JP4773617B2 - ガラス積層体を基質とする半導体装置の製造方法 - Google Patents

ガラス積層体を基質とする半導体装置の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の分野】
本発明は半導体装置、特にフラットパネル・ディスプレーの製造の際に機能層を被覆する基質としてのガラス積層品の使用に関する。
【0002】
【発明の背景】
液晶ディスプレー(LCD)はここ数年の間低価格の情報用ディスプレーとして例えば計算器、時計、ビデオゲーム、オーディオおよびビデオ装置、携帯用計算機、自動車のダッシュボード等、即ち軽量であることが重要な特徴となる移動式の装置に使用されて来た。さらにその品質および大きさが改善され、LCDはこれまでテレビセットおよび卓上型コンピュータに広く使用されて来た陰極線管(CRT)の有望な代替品となっている。最近では他のフラットパネル型のディスプレー(FPD)、例えばプラズマ・ディスプレー(PD)、フィールド・エミッション・ディスプレー(Field emission display、FED)および有機性発光ポリマー・ディスプレー(organic light−emitting polymer display、OLED)がLCDの潜在的な代替品として多くの注目を浴びている。PD、FEDまたはOLEDは発光型のディスプレーであり、LCDに伴う二つの主要な問題、即ち視覚が小さいことおよび効率が低いこと(典型的には入射光または背景光の数%しかLCDを通って読取り得る画像をつくらない)に対する解決策を与えることができる。
【0003】
これらのすべてのFPDにおいては、2枚のガラスを使用して機能層、例えばピクセルのアドレッシング(addressing)を行なうための電気伝導層、カラー・フィルター、LCDの液晶配向層または整列層、或いはFEDおよびPDの燐の層を担持させる。このような機能層が取付られた2枚のガラス板の間には充填剤、例えば液晶化合物(LCD)、発光ポリマー(OLED)またはプラズマ生成ガス(PD)が被覆されている。しばしばディスプレー・セルと呼ばれるこのようなサンドイッチ構造体を組み立てた後、1枚またはそれ以上の箔をガラスの基質の外側の表面に積層化することができる。LCDでは偏光子の箔が必要な構成成分であり、これをガラスの基質に積層化する。また画像の品質を改善するために数種の他の種類の箔が広く使用されている。例えば遅延フィルム、反射または反射防止用の箔、視覚を改善するための箔、光を分散させる箔等が使用される。
【0004】
FPDに使用されるガラス板は0.7〜1.1mmの典型的な厚さをもっている。ガラスの比重は大きいから、ディスプレーの全重量は主としてこれらのガラス板の大きさおよび厚さで決定される。「Display Devices」誌、1996年春発行(東京、電波出版社(Dempa Publication Inc.)Serial no.13、14〜19頁記載の「第4世代のLCD − EIAJ装置の予測」には、FPDの重量の減少が研究すべき主要な課題であることが強調されている。移動式のディスプレー並びに大きな静止型のディスプレー、例えばテレビセットまたは卓上型のコンピュータのディスプレーのいずれに対しても重量の減少は重要である。しかしこのような薄いガラスは脆いために、ガラス板の厚さをこれ以上減少させることには限度がある。
【0005】
ヨーロッパ特許A−759 565号には、ポリカーボネートの受取り層が取り付けられた可撓性のある薄いガラスの上に機能層が被覆する方法が記載されている。このような基質は、破断を起こす確率が受取り層によって改善されないから、非常に脆い
【0006】
或る種の低価格の用途に対しては、LCDの軽量の基質としてプラスティックスのシートが使用されている。プラスティックスは強度が大きく可撓性をもっているために、可撓性のディスプレーをつくることも可能である。しかしこのようなプラスティックス・シートの間にある液晶組成物および他の機能層は化学薬品、酸素、水分、機械的衝撃および他の外からの影響から十分には保護されておらず、その結果このようなプラスティックス・ディスプレーの寿命が制限される。またプラスティックスはガラスに比べ、高品質のディスプレーを得るために必要な本質的な性質である熱的安定性および寸度安定性が非常に低い。
【0007】
ガラスシートとプラスティックスの箔との積層体も当業界に公知である。良く知られた例としてはフランス特許2.138.021号およびヨーロッパ特許A−669 205号記載のような自動車の風防ガラスに使用される安全ガラスがある。該ヨーロッパ特許明細書には、ガラス板、中間接着層およびプラスティックスの板から成り、ガラスの厚さが30〜1000μmであるガラス/プラスティックス積層体が記載されている。このガラスは好ましくは化学的に硬化させたガラスであり、積層化する前に機能層をガラスに被覆することができる。積層化した後、この機能層をガラスとプラスティックス層との間でサンドイッチにし、これによって外界の影響から保護する。薄い化学的に硬化させたガラスとプラスティックス支持体との積層体は米国特許3,471,356号にも記載されている。
【0008】
【発明の概要】
本発明の目的は、比重が小さく且つ脆性が低く、また寸度安定性および熱的安定性が高く、かたさおよび引っ掻き耐性が大きく、有機溶媒または反応性試薬のような化学薬品に対する耐性が良好な基質に機能層を被覆する工程を含む半導体装置を製造する方法を提供することである。この目的は請求1記載の方法によって実現される。本発明の好適具体化例は添付請求の範囲に記載されている。下記の詳細な説明において本発明のさらに他の利点および具体化例の説明を行なう。
【0009】
【発明の詳細な記述】
本発明方法に使用される積層体は薄いガラス層と支持材から成っている。本明細書において使用される「積層体」という言葉は、「多数の接合された層から成る材料」と理解すべきである。ガラス層および支持材はそれらの間に中間接着層を被覆することによって互いに接合することができるが、下記に説明するように真空積層法を使用することもできる。本明細書において「支持材」という言葉は「自己支持性の層」、例えばプラスティックスの層の意味で使用し、支持材の上に被覆できるが自己支持性ではない層、例えば本明細書の冒頭に説明しまたさらに下記に説明するような機能層と区別する。
【0010】
ガラスは引っ掻き、水分、溶媒およびガスから支持材を保護し、支持材の寸度安定性および熱的安定性を改善している。積層体の寸度安定性はガラスと支持材との相対的な厚さに依存し、またこれら両方の材料の弾性に依存している。薄いガラスの基質と例えばプラスティックスの支持材とから成る積層体は、プラスティックスの支持材そのものに比べて著しく改善された寸度安定性をもっている。積層体になった支持材が存在することによってガラスが割れる危険性が著しく減少する。その表面に高い局所的な圧力がかかることによってガラスが割れた場合でも、ガラスの破片は積層体になった支持材に固定されて留まる。積層体にしない場合には、特に薄いガラスを基質に使用した場合、割れる確率は非常に高く、ガラスの破片は製造工程を著しく撹乱するであろう。また積層体全体としての比重はガラスの比重よりも実質的に小さくなり、特に積層体の支持材として例えばプラスティックスを使用した場合にはそうである。
【0011】
本発明に使用される積層体のガラスは厚さが700μmよりも薄い。或る用途に対しては300μmよりも、特に200μmよりも薄いことが好適である。脆性を小さくするためには30μmよりも薄くないこと、特に50μmよりも薄くないことが好適である。これらの規格のガラスは当業界に公知である。ヨーロッパ特許A−716 339号には厚さが1.2mmよりも薄く、破断応力(引張り応力下における)が1×107Pa以上、弾性モジュラス(ヤング率)が1×1011Pa以下の薄いガラス基質が記載されている。
【0012】
ガラスは例えばナトリウム・フロートガラス(float glass)、化学的に強化されたガラス、または硼珪酸塩ガラスであることができる。このようなガラスは半熔融したガラスを金属のローラの間で絞って薄いウエッブにすることによって製造することができる。米国特許4,388,368号には可撓性のガラスシートをつくるための下記の方法が記載されている。1550℃で熔融させたソーダライムガラス(重量比Na2O・CaO・SiO2=15:13:72)を延伸しロールにかける。このようにしてつくったガラスの両端をクリップで支持し、約350℃に加熱する。次にこのガラスシートに上記加熱温度よりも低い温度、例えば約700℃の高温の空気を吹き付けながら、ガラスシートを元のシートの面積の1.05〜10倍に伸長する。このようにしてガラスシートを薄い部分の方が速く冷却するようにし、伸長したガラスシートの厚さを均一に保つ。同様な方法は日本特許A−58,095,622号に記載されている。日本特許A−58,145,627号に記載された他の方法では、熔融したガラスのウエッブを上方に引張った後大きなローラを用いて熔融した金属浴の表面上に直ちに水平に延伸し、次いで徐々に冷却する。このようにしてつくられたガラスは平らさが改善される。
【0013】
本発明に使用するのに極めて好適なガラスは薄い硼珪酸塩ガラスであり、これは通常のナトリウム・フロートガラスに比べ非常に大きな強度をもっている。硼珪酸塩ガラスはSiO2およびB23から成っている。或る種の硼珪酸塩ガラスの詳細な組成は例えば米国特許4,870,034号、同4,554,259号および同5,547,904号に記載されている。
【0014】
化学的に強化されたフロートガラスは通常のフロートガラスよりも大きな強度をもっていることが知られている。化学的に強化されたガラスは両方の表面層の所でもともと存在したアルカリイオンが大きな半径をもったアルカリイオンで少なくとも部分的に置換されているガラスである。化学的に強化されたナトリウム・ライム・シリカガラスにおいては、ガラス表面付近のナトリウムイオンは少なくとも部分的にカリウムイオンで置き換えられ、化学的に強化されたリチウム・ライム・シリカガラスでは、表面付近のリチウムイオンは少なくとも部分的にナトリウムおよび/またはカリウムで置き換えられている。化学的に強化されたガラスの公知製造法では日本特許A−56,041,859号、英国特許1,208,153号および米国特許3,639,198号記載のようにガラスをイオン交換が起こる条件に露出する。ガラスの化学的な強化法のもっと詳細な点は例えば「Glass Technology」誌、第6巻第3号(1965年6月)90〜97頁に記載されている。
【0015】
薄いガラスは例えばPilkingtonおよびCorningから市販されている。本発明方法に使用するのに好適な薄い硼珪酸塩ガラスは例えばSchottグループの会社であるDeutche Spezialglass AG(Desag、ドイツ)からAF45およびD263型として厚さ最低30μmのものが市販されている。Desagから1995年に出版された技術資料「無アルカリおよび低アルカリの薄いガラス」、副題「AF45およびD263:電子的用途のガラス」によれば、薄い硼珪酸塩ガラスは厚さが30μm、50μm、70μm、100μm、145μm、175μm、210μm、300μm、400μm、550μmおよび700μmのものが市販されている。
【0016】
本発明に従ってガラスに積層化させる支持材は紙または金属、さらに好ましくはプラスティックスの箔、例えば酢酸セルロース、ポリ(ビニルアセタール)、ポリスチレン、ポリカーボネート(PC)、ポリ(エチレンテレフタレート)(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルスルフォン(PES)であることができる。また例えばアクリロニトリル、スチレンおよびブタジエンの共重合体、或いはシクロオレフィン共重合体(COC)、例えば(ポリ)シクロペンタジエン(PDCP)、PET、PC、PESおよびPDCPの共重合体が極めて好適である。
【0017】
支持材は好ましくは500μmより、さらに好ましくは250μmよりも薄い厚さをもっている。高温工程に積層体を使用する場合、非常に薄い支持材、例えば10〜50μmの範囲の厚さの支持材を使用し、ガラスと支持材との熱収縮または熱膨張が異なることによる材料の過度の曲がりを有利に避けることができる。画像記録材料またはフラットパネル・ディスプレーに使用する場合、支持材は透明な支持材であることが好ましい。好適具体化例においては支持材並びに接着層はガラスと実質的に同じ屈折率をもっていることが特徴である。
【0018】
ガラスを支持材に積層化する方法は公知である。いわゆる真空積層化により接着剤を用いずに両方の層を積層化することができる。真空積層化によりガラスと支持材との間に効果的な接合を得るためには、これらの材料は両方とも表面の粗さが少ないことがことが好ましい。例えば支持材は、しばしばプラスティックスの箔または箔の上の被膜の中に導入され粘着化を防ぐ隙間剤(spacing agent)を含んでいないことが好ましい。真空積層化の他に、両面接着テープ、または例えば高温熔融物またはラテックスを被覆した後に熱または圧力をかけて得られる接着層を使用することが極めて好適である。該ラテックスは例えばポリウレタン、ポリエチレン、ポリ(アクリル酸メチル)またはエチレン−酢酸ビニル共重合体である。別法として僅かに湿らせたゼラチン層を接着層として使用することができる。
【0019】
接着層はガラス、支持材、または両方に被覆することができ、積層化した直後に除去し得る剥離層によって保護することができる。積層化の後に、ガラスと支持材との間の接合は永久的な接合または可逆的な接合であることができる。後者の場合にはガラスと支持材とを再び互いに剥がすことができる。
【0020】
ガラスと支持材との積層化は手動で行なうことができるが、いわゆる積層機と呼ばれる積層化を行なう機械で行なうことが好ましい。典型的な積層機は調節可能な圧力をかけることができ且つ一定のまたは調節可能な速度で動かし得る一対の加熱し得るローラを具備している。積層機を用いる積層化はガラスと支持材とを互いに密着させ、随時両方の材料の間に接着剤を被覆し、積層機のローラの間に通すことによって行なわれる。
【0021】
接着層は熱感性の接着剤(TSA)の層、圧感性の接着剤(PSA)の層または紫外線で硬化し得る接着剤(UVA)、電子ビームに露光して硬化させ得る接着剤または熱で硬化させ得る接着剤であることができる。典型的な水で被覆し得るTSAはガラス転移温度(Tg)が80℃よりも低いラテックスである。本発明の積層体を高温を必要とする工程、例えばフラットパネル・ディスプレーの製造中に使用する場合、適当なTSAはTgがその工程の最高温度よりも少なくとも10℃高い重合体を含んでいることが好ましい。同様な理由により、最高150℃、さらに200℃の温度まで熱的に安定なPSAまたは硬化可能な接着剤が好適である。
【0022】
本発明に使用するのに好適なPSA層は1種またはそれ以上の粘着性のエラストマー、例えばスチレン/イソプレンのブロック共重合体、スチレン/ブタジエンゴム、ブチルゴム、イソブチレンの重合体およびシリコーンから成っている。特に好適なものは天然ゴムおよび米国特許3,857,731号記載のアクリレート共重合体である。このアクリレート重合体は好ましくは90〜99.5重量%の少なくとも1種のアクリル酸アルキルエステルおよび10〜0.5重量%の実質的に油に不溶で水溶性のイオン性単量体およびマレイン酸無水物から成る群から選ばれる単量体から成っている。このアクリル酸エステル部分は、疎水性で水で乳化でき、実質的に水に不溶であり、均質重合体としてガラス転移温度が20℃以下の単量体から成っていることが好ましい。このような単量体の例にはアクリル酸イソオクチル、アクリル酸4−メチル−2−ペンチル、アクリル酸2−メチルブチル、およびアクリル酸sec−ブチルがある。適当な単量体の他の例には例えばトリメチルアミンメタクリルアミド、トリメチルアミンp−ビニルベンズイミド、アクリル酸アンモニウム、アクリル酸ナトリウム、N,N−ジメチル−N−1−(2−ヒドロキシプロピル)アミンメタクリルアミドおよびマレイン酸無水物がある。PSAは、未処理の紙に被覆した場合、連続被覆(被覆率100%)剥離接着値が幅1cm当たり0.1〜10Nである。
【0023】
PSAはさらに接合剤を含んでいることができる。適当な接合剤は圧感性接着剤に対して不活性である。即ち圧感性接着剤と化学的に反応しない。このような接合剤の例はニトロセルロース、ウレタン、ゼラチン、ポリビニルアルコール等である。接合剤の量は圧感性接着剤が効果的に積層化するように選ばなければならない。接合剤の量は好ましくは圧感性接着剤に関して2.5重量部より、さらに好ましくは0.6重量部よりも少ない。
【0024】
UVAは広い意味で二つの範疇、即ち遊離基で重合したものおよび陽イオン重合したものに分類することができる。遊離基重合によってつくられた重合体は一般にアクリルの単量体またはオリゴマーをベースにしており、紫外線を当てて交叉結合させ高分子量重合体に変える。UVAは好ましくは光反応開始剤、例えばベンゾフェノン−アミン、α−置換アセトフェノンまたはアミノアセトフェノンを含んでいる。イソプロピルチオキサントンを加えると、光反応開始剤に対し増感効果があり、有用な露光領域を可視光の近くに移動させることが知られている。このことは使用者の安全に対しては重要である。UVAに典型的に使用される他の成分は可撓化剤、例えばアクリル材料の中に溶媒和された或いは分散された熱可塑性材料、接着促進剤、例えばポリエチレンまたはポリプロピレン、および充填剤である。UVAに関する他の情報はRadCureLetter No.5(1996)およびTappi Journal,1992年1月号、121〜125頁に記載されている。電子ビームで硬化させ得る接着剤は原理的に紫外線で硬化させ得る接着剤と同じ機構で動作するが、光反応開始剤を必要としない。
【0025】
本発明に使用される適当な接着剤の例には、Solucryl(ベルギー、UCBの登録商標)、好ましくはSolucrylの355HP、380および825D型;Rhodotak(Rhone−Poulencの登録商標);Acronal(BASFの登録商標);Duro−Tak380−2954(National Starch & Chemical B.V.の登録商標);PERMAprint PP2011型およびPERMAgard PG7036型(ベルギー、Varitape N.V.の登録商標)がある。
【0026】
本発明方法においては、機能層を支持材に被覆するが、それを積層体のガラス側に取り付けることが好ましい。この機能層を被覆する前にガラスの表面を予備処理する。例えば機能層を良好に接着させるためにエッチングを行なうかまたは下塗り層で予備被覆を行なうことができる。この目的に特に適した下塗り層は珪素含有化合物をベースにしたもので、例えば米国特許3,661,584号および英国特許1,286,467号に記載されている。該珪素含有化合物は好ましくはエポキシシランであり、また機能層の被覆組成物に加えることができる。ガラスも好ましくは厚さ少なくとも1μm、さらに好ましくは少なくとも10μmの珪酸塩ゾル/ゲル被覆で被覆することができる。このような珪酸塩ゾル/ゲル不動態層は典型的にはフラットパネル・ディスプレーに使用されるナトリウムガラスに被覆してナトリウムイオンがガラスに被覆された電気伝導層へ拡散するのを防ぐのに用いる。アルカリを含まない硼珪酸塩ガラスを本発明の積層体に使用する場合には、このような珪酸塩ゾル/ゲル被覆は不必要である。
【0027】
機能層はスパッタリング、物理的蒸着法、化学的蒸着法、並びに液体被覆溶液からの被覆、例えば回転被覆、浸漬被覆、棒被覆、刃先被覆、空気ナイフ被覆、グラビア被覆、逆ロール被覆、侵出被覆、スライド被覆、およびカーテン被覆によって積層体に被覆することができる。これらの被覆法に関する概説は米国New York、VCH publishers,Inc.1992年発行、Edward CohenおよびEdgar B.Gutoff編、”Modern Coating and Drying Technology”に記載されている。例えばスライド被覆またはカーテン被覆のような被覆法によって多数の層を同時に被覆することができる。
【0028】
本発明方法に従えば、本発明に使用する積層体の有利な性質、例えば軽量および高強度のような特性のために、この積層体は太陽電池、カメラ、投影ディスプレー、特にFPDのような半導体装置を製造するための優れた基質になる。この積層体はシートまたはウエッブとして使用することができる。ウエッブは後で説明するようにフラットパネル・ディスプレーをロールからロールへと移動させて製造するのに特に好適である。
【0029】
極めて好適なFPDはLCDである。典型的なLCDセルは2枚の平行なガラス板から成り、これらの板はそれぞれその内側の面に電気伝導性の層および液晶配向層、別名整列層を有している。カラーLCDにおいてはガラス板の1枚にはカラー・フィルターが取り付けられている。前記のようなガラス−積層体に取り付けられた場合、これらの電気伝導性層、整列層およびカラー・フィルターは本発明方法に従って被覆されるものと見做される。
【0030】
液晶配向層は典型的には機械的に擦って液晶分子の配向子自身を擦った方向に配向させるポリイミドフィルムから成っている。これ以上の情報はDisplay誌、1987年1月号17〜21頁のA.MosleyおよびB.M.Nicholasの論文「擦った重合体層による液晶の表面整列」に見出すことができる。
【0031】
酸化錫、酸化インジウムまたは錫をドーピングした酸化インジウム(ITO)から成る被膜はフラットパネル・ディスプレーの電気伝導性層として広く使用されている。何故ならこれらの材料は可視スペクトル領域で透明であり、この特性がかなり低い電気抵抗と組み合わされているからである。ITOは例えば米国New York、Academic Press(Plenum Press、1977年発行)J.L.Vossen著、Physics of thin films、1〜71ページ記載のITO標的材料からRFスパッタリングを行なう方法、またはThin Solid Films誌、83巻259〜260頁(1981年)および72巻469〜474頁(1980年)記載のインジウム−錫標的材料から反応性DCマグネトロン・スパッタリングを行なう方法を実施した後熱処理を行なって被覆することができる。
【0032】
本発明に従えば、本発明の積層体は非連続的な(non−contiguous)機能層、例えばパッシブ・マトリックスLCDまたは薄層トランジスター(TFT)のマルティプレックス・アドレッシング(multiplex−addressing)に使用される行と列のような電子部品を規定する電気伝導性のパターン、およびアクティブ・マトリックスLCDに使用されるピクセル電極が取り付けられている。このようなパターンを被覆するためには、写真石版法並びにプリント法を使用することができる。また例えば積層化の後で積層剥離、インクジェット、トナージェット、電子写真または熱昇華法を行なうことによって積層体の上に非連続的な層をつくることができる。
【0033】
上記の電気伝導性のパターンおよび層と同様にLCDばかりでなく他の型のFPDにも使用されるカラー・フィルターは、本発明方法によって被覆できる非連続性の層の他の例である。カラー・フィルターはゼラチンをベースにしたフィルター、真空蒸着フィルター、プリントされたフィルター、干渉フィルター、電解沈着フィルター等であることができる。若干の適当な例は例えばJapan Display誌、1986年、320〜322頁のT.Ueno,T.Motomura,S.Naemura,K.NoguchiおよびC.Taniの論文「カラーLCDに対する高品質有機顔料カラー・フィルター」;SID Int.Display Conf.誌、1989年、434〜437頁のT.Unate,T.Nakagawa,Y.Matsushita,Y.UgaiおよびS.Ackiの論文「光学的干渉フィルターを使用する高透過度のアクティブ・マトリックス・カラーLCD」;SID Int.Display Conf.誌、1990年、240〜2443頁のA.Matsushita,M.OhataおよびK.Ishikawaの論文「LCDに対する多重カラー・フィルターの新しい製造法」;Eurodisplay’87予稿集、379〜382頁および395〜396頁;ヨーロッパ特許B−396 824号およびヨーロッパ特許A−615 161号に記載されている。
【0034】
これらの機能層を上記のガラス−積層体に被覆した後、組立工程でこのような二つの積層体を組み合わせ、ガラス板の間の空間が液晶組成物およびスペーサーで充填されたていわゆるLCDセルを得る。支持材はこの組立工程の前または後で取除くことができるか、或いはガラスに固定したままにしておくことができる。組立工程の後に偏光子または他の箔、例えば画像の品質を改善する箔、例えば遅延フィルム、反射または反射防止用の箔、視覚を改善する箔、光分散用の箔等をLCDセルに対して積層化することができる。これらの箔は本発明によって被覆し得る機能層とは見做さない。何故ならばこれらの箔は自己支持性の層であり、従って上記の「機能層」の定義に合わないからである。
【0035】
上記の方法はパッシブ・マトリックス(passive matrix)LCD並びにアクティブ・マトリックス(active matrix)LCD、例えば薄層トランジスター(TFT)ディスプレーの製造の際に使用することができる。特定の例としてはツイステッド・ネマティック(twisted nematic)(TN)、スーパーツイステッド・ネマティック(STN)、二重スーパーツイステッド・ネマティック(DSTN)、遅延フィルムスーパーツイステッド・ネマティック(RFSTN)、強誘電性(FLC)、ゲスト−ホスト(GH)、重合体分散型(PF)、重合体ネットワーク型(PN)液晶ディスプレー等がある。
【0036】
本発明の利点を得ることができる発光FPD型のディスプレーは例えばプラズマ・ディスプレー(PD)、フィールド・エミッション・ディスプレー(FED)およびいわゆる有機性発光ポリマー・ディスプレー(OLED)である。このようなエレクトロリュミネッセンス型のディスプレーでは少なくとも1枚のガラス板の上にある電気伝導層またはパターンを不透明の材料、例えば銀またはニッケルで置き換えることができる。
【0037】
PDSはガスを充填した容積を取り囲む2枚のガラス板から成り、ガスは典型的には希ガスまたはその混合物である。ガスを充填したキャビティーの中にある電極に高圧、典型的には約100Vの電圧をかけることにより、プラズマ放電が起こって紫外線が放出される。多くの設計においては、放電はガラス板の間に絶縁材料の壁でつくられた別々のセル(ピクセル)の中に閉じ込められている。紫外線によってセルの壁上に存在する燐が励起され、カラー画像が得られる。プラズマからやはり放出される橙色の光を除去するために、FEDにもカラー・フィルターが使用される。電気伝導層またはパターンは、例えば酸化鉛または酸化マグネシウムから成る誘電体の保護層を被覆することによりプラズマから遮蔽することができる。このような絶縁体の壁、燐、カラー・フィルターおよび誘電体の保護層は本発明方法により被覆し得る(非連続的な)機能層と見做される。
【0038】
FEDもまた機能層を備えた2枚のガラス板から成っている。LCDおよびPDに見られるような電気伝導層またはパターンの他に、FEDのガラス板の一つにはそれぞれ微小な電子銃として作用する例えばモリブデンから成る多数のマイクロチップが取り付けられている。200〜800Vの高電圧をかけると、これらのマイクロチップは反対側のガラス板の上の燐の層の方へ電子ビームを放出する。反対側のガラス板には対向電極として典型的にはITO層が被覆されている。FEDの電気伝導層およびパターン、マイクロチップおよび燐の層は本発明方法によって被覆し得る機能層と見做される。
【0039】
OLEDは発光性の化合物としてエレクトロリュミネッセンス重合体、例えばp−フェニレンビニレン、フルオレン誘導体およびジスチリルベンゼン化合物を含んでいる。幾つかの特定の例は例えば米国特許5,247,190号および5,401,827号に記載されている。S.MiyataおよびH.S.Nalwa編、Gordon and Breach Publishers1997年発行の”Organic electroluminescent materials and devices”に広範な概説が記載されている。典型的なOLEDは反射陽極、電子輸送層、発光層、正孔輸送層および透明な陽極から成っており、すべてのこれらの層は2枚のガラス板またはプラスティックス・シートの間にサンドイッチ状に挟まれている。カラーOLEDは、それぞれ三原色の一つを放出するこのような3個の基本的なセルを互いに積み重ねることによってつくることができる。上記のガラス積層体に被覆した場合、OLEDに見られるこれらの機能層は本発明方法で被覆し得る機能層と見做される。
【0040】
本発明に使用される積層体はまた可撓性の材料であることができる。本明細書において使用される「可撓性」という特徴は、その材料が芯の周りに巻くことができることを意味する。好適な可撓性の積層体は半径1.5mの円筒形の芯の周りに破断することなく巻き付けることができる。ガラスの厚さが薄いほど可撓性は高く、破断を生じることなく材料を巻き付け得る芯の半径は小さくなる。しかしガラスの脆性はガラスの厚さに反比例し、用途に応じて可撓性と脆性との間で折衷を図る。従って本発明に使用される可撓性をもった積層体には連続式ウエッブ被覆装置を用いて機能層を取り付けることができ、フラットパネル・ディスプレーをロールからロールに移動させて工業的に製造することができ、これによって現在使用されているようなバッチ法に比べ工程のコストを著しく低下させることができる。
【0041】
本発明の利点が得られるFPDの他の例はいわゆる電子ブック、例えば世界特許公開明細書97/04398号記載の装置である。
【0042】
【実施例】
上記AF45型の厚さ100μmの可撓性をもった硼珪酸塩ガラスのシートを、厚さ170μmのPET箔に対し、ガラスとPET箔との間の接着層としてSolucryl(ベルギー、UCBの登録商標)355HPを使用して積層化した。この積層体を基質として使用しそのガラス側にハレーション防止層、青に感度をもつ乳化層、第1の中間層、緑に感度をもつ乳化層、第2の中間層、および赤に感度をもつ乳化層を被覆する。これらの層はハロゲン化銀写真用フィルムの製造に使用される標準的な被覆装置を用いて被覆した。このようにして得られたカラー・ネガの材料を用い下記のカラー・フィルターをつくる。これらの層の組成はヨーロッパ特許A−802 453号に記載されており、これを下記に再録する。
【0043】
ハレーション防止層
式YDの非拡散性黄色染料をゼラチンに分散させる。この分散物に接着促進剤として作用するエポキシシランEを加えた。黄色染料YD、ゼラチンおよびエポキシシランEの被覆率はそれぞれ0.5、1.5および0.1g/m2である。
【0044】
青に感度をもつ層
平均粒径0.4μmの100%塩化銀の乳剤を式SBのスペクトル増感剤で青の光に対して増感する。式Y1の黄色染料生成用カプラーをこの乳剤に加える。ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーY1の量はそれぞれ0.57、3.30および1.0g/m2である。
【0045】
第1の中間層
酸化されたカラー現像剤を浄化し得る式SD1の物質をゼラチンに分散させ、SD1を0.08g/m2、ゼラチンを0.77g/m2の被覆率で被覆した。
【0046】
緑に感度をもつ層
平均粒径が0.12μmの塩化臭化銀(モル比90/10)を式SGのスペクトル増感剤で緑の光に対して増感する。式M1のマゼンタ染料生成用カプラーをこの乳剤に加えた。ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーM1の量はそれぞれ0.71、2.8および0.53g/m2であった。
【0047】
第2の中間層
この層は第1の中間層と同じ組成をもっている。
【0048】
赤に感度をもつ層
平均粒径が0.12μmの塩化臭化銀(モル比90/10)を式SRのスペクトル増感剤で赤の光に対して増感する。式C1のシアン染料生成用カプラーをこの乳剤に加えた。ハロゲン化銀、ゼラチンおよびカラー・カプラーC1の量はそれぞれ0.49、6および0.95g/m2であった。
【0049】
アキュタンス(accutance)染料として作用する黄色、マゼンタおよびシアンの水溶性染料がそれぞれ適当な被覆率で青、緑および赤に感度をもつ層の中に存在し、硬化剤として作用するヒドロキシトリクロロトリアジンは0.035g/m2の被覆率で赤に感度をもつ層の中に存在している。
【0050】
【化1】
Figure 0004773617
【0051】
【化2】
Figure 0004773617
【0052】
【化3】
Figure 0004773617
【0053】
次にこの材料に対し多重カラー・マスターを用いて単一工程のピクセル毎の露光を行ない、下記の方法に従って処理する。
【0054】
現像剤
亜硫酸ナトリウム(無水) 4g
4−アミノ−3−メチル−N,N−ジエチルアニリン塩酸塩 3g
炭酸ナトリウム(無水) 17g
臭化ナトリウム 1.7g
硫酸、7N 0.62ml
水を加えて 1000ml
現像後、水を最高1リットル〜50mlの7N硫酸に加えてつくった酸性停止浴中で材料を処理する。
【0055】
停止浴で処理した後、通常の水で2分間濯いだ後、下記の組成の水溶液中で3分間定着を行なう。
【0056】
(NH4223の58%水溶液 100ml
亜硫酸ナトリウム(無水) 2.5g
亜硫酸水素ナトリウム(無水) 10.3g
水を加えて 1000ml
通常の水で2分間濯いだ後、下記の組成の水溶液中で3分間漂白処理を行なう。
【0057】
ヘキサシアノ鉄酸カリウム(III)(無水) 30g
臭化ナトリウム(無水) 17g
水を加えて 1000ml
次にこの材料を再び定着液で処理し、通常の水で3分間水洗する。
【0058】
最後にpHが9で20ml中に硬化剤として作用するフォルムアルデヒド40%水溶液を含む溶液で処理する。
【0059】
上記の処理を行なった後、FPDに適した多重カラー・フィルターを得たが、このフィルターは黄色の画像、マゼンタの画像およびシアンの画像をそれぞれ最高の密度で含んでいる。例えばヨーロッパ特許A−802 453号に記載のような厚さ1.5mmのガラス板に同じ組成物が被覆されている従来法に比べれば、本実施例の多重カラー・フィルターは遥かに軽量である特徴をもっている。また積層体の熱的安定性および寸度安定性はこの例に使用されたPET箔のようなプラスティックスの基質に比べ著しく良好である。

Claims (14)

  1. 半導体装置の製造方法において、
    1層の非ガラス性支持材、1層のガラス層、および1層の中間接着層からなる可撓性の基質を形成する工程であって、前記基質は厚さ10〜50μmの非ガラス性支持材と厚さ30〜700μmのガラス層とを、中間接着層を介在させて積層化することにより形成される工程と、
    前記基質を電気伝導性材料からなる機能層によって被覆する工程と
    からなる方法。
  2. 機能層はカラー・フィルターであることを特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 機能層は液晶配向層であることを特徴とする請求項1記載の方法。
  4. 機能層はさらに不動態化層を有することを特徴とする請求項1記載の方法。
  5. 機能層は燐の層であることを特徴とする請求項1記載の方法。
  6. 機能層はさらに誘電体の保護層を有することを特徴とする請求項1記載の方法。
  7. 機能層はエレクトロリュミネッセンス層であることを特徴とする請求項1記載の方法。
  8. 半導体装置はフラットパネル・ディスプレーであることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載の方法。
  9. ガラス層の厚さは500μmより薄いことを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載の方法。
  10. ガラス層の厚さは300μmより薄いことを特徴とする請求項に記載の方法。
  11. 非ガラス性支持材はポリ(エチレンテレフタレート)、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォンまたはシクロオレフィン共重合体からることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 機能層を基質のガラス側に被覆することを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
  13. ガラスが硼珪酸塩ガラスであることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
  14. ウエッブ被覆装置で機能層を基質に被覆することを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
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