり、キズの付き方を観察し目視で下記の評価基準で
評価した。

【０２２２】５：キズが全く付かない ４：キズがわずかに付く ３：キズが付く ２：キズが全面に付く １：キズ及び膜剥がれが起きている 以上の結果をまとめて表３に示す。

【０２２３】

【表３】

【０２２４】表３より、本発明の赤外線吸収性フィルム
は、赤外線吸収層の形成が可能で、赤外線吸収層の耐水
性が高く、水系塗布で支持体に塗布しても吸収波長に変
化がない。又、熱現像感光材料試料Ａ〜Ｌ及びＮ〜Ｐに
ついてもバッキング層面にキズがつきにくいことが分か
る。

【０２２５】

【発明の効果】本発明により、赤外線吸収性化合物を含
浸した水性塗布組成物、これらを塗設した赤外線吸収性
フィルム及びバッキング層としても使用することがで
き、従来の下引層を設け、さらに有機溶剤系塗布のバッ
キング層を設ける方法に比して簡便かつ溶剤の回収設備
も不要な画像形成材料が得られた。

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 赤外線吸収化合物を含浸したラテックス
   と水性ポリエステルを含有することを特徴とする水性塗
   布組成物。
2. 【請求項２】 赤外線吸収化合物を含浸したラテックス
   と活性メチレン基を有するポリマーラテックスを含有す
   ることを特徴とする水性塗布組成物。
3. 【請求項３】 赤外線吸収化合物を含浸したラテック
   ス、水性ポリエステル及び活性メチレン基を有するポリ
   マーラテックスを含有することを特徴とする水性塗布組
   成物。
4. 【請求項４】 請求項１、２又は３記載の水性塗布組成
   物を基材フィルム上に塗布、乾燥して得たことを特徴と
   する赤外線吸収性フィルム。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の赤外線吸収性フィルム
   を用いることを特徴とする画像形成材料。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の赤外線吸収性フィルム
   を用いることを特徴とする熱現像感光材料。
7. 【請求項７】 バッキング層が前記水性塗布組成物を塗
   布、乾燥して得られたものであることを特徴とする請求
   項５に記載の画像形成材料。
8. 【請求項８】 バッキング層が前記水性塗布組成物を塗
   布、乾燥して得られたものであることを特徴とする請求
   項６に記載の熱現像感光材料。
9. 【請求項９】 赤外線吸収化合物を含浸するラテックス
   の樹脂成分がビニル系ポリマーであることを特徴とする
   請求項５又は７に記載の画像形成材料。
10. 【請求項１０】 赤外線吸収化合物を含浸するラテック
    スの樹脂成分がビニル系ポリマーであることを特徴とす
    る請求項６又は８に記載の熱現像感光材料。
11. 【請求項１１】 赤外線吸収化合物が、下記一般式
    （１）〜（４）で表される化合物から選ばれることを特
    徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の水性塗布
    組成物。 【化１】 式中、Ｘは硫黄原子又は酸素原子を表し、Ｒ₁、Ｒ₂は１
    価の置換基を表し、ｍ、ｎは０、１、２、３又は４を表
    す。 【化２】 式中、Ｚ¹及びＺ²は各々縮環してもよい５又は６員の含
    窒素複素環を形成するに必要な非金属原子群を表し、Ｒ
    ¹及びＲ²は各々アルキル基、アルケニル基又はアラルキ
    ル基を表し、Ｒ³及びＲ⁵は各々水素原子又は互いに連結
    して５又は６員環を形成するに必要な非金属原子群を表
    し、Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アリ
    ール基、−Ｎ（Ｒ⁶）Ｒ⁷、−ＳＲ⁸又は−ＯＲ⁹を表し、
    Ｒ⁶は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ⁷
    はアルキル基、アリール基、スルホニル基又はアシル基
    を表し、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々アルキル基又はアリール基を
    表し、Ｒ⁶とＲ⁷で互いに連結して５又は６員環を形成し
    てもよい。ａ及びｂは各々０又は１を表し、Ｘ^-はアニ
    オンを表す。 【化３】 式中、Ｚ³及びＺ⁴は、各々ベンゾ又はナフト縮合環を形
    成するに必要な非金属原子群を表し、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は各
    々アルキル基、アラルキル基又はアルケニル基を表し、
    Ｒ¹²及びＲ¹⁴は各々水素原子又は互いに連結して５又は
    ６員環を形成するに必要な非金属原子群を表し、Ｒ¹³は
    水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、−
    Ｎ（Ｒ¹⁹）Ｒ²⁰、−ＳＲ²¹又は−ＯＲ²²を表し、Ｒ¹⁹、
    Ｒ²⁰、Ｒ ²¹及びＲ²²はアルキル基又はアリール基を表
    し、Ｒ¹⁹とＲ²⁰が互いに連結して環を形成してもよい。
    Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は各々アルキル基を表し、Ｒ
    ¹⁵とＲ¹⁶又はＲ¹⁷とＲ¹⁸が連結して環を形成してもよ
    い。Ｘ^-はアニオンを表す。 【化４】 式中、Ｚ³及びＺ⁴は、各々ベンゾ又はナフト縮合環を形
    成するに必要な非金属原子群を表し、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は各
    々アルキル基、アラルキル基又はアルケニル基を表し、
    Ｒ²³及びＲ²⁴は各々アルキル基又はアリール基を表し、
    Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ ¹⁷及びＲ¹⁸は各々アルキル基を表し、Ｒ
    ¹⁵とＲ¹⁶又はＲ¹⁷とＲ¹⁸が連結して環を形成してもよ
    い。Ｘ^-はアニオンを表す。
12. 【請求項１２】 赤外線吸収化合物が、前記一般式
    （１）〜（４）で表される化合物から選ばれることを特
    徴とする請求項４に記載の赤外線吸収性フィルム。
13. 【請求項１３】 赤外線吸収化合物が、前記一般式
    （１）〜（４）で表される化合物から選ばれることを特
    徴とする請求項５、７又は９に記載の画像形成材料。
14. 【請求項１４】 赤外線吸収化合物が、前記一般式
    （１）〜（４）で表される化合物から選ばれるいずれか
    １種であることを特徴とする請求項６、８又は１０のい
    ずれか１項記載の熱現像感光材料。