JP3889932B2 - フッ素含有化合物及びcoを含むガスの処理方法及び装置 - Google Patents
フッ素含有化合物及びcoを含むガスの処理方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3889932B2 JP3889932B2 JP2001026750A JP2001026750A JP3889932B2 JP 3889932 B2 JP3889932 B2 JP 3889932B2 JP 2001026750 A JP2001026750 A JP 2001026750A JP 2001026750 A JP2001026750 A JP 2001026750A JP 3889932 B2 JP3889932 B2 JP 3889932B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- alumina
- heating
- fluorine
- containing compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims description 39
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims description 39
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 67
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 63
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 59
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 claims description 16
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 10
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 3
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 116
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 6
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 6
- -1 CHF 3 Chemical class 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011278 co-treatment Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/864—Removing carbon monoxide or hydrocarbons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2251/00—Reactants
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2251/00—Reactants
- B01D2251/10—Oxidants
- B01D2251/102—Oxygen
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
- B01D2257/202—Single element halogens
- B01D2257/2027—Fluorine
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/50—Carbon oxides
- B01D2257/502—Carbon monoxide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フッ素含有化合物及びCOを含むガスの処理方法に関し、特に、半導体工業で、半導体製造装置の内面等をドライクリーニングする工程や、酸化膜等の各種成膜をエッチングする工程などで排出されるフッ素含有化合物及びCOを含む排ガスを効率よく処理する方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体工業においては、半導体製造工程中に多種類の有害ガスが使用されており、環境中への排気による環境汚染が懸念される。特に、半導体工業におけるエッチング工程やCVD工程などにおいては、CHF3などのフッ化炭化水素や、CF4、C2F6、C3F8、C4F8、C5F8、SF6、NF3などのパーフルオロ化合物(以下、「PFC」と略す)などのフッ素含有化合物が用いられており、これらのプロセスからの排ガス中に含まれるフッ素含有化合物は、地球温暖化ガスとしてその除去システムの確立が急務とされている。また、これらのプロセスからの排ガスには、プロセスガスとして使用されるCOが含まれている場合があり、或いは、PFCとO2との混合ガスをチャンバー内でプラズマに曝露することによって発生するCOも含まれることが多い。
【0003】
ガス中のPFCの除去方法としては、アルミナに種々の金属を含有させてなるアルミナ系触媒を用いたガス処理方法;金属としてのNa量が0.1重量%以下であるアルミナを用いたガス処理方法;アルミナの存在下で分子状酸素とガスとを接触させるガス処理方法;水蒸気の存在下で200〜800℃の温度でアルミニウムを含む触媒を用いたガス処理方法;分子状酸素と水との存在下で各種金属触媒を用いるガス処理方法;などが提案されている。さらに、本発明者らの特願2000−110668号明細書に記載されているように、特定の結晶構造(X線回折装置で測定した回折角2θのうち、33゜±1゜、37゜±1゜、40゜±1゜、46゜±1゜、67゜±1゜の5つの角度で強度100以上の回折線が出現する結晶構造)を有するγ−アルミナを触媒として用いるガス処理方法が提案されている。
【0004】
一方、ガス中のCOの除去方法としては、ホプカライト酸化触媒(CuやMnの複合酸化物、Ni酸化物など)及びO2によりCOをCO2に酸化して除去する方法がある。しかし、フッ素含有化合物とCOとを同時に処理する技術は未だ報告されていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、従来技術に従えば、ガス中のフッ素含有化合物及びCOの両方を処理するためには、CO酸化触媒を前段に配置し、γ−アルミナを後段に配置した2段階の触媒反応槽を形成し、これにガスを通して、前段でCOを酸化し、後段でフッ素含有化合物を分解するという方法を採ることが必要であるが、この場合、前段の反応槽において、ガスに含まれるフッ素含有化合物中のフッ素がCO酸化触媒に対する触媒毒となって、COの酸化力を著しく低下させてしまい、短時間でCOがTLV−TWA値(Threshold Limit Value-Time Weighted Average Concentration:時間荷重平均許容濃度)の25ppm以下に処理できなくなる、という問題がある。
【0006】
更に、従来技術に従ってフッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理するためには、各々別個の触媒で処理しなければならず、個別の触媒を充填する加熱容器を必要とし、加熱容器ごとに処理温度を制御しなければならず、装置を設置するための広いスペースが必要となり、温度制御が煩雑になる、という問題がある。また、触媒ごとに寿命が異なるため、触媒の交換周期も異なり、触媒管理が煩雑になる、という問題もある。さらに、触媒の定期的な交換に要する費用などのランニングコストが高くなる、という問題もある。
【0007】
そこで、本発明の目的は、上述のような従来技術の問題点を解消し、フッ素含有化合物及びCOを同時に且つ効率的に処理することができ、ランニングコストが廉価で、簡便な管理が可能なフッ素含有化合物及びCOを含むガスの処理方法及び処理装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
前述の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、フッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理する際に、CO処理用の触媒を用いず、ガスをまず、所定温度以上でO2及びH2Oと反応させることによってCOをCO2に酸化し、次いで、γ−アルミナを触媒として接触させてフッ素含有化合物を分解することで、上記目的を達成し得ることを見出した。
【0009】
すなわち、本発明によれば、フッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理する方法であって、上記ガスを、850℃以上の温度で、O2及びH2Oと接触させて、COをCO2に酸化させ、次いで、上記ガスを、600〜900℃に加熱されたγ−アルミナと接触させてフッ素含有化合物を分解する、各工程を含むことを特徴とするガス処理方法が提供される。
【0010】
本発明により処理することのできるフッ素含有化合物及びCOを含むガスとしては、半導体工業で半導体製造装置の内面等をドライクリーニングする工程や各種成膜をエッチングする工程で排出される排ガスなどを挙げることができる。また、上記フッ素含有化合物としては、CHF3などのフッ化炭化水素や、CF4、C2F6、C3F8、C4F8、C5F8、SF6、NF3などのパーフルオロ化合物等を挙げることができる。
【0011】
本発明において、上記ガスをO2及びH2Oと接触させる際の温度は、850℃以上、好ましくは870℃以上である。この温度が850℃よりも低いと、ガス中のCOが充分に酸化されずに残存するので好ましくない。
【0012】
本発明において、フッ素含有化合物及びCOを含むガス(以下、簡便化のために「PFC排ガス」という)を、まず上記の温度でO2及びH2Oと接触させることにより、気相中で下記式のような反応が起こって、COがCO2に酸化する。
【0013】
【化1】
【0014】
次いで、ガスをγ−アルミナ触媒と600〜900℃の温度で接触させる。これによって、ガス中のフッ素含有化合物が分解される。例えば、PFCとしてCF4を含む場合には、下記式のような反応によって、CF4がCO2とHFとに分解する。
【0015】
【化2】
【0016】
本発明において、PFC排ガスと接触させるO2及びH2Oの量は、処理しようとするPFC排ガス中のCO及びフッ素含有化合物をすべてCO2及びHFなどに分解することができるのに十分な量であることが望ましい。好ましい実施形態においては、PFC排ガスに加えるO2の量は、PFC排ガスに含まれるフッ素含有化合物中のC原子とCOのC原子がCO2になるのに必要なモル数(最小モル数)以上とするのが好ましく、より好ましくは最小モル数に1モルを加えたモル数以上の量である。また、PFC排ガスに加えるH2Oの量は、フッ素含有化合物中のF原子がHFになるのに必要なモル数(最小モル数)以上とすることが好ましく、より好ましくはフッ素含有化合物1モルに対して6倍〜20倍のモル数に相当する量である。このとき、H2Oは、気体状態で導入することが好ましく、例えば、H2Oタンクから気化器にポンプで送り、100℃以上に加熱して全量を水蒸気化させて、さらにN2などの不活性ガスで圧送するなどして導入することが好ましい。
【0017】
本発明において、PFC排ガスと接触させるγ−アルミナは、フッ素含有化合物を分解するための触媒として作用する。本発明においては、PFC排ガスとγ−アルミナとの接触は、600〜900℃、好ましくは650〜850℃、より好ましくは750℃の温度で行うことが好ましい。PFC排ガスとγ−アルミナとの接触温度が600℃未満であると、触媒としての活性が低くなり、PFCの分解率が低いので好ましくなく、逆に900℃を超えると結晶転移が起ってガラス化してしまうおそれがあるので好ましくない。好適には、γ−アルミナ触媒を加熱手段によって上記の温度に加熱する。
【0018】
本発明に用いるγ−アルミナとしては、特願2000-110668で提案されているようなX線回折装置で測定した回折角2θのうち、33゜±1゜、37゜±1゜、40゜±1゜、46゜±1゜、67゜±1゜の5つの角度で強度100以上の回折線が出現する結晶構造を有するγ−アルミナを好ましく用いることができ、フッ素含有化合物の分解性能を考慮するとNa2Oの含有量がγ−アルミナ全体量中0.02wt%以下であることが好ましい。このような結晶構造を有するγ−アルミナは、例えば、アルミナゾルを、球状アルミナヒドロゲル(Al(OH)y・nH2O)として焼成することにより得ることができる。本発明で使用されるγ−アルミナは、上記結晶構造を持つものであればその形状は特に限定されないが、取り扱い上、球状であることが好ましい。また、γ−アルミナの粒度は、処理すべきガスの通気時に、通気抵抗が上昇しない範囲であればよいが、処理すべきガス成分との接触面積を大きくするために細かい方が好ましく、0.8mm〜2.6mmの範囲が好ましい。
【0019】
また、本発明によれば、フッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理するための装置が提供される。かかる装置は、フッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理する装置であって、上記ガスを通気可能とする中空内部、上記中空内部のガスの温度を850℃以上に加熱可能な加熱手段、ガス導入口、O2導入口及びH2O導入口を備える加熱酸化槽と、上記加熱酸化槽と流体連通状態に配置されていて、γ−アルミナが充填されている触媒反応槽と、を備えることを特徴とする。
【0020】
本発明のPFC排ガス処理装置においては、加熱酸化槽と触媒反応槽とは流体連通状態に配置されていればよく、これらは一体に形成されていてもあるいは別体として形成されていてもよい。また、加熱酸化槽及び触媒反応槽の材質は、特に限定されるものではないが、高温雰囲気下で安定で、処理すべきガス成分と不活性で且つ熱伝導性に優れた材料から形成されていることが好ましく、特にステンレススチール製であることが好ましい。
【0021】
本発明のPFCガス処理装置において、加熱酸化槽の加熱手段としては、加熱酸化槽中空内部に形成される気相部を850℃以上、好ましくは870℃以上に加熱できるものであれば特に限定されるものではないが、例えばセラミック電気管状炉などのセラミックヒーターを加熱酸化槽の外部に配置することが好ましい。
【0022】
本発明のPFC排ガス処理装置の加熱酸化槽には、少なくともPFC排ガス導入口、O2導入口及びH2O導入口が設けられている。これら導入口は、加熱酸化槽頂部に設けられていることが好ましく、それぞれ、半導体製造装置からの排ガス系等のPFC排ガス発生源、O2供給源及びH2O供給源に、配管を介して連結されている。H2Oは気体状態で導入されることが好ましく、このため、好ましい実施形態においては、H2O導入口に接続されるH2O供給系は、H2O供給源であるH2O(液体)タンクと、H2Oタンクから供給される液体H2Oを気化させる気化器と、タンク及び気化器を連結する配管及び該配管に設けられた揚水ポンプと、気化されたH2Oを加熱酸化槽のH2O導入口まで圧送するN2などの不活性ガス供給源とから構成され、H2O導入口に連結されている配管にはバンドヒーター等の加熱手段が付設されている。
【0023】
また、加熱酸化槽内部には、ガス中のCOとO2及びH2Oとの接触効率を高めるための接触補助手段が設けられていることが好ましい。接触補助手段としては、加熱酸化槽中空内部に形成される気相部に乱流を生じさせることができるものであれば特に制限されず、例えば複数の板やフィンなどを加熱酸化槽内壁にらせん状又は半径方向に対向するように交互に配置した迂流板、圧損の小さい充填剤、などを好ましく挙げることができる。接触補助手段として迂流板を用いる場合には、ガス中のCOの酸化を促進するために、迂流板の表面をNi等の金属でコーティングしてもよい。
【0024】
本発明のPFC排ガス処理装置の触媒反応槽には、γ−アルミナが充填されている。触媒反応槽の容積は、γ−アルミナを充填できる容積であれば特に制限されない。触媒反応槽に充填されるγ−アルミナとしては、上述の所定結晶構造を有するγ−アルミナを好ましく用いることができる。
【0025】
また好ましい態様においては、触媒反応槽には、γ−アルミナを600〜900℃、好ましくは650〜850℃、より好ましくは750℃に加熱するための加熱手段が設けられている。この加熱手段としては、特に制限されるものではないが、加熱酸化槽に設けられている加熱手段と同じ加熱手段を用いることができ、加熱酸化槽に関して上述した加熱手段を好ましく挙げることができる。
【0026】
さらに、本発明のPFC排ガス処理装置には、必要に応じて、ガス中に含まれているかもしれない固形物を分離するための水スプレイ塔などの固形物分離装置や、本発明のPFC排ガス処理後に得られるHFなどの酸性ガスを除去するための水スプレイ塔などの酸性ガス除去装置などを組み合わせてもよい。
【0027】
【好ましい実施形態】
以下、添付図面を参照しながら、本発明のPFC排ガス処理装置をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下においては、説明を簡略にするために、フッ素含有化合物をCF4などのパーフルオロ化合物と想定して、単に「PFC」と略記して説明する。
【0028】
図1は、本発明のPFC排ガス処理装置の好ましい一実施形態を示す概略図である。本発明のPFC排ガス処理装置10は、PFC排ガスを850℃以上の温度でO2及びH2Oと接触させてガス中のCOを酸化処理する加熱酸化槽20と、酸化処理後のガスを600〜900℃の温度でγ−アルミナと接触させてガス中のPFCを分解する触媒反応槽30とを備える。加熱酸化槽20及び触媒反応槽30は、加熱酸化槽20から触媒反応槽30にPFC排ガスが流下する流体連通状態になるように、上段に加熱酸化槽20が配置され、下段に触媒反応槽30が配置されている。本実施形態においては、加熱酸化槽20及び触媒反応槽30として、同一寸法の円筒状ステンレス製ミニカラムを用いている。
【0029】
加熱酸化槽20の頂部20aには、ガス導入口21、O2導入口22及びH2O導入口23が設けられている。ガス導入口21は、配管を介して半導体製造装置の排ガス系などのPFC排ガス供給源(図示せず)に連結されている。O2導入口22は、配管を介してO2供給源(図示せず)に連結されている。H2O導入口23は、バンドヒーターが巻回されている配管24を介して気化器25に連結され、気化器25は、揚水ポンプ27が配設されている配管を介してH2O(液体)タンク26に連結されている。気化器25は、さらに、配管を介して不活性ガス(N2)供給源に連結されている。
【0030】
加熱酸化槽20は内部が中空とされていて、該中空内部には、PFC排ガス、O2及びH2Oが導入されてCOの酸化反応が進行する酸化反応領域20bが設けられている。酸化反応領域20bには、PFC排ガス中のCOとO2及びH2Oとの接触効率を高めるための接触補助手段として、複数の迂流板29が設けられている。迂流板29は、加熱酸化槽20の内部半径よりもわずかに長い寸法の板またはフィンであり、加熱酸化槽20内壁にらせん状に配置されているか又は半径方向に対向するように交互に配置されている。加熱酸化槽20の外周には、酸化反応領域20bの温度を850℃以上に加熱可能な加熱手段として、セラミック電気管状炉28が設けられている。なお、酸化反応領域の温度を測定するために、加熱酸化槽中空内部中心部に熱電対(図示せず)が設けられている。
【0031】
加熱酸化槽20の下流側には、触媒反応槽30が、加熱酸化槽20と流体連通状態に設けられている。触媒反応槽30の内部には、γ−アルミナが充填されている。γ−アルミナとしては、上述の特定の結晶構造を有するγ−アルミナを好ましく用いることができる。
【0032】
さらに、触媒反応槽30の外周には、γ−アルミナを600〜900℃に加熱可能な加熱手段として、セラミック電気管状炉32が設けることが好ましい。このセラミック電気管状炉32は、加熱酸化槽20に設けられているセラミック電気管状炉28と一体であっても別体であってもよい。なお、触媒反応槽30内部の温度を測定するために、触媒反応槽30内部に熱電対(図示せず)が設けられている。
【0033】
【実施例】
以下、実施例に基づいて、本発明をより具体的に説明する。
実施例1
無触媒でのガス中のCOの処理特性として、加熱酸化槽の気相部の温度とCO除去率との関係を観察した。
【0034】
加熱酸化槽として、セラミック電気管状炉に装着した内径27mm、高さ500mmのステンレス製ミニカラムを用いた。加熱酸化槽中空内部の気相部の温度を測定するため、加熱酸化槽中空内部のほぼ中心部に設置した熱電対で気相部の温度をモニターしながら500℃〜900℃まで段階的に温度を変化させた。
【0035】
疑似排ガスとしてN2で希釈したCOを用い、O2及びH2Oが等モル以上になるようにして、総ガス流量を410sccmとして加熱酸化槽中空内部に導入した。このとき、COの流入濃度を1.22〜1.33%、O2の流入濃度を3.7〜3.9%とし、H2Oを0.079mL/minの流速とした。処理時間は、30分間とした。
【0036】
加熱酸化槽での処理性能を観察するため、カラム出口ガス中のCO、CO2、O2及びH2を質量検出器付ガスクロマトグラフ装置(アネルバ製AGS-7000U)を用いて分析した。結果を表1に示す。
【0037】
【表1】
【0038】
表1からわかるように、加熱酸化槽の気相部の温度が850℃でCOは許容濃度(25ppm)未満の12ppmまで減少し(除去率99.9%)、870℃では検出限界(2ppm)以下まで減少した。このとき、出口ガス中のCO2(11000ppm)は、COの流入濃度とほぼ同じであり、H2は不検出であったことから、COはすべてCO2に酸化したと判断される。
【0039】
比較例1A
実施例1の装置を用いて、総ガス流量410sccm、COの流入濃度を1.33%とし、H2Oを0.079mL/minの流速で加熱酸化槽内部に導入し、O2を添加せずに、加熱酸化槽気相部の温度を870℃、処理時間30分として、実施例1と同様に実験を行った。測定結果を表2に示す。
【0040】
表2からわかるように、気相部の温度が870℃であっても、H2Oのみの添加では、COの除去率は38%に過ぎず、COの処理性能は低い。
比較例1B
実施例1の装置を用いて、総ガス流量410sccm、COの流入濃度を1.24%とし、O2の流入濃度を3.8%として、H2Oを添加せずに、加熱酸化槽気相部の温度を870℃、処理時間30分として、実施例1と同様に実験を行った。測定結果を表2に示す。
【0041】
表2からわかるように、気相部の温度が870℃であっても、O2のみの添加では、COは完全には除去されず、出口ガス中で許容濃度(25ppm)を大きく越える200ppmが検出された。
【0042】
【表2】
【0043】
実施例2
本発明に係るPFC排ガス処理装置の処理性能を観察した。PFC排ガス処理装置としては、図1に示す構造の装置10を用い、加熱酸化槽20及び触媒反応槽30として、内径27mm、高さ500mmのステンレス製ミニカラムを用いた。触媒反応槽30には、γ−アルミナとして、回折角2θのうち、33゜±1゜、37゜±1゜、40゜±1゜、46゜±1゜、67゜±1゜の5つの角度で強度100以上の回折線が出現する結晶構造を有する粒径0.8mmの「ネオビードGB-08」(水澤化学製、Na2O含有量0.01wt%以下)を高さ100mm(充填量57mL)となるように充填した。加熱酸化槽20及び触媒反応槽30の加熱手段として、セラミック電気管状炉28、32を用いて、該炉内に加熱酸化槽20及び触媒反応槽30を設置した。加熱酸化槽20の酸化反応領域20b及び触媒反応槽30内部の温度は、中心部に設置した熱電対(図示せず)で測定した。
【0044】
加熱酸化槽20の酸化反応領域20bの温度を870℃、触媒反応槽30内のγ−アルミナの温度を750℃まで加熱し、加熱酸化槽20に、疑似PFC排ガスとしてN2で希釈したCO及びCF4と、等モル以上のCO2及びO2を総ガス流量410sccmで導入した。流入濃度は、CO:1.24%、CF4:1.61%、O2:5.6%とし、H2Oの流速は0.079mL/minとした。
【0045】
本装置の処理性能を確認するため、加熱酸化槽出口及び触媒反応槽出口でのガス中のCO、CF4、CO2、O2及びH2を質量検出器付ガスクロマトグラフ装置(アネルバ製AGS-7000U)で分析した。結果を表3に示す。
【0046】
【表3】
【0047】
表3から明らかなように、加熱酸化槽出口において、COは検出限界(2ppm)以下まで処理されたが、CF4は除去されなかった。触媒反応槽出口において、CF4及びCOはいずれも検出限界(CF4は1ppm、COは2ppm)以下まで処理された。したがって、加熱酸化槽と触媒反応槽とを組み合わせた本装置によれば、CO及びCF4いずれも良好に処理できることが確認された。
【0048】
比較例2
PFC排ガスを加熱酸化槽に通過させなかった場合のCOの処理効果を観察するため、加熱酸化槽を除いて実施例2と同様の条件下で、疑似排ガス並びにO2及びH2Oを直接触媒反応槽に通過させて、比較実験を行った。結果を表4に示す。
【0049】
【表4】
【0050】
表4から明らかなように、触媒反応槽だけでもCF4の処理は可能であるが、COの除去率は70%と低く、許容濃度以下まで処理することはできなかった。
上述の実施例及び比較例から、加熱酸化槽とγ−アルミナを充填してなる触媒反応槽とを有する本発明に係るガス処理装置を用いて、本発明に係るガス処理方法を実施すれば、CO及びフッ素含有化合物を含むガスを効率よく処理することができることがわかった。
【0051】
【発明の効果】
本発明によれば、フッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理して、COの酸化とフッ素含有化合物の分解とを同時に効率的に行うことができ、ランニングコストが廉価で、有効な処理が可能である。
【0052】
本発明によれば、フッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理するに際して、各々別個の触媒での処理、個別の触媒を充填する加熱容器、加熱容器ごとの処理温度の制御、及び装置を設置するための広いスペースの必要がなくなり、温度制御が容易になる。
【0053】
また、寿命が異なる別個の触媒を使用する必要がないため、触媒管理が容易になる。さらに、CO用の特別の触媒を必要としないので、定期的な交換に要する費用などのランニングコストを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明のフッ素含有化合物及びCOを含むガスの処理装置の好ましい一実施形態を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
1:PFC排ガス処理装置
20:加熱酸化槽
20b:酸化反応領域
21:PFC排ガス導入口
22:O2導入口
23:H2O導入口
28:セラミックヒーター
29:迂流板
30:触媒反応槽
31:γ−アルミナ
32:セラミックヒーター
Claims (6)
- フッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理する方法であって、
上記ガスを、850℃以上の温度で、O2及びH2Oと接触させて、COをCO2に酸化させ、
次いで、上記ガスを、600〜900℃の温度でγ−アルミナと接触させてフッ素含有化合物を分解する、
各工程を含むことを特徴とするガス処理方法。 - 前記γ−アルミナは、X線回折装置で測定した回折角2θのうち、33゜±1゜、37゜±1゜、40゜±1゜、46゜±1゜、67゜±1゜の5つの角度で強度100以上の回折線が出現する結晶構造を有することを特徴とする請求項1に記載のガス処理方法。
- フッ素含有化合物及びCOを含むガスを処理する装置であって、
上記ガスを通気可能とする中空内部、上記中空内部のガスの温度を850℃以上に加熱可能な加熱手段、ガス導入口、O2導入口及びH2O導入口を備える加熱酸化槽と、
上記加熱酸化槽と流体連通状態に配置されていて、γ−アルミナが充填されている触媒反応槽と、
を備えることを特徴とする処理装置。 - 前記触媒反応槽は、さらに、γ−アルミナを600〜900℃に加熱可能な加熱手段を備えることを特徴とする請求項3に記載の処理装置。
- 前記γ−アルミナは、X線回折装置で測定した回折角2θのうち、33゜±1゜、37゜±1゜、40゜±1゜、46゜±1゜、67゜±1゜の5つの角度で強度100以上の回折線が出現する結晶構造を有することを特徴とする請求項3に記載の処理装置。
- 前記加熱酸化槽は、さらに、ガス中のCOとO2及びH2Oとの接触効率を高めるための接触補助手段を備えることを特徴とする請求項3〜5の何れか1項に記載の処理装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001026750A JP3889932B2 (ja) | 2001-02-02 | 2001-02-02 | フッ素含有化合物及びcoを含むガスの処理方法及び装置 |
TW091101629A TW567088B (en) | 2001-02-02 | 2002-01-31 | Process and apparatus for treating gas containing fluorine-containing compounds and CO |
DE60236902T DE60236902D1 (de) | 2001-02-02 | 2002-02-01 | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Gas mit Fluor enthaltenden Verbindungen und CO |
US10/060,224 US6764666B2 (en) | 2001-02-02 | 2002-02-01 | Process for treating gas containing fluorine-containing compounds and CO |
KR1020020005810A KR100808618B1 (ko) | 2001-02-02 | 2002-02-01 | 플루오르-함유 화합물 및 co를 함유하는 가스의처리방법 및 처리장치 |
EP02002477A EP1228800B1 (en) | 2001-02-02 | 2002-02-01 | Process and apparatus for treating gas containing fluorine-containing compounds and CO |
US10/855,428 US20040219086A1 (en) | 2001-02-02 | 2004-05-28 | Process and apparatus for treating gas containing fluorine-containing compounds and CO |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001026750A JP3889932B2 (ja) | 2001-02-02 | 2001-02-02 | フッ素含有化合物及びcoを含むガスの処理方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002224535A JP2002224535A (ja) | 2002-08-13 |
JP3889932B2 true JP3889932B2 (ja) | 2007-03-07 |
Family
ID=18891514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001026750A Expired - Lifetime JP3889932B2 (ja) | 2001-02-02 | 2001-02-02 | フッ素含有化合物及びcoを含むガスの処理方法及び装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6764666B2 (ja) |
EP (1) | EP1228800B1 (ja) |
JP (1) | JP3889932B2 (ja) |
KR (1) | KR100808618B1 (ja) |
DE (1) | DE60236902D1 (ja) |
TW (1) | TW567088B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6676913B2 (en) * | 1996-06-12 | 2004-01-13 | Guild Associates, Inc. | Catalyst composition and method of controlling PFC and HFC emissions |
JP3976459B2 (ja) * | 1999-11-18 | 2007-09-19 | 株式会社荏原製作所 | フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置 |
WO2003047729A1 (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-12 | Ebara Corporation | Method and apparatus for treating exhaust gas |
KR101097240B1 (ko) * | 2003-04-01 | 2011-12-21 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 배기 가스 처리 방법 및 장치 |
JP5529374B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2014-06-25 | 中部電力株式会社 | ガスの化学的処理方法 |
US7749917B1 (en) * | 2008-12-31 | 2010-07-06 | Applied Materials, Inc. | Dry cleaning of silicon surface for solar cell applications |
US8128902B2 (en) * | 2011-04-12 | 2012-03-06 | Midwest Refrigerants, Llc | Method for the synthesis of anhydrous hydrogen halide and anhydrous carbon dioxide |
US8043574B1 (en) | 2011-04-12 | 2011-10-25 | Midwest Refrigerants, Llc | Apparatus for the synthesis of anhydrous hydrogen halide and anhydrous carbon dioxide |
US8834830B2 (en) | 2012-09-07 | 2014-09-16 | Midwest Inorganics LLC | Method for the preparation of anhydrous hydrogen halides, inorganic substances and/or inorganic hydrides by using as reactants inorganic halides and reducing agents |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5059405A (en) * | 1988-12-09 | 1991-10-22 | Bio-Gas Development, Inc. | Process and apparatus for purification of landfill gases |
JPH0663357A (ja) * | 1990-10-26 | 1994-03-08 | Tosoh Corp | 有機ハロゲン化合物を含む排ガスの処理装置 |
DE4318444C2 (de) * | 1993-06-03 | 1997-01-23 | Bfi Entsorgungstech | Verfahren zur Hochtemperatur-Konvertierung |
JP3977887B2 (ja) * | 1997-01-14 | 2007-09-19 | 株式会社日立製作所 | フッ素化合物含有ガスの処理方法 |
US20010001652A1 (en) * | 1997-01-14 | 2001-05-24 | Shuichi Kanno | Process for treating flourine compound-containing gas |
JPH10286434A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Ube Ind Ltd | フッ素含有化合物の分解方法 |
JPH10286432A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Japan Pionics Co Ltd | 有害ガスの浄化方法 |
EP1029580B1 (en) * | 1997-04-16 | 2005-12-21 | Ebara Corporation | Method for removing nitrogen oxides in exhaust gas |
EP1340533B1 (en) | 1997-06-20 | 2010-06-16 | Hitachi, Ltd. | A method of treatment for decomposing fluorine compounds, and catalyst and apparatus therefor |
JP3269456B2 (ja) | 1997-06-20 | 2002-03-25 | 株式会社日立製作所 | フッ素含有化合物の分解処理方法、触媒及び分解処理装置 |
JP3217034B2 (ja) * | 1997-11-14 | 2001-10-09 | 株式会社日立製作所 | 過弗化物の処理方法及びその処理装置 |
JP4237942B2 (ja) * | 1998-08-17 | 2009-03-11 | 株式会社荏原製作所 | フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置 |
US6630421B1 (en) * | 1999-04-28 | 2003-10-07 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Reactive agent and process for decomposing fluorine compounds and use thereof |
JP3976459B2 (ja) | 1999-11-18 | 2007-09-19 | 株式会社荏原製作所 | フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置 |
JP2001293335A (ja) | 2000-04-12 | 2001-10-23 | Ebara Corp | フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法 |
-
2001
- 2001-02-02 JP JP2001026750A patent/JP3889932B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-01-31 TW TW091101629A patent/TW567088B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-02-01 US US10/060,224 patent/US6764666B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-01 EP EP02002477A patent/EP1228800B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-01 DE DE60236902T patent/DE60236902D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-01 KR KR1020020005810A patent/KR100808618B1/ko active IP Right Grant
-
2004
- 2004-05-28 US US10/855,428 patent/US20040219086A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020150517A1 (en) | 2002-10-17 |
US6764666B2 (en) | 2004-07-20 |
KR100808618B1 (ko) | 2008-02-29 |
JP2002224535A (ja) | 2002-08-13 |
TW567088B (en) | 2003-12-21 |
US20040219086A1 (en) | 2004-11-04 |
DE60236902D1 (de) | 2010-08-19 |
EP1228800A1 (en) | 2002-08-07 |
KR20020064669A (ko) | 2002-08-09 |
EP1228800B1 (en) | 2010-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100962695B1 (ko) | 배기 가스 처리 방법 및 장치 | |
JP4350081B2 (ja) | 排ガスの処理方法および装置 | |
JP4237942B2 (ja) | フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置 | |
JP3889932B2 (ja) | フッ素含有化合物及びcoを含むガスの処理方法及び装置 | |
JP2006312134A (ja) | 排気ガス処理装置及びそれを用いた処理方法 | |
WO2001076725A1 (fr) | Procede de traitement de gaz d'echappement contenant un compose fluore | |
WO2005029542A2 (en) | Apparatus and method for point-of-use treatment of effluent gas streams | |
KR101097240B1 (ko) | 배기 가스 처리 방법 및 장치 | |
JP3902670B2 (ja) | 排ガス中の窒素酸化物の除去方法 | |
JP4065672B2 (ja) | フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置 | |
JP5066021B2 (ja) | Pfc処理装置及びpfc含有ガスの処理方法 | |
JP4629967B2 (ja) | N2o含有排ガスの処理方法およびその装置 | |
JP6086229B2 (ja) | 無害化処理装置 | |
JP5119804B2 (ja) | Pfcおよびcoを含有する化合物ガスの処理装置および処理方法 | |
JP4459648B2 (ja) | フッ素含有化合物を含むガスの処理方法及び装置 | |
JP2000354733A (ja) | 排ガスの処理方法およびそれを用いた装置 | |
CN212663179U (zh) | 一种酸性废气处理系统 | |
JP2007216229A (ja) | フッ素含有化合物を含む排ガスの処理装置 | |
JP5318336B2 (ja) | Pfcガスの濃縮方法 | |
JPH0623220A (ja) | 乾式除害装置 | |
JP5016618B2 (ja) | Sf6を含む排ガスの処理方法 | |
JPH06335619A (ja) | 有機ハロゲン化物の除去方法 | |
JP2008068175A (ja) | ドライエッチング排ガス処理装置及び当該処理装置を用いたドライエッチング排ガス処理方法 | |
JP2002045646A (ja) | 三弗化窒素ガスの除害方法及び除害装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060926 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061102 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3889932 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121208 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121208 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131208 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |