JP2001137659A5

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Publication number: JP2001137659A5
Application number: JP1999328411A
Authority: JP
Filing date: 1999-11-18
Publication date: 2004-10-28
Anticipated expiration: 2019-11-18

Description

【００１２】
図１に、本発明の排ガス処理装置のフローの概略図を示す。
図１において、１は固形物処理装置、２はγ−アルミナ充填層、３は加熱分解装置、４は洗浄水循環ポンプ、５は酸性ガス処理装置、６はＦＴ−ＩＲ分析装置、７は空気エジェクター、８はバイパスバルブである。
ＰＦＣ、酸化性ガス、酸性ガス、ＣＯを含んだ排ガス９は、先ずスプレー塔である固形物処理装置１に通ガスし、ここで固形物やＳｉ化合物を除去する。その後、γ−アルミナ２を充填した加熱分解装置３に通ガスし、Ｈ_２、Ｏ_２、Ｈ_２Ｏを導入して、ここでＰＦＣ、酸化性ガス、ＣＯを酸性ガスとＣＯ_２に分解する。さらに、後段のスプレー塔である酸性ガス処理装置５で酸性ガスを除去し、処理ガス１０を排出する。
また、これらの処理装置内の圧力を調整するために、空気エジェクター７を設け、処理ガスの管理のためＦＴ−ＩＲ分析装置６を組み込んだ装置とする。
スプレー塔に用いる水は、酸性ガス処理装置５のスプレー塔に水１１を導入して用い、この使用済の水を洗浄水循環ポンプ４により、固形物処理装置１のスプレーに用いた後に、排水１２として排出される。

【００１３】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。
実施例１
径２５ｍｍの石英製カラムを用い、これに層高１００ｍｍとなるようにγ−アルミナを充填した。γ−アルミナは水澤化学製の市販品を用い（ネオビードＧＢ−０８）、粒径は０．８ｍｍとした。これをセラミック電気管状炉に装着し、処理剤層を８００℃に加熱した。
ここにＮ_２ガスで希釈したＣＦ_４の他に、添加ガスとしてＨ_２やＯ_２を、それぞれ、ＣＦ_４のＦ原子量に対してＨ原子量が等原子比以上となるＨ_２量とし、Ｏ_２は導入するＨ_２量の等モル以上になるようにこれらの総ガス流量４０８ｓｃｃｍで、流入濃度はそれぞれＣＦ_４１％、Ｈ_２３．０％、Ｏ_２５．７％に調製した。
処理性能をみるため、出口ガスを適宜分析し、ＣＦ_４の除去率が９８％以下に下がった時点で通ガスを停止し、それまでの通ガス量からＣＦ_４の処理量を求めた。ＣＦ_４等の分析は、質量検出器付ガスクロマトグラフ装置によった。
その結果、通ガスを開始して９２０ｍｉｎ後に、除去率が９８％に下がり、この時点でのＣＦ_４の通ガス量から処理量を求めると７７Ｌ／Ｌとなった。この間のＣＯの排出濃度は、常時許容濃度（２５ｐｐｍ）以下であった。

【００２１】
実施例4
固形物処理装置として水洗浄塔（２１０ｍｍφ×４３０ｍｍ^h／ラシヒリング充填高さ１７０ｍｍ）を用い、加熱分解装置として予熱室と充填室を設け、酸性ガス処理装置として前と同じ水洗浄塔を使用した。酸性ガス処理装置の出口ガスをモニターするため、ＦＴ−ＩＲ分析装置（ＭＡＴＴＳＯＮ製Ｉｎｆｉｎｉｔｙ６０００）を設置し、装置内の圧力を調整するため空気エジェクター(大東製作所製空気エゼクター)を備えた。固形物処理装置や酸性ガス処理装置に洗浄水をそれぞれ２Ｌ／ｍｉｎ、４Ｌ／ｍｉｎ通水した。加熱分解装置に空気１０Ｌ／ｍｉｎと純水２．４ｍｌ／ｍｉｎを導入した。これの充填室にγ−アルミナ(水澤化学製／ネオビードＧＢ−０８)を１５Ｌ入れた。

【００２２】
ＦＴ−ＩＲ分析装置の前段に排ガス中の水分を除去するためのガスドライアー（ＰＥＲＭＡＰＵＲＥ製ＭＤ−７０−７２Ｐ）を加えた。空気エジェクターに空気３０Ｌ／ｍｉｎを導入し、装置内の圧力を−０．５ＫＰａの負圧に保った。総流量６０Ｌ／ｍｉｎでＮ_２べースにＣＦ_４、ＳｉＦ_４、Ｆ_２、ＣＯがそれぞれ０．５％、０．３％、０．３％、０．３％の濃度になる様に調製した。これを固形物処理装置に通した後に、水とＯ_２を加えながら触媒層を７００℃に加温した加熱分解装置に通した。さらに酸性ガス処理装置に通ガスし、処理後のガスをＦＴ−ＩＲで連続的に測定した。その結果、１０時間通ガスした時点で、ＣＯ_２のみ６９００ｐｐｍ検出され、ＣＦ_４、ＳｉＦ_４、ＨＦ、ＣＯはすべて１ｐｐｍ以下に処理されていた。Ｆ_２は別にイオンクロマトグラフで分析したが、不検出であった。

【００２３】
実施例５
実施例４と同じ処理装置や処理条件の下で、ＣＦ_４の替わりにＣ_２Ｆ_６を導入し、総流量６０Ｌ／ｍｉｎでＮ_２べースにＣ_２Ｆ_６、ＳｉＦ_４、Ｆ_２、ＣＯがそれぞれ０．５％、０．３％、０．３％、０．３％の濃度になる様に調製した。これを同処理装置に通ガスし、酸性ガス処理装置の処理ガスをＦＴ−ＩＲで連続的に測定した。その結果として、１０時間通ガスしたところで、ＣＯ_２のみ１１０００ｐｐｍ検出され、Ｃ_２Ｆ_６、ＳｉＦ_４、ＨＦ、ＣＯはすべて１ｐｐｍ以下に処理できていた。Ｆ_２は同様にイオンクロマトグラフで分析したが検出されなかった。