JPH06202088A - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高精細化によって液晶ディスプレイの画質の
向上を図り、かつ、生産効率の向上を図ることができる
液晶パネルの製造方法を提供する。 【構成】 少なくともその一方が透明性を有し、かつ、
その内面にそれぞれ電極を有する二枚の基板間に、液晶
材料を挾持してなる液晶パネルの製造方法において、少
なくとも一方の基板の電極面上に、液晶材料をミセル電
解法を用いて製膜したのちに、他方の基板を貼り合わせ
ることを特徴とする液晶パネルの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶パネルの製造方法
に関する。さらに詳しくは、パソコン、ワープロ、壁掛
テレビ、ポケット液晶テレビ、液晶プロジェクションな
どの液晶ディスプレイやオーディオ、車載用インパネ、
時計、電卓、ビデオデッキ、ファックス、通信機、ゲー
ム、測定機器などの表示用ディスプレイ等に好適に利用
することができる液晶パネルの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来液晶パネルの製造方法として真空注
入法が知られている。この方法は予めセル厚を決定する
スペーサー材を介して電極付きガラス基板を貼り合わ
せ、周辺部をその一部を残して密封し、密封されていな
いすきま部分から液晶材料を真空注入するものである。
また、一方の基板上に塗布法によって液晶材料を製膜、
配向する生産性に優れた製造方法が提案されている（特
開平１−６９２２号）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前者の方法
は、真空注入に長時間を要するため、生産性が極めて悪
く、また、液晶材料として高分子液晶を用いる場合には
液晶材料の粘度が大きいため、実質的に真空注入ができ
ないという問題があった。また、後者の方法は、液晶材
料をミクロン程度の厚みで均一に製膜することが困難で
あるため液晶パネル全面にわたって表示むらの発生を防
止することが極めて困難であった。本発明は、上記問題
点に鑑みなされたものであって、液晶膜厚の均一化によ
って高精細化を可能にして液晶ディスプレイの画質の向
上を図り、かつ生産効率の向上を図ることができる液晶
パネルの製造方法の提供を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によって、少なく
ともその一方が透明性を有し、かつ、その内面にそれぞ
れ電極を有する二枚の基板間に、液晶材料を挾持してな
る液晶パネルの製造方法において、少なくとも一方の基
板の電極面上に、液晶材料をミセル電解法を用いて製膜
したのちに、他方の基板を貼り合わせる前記液晶パネル
の製造方法が提供される。

【０００５】また、前記二枚の基板の少なくとも一方が
プラスチック材料からなり、かつ他方の基板を貼り合わ
せる際に、少なくとも一本の加圧ロールを用いる前記液
晶パネルの製造方法が提供される。

【０００６】また、前記液晶材料が高分子液晶を含有す
るものである前記液晶パネルの製造方法が提供される。

【０００７】また、前記液晶材料が強誘電性液晶である
前記液晶パネルの製造方法が提供される。

【０００８】さらに、前記二枚の基板の少なくとも一方
に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）又はメタルインシュレー
ターメタル（ＭＩＭ）等の能動素子が形成されている前
記液晶パネルの製造方法が提供される。

【０００９】以下、本発明に係る液晶パネルの製造方法
について詳細に説明する。 １．ミセル電解法による液晶材料の製膜工程 本発明において用いられるミセル電解法による液晶材料
の製膜は以下の工程からなる。 界面活性剤と液晶材料を混合し、分散させる。 その分散液と液晶材料とを混合し、混合分散させる。 その混合分散液を電解によって基板上に製膜する。 後処理をする。

【００１０】ここで、本発明で用いるミセル化剤として
の界面活性剤としては、フェロセン誘導体を挙げること
ができる。具体的には特開平０１−８０１９３９号公報
に開示された、１１−フェロセニルウンデシルポリオキ
シエチレンエーテル（ＦＰＥＧ），９−フェロセニルナ
ノニルポリオキシエチレンエステル（ＦＥＳＴ），１１
−フェロセニルウンデシルトリメチルアミンブロマイド
（ＦＴＭＡ）を挙げることができる。

【００１１】前記界面活性剤と混合される液晶材料とし
ては、特に制限はなく各種のものを用いることができる
が、液晶パネルの機械的強度を向上させることができる
高分子液晶を含有するものが好ましい。さらに、その中
でも高速応答性に優れる強誘電液晶が特に好ましい。

【００１２】前記界面活性剤（ミセル化剤）と液晶材料
の混合は、これらを水、又は水を主成分とする水性媒体
中に加えて混合攪拌するが、この混合液中にはその電気
伝導度を調節するために、たとえば臭化リチウム，塩化
カリウム，硫酸リチウム，四フッ化ホウ素トリアンモニ
ウム等の支持塩（支持電解質）を必要に応じて加えても
よい。

【００１３】この混合液の平衡濃度は、０．０５〜２．
８ミリモル／リットルであることが好ましい。また、界
面活性剤の全濃度は、たとえばＦＰＥＧ，ＦＥＳＴ，Ｆ
ＴＭＡ等を用いた場合、０．１〜１ミリモル／リットル
であることが好ましい。また、液晶材料の濃度は１〜５
００グラム／リットルが好ましい。さらに、支持塩の濃
度は、たとえばＬｉＢｒ，ＫＣｌ，Ｌｉ₂ ＳＯ₄ ，（Ｎ
Ｈ₄ ）₃ ＢＦ₄等を用いた場合、０．０５〜１０モルで
あることが好ましい。

【００１４】この混合にあたって各種液晶材料は、溶媒
中に界面活性剤と一緒に加えて混合攪拌してもよく、各
種液晶材料と界面活性剤との分散液を個別に予め調製し
ておきその分散液のそれぞれを混合攪拌してもよい。

【００１５】得られた混合液の分散は、たとえば、メカ
ニカルホモジナイザー、ボールミル、サンドミル高圧ホ
モジナイザー等を用いることにより行なうことができる
が、必要に応じて臭化リチウム、硫酸ナトリウム等の支
持塩を添加してもよい。

【００１６】次に、得られた分散液と、予め分散させた
各種液晶材料とを混合分散させる。この場合、各液の平
衡濃度差を１．２ミリモル／リットル以下、また、各々
の平衡濃度を０．１ミリモル／リットル以上とすること
が分散液を安定させるということから好ましい。

【００１７】次に得られた混合分散液を電解液として電
解処理し基板上に液晶材料を製膜する。この場合、用い
る基板としては特に制限はなく、液晶パネル基板であれ
ばガラス，プラスチック等のいずれであってもよく、ブ
ラックマトリックス付ＩＴＯ基板であってもよい。電解
の方法は、特に制限はないが、液晶パネル基板の導電性
膜に通電し、製膜することが好ましい。その温度は、０
〜９０℃であることが透明で、均一な薄膜を得る上で好
ましく、特に２０℃〜７０℃であることがさらに好まし
い。

【００１８】次に、導電率の調整に用いたのと同じ支持
塩の溶液で製膜基板を洗浄することが、パネル化した際
に液晶駆動の弊害となる不純物を除去できることから好
ましい。必要に応じて、純水洗浄、電解洗浄を行なって
もよい。

【００１９】基板上への液晶材料の製膜は、一方の基板
のみに行なってもよく、又は、両方の基板に行なっても
よい。この際の基板としては少なくとも一方がガラス，
プラスチックなど、透明性を有するものであればいずれ
でも用いることができる。また、同種の基板または異種
の基板を適宜組合せて用いることができる。

【００２０】２．貼り合わせ工程 本発明において用いられる貼り合わせ方法については特
に制限されず、どのような方法でも用いることができ
る。例えば、他方の基板を押圧して貼り合わせる方法が
あるが、好ましくは少なくとも一方をプラスチック板と
することで、より生産性の高いラミネート法で貼り合わ
せを行うことができる。少なくとも一方の基板上にはセ
ル厚を制御するスペーサーを散布しておいても良い。

【００２１】少なくとも一方の基板がプラスチック板で
ある場合は、少なくとも１本の加圧ロールを用いて、ラ
ミネート法によって貼り合わせを行うことができる。好
ましくは２本のロールからなるロール対を用いることで
気泡の噛み込みがなく、生産性の良い貼り合わせを容易
に行うことができる。この場合ロールを加熱してもよ
く、また上下基板を精度良く貼り合わせるための位置合
せ機構を設けてもよい。

【００２２】３．後工程 貼り合わせ後は適当な配向処理を行って、液晶パネルを
完成させる。予め少なくとも一方の基板の電極上にラビ
ング膜、斜方蒸着膜などの配向制御膜が設けられている
場合は、加熱、冷却処理をしても良く、また上下基板を
相互に僅かにずらして液晶材料に剪断を加えることで配
向処理してもよい。貼り合わせの後は必要に応じて周辺
部を封止処理する。剪断法で配向処理を行う場合には配
向処理後に封止処理してもよい。ＵＶ硬化樹脂や熱硬化
性樹脂など公知のものを利用することができる。

【００２３】以下本発明に用いられる基板、電極、液晶
材料等の材質について詳細に説明する。 １．基板： 特に制限はないが、たとえば、低膨張ガラ
ス（７０５９）、ノンアルカリガラス（ＮＡ），石英ガ
ラス，ソーダーライムガラス等のガラス基板，好ましく
は、その研磨品を用いることができる。 また、ポリカーボネート，ポリオレフィン，ポリエチレ
ンテレフタレートなどのプラスチック基板を挙げること
ができる。二枚の基板のうち、少なくとも一方は透明性
を有する基板とする。

【００２４】２．電極： 特に制限はないが、少なくと
も一方の透明性を有する基板の内面に用いるものは、た
とえば、インジウム，スズの酸化物（ＩＴＯ）等の透明
性を有することが好ましい。他方は、たとえば、銅，ア
ルミニウム，ニッケル，鉄，金等の金属を用いて、反射
型の素子としてもよい。

【００２５】電極の形態としては、たとえば、ＴＦＴや
ＭＩＭなどの動素子と表示電極が組み合わされたもの、
ＦＬＣ，ＳＴＮ，ＭＩＭの対極などのストライプ状電
極、又は、ＴＦＴの対極などのベタ電極のいずれであっ
てもよい。また、ブラックマトリックスを設けてもよ
い。

【００２６】３．ブラックマトリックス（ＢＭ）：本発
明においては表示の視認性を向上させるために、ブラッ
クマトリックスを設けてもよい。 金属および金属酸化物薄膜としては、たとえば、クロ
ム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）等およびそ
の酸化物、上記金属および金属酸化物の混合物を好適に
用いることができる。この場合、その光学純度が３．０
以上その膜厚が１０００〜２０００Åであることが好ま
しい。その製法は、たとえばスパッタリング法、蒸着法
ＣＶＤ法等により基板全面に成膜後、フォトリソグラフ
ィー法によりパターニングを行うことを挙げることがで
きる。具体的にはレジストを塗布し、露光し（ブラック
マトリックス形成用マスク使用）、現像し、ポストベー
クし、金属および金属酸化物薄膜のエッチングをし、レ
ジストを剥離する工程によって行なうことができる。

【００２７】黒色色素含有光硬化性レジスト硬化物の
黒色色素としては、たとえば、カーボンブラック，チタ
ンブラック，アニリンブラックのうち単品およびすくな
くとも二種以上を混合してなる顔料および顔料混合物
（Ａ）、もしくは、黒色，赤色，青色，緑色，紫色，シ
アニン，マゼンタ有機顔料のうち、少なくとも二種以上
を混合してなる擬似黒色化顔料混合物（Ｂ）又は、
（Ａ）と（Ｂ）それぞれの単品および混合物を好適に用
いることができる。その、光硬化性レジストとしてはア
クリル、メタクリル酸誘導体とその共重合体（バインダ
ー）の混合物、及び、上記アクリル、メタクリル酸誘導
体にエポキシ基，シロキサン基，ポリイミド前駆体を導
入したものを用いることができる。

【００２８】また、光開始剤として、トリアジン系，ア
セトフェノン系，ベンジイン系，ベンゾフェノン系，チ
オキサンソン系等、分散剤として、非イオン性，イオン
性界面活性剤，有機顔料誘導体，ポリエステル系の単品
および二種以上の混合物、溶剤として、セロソルブ系，
シクロヘキサノンジエチレングリコールエーテルおよび
エステル系の単品および二種以上の混合物を用いること
ができ、これらを混合、分散、濾過後、フォトリソグラ
フィー法によりパターニングを行うことができる。具体
的には、上記レジストを塗布し、酸素遮断膜として、た
とえばポリビニルアルコールを塗布し（必ずしも使用す
る必要はないが）、ブラックマトリックス形成用マスク
を使用して露光し、現像し、ポストベークする。この場
合、その光学純度が２．０以上、膜厚が３．０μｍ以下
であることが好ましい。具体的には、商品名ＣＫ−２０
００（富士ハントエレクトロニクステクノロジー
（株））Ｖ−２５９ブラック（新日鐵（株））等を挙げ
ることができる。

【００２９】４．カラーフィルター色素層 本発明においては、カラー表示可能な液晶パネルとする
ために、カラーフィルタ色素層を設けてもよい。 赤色（Ｒ）色素層としては、ペリレン系顔料，レーキ
顔料，アゾ系顔料，キナクリドン系顔料，アントラキノ
ン系顔料，アントラセン系顔料，イソインドリン系顔
料，イソインドリノン系顔料等の単品および少なくとも
二種以上の混合物を用いることできる。

【００３０】緑色（Ｇ）色素層としては、ハロゲン多
置換フタロシアニン系顔料，ハロゲン多置換銅フタロシ
アニン系顔料，トリフェニルメタン系塩基性染料，イソ
インドリン系顔料，イソインドリノン系顔料等の単品お
よび少なくとも二種以上の混合物を用いることができ
る。

【００３１】青色（Ｂ）色素層としては、銅フタロシ
アニン系顔料，インダンスロン系顔料，インドフェノー
ル系顔料，シアニン系顔料，ジオキサジン系顔料等の単
品および少なくとも二種以上の混合物を用いることがで
きる。 これらのものをミセル電解法で製膜する。この場合、赤
色の膜厚は０．５〜１．５μｍ（透過率６０％以上／６
１０ｎｍ），緑色の膜厚は０．５〜１．５μｍ（透過率
６０％以上／５４５ｎｍ），青色の膜厚は０．２〜１．
５μｍ（透過率６０％以上／４６０ｎｍ）であることが
好ましい。透過率はエアリフェレンスを用いて測定し
た。

【００３２】５．保護膜 本発明においては下地層の機械的保護のために、保護膜
（透明光硬化性レジスト硬化物および透明熱硬化性樹脂
硬化物）を設けてもよい。 透明光硬化性レジスト硬化物の製法としては、カラー
フィルタの膜面上から見て、フォトリソグラフィー法に
よりブラックマトリックスの存在する領域から基板全面
領域にわたる部分をパターニングして熱硬化すること、
および、基板全面領域をパターニングせずに熱硬化する
ことのいずれでもよい。このフォトリソグラフィー法
は、前述の黒色色素含有光硬化性レジストの場合におい
て、保護膜用マスクを使用すること以外は同様の方法を
用いることができる。

【００３３】透明熱硬化性樹脂硬化物としては、アク
リル、メタクリル酸誘導体とその共重合体（バインダ
ー）の混合物，上記アクリル、メタクリル酸誘導体にエ
ポキシ基，シロキサン基，ポリイミド前駆体を導入した
ものを用いることができる。 開始剤として、トリアジン系，アセトフェノン系，ベン
ジイン系，ベンゾフェノン系，チオキサンソン系等、溶
剤として、セロソルブ系，シクロヘキサノン，ジエチレ
ングリコールエーテルおよびエステル系の単品および二
種以上の混合物を用いることができる。これらのものを
混合、濾過後、塗布しポストベークの工程で熱により完
全に硬化させる。具体的には商品名オプトマ−７２６
５，ＪＨＲ−８４８４、ＪＳＳ−８１９、ＪＳＳ７１５
（ＪＳＲ）、ＯＳ−８０８（長瀬産業）等を用いること
ができる。

【００３４】６．液晶材料 本発明で用いられる液晶材料としては、特に制限はなく
液晶相を有するものであればいずれのものでもよいが、
液晶パネルの機械的強度を著しく向上することができる
高分子液晶、又は、高分子液晶を含有する液晶組成物が
好ましい。低分子液晶としては、例えば、以下に示すも
のの単品又は、複数の混合物を用いることができる。

【００３５】

【化１】 〜

【化８７】

【００３６】高分子液晶としては、たとえば、以下に示
す非強誘電性及び強誘電性高分子液晶の単品又は複数の
混合物を用いることができる。非強誘電性の高分子液晶
としてはネマテック相，コレステリック相，スメクチッ
クＡ相などの液晶相を示す高分子液晶を挙げることがで
きる。

【００３７】本発明においては、高速応答性を有する強
誘電性高分子液晶が好ましい。具体的にはポリアクリレ
ート系，ポリメタクリレート系，ポリオキシラン系，ポ
リシロキサン系、またはこれらの共重合によりなる主鎖
を持つ強誘電性高分子液晶を挙げることができる。

【００３８】これらを組合せた好適な液晶組成物として
は、例えば、特願平０３−１１２１１２（主鎖にアルキ
ル鎖とシロキサン鎖を有する液晶性共重合体と低分子液
晶化合物との混合系）に開示されたものを挙げることが
できる。これらの液晶材料には必要に応じて２色性色素
などの各種添加剤を加えてもよい。

【００３９】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明する。実施例１ ４リットルの純水にフェロセン誘導体ミセル化剤ＦＰＥ
Ｇ（１１−フェロセニルウンデシルポリオキシエチレン
エーテル）２ミリモル（８グラム）、臭化リチウム０．
１モル（４１．６グラム）と、相転移挙動が の次式

【化８８】 に示す重量平均分子量（Ｍｗ）が２８００の強誘電性高
分子液晶１０グラム／リットル（４０グラム）を加え
て、それぞれ、２ミリモル，０．１モル，１０グラム／
リットルの溶液とし、超音波ホモジナイザーで３０分間
分散させて遠心分離（２０００ｒｐｍ１時間）処理し、
ミセル溶液とした後、３００ｍｍ×６００ｍｍのＰＥＴ
フィルムに３００Ω／□のＩＴＯをスパッタしたフィル
ムを前記ミセル溶液に挿入し、ポテンショスタットを接
続した。０．５Ｖの定電位電解を３０分間行ない、高分
子液晶の薄膜を得た。この高分子液晶薄膜を純水で洗浄
後、オーブンにてプリベーク（８０℃）した。次に高分
子液晶と屈折率の等しいポリ塩化ビニルのスペーサーを
高分子液晶薄膜上に散布し、さらに、ＴＦＴ回路付きガ
ラス基板にローラ対を用いて空気が入らないように高分
子液晶を付着させたＰＥＴフィルムを貼り合わせた。こ
の場合、そのロール対は、いずれも直径が６０ｍｍ、幅
４５０ｍｍのシリコンゴム製のものを用いた。ロール温
度は室温であった。また、加圧圧力は、０．７ｋｇ／ｃ
ｍ² 、ラミネート速度は０．５ｍ／ｍｉｎであった。そ
の後、電位を直流で３０Ｖ印加しながら、ローラーで一
方向に圧力を掛けることにより、高分子液晶を配向させ
た。最後に、接着剤で封止し、ＴＦＴ基板とＰＥＴフィ
ルムの外側に偏光フィルムを装着して高分子液晶パネル
を完成させた。その後、フレキシブルプリント基板を用
いてＴＦＴ基板上に駆動用ＩＣを取付け、モジュールと
した。電位を印加し液晶を駆動させたところ、コントラ
スト１０であった。また、表示色の透過スペクトルを測
定し、液晶層の厚みを求めたところ、パネルの全面にわ
たり２．５５±０．０３μｍの範囲に入っており極めて
均一な膜厚が得られていることがわかった。

【００４０】実施例２ 絶縁性ブラックマトリックス作製工程 ブラックマトリックス形成レジスト剤として富士ハント
エレクトロニクステクノロジー社のカラーモザイクＣＫ
に同ＣＲ、ＣＧ、ＣＢをそれぞれ、３：１：１：１重量
部混合したものを用いた。ＴＦＴ回路のついたガラス基
板を１０ｒｐｍで回転させ、この上にこのレジスト剤３
０ｃｃ噴霧した。次に、スピンコートの回転数を２，５
００ｒｐｍにし、基板上に均一に製膜した。この基板を
８０℃で１５分間プリベークした。そして、高圧水銀灯
２ｋｗのアライメント機能のある露光機で位置合わせし
ながら、ブラックマトリックスのデザイン（９０×３１
０μｍ角−２０μｍ線幅のマスクを用いて露光した。光
源は２ｋＷの高圧水銀灯を用いた。（露光能力：１００
ｍＪ／ｃｍ² ）プロキシミティギャップ７０μｍをと
り、２００秒間露光した後、アルカリ現像液にて現像し
た。その後、富士ハントＣＤ（現像液）を純水４倍希釈
し３０秒現像した。さらに、純水でリンスし、２００
℃、１００分間ポストベークした。

【００４１】高分子液晶パネル製造工程 前記、絶縁性ブラックマトリックスのあるＴＦＴ基板を
実施例１のミセル溶液に挿入し、ポテンショスタットを
接続した。０．５Ｖの定電位電解を３０分間行ない、高
分子液晶の薄膜を得た。この高分子液晶薄膜を純水で洗
浄後、オーブンにてプリベーク（８０℃）した。次に高
分子液晶と屈折率の等しいスペーサーを高分子液晶薄膜
上に散布し、さらに、３０ｍｍ×３００ｍｍのＰＥＴフ
ィルムに３００Ω／□のＩＴＯをスパッタしたフィルム
をローラーを用いて空気が入らないように前記ＴＦＴ基
板に貼り合わせた。その後、電位を直流で３０Ｖ印加し
ながら、ローラーで一方向に圧力を掛けることにより、
高分子液晶を配向させた。最後に、接着剤で封止し、Ｔ
ＦＴ基板とＰＥＴフィルムの外側に偏光フィルムを装着
して高分子液晶パネルを完成させた。その後、ＦＰＣを
用いてＴＦＴ基板上に駆動用ＩＣを取付け、モジュール
とした。電位を印加し液晶を駆動させたところ、コント
ラスト１５であり、表示色のむらは全く認められなかっ
た。膜厚を測定したところ２．４０±０．０４μｍと、
非常に均一なものであった。

【００４２】実施例３ 実施例１と同一の条件で相転移温度が の強誘電性液晶組成物（メルク社製、ＺＬＩ−４６５５
−１００）をストライプ状ＩＴＯ電極付きＰＥＳ（ポリ
エーテルスルホン）基板（厚み１００μｍ、幅１５０ｍ
ｍ、長さ６００ｍｍ）上に製膜した。７０℃でプリベー
ク後、ストライプ電極が直交する同種の対向基板と、実
施例１と同じ一対のロールを用いてラミネートした。こ
の対向基板の電極面には予め平均１個／１００μｍ面の
密度で半硬化性エポキシ製のスペーサー球（直径３μ
ｍ）を散布してある。次いで、上下電極間に周波数２０
Ｈｚ、振幅４０Ｖの矩形波交流を印加しながらロール群
を通して曲げによる剪断を同時に与えて配向処理を行な
った。この場合、各ロールは直径が４０ｍｍ、幅が５０
０ｍｍのクロムメッキを施した鉄製のものを用いた。ラ
イン速度は２ｍ／ｍｉｎであった。この様にして作製し
た液晶パネルを直交する偏光板間に配置し、室温でコン
トラストを測定したところ１７であり、表示むらは認め
られなかった。また、液晶層の膜厚は２．８４±０．０
２μｍであり極めて均一なものであった。

【００４３】

【発明の効果】本発明の液晶パネルの製造方法によっ
て、真空注入などの工程数の多い製造法を用いることを
必要とせず、簡易で効率のよい生産が可能となる。ま
た、膜厚の均一性が高く、液晶パネル全面にわたってむ
らの少ない表示を得ることができる。

【化２】

【化３】

【化４】

【化５】

【化６】

【化７】

【化８】

【化９】

【化１０】

【化１１】

【化１２】

【化１３】

【化１４】

【化１５】

【化１６】

【化１７】

【化１８】

【化１９】

【化２０】

【化２１】

【化２２】

【化２３】

【化２４】

【化２５】

【化２６】

【化２７】

【化２８】

【化２９】

【化３０】

【化３１】

【化３２】

【化３３】

【化３４】

【化３５】

【化３６】

【化３７】

【化３８】

【化３９】

【化４０】

【化４１】

【化４２】

【化４３】

【化４４】

【化４５】

【化４６】

【化４７】

【化４８】

【化４９】

【化５０】

【化５１】

【化５２】

【化５３】

【化５４】

【化５５】

【化５６】

【化５７】

【化５８】

【化５９】

【化６０】

【化６１】

【化６２】

【化６３】

【化６４】

【化６５】

【化６６】

【化６７】

【化６８】

【化６９】

【化７０】

【化７１】

【化７２】

【化７３】

【化７４】

【化７５】

【化７６】

【化７７】

【化７８】

【化７９】

【化８０】

【化８１】

【化８２】

【化８３】

【化８４】

【化８５】

【化８６】

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくともその一方が透明性を有し、か
   つ、その内面にそれぞれ電極を有する二枚の基板間に、
   液晶材料を挾持してなる液晶パネルの製造方法におい
   て、 少なくとも一方の基板の電極面上に、液晶材料をミセル
   電解法を用いて製膜したのちに、他方の基板を貼り合わ
   せることを特徴とする液晶パネルの製造方法。
2. 【請求項２】 前記二枚の基板の少なくとも一方がプラ
   スチック材料からなり、かつ他方の基板を貼り合わせる
   際に、少なくとも一本の加圧ロールを用いることを特徴
   とする請求項１記載の液晶パネルの製造方法。
3. 【請求項３】 前記液晶材料が高分子液晶を含有するも
   のであることを特徴とする請求項１又は２記載の液晶パ
   ネルの製造方法。
4. 【請求項４】 前記液晶材料が強誘電性液晶であること
   を特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の液晶パ
   ネルの製造方法。
5. 【請求項５】 前記二枚の基板の少なくとも一方に薄膜
   トランジスタ（ＴＦＴ）又はメタルインシュレーターメ
   タル（ＭＩＭ）等の能動素子が形成されていることを特
   徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の液晶パネル
   の製造方法。