JP2001518460A - 塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法 - Google Patents
塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JP2001518460A JP2001518460A JP2000513829A JP2000513829A JP2001518460A JP 2001518460 A JP2001518460 A JP 2001518460A JP 2000513829 A JP2000513829 A JP 2000513829A JP 2000513829 A JP2000513829 A JP 2000513829A JP 2001518460 A JP2001518460 A JP 2001518460A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carboalkoxy
- producing
- carbon atoms
- phenylmethanesulfonyl
- chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C381/00—Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
- C07C381/02—Thiosulfates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/60—Preparation of carboxylic acid halides by conversion of carboxylic acids or their anhydrides or esters, lactones, salts into halides with the same carboxylic acid part
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/14—Preparation of carboxylic acid esters from carboxylic acid halides
Abstract
(57)【要約】
本発明は、塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法に関し、より詳細には、環状のエステル化合物であるラクトン化合物を出発物質とし、中間体として塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイル、ｏ−（クロロメチル）安息香酸エステル誘導体およびｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンチオスルホン酸塩の合成を通じて、スルホニル尿素系除草剤の合成に重要な化合物として用いられ、次の化学式１で示される塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法に関する。
【化５】
Description
【０００１】
本発明は、塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体を
製造することに関するもので、より詳細にはスルホニル尿素系除草剤の合成に重
要な化合物として用いられている塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタン
スルホニル誘導体を製造するために、環状のエステル化合物であるラクトン化合
物を出発物質とし、中間体として塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイル、ｏ−（
クロロメチル）安息香酸エステル誘導体およびｏ−（カルボアルコキシ）フェニ
ルメタンチオスルホン酸塩の合成を通じて次の化学式１で示される塩化ｏ−(カ ルボアルコキシ)フェニルメタンスルホニル誘導体を製造することに関するもの である。
製造することに関するもので、より詳細にはスルホニル尿素系除草剤の合成に重
要な化合物として用いられている塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタン
スルホニル誘導体を製造するために、環状のエステル化合物であるラクトン化合
物を出発物質とし、中間体として塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイル、ｏ−（
クロロメチル）安息香酸エステル誘導体およびｏ−（カルボアルコキシ）フェニ
ルメタンチオスルホン酸塩の合成を通じて次の化学式１で示される塩化ｏ−(カ ルボアルコキシ)フェニルメタンスルホニル誘導体を製造することに関するもの である。
【化６】 上記化学式において、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、１〜６の炭素原子を有す
るアルキル基、１〜６の炭素原子を有するハロアルキル基、１〜６の炭素原子を
有するアルコキシ基、１〜６の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、ニト
ロ基或いはフェニル基を示し、Ｒは１〜６の炭素原子を有するアルキル基、１〜
６の炭素原子を有するハロアルキル基或いは３〜６の炭素原子を有するシクロア
ルキル基を示し、ｎは置換基の数を示し１〜４の整数である。
るアルキル基、１〜６の炭素原子を有するハロアルキル基、１〜６の炭素原子を
有するアルコキシ基、１〜６の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、ニト
ロ基或いはフェニル基を示し、Ｒは１〜６の炭素原子を有するアルキル基、１〜
６の炭素原子を有するハロアルキル基或いは３〜６の炭素原子を有するシクロア
ルキル基を示し、ｎは置換基の数を示し１〜４の整数である。
【０００２】
上記化学式１で示される塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホ
ニル誘導体は、スルホニル尿素系除草剤の合成に基本的な原料物質として開示さ
れている（米国特許第４，４２０，３２５号及びドイツ 公報第３，９２７，７
８８号）。
ニル誘導体は、スルホニル尿素系除草剤の合成に基本的な原料物質として開示さ
れている（米国特許第４，４２０，３２５号及びドイツ 公報第３，９２７，７
８８号）。
【０００３】 化学式１で示される塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル
誘導体の従来の合成法は米国特許第４，４２０，３２５号及びＨａｕｘｕｅ Ｓ
ｈｉｊｉｅ ３１ ２１１（１９９０）（ＣＡ １１４１０１、７６５）に記載
されている。その方法は、次の反応式１のように要約される。
誘導体の従来の合成法は米国特許第４，４２０，３２５号及びＨａｕｘｕｅ Ｓ
ｈｉｊｉｅ ３１ ２１１（１９９０）（ＣＡ １１４１０１、７６５）に記載
されている。その方法は、次の反応式１のように要約される。
【化７】
【０００４】 上記従来の反応式１によると、ｏ−（クロロメチル）安息香酸メチルエステル
とチオ尿素を反応させて中間体としてイソチオウロニウム塩を合成し、上記中間
体を塩素化させて塩化フェニルメタンスルホニルを最終生成物として製造する方
法である。しかし、イソチオウロニウム塩を合成するために用いられるチオ尿素
は発癌性を誘発する物質であるので、チオ尿素を工業的に大量生産することは容
易なことではない。
とチオ尿素を反応させて中間体としてイソチオウロニウム塩を合成し、上記中間
体を塩素化させて塩化フェニルメタンスルホニルを最終生成物として製造する方
法である。しかし、イソチオウロニウム塩を合成するために用いられるチオ尿素
は発癌性を誘発する物質であるので、チオ尿素を工業的に大量生産することは容
易なことではない。
【０００５】 また、上記反応式１で出発物質として用いられているｏ−（クロロメチル）安
息香酸メチルエステルを製造する方法は、いくつかの特許明細書に示されている
。例えば、上記ｏ−（クロロメチル）安息香酸メチルエステルの側鎖のメチル基
は、ＵＶ照射のもと、塩素と塩化水素ガスの反応により塩素が置換される（米国
特許第４，６８９，４２５号）。しかし、この方法は、出発物質の残量が１０％
程度で反応が終結されるものの、多くの副生成物の生成と共に最終生成物の精製
過程が難しくなり、その収率も低かった。
息香酸メチルエステルを製造する方法は、いくつかの特許明細書に示されている
。例えば、上記ｏ−（クロロメチル）安息香酸メチルエステルの側鎖のメチル基
は、ＵＶ照射のもと、塩素と塩化水素ガスの反応により塩素が置換される（米国
特許第４，６８９，４２５号）。しかし、この方法は、出発物質の残量が１０％
程度で反応が終結されるものの、多くの副生成物の生成と共に最終生成物の精製
過程が難しくなり、その収率も低かった。
【０００６】 また、塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルを製造する別の従来法として米国
特許第５，５０４，２４９号では、有機窒素化合物と塩化水素を触媒として、フ
タリドと、塩化チオニルとを１６０〜１７０℃の高温で反応させて最終化合物を
得ている。しかしながらこの方法の場合、塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）と塩化水
素の沸点がそれぞれ７９℃と−８５℃であるため、通常の反応器により反応させ
ることは容易ではなく、この方法を工業的に利用するには多くの問題がある。
特許第５，５０４，２４９号では、有機窒素化合物と塩化水素を触媒として、フ
タリドと、塩化チオニルとを１６０〜１７０℃の高温で反応させて最終化合物を
得ている。しかしながらこの方法の場合、塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）と塩化水
素の沸点がそれぞれ７９℃と−８５℃であるため、通常の反応器により反応させ
ることは容易ではなく、この方法を工業的に利用するには多くの問題がある。
【０００７】 他の製造方法として、ラクトン化合物をホスゲン（ＣｌＣＯＣｌ）と反応させ
て塩素置換された塩化カルボン酸を合成する方法が知られているが、ここで反応
の触媒としてピリジン（米国特許第２，７７８，８５２号）、４級アンモニウム
塩（米国特許第４，７６４，３８９号）或いはホスフィンオキシド（ヨーロッパ
特許第４１３，２６４号）等を使用している。しかし、これらの方法の場合、沸
点が８℃のホスゲンを用いて１２０℃以上の高温で反応を実施しなければならな
い難しさがある。また、ホスゲンは強力な毒性物質であるので、ガス状態で反応
させるこの工程は極めて危険である。
て塩素置換された塩化カルボン酸を合成する方法が知られているが、ここで反応
の触媒としてピリジン（米国特許第２，７７８，８５２号）、４級アンモニウム
塩（米国特許第４，７６４，３８９号）或いはホスフィンオキシド（ヨーロッパ
特許第４１３，２６４号）等を使用している。しかし、これらの方法の場合、沸
点が８℃のホスゲンを用いて１２０℃以上の高温で反応を実施しなければならな
い難しさがある。また、ホスゲンは強力な毒性物質であるので、ガス状態で反応
させるこの工程は極めて危険である。
【０００８】 本発明者らは上述の問題に監み、前記化学式１で示される化合物の大量生産に
有用な製造方法を開発するため努力して来た。
有用な製造方法を開発するため努力して来た。
【０００９】
従って、本発明は、上記化学式１で示される塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フ
ェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法を提供することにその目的があり、本
製造方法においては、 環状のエステル化合物であるラクトン化合物を、ルイス酸と４級アンモニウム
塩触媒の存在下で塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）と反応させて低い温度で高収率の
塩化カルボニル化合物を製造し、 反応物質であり、かつ溶媒として用いられるアルコール化合物を、上記により
生成した中間体と反応させ、エステル化反応を通じて温和な条件下でｏ−（クロ
ロメチル）安息香酸エステル誘導体を製造し、 この反応混合体を、発癌性を誘発する可能性があるチオウレアの代わりに毒性
の低いチオスルホン酸塩と反応させ、塩素化反応を通じて最終生成物として、上
記化学式１で示される塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル
誘導体を得るものである。
ェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法を提供することにその目的があり、本
製造方法においては、 環状のエステル化合物であるラクトン化合物を、ルイス酸と４級アンモニウム
塩触媒の存在下で塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）と反応させて低い温度で高収率の
塩化カルボニル化合物を製造し、 反応物質であり、かつ溶媒として用いられるアルコール化合物を、上記により
生成した中間体と反応させ、エステル化反応を通じて温和な条件下でｏ−（クロ
ロメチル）安息香酸エステル誘導体を製造し、 この反応混合体を、発癌性を誘発する可能性があるチオウレアの代わりに毒性
の低いチオスルホン酸塩と反応させ、塩素化反応を通じて最終生成物として、上
記化学式１で示される塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル
誘導体を得るものである。
【００１０】
本発明は、塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の
製造方法に関するものであり、本製造方法において、 ａ）次の化学式２で示されるラクトン化合物を、ルイス酸と４級アンモニウム
塩触媒の存在下で塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）と反応させて次の化学式３で示さ
れる塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルを製造する工程と、 ｂ）前記化学式３で示される化合物を、反応物質及び溶媒として用いられるア
ルコール化合物中でエステル化させて次の化学式４で示されるｏ−（クロロメチ
ル）安息香酸エステル誘導体を製造する工程と、 ｃ）前記化学式４で示される化合物を、チオスルホン酸塩と反応させて次の化
学式５で示されるｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンチオスルホン酸塩を
製造する工程と、 ｄ）前記化学式５で示される化合物を塩素化させて次の化学式１で示される塩
化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体を製造する工程と
からなる。
製造方法に関するものであり、本製造方法において、 ａ）次の化学式２で示されるラクトン化合物を、ルイス酸と４級アンモニウム
塩触媒の存在下で塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）と反応させて次の化学式３で示さ
れる塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルを製造する工程と、 ｂ）前記化学式３で示される化合物を、反応物質及び溶媒として用いられるア
ルコール化合物中でエステル化させて次の化学式４で示されるｏ−（クロロメチ
ル）安息香酸エステル誘導体を製造する工程と、 ｃ）前記化学式４で示される化合物を、チオスルホン酸塩と反応させて次の化
学式５で示されるｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンチオスルホン酸塩を
製造する工程と、 ｄ）前記化学式５で示される化合物を塩素化させて次の化学式１で示される塩
化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体を製造する工程と
からなる。
【００１１】
【化８】
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】 上記化学式において、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、１〜６の炭素原子を有す
るアルキル基、１〜６の炭素原子を有するハロアルキル基、１〜６の炭素原子を
有するアルコキシ基、１〜６の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、ニト
ロ基、フェニル基を示し、Ｒは１〜６の炭素原子を有するアルキル基、１〜６の
炭素原子を有するハロアルキル基、３〜６の炭素原子を有するシクロアルキル基
を示し、ｎは置換基の数を示し１〜４の整数である。
るアルキル基、１〜６の炭素原子を有するハロアルキル基、１〜６の炭素原子を
有するアルコキシ基、１〜６の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、ニト
ロ基、フェニル基を示し、Ｒは１〜６の炭素原子を有するアルキル基、１〜６の
炭素原子を有するハロアルキル基、３〜６の炭素原子を有するシクロアルキル基
を示し、ｎは置換基の数を示し１〜４の整数である。
【００１２】 このような本発明について、以下に、より詳細に説明する。
【００１３】 本発明によるラクトン化合物から塩化カルボニル化合物を製造する方法は次の
とおりである。 この反応は、８０〜１２０℃、望ましくは９０〜１００℃で実施する。反応温
度が８０℃未満の場合には充分に反応せず、１２０℃を超える場合には副生成物
を生じる。
とおりである。 この反応は、８０〜１２０℃、望ましくは９０〜１００℃で実施する。反応温
度が８０℃未満の場合には充分に反応せず、１２０℃を超える場合には副生成物
を生じる。
【００１４】 また、反応触媒としてルイス酸と４級アンモニウム塩を共に用いる。通常使用
されるルイス酸としては、ＭｇＣｌ２、ＭｇＢｒ２、ＳｎＣｌ２、ＳｎＣｌ４、
ＴｉＣｌ４、ＡｌＣｌ３、ＦｅＣｌ３、ＢＦ３Ｅｔ２Ｏ、ＢＣｌ３、Ｂ（ＯＥｔ
）３、Ｂ（ＯＭｅ）３、Ｂ（Ｏ−ｉＰｒ）３が挙げられ、ホウ素系ルイス酸を用
いることが望ましい。ルイス酸と併用される４級アンモニウム塩の例としては、
脂肪族アルキルアンモニウム或いは芳香族アルキルアンモニウムのハロゲン化化
合物として塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、塩
化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベン
ジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウムなどが挙げ
られる。触媒の使用量に対して特別な制限はないが、ルイス酸の場合には、ラク
トン化合物に対して、０．１〜２０モル％、望ましくは０．５〜５モル％を用い
る。アンモニウム塩の場合には、ラクトン化合物に対して０．１〜２０モル％、
望ましくは０．５〜５モル％を用いる。
されるルイス酸としては、ＭｇＣｌ２、ＭｇＢｒ２、ＳｎＣｌ２、ＳｎＣｌ４、
ＴｉＣｌ４、ＡｌＣｌ３、ＦｅＣｌ３、ＢＦ３Ｅｔ２Ｏ、ＢＣｌ３、Ｂ（ＯＥｔ
）３、Ｂ（ＯＭｅ）３、Ｂ（Ｏ−ｉＰｒ）３が挙げられ、ホウ素系ルイス酸を用
いることが望ましい。ルイス酸と併用される４級アンモニウム塩の例としては、
脂肪族アルキルアンモニウム或いは芳香族アルキルアンモニウムのハロゲン化化
合物として塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、塩
化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベン
ジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウムなどが挙げ
られる。触媒の使用量に対して特別な制限はないが、ルイス酸の場合には、ラク
トン化合物に対して、０．１〜２０モル％、望ましくは０．５〜５モル％を用い
る。アンモニウム塩の場合には、ラクトン化合物に対して０．１〜２０モル％、
望ましくは０．５〜５モル％を用いる。
【００１５】 さらに、反応物質として用いられる塩化チオニルの量は、ラクトン化合物に対
してモル比で１〜１０当量、１〜２当量が望ましい。
してモル比で１〜１０当量、１〜２当量が望ましい。
【００１６】 上述の条件において、反応は一般的に常圧下で行われる。また、本発明によれ
ば、反応は一般的に溶媒を用いずに行われるが、溶媒を使用する場合には、反応
に影響を及ぼすことのない非活性な有機溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン等が用いられる。反応終了後には、通常の精製方
法により上記化学式３で示される目的化合物を回収する。
ば、反応は一般的に溶媒を用いずに行われるが、溶媒を使用する場合には、反応
に影響を及ぼすことのない非活性な有機溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン等が用いられる。反応終了後には、通常の精製方
法により上記化学式３で示される目的化合物を回収する。
【００１７】 また、上記化学式４で示されるｏ−（クロロメチル）安息香酸エステル誘導体
を製造する方法は、上記化学式３で示される化合物をエステル化する場合と同様
の方法により実施する。この方法を以下に示す。
を製造する方法は、上記化学式３で示される化合物をエステル化する場合と同様
の方法により実施する。この方法を以下に示す。
【００１８】 上記エステル化は−５〜１００℃、望ましくは４０〜５０℃で行われる。アル
コール化合物は、反応物質及び溶媒として用いられる。このアルコール化合物の
使用量ついて特別な制限はないが、上記化学式３で示される塩化ｏ−（クロロメ
チル）ベンゾイルに対してモル比で１〜１０当量を添加することが経済的であり
、望ましくは１．２〜１．５当量を用いる。
コール化合物は、反応物質及び溶媒として用いられる。このアルコール化合物の
使用量ついて特別な制限はないが、上記化学式３で示される塩化ｏ−（クロロメ
チル）ベンゾイルに対してモル比で１〜１０当量を添加することが経済的であり
、望ましくは１．２〜１．５当量を用いる。
【００１９】 本発明において、エステル化は塩基の不在下で温和な条件により実施される。
ただし、３級アミンとしてのアルキルアミン類（例えば、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリイソブチルアミン）或いはピリジンのような芳香族アミン
類が塩基として添加される場合、上記化学式４で示される目的化合物が温和な条
件下で高収率で得られる。エステル化のために塩基を添加する場合には、その反
応温度は０〜２０℃、望ましくは５〜１０℃を維持する。前記条件下でエステル
化反応を完了後、上記化学式４で示される目的化合物は通常の精製方法で回収さ
れる。例えば、上記における反応混合物を水で洗浄して減圧下で分別蒸留するか
、または洗浄プロセスを省き減圧下で分別蒸留する。
ただし、３級アミンとしてのアルキルアミン類（例えば、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリイソブチルアミン）或いはピリジンのような芳香族アミン
類が塩基として添加される場合、上記化学式４で示される目的化合物が温和な条
件下で高収率で得られる。エステル化のために塩基を添加する場合には、その反
応温度は０〜２０℃、望ましくは５〜１０℃を維持する。前記条件下でエステル
化反応を完了後、上記化学式４で示される目的化合物は通常の精製方法で回収さ
れる。例えば、上記における反応混合物を水で洗浄して減圧下で分別蒸留するか
、または洗浄プロセスを省き減圧下で分別蒸留する。
【００２０】 さらに、化学式４で示される化合物とスルホン酸塩との反応により得られる、
上記化学式５で示される化合物を製造する方法を以下に示す。
上記化学式５で示される化合物を製造する方法を以下に示す。
【００２１】 上記化学式４で示される化合物とスルホン酸塩との反応は３０〜９０℃、望ま
しくは４０〜６０℃で行われる。チオスルホン酸塩［Ｍ２（Ｓ２Ｏ３）］は、上
記化学式４で示される化合物に対して１．０〜２．０当量のモル比、望ましくは
１．０〜１．２当量のモル比にて加えられる。さらに、この様に生成されたｏ−
（カルボアルコキシ）フェニルメタンチオスルホン酸塩の塩素化反応により製造
され、上記化学式１で示される最終目的化合物としての、塩化ｏ−（カルボアル
コキシ）フェニルメタンチオスルホニル誘導体の製造方法を以下に示す。
しくは４０〜６０℃で行われる。チオスルホン酸塩［Ｍ２（Ｓ２Ｏ３）］は、上
記化学式４で示される化合物に対して１．０〜２．０当量のモル比、望ましくは
１．０〜１．２当量のモル比にて加えられる。さらに、この様に生成されたｏ−
（カルボアルコキシ）フェニルメタンチオスルホン酸塩の塩素化反応により製造
され、上記化学式１で示される最終目的化合物としての、塩化ｏ−（カルボアル
コキシ）フェニルメタンチオスルホニル誘導体の製造方法を以下に示す。
【００２２】 上記塩素化反応は、塩素ガス（Ｃｌ２）或いは塩素化試薬を用いる通常の塩素
化方法により０〜２０℃で実施するが、特に望ましくは塩素ガス（Ｃｌ２）を用
いて５〜１０℃で実施する。
化方法により０〜２０℃で実施するが、特に望ましくは塩素ガス（Ｃｌ２）を用
いて５〜１０℃で実施する。
【００２３】 この塩素の量は、３当量のモル比或いはそれ以上とする。また、塩素化におけ
る溶媒として水或いは酢酸を用いることが望ましく、水と酢酸を併用しても良い
。
る溶媒として水或いは酢酸を用いることが望ましく、水と酢酸を併用しても良い
。
【００２４】 上記塩素化反応の終了後、残留塩素ガスを除去し、反応溶液を希釈するために
反応器に水を添加する。固体生成物をろ取し、上記化学式１で示される目的化合
物を得る。
反応器に水を添加する。固体生成物をろ取し、上記化学式１で示される目的化合
物を得る。
【００２５】 本発明につき、以下実施例に基づいてより詳細に説明するが、本発明がこれら
実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例では、幾つかの特定の化
合物について製造方法を記載するが、本発明に含まれる誘導体は、以下の実施例
に基づいて当技術分野の熟練者により合成が可能である。
実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例では、幾つかの特定の化
合物について製造方法を記載するが、本発明に含まれる誘導体は、以下の実施例
に基づいて当技術分野の熟練者により合成が可能である。
【００２６】 （実施例１）：塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルの合成 温度計と冷却器とが装着された５００ｍｌの二口フラスコに、１３４ｇのフタ
リド（１モル）、９５ｍｌのＳＯＣｌ２（１．３モル）、２．５ｍｌのＢＦ３Ｅ
ｔ２Ｏ（０．０２モル）および４．５ｇの塩化ベンジルトリエチルアンモニウム
（０．０２モル）との混合物を入れ、反応器内温度を９５〜１００℃で維持しな
がら、１５時間にわたって撹拌した。反応終了後、分別蒸留器を装着した反応器
により減圧下、分別蒸留して目的とする化合物１８０ｇ（収率：９５％）を得た
。 沸点：７５〜８０℃（１ｍｍＨｇ）
リド（１モル）、９５ｍｌのＳＯＣｌ２（１．３モル）、２．５ｍｌのＢＦ３Ｅ
ｔ２Ｏ（０．０２モル）および４．５ｇの塩化ベンジルトリエチルアンモニウム
（０．０２モル）との混合物を入れ、反応器内温度を９５〜１００℃で維持しな
がら、１５時間にわたって撹拌した。反応終了後、分別蒸留器を装着した反応器
により減圧下、分別蒸留して目的とする化合物１８０ｇ（収率：９５％）を得た
。 沸点：７５〜８０℃（１ｍｍＨｇ）
【００２７】 （実施例２）：塩化４−クロロブチリルの合成 １０ｇのγ−ブチロラクトンを入れた反応器に１１．４２ｍｌのＳＯＣｌ２、
０．２９ｍｌのＢＦ３Ｅｔ２Ｏおよび０．０５ｇの塩化ベンジルトリエチルアン
モニウムを添加した。反応器の内部温度を９０〜９５℃で維持しながら、４時間
にわたって撹拌した。反応終了後、分別蒸留器を装着した反応器により減圧下、
分別蒸留して目的とする化合物１１．６ｇ（収率：７０％）を得た。 沸点：１７３〜１７４℃（７６０ｍｍＨｇ）
０．２９ｍｌのＢＦ３Ｅｔ２Ｏおよび０．０５ｇの塩化ベンジルトリエチルアン
モニウムを添加した。反応器の内部温度を９０〜９５℃で維持しながら、４時間
にわたって撹拌した。反応終了後、分別蒸留器を装着した反応器により減圧下、
分別蒸留して目的とする化合物１１．６ｇ（収率：７０％）を得た。 沸点：１７３〜１７４℃（７６０ｍｍＨｇ）
【００２８】 （実施例３）：ｏ−（クロロメチル）安息香酸メチルエステルの合成 温度計、冷却器及び滴下漏斗を装着した５００ｍｌの二口フラスコに、１８０
ｇの塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルをとり、反応器の内部温度を４０〜５
０℃で維持しながら、５０ｍｌのメタノールを滴加した。全量のメタノールを滴
加後、反応器の内部温度を４０〜５０℃で維持しながら、この混合物を１０時間
にわたって撹拌した。反応終了後、分別蒸留器を装着して減圧下、分別蒸留して
目的とする油状化合物１６５ｇ（収率：９４％）を得た。 沸点：７７〜８０℃（１ｍｍＨｇ）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．９（ｓ、３Ｈ）、５．０２（ｓ、２Ｈ）、
７．３１〜７．５６（ｍ、３Ｈ）、７．９６（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）
ｇの塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルをとり、反応器の内部温度を４０〜５
０℃で維持しながら、５０ｍｌのメタノールを滴加した。全量のメタノールを滴
加後、反応器の内部温度を４０〜５０℃で維持しながら、この混合物を１０時間
にわたって撹拌した。反応終了後、分別蒸留器を装着して減圧下、分別蒸留して
目的とする油状化合物１６５ｇ（収率：９４％）を得た。 沸点：７７〜８０℃（１ｍｍＨｇ）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．９（ｓ、３Ｈ）、５．０２（ｓ、２Ｈ）、
７．３１〜７．５６（ｍ、３Ｈ）、７．９６（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）
【００２９】 （実施例４）：ｏ−（クロロメチル）安息香酸メチルエステルの合成 温度計、冷却器及び滴下漏斗を装着した５００ｍｌの二口フラスコに、１００
０ｍｌの塩化メチレンに溶解した１８０ｇの塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイ
ルをとり、この反応器の内部温度を０℃に維持しながら、（１３８ｍｌの）トリ
エチルアミンを加え、次に５０ｍｌのメタノールを滴加した。全量のメタノール
を滴加後、反応器の内部温度を２０〜３０℃で維持しながら、反応混合物を１０
時間にわたって撹拌した。 上記反応混合物を、５％塩酸溶液（３００ｍｌ）を用いて酸性とし、有機層を
分離して硫酸マグネシウムで乾燥ろ過し、濃縮した。このようにして得た残留物
を減圧下、分別蒸留して目的とする油状化合物１５５ｇ（収率：８９％）を得た
。
０ｍｌの塩化メチレンに溶解した１８０ｇの塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイ
ルをとり、この反応器の内部温度を０℃に維持しながら、（１３８ｍｌの）トリ
エチルアミンを加え、次に５０ｍｌのメタノールを滴加した。全量のメタノール
を滴加後、反応器の内部温度を２０〜３０℃で維持しながら、反応混合物を１０
時間にわたって撹拌した。 上記反応混合物を、５％塩酸溶液（３００ｍｌ）を用いて酸性とし、有機層を
分離して硫酸マグネシウムで乾燥ろ過し、濃縮した。このようにして得た残留物
を減圧下、分別蒸留して目的とする油状化合物１５５ｇ（収率：８９％）を得た
。
【００３０】 （実施例５）：ｏ−（クロロメチル）安息香酸エチルエステルの合成 温度計、冷却器及び滴下漏斗を装着した５００ｍｌの二口フラスコに、１８０
ｇの塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルを加え、次にこの反応器の内部温度を
４０〜５０℃で維持しながら、６０ｍｌのエタノールを滴加した。全量のエタノ
ールを滴加後、反応器の内部温度を４０〜５０℃で維持しながら、この反応混合
物を１０時間にわたって撹拌した。蒸留器を装着した後、直ちにこの残留物につ
き、減圧下、分別蒸留して目的とする油状化合物１７９ｇ（収率：９０％）を得
た。 沸点：７９〜８２℃（１．１ｍｍＨｇ）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．４（ｔ、３Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、４．３８（
ｑ、２Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、５．０２（ｓ、２Ｈ）、７．３２〜７．５５（ｍ、３
Ｈ）、７．９６（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）
ｇの塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルを加え、次にこの反応器の内部温度を
４０〜５０℃で維持しながら、６０ｍｌのエタノールを滴加した。全量のエタノ
ールを滴加後、反応器の内部温度を４０〜５０℃で維持しながら、この反応混合
物を１０時間にわたって撹拌した。蒸留器を装着した後、直ちにこの残留物につ
き、減圧下、分別蒸留して目的とする油状化合物１７９ｇ（収率：９０％）を得
た。 沸点：７９〜８２℃（１．１ｍｍＨｇ）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．４（ｔ、３Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、４．３８（
ｑ、２Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、５．０２（ｓ、２Ｈ）、７．３２〜７．５５（ｍ、３
Ｈ）、７．９６（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）
【００３１】 （実施例６）：ｏ−（クロロメチル）安息香酸２−クロロエチルエステルの合成 温度計、冷却器及び滴下漏斗を装着した５００ｍｌの二口フラスコに、１８０
ｇの塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルを加え、次にこの反応器の内部温度を
４０〜５０℃で維持しながら、５０ｍｌの２−クロロエタノールを滴加した。全
量の２−クロロエタノールを滴加後、反応器の内部温度を４０〜５０℃で維持し
ながら、反応混合液を１０時間にわたって撹拌した。この残留物を、分別蒸留器
を装着した反応器により減圧下、分別蒸留して目的とする油状化合物１６５ｇ（
収率：９４％）を得た。 沸点：８８〜９２℃（１．１ｍｍＨｇ）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．８３（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、４．
５９（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、５．０２（ｓ、２Ｈ）、７．３６〜７．５
８（ｍ、３Ｈ）、８．０１（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）
ｇの塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルを加え、次にこの反応器の内部温度を
４０〜５０℃で維持しながら、５０ｍｌの２−クロロエタノールを滴加した。全
量の２−クロロエタノールを滴加後、反応器の内部温度を４０〜５０℃で維持し
ながら、反応混合液を１０時間にわたって撹拌した。この残留物を、分別蒸留器
を装着した反応器により減圧下、分別蒸留して目的とする油状化合物１６５ｇ（
収率：９４％）を得た。 沸点：８８〜９２℃（１．１ｍｍＨｇ）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．８３（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、４．
５９（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、５．０２（ｓ、２Ｈ）、７．３６〜７．５
８（ｍ、３Ｈ）、８．０１（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）
【００３２】 （実施例７）：塩化ｏ−（カルボメトキシ）フェニルメタンスルホニルの合成 ２０ｇのｏ−（クロロメチル）安息香酸メチルエステルに、５０ｍｌの水と、
２９．５ｇのチオ硫酸ナトリウム・５水和物との混合物を加えて５０〜５５℃で
５時間にわたって撹拌した。３００ｍｌの酢酸を添加し、次に反応器の内部温度
を５〜１０℃で維持しながら、過量の塩素ガスを３時間にわたって吹き入れた。
この反応混合物を同一温度で、さらに１時間撹拌した。（３００ｍｌの）氷冷水
を加えて３０分間撹拌しながら窒素ガスを吹き込むことにより過量の塩素ガスを
除去した。生成した固体を冷水と共にろ過し、乾燥して白色の固体として目的と
する化合物２２．４ｇ（収率：８３％）を得た。 融点：８５〜８６℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．９５（ｓ、３Ｈ）、５．６７（ｓ、２Ｈ）
、７．５１〜７．６８（ｍ、３Ｈ）、８．０７〜８．１６（ｍ、１Ｈ）
２９．５ｇのチオ硫酸ナトリウム・５水和物との混合物を加えて５０〜５５℃で
５時間にわたって撹拌した。３００ｍｌの酢酸を添加し、次に反応器の内部温度
を５〜１０℃で維持しながら、過量の塩素ガスを３時間にわたって吹き入れた。
この反応混合物を同一温度で、さらに１時間撹拌した。（３００ｍｌの）氷冷水
を加えて３０分間撹拌しながら窒素ガスを吹き込むことにより過量の塩素ガスを
除去した。生成した固体を冷水と共にろ過し、乾燥して白色の固体として目的と
する化合物２２．４ｇ（収率：８３％）を得た。 融点：８５〜８６℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．９５（ｓ、３Ｈ）、５．６７（ｓ、２Ｈ）
、７．５１〜７．６８（ｍ、３Ｈ）、８．０７〜８．１６（ｍ、１Ｈ）
【００３３】 （実施例８）：塩化ｏ−（２−エトキシカルボニル）フェニルメタンスルホニル
の合成 ｏ−（クロロメチル）安息香酸メチルエステルの代わりに２０ｇのｏ−（クロ
ロメチル）安息香酸エチルエステルを用いたことを除き、上記実施例７と同様の
方法により実施して、白色の固体として、目的とする化合物２１．５ｇ（収率：
８１％）を得た。 融点：６３〜６４℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．４（ｔ、３Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、４．４（ｑ
、２Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、５．６６（ｓ、２Ｈ）、７．５１〜７．６８（ｍ、３Ｈ
）、８．０７〜８．１５（ｍ、１Ｈ）
の合成 ｏ−（クロロメチル）安息香酸メチルエステルの代わりに２０ｇのｏ−（クロ
ロメチル）安息香酸エチルエステルを用いたことを除き、上記実施例７と同様の
方法により実施して、白色の固体として、目的とする化合物２１．５ｇ（収率：
８１％）を得た。 融点：６３〜６４℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．４（ｔ、３Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、４．４（ｑ
、２Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、５．６６（ｓ、２Ｈ）、７．５１〜７．６８（ｍ、３Ｈ
）、８．０７〜８．１５（ｍ、１Ｈ）
【００３４】 （実施例９）：塩化ｏ−（２−クロロエトキシカルボニル）フェニルメタンスル
ホニルの合成 ｏ−（クロロメチル）安息香酸エチルエステルの代わりに２０ｇのｏ−（クロ
ロメチル）安息香酸２―クロロエチルエステルを用いたことを除き、上記実施例
８と同様の方法により実施して、白色の固体として目的とする化合物２０．５ｇ
（収率：８０％）を得た。 融点：６６〜６７℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．８３（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、４．
５９（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、５．４（ｓ、２Ｈ）、７．５２〜７．６８
（ｍ、３Ｈ）、８．１５（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）
ホニルの合成 ｏ−（クロロメチル）安息香酸エチルエステルの代わりに２０ｇのｏ−（クロ
ロメチル）安息香酸２―クロロエチルエステルを用いたことを除き、上記実施例
８と同様の方法により実施して、白色の固体として目的とする化合物２０．５ｇ
（収率：８０％）を得た。 融点：６６〜６７℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ３．８３（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、４．
５９（ｔ、２Ｈ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、５．４（ｓ、２Ｈ）、７．５２〜７．６８
（ｍ、３Ｈ）、８．１５（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 １９９７／５０２８４ (32)優先日 平成９年９月30日(1997．9．30) (33)優先権主張国 韓国（ＫＲ） (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＣＮ，ＪＰ，Ｕ Ｓ (72)発明者 ク ドン ワン 大韓民国、305−333、デジョン、ユソン− ク、オウン−ドン、99、ハンビットアパー ト 128−604 (72)発明者 ザン ヘ ソン 大韓民国、305−333、デジョン、ユソン− ク、オウン−ドン、99、ハンビットアパー ト 105−201 (72)発明者 リュ ジェ ウク 大韓民国、305−333、デジョン、ユソン− ク、オウン−ドン、99、ハンビットアパー ト 120−305 (72)発明者 ウ ジェ チョン 大韓民国、302−162、デジョン、ソ−ク、 ドマ−２ドン、205、キョンナムアパート １−406 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC30 AC48 AC61 BA06 BA09 BA10 BA11 BA19 BA37 BA51 BA67 BB14 BC10 BE51 BE53 BE56 BE63 TB57 4H039 CA52
Claims (12)
- 【請求項１】 塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘
導体を製造する方法において、 ａ）次の化学式２で示されるラクトン化合物を、ルイス酸と４級アンモニウム
塩触媒の存在下で塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）と反応させて次の化学式３で示さ
れる塩化ｏ−（クロロメチル）ベンゾイルを製造する工程と、 ｂ）前記化学式３で示される化合物を、反応物質及び溶媒として用いられるア
ルコール化合物中においてエステル化させて次の化学式４で示されるｏ−（クロ
ロメチル）安息香酸エステル誘導体を製造する工程と、 ｃ）前記化学式４で示される化合物を、チオスルホン酸塩と反応させて次の化
学式５で示されるｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンチオスルホン酸塩を
製造する工程と、 ｄ）前記化学式５で示される化合物を塩素化させて次の化学式１で示される塩
化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体を製造する工程と
からなることを特徴とする塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホ
ニル誘導体の製造方法。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 上記化学式において、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、１〜６の炭素原子を有す
るアルキル基、１〜６の炭素原子を有するハロアルキル基、１〜６の炭素原子を
有するアルコキシ基、１〜６の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、ニト
ロ基、フェニル基を示し、Ｒは１〜６の炭素原子を有するアルキル基、１〜６の
炭素原子を有するハロアルキル基、３〜６の炭素原子を有するシクロアルキル基
を示し、ｎは置換基の数を示し１〜４の整数である。 - 【請求項２】 前記ａ）の工程は、９０〜１００℃の条件下で行われること
を特徴とする請求項１記載の塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスル
ホニル誘導体の製造方法。 - 【請求項３】 前記ａ）の工程は、前記溶媒の存在下で或いは不在下で行わ
れることを特徴とする請求項１或いは２記載の塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フ
ェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法。 - 【請求項４】 前記ルイス酸触媒は、ＭｇＣｌ２、ＭｇＢｒ２、ＳｎＣｌ２ 、ＳｎＣｌ４、ＴｉＣｌ４、ＡｌＣｌ３、ＦｅＣｌ３、ＢＦ３Ｅｔ２Ｏ、ＢＣｌ ３ 、Ｂ（ＯＥｔ）３、Ｂ（ＯＭｅ）３、Ｂ（Ｏ−ｉＰｒ）３の中から選ばれたこ
とを特徴とする請求項１記載の塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンス
ルホニル誘導体の製造方法。 - 【請求項５】 前記ルイス酸触媒は、ＢＦ３Ｅｔ２Ｏ、Ｂ（ＯＥｔ）３、Ｂ
（ＯＭｅ）３、Ｂ（Ｏ−ｉＰｒ）３の中から選ばれたことを特徴とする請求項１
或いは４記載の塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体
の製造方法。 - 【請求項６】 前記４級アンモニウム塩触媒は、テトラメチルアンモニウム
、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリメチル
アンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、ベンジルトリブチルアンモニ
ウムの中から選ばれたことを特徴とする請求項１記載の塩化ｏ−（カルボアルコ
キシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法。 - 【請求項７】 前記ｂ）の工程における前記アルコール化合物は、メタノー
ルであることを特徴とする請求項１記載の塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニ
ルメタンスルホニル誘導体の製造方法。 - 【請求項８】 前記ｂ）の工程における前記エステル化反応は、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、ピリジンの中から選ばれ
た前記塩基の存在下で行われることを特徴とする請求項１記載の塩化ｏ−（カル
ボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法。 - 【請求項９】 前記ｃ）の工程における前記チオスルホン酸塩は、Ｍ２（Ｓ ２ Ｏ３）［Ｍはアルカリ金属］で示される化合物であることを特徴とする請求項
１記載の塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造
方法。 - 【請求項１０】 前記ｄ）の工程における前記塩素化の反応は、水、酢酸或
いはこれらの混合物の存在下で行われることを特徴とする請求項１記載の塩化ｏ
−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法。 - 【請求項１１】 前記ｄ）の工程における前記塩素化の反応は、０〜２０℃
の条件下で行われることを特徴とする請求項１或いは１０記載の塩化ｏ−（カル
ボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法。 - 【請求項１２】 前記ｄ）の工程における前記塩素化の反応試薬は、塩素ガ
ス（Ｃｌ２）であることを特徴とする請求項１、１０或いは１１記載の塩化ｏ−
（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法。
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970050284A KR100252462B1 (ko) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | ο-(클로로메틸)벤조산에스테르유도체의제조방법 |
| KR1019970050282A KR100245015B1 (ko) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | ο-(카르보알콕시)페닐메탄술포닐 클로라이드 유도체의 제조방법 |
| KR1997/50282 | 1997-09-30 | ||
| KR1997/50284 | 1997-09-30 | ||
| KR1019970050283A KR100252461B1 (ko) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | 락톤화합물로부터염소가치환된카르복실산클로라이드화합물의제조방법 |
| KR1997/50283 | 1997-09-30 | ||
| PCT/KR1998/000302 WO1999016743A1 (en) | 1997-09-30 | 1998-09-30 | A PROCESS FOR PREPARING o-(CARBOALKOXY) PHENYLMETHANESULFONYL CHLORIDE DERIVATIVES |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001518460A true JP2001518460A (ja) | 2001-10-16 |
| JP3433319B2 JP3433319B2 (ja) | 2003-08-04 |
Family
ID=27349610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000513829A Expired - Fee Related JP3433319B2 (ja) | 1997-09-30 | 1998-09-30 | 塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6222060B1 (ja) |
| JP (1) | JP3433319B2 (ja) |
| CN (1) | CN1120149C (ja) |
| WO (1) | WO1999016743A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE50016027D1 (de) * | 1999-12-06 | 2010-12-23 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von o-chlormethylbenzoesäurechloriden |
| DE19958758A1 (de) * | 1999-12-07 | 2001-07-05 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von o-Chlormethylbenzoesäurechloriden |
| DE50006775D1 (de) | 1999-12-07 | 2004-07-15 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von o-chlormethylbenzoesäurechloriden |
| DE50005355D1 (de) | 1999-12-07 | 2004-03-25 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von o-chlormethylbenzoesäurechloriden |
| DE10010594A1 (de) * | 2000-03-03 | 2001-09-06 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Chlorcarbonsäurechloriden |
| CA2519629A1 (en) | 2003-03-21 | 2004-09-30 | H. Lundbeck A/S | Intermediates for the preparation of citalopram and escitalopram |
| ES2399453T3 (es) | 2006-08-21 | 2013-04-01 | Sumitomo Chemical Company Limited | Método para producir éster metílico del ácido 2-(4-toxicarbonilmetilfenoximetil)benzoico |
| CN101516865B (zh) * | 2006-10-02 | 2013-01-23 | 住友化学株式会社 | 氧代二苯并氧杂*乙酸的叔烷基酯 |
| JP2013028559A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | Nippon Light Metal Co Ltd | ３−クロロ−４−メチル安息香酸イソプロピル及びその製造方法 |
| CN111978226B (zh) | 2018-06-05 | 2022-03-04 | 沈阳化工大学 | 一种三氟乙基硫醚（亚砜）取代苯类化合物及其用途 |
| CN111606829B (zh) * | 2020-07-07 | 2022-07-08 | 淄博腾煜化工工程有限公司 | 邻甲酸甲酯苄基磺酰胺的生产方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2667503A (en) * | 1951-07-27 | 1954-01-26 | Maumee Dev Company | Method of preparing ortho sulfonyl chloride benzoic acid esters |
| US2778852A (en) | 1952-07-12 | 1957-01-22 | Basf Ag | Production of chlorocarboxylic acid chlorides |
| US2888486A (en) * | 1953-11-20 | 1959-05-26 | Du Pont | Process for producing aromatic sulfonyl halides |
| US4042600A (en) * | 1972-10-17 | 1977-08-16 | Scott Paper Company | Pyrolysis of 2-sulfochloride benzoates |
| FR2432508A1 (fr) * | 1977-10-14 | 1980-02-29 | Elf Union | Procede pour l'obtention d'alkylthiosulfates et d'alkylidenethiosulfates |
| DE3107700A1 (de) * | 1981-02-28 | 1982-09-16 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von aromatischen sulfohalogeniden |
| US4420325A (en) * | 1981-09-29 | 1983-12-13 | E. I. Du Pont De Nemours & Company | Herbicidal sulfonamides |
| IT1191653B (it) * | 1986-01-24 | 1988-03-23 | Consiglio Nazionale Ricerche | Procedimento per la preparazione di alcansolfonil cloruri ed arilalcansolfonil cloruri |
| DE3624258A1 (de) | 1986-07-18 | 1988-01-21 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von chlorcarbonsaeurechloriden |
| US4689425A (en) | 1986-11-06 | 1987-08-25 | Stauffer Chemical Company | Photochlorination of aromatic compounds in the side chain |
| DE3927146A1 (de) | 1989-08-17 | 1991-02-21 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von chlorcarbonsaeurechloriden |
| DE4412316A1 (de) * | 1994-04-11 | 1995-10-12 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von o-Chlormethylbenzoesäurechloriden |
-
1998
- 1998-09-30 JP JP2000513829A patent/JP3433319B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-09-30 WO PCT/KR1998/000302 patent/WO1999016743A1/en active Application Filing
- 1998-09-30 CN CN98809695A patent/CN1120149C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-28 US US09/509,440 patent/US6222060B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1272839A (zh) | 2000-11-08 |
| WO1999016743A1 (en) | 1999-04-08 |
| CN1120149C (zh) | 2003-09-03 |
| JP3433319B2 (ja) | 2003-08-04 |
| US6222060B1 (en) | 2001-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001518460A (ja) | 塩化ｏ−（カルボアルコキシ）フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法 | |
| JP3679438B2 (ja) | スルホニウム化合物の製造方法 | |
| JP2003335735A (ja) | パーフルオロイソプロピルアニリン類の製造方法 | |
| EP0349217A2 (en) | Novel process for the preparation of bronopol | |
| JP2773587B2 (ja) | Ｏ，ｏ´−ジアシル酒石酸無水物の製造法 | |
| EP0659735B1 (en) | Process for producing aniline derivative | |
| JP3091022B2 (ja) | グルタル酸誘導体の製造方法 | |
| US6680388B2 (en) | Method for preparing substituted 5-amino-N-phenyl-1,2,4-triazole-3-sulfonamides | |
| JP3499595B2 (ja) | ２−シアノイミダゾール系化合物の製造方法 | |
| US5633387A (en) | Process for producing 1-(2-chlorophenyl)-5(4H)-tetrazolinone | |
| JPH0616615A (ja) | 含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法 | |
| JP2002179612A (ja) | ２，３−ジブロモ琥珀酸類の製造方法 | |
| KR20080007621A (ko) | 아세트산(4―메르캅토페닐)에스테르 및 그 제조 방법 | |
| JP4086093B2 (ja) | ４−トランス置換−シクロヘキシルアミン誘導体の製造方法 | |
| JP2706554B2 (ja) | ４―トリフルオロメチルアニリン誘導体及びその製造法 | |
| JP3257779B2 (ja) | タートラニル酸類の製造法 | |
| JP2520298B2 (ja) | チオフェンジカルボン酸ジエステルの製造方法 | |
| JP2773627B2 (ja) | Ｏ，ｏ´−ジアシル酒石酸無水物の製造法 | |
| JP4368494B2 (ja) | カルボン酸３級アルキルエステルの製造方法 | |
| KR100252462B1 (ko) | ο-(클로로메틸)벤조산에스테르유도체의제조방법 | |
| JP4081588B2 (ja) | Ｎ−トリアルキルメチルカルボニル−２−アルキル−３，４−ジフルオロアニリンの製造方法 | |
| JP4273913B2 (ja) | スルホン酸ハロゲン化合物の製造方法 | |
| KR100191151B1 (ko) | 2-술포닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법 | |
| KR100348100B1 (ko) | 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산의제조방법 | |
| EP0082523A2 (en) | Intermediates for the preparation of 4-phenyl-1,3-benzodiazepins and methods for preparing the intermediates |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |