JP6086229B2 - 無害化処理装置 - Google Patents
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Description
請求項1に係る発明は、有害ガス成分を含有する被処理ガス中から前記有害ガス成分を除去して無害化する装置であって、
内部空間内に、被処理ガス中の有害ガス成分を溶存させる溶液を貯留する溶液貯留槽と、
前記被処理ガスを当該被処理ガスの気泡と前記溶液とが混合された状態で前記溶液貯留槽内の溶液中に導入する気泡形成部と、
前記溶液貯留槽内の前記溶液中に設けられ、前記気泡をプラズマ化させる電磁界印加部と、
前記電磁界印加部にマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、
前記溶液貯留槽の上部側に設けられ、前記有害成分が除去された気体成分を当該溶液貯留槽の外側に排出するガス排出口と、を備え、
前記電磁界印加部は、誘電体材料からなる円筒状の二重管であり、前記二重管の外管と内管との間の空間に前記マイクロ波供給手段からマイクロ波が供給されるとともに、前記内管の内側に前記気泡が導入される、無害化処理装置である。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
先ず、本発明を適用した一実施形態である無害化処理装置の構成について、図1を参照しながら説明する。図1に示すように、本実施形態の無害化処理装置1は、有害ガス成分を含有する被処理ガス中から有害ガス成分を除去して無害化する装置であって、溶液貯留槽2と、上記溶液貯留槽2の外側に設けられたバブラー(気泡形成部)3と、上記溶液貯留槽2内の溶液中に設けられたスロットアンテナ(電磁界印加部)4と、上記スロットアンテナ4にマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段5と、上記溶液貯留槽2の上面に設けられたガス排出口6と、を備えて、概略構成されている。
また、溶液貯留槽2の材質は、耐食性を有する材質であれば、特に限定されるものではない。好ましい材質としては、例えば、SUS316L、ハステロイ、チタンなどの耐食性金属、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE)などのフッ素樹脂が挙げられる。
本実施形態の無害化処理方法は、有害ガス成分を含有する被処理ガスの気泡を形成して、前記気泡を被処理ガス中の有害ガス成分を溶存させる溶液中に導入する工程と、溶液中で気泡にマイクロ波を供給して、当該気泡をプラズマ化する工程と、溶液中を気泡状態で通過させて、有害ガス成分を溶液に溶存させる工程と、有害成分が除去された気体成分を溶液中から取り出す工程と、を含んで、概略構成されている。
次に、本発明を適用した第2の実施形態について説明する。本実施形態では、第1の実施形態の無害化処理装置1及び無害化処理方法とは異なる構成となっている。このため、図2を用いて本実施形態の無害化処理装置及び無害化処理方法について説明する。したがって、本実施形態の無害化処理装及び無害化処理方法については、第1の実施形態と同一の構成部分については同じ符号を付すると共に説明を省略する。
(実施例1)
図1の構成を有する無害化処理装置を用いて、三フッ化窒素(NF3)を分解処理する実験を行った。バブラーとしては、市販のナフロンバブラー(松浦製作所製、気泡径:5〜100μm)を使用した。バブラーから導入された気泡含有流体は、幅50mm、高さ10mm、長さ100mmの角柱流路を通過して、直径200mmの溶液槽内に導入された。前記角柱の上面側は、スロットアンテナ構造になっており、気泡にマイクロ波を照射できる構造となっている。マイクロ波発生装置は、2.45GHzマイクロ波を発生し、最大1.5kWで出力できるマグネトロンとした。なお、溶液は純水とし、ガス導入孔から水面までの高さは20cmとした。
ここで、分解効率は、下記式によって算出した。
(分解効率)=100−[(溶液を通過した被分解成分の流量)÷(気泡形成部を通過した被分解成分の流量)]×100
図1の構成を有する無害化処理装置を用いて、窒素中に六フッ化エタン(C2F6)を10%含むガスを被処理ガスとし、六フッ化エタンを分解処理する実験を行った。なお、バブラー、流体導入部、溶液槽及びマイクロ波発生装置の条件は、実施例1と同じとした。
2・・・溶液貯留槽
2a・・・溶液排出口
2A・・・溶液層
2B・・・気体層
3・・・バブラー(気泡形成部)
4・・・スロットアンテナ(電磁界印加部)
4A・・・下面(接触面、マイクロ波照射面)
5・・・マイクロ波供給手段
5A・・・マイクロ波発生装置
5B・・・導波管
5C・・・導波路
6・・・ガス排出口
7・・・流路制御板
8・・・除害性能監視モニタ
9・・・有害成分溶存濃度監視モニタ
24・・・電磁界印加部材(二重管)
Claims (5)
- 有害ガス成分を含有する被処理ガス中から前記有害ガス成分を除去して無害化する装置であって、
内部空間内に、被処理ガス中の有害ガス成分を溶存させる溶液を貯留する溶液貯留槽と、
前記被処理ガスを当該被処理ガスの気泡と前記溶液とが混合された状態で前記溶液貯留槽内の溶液中に導入する気泡形成部と、
前記溶液貯留槽内の前記溶液中に設けられ、前記気泡をプラズマ化させる電磁界印加部と、
前記電磁界印加部にマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、
前記溶液貯留槽の上部側に設けられ、前記有害成分が除去された気体成分を当該溶液貯留槽の外側に排出するガス排出口と、を備え、
前記電磁界印加部は、誘電体材料からなる円筒状の二重管であり、前記二重管の外管と内管との間の空間に前記マイクロ波供給手段からマイクロ波が供給されるとともに、前記内管の内側に前記気泡が導入される、無害化処理装置。 - 前記気泡の直径が、10〜200μmの範囲である、請求項1に記載の無害化処理装置。
- 前記マイクロ波供給手段が、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置と、前記電磁界印加部に隣接して設けられ、当該電磁界印加部を介して前記気泡にマイクロ波を照射する導波管と、前記マイクロ波発生装置で生成したマイクロ波を前記導波管に供給する導波路と、を有する、請求項1又は2に記載の無害化処理装置。
- 前記電磁界印加部は、基端に対して先端が、水平に対して鉛直方向上側に10〜30度の範囲で傾斜されている、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の無害化処理装置。
- 前記溶液貯留槽の上部側であって、前記ガス排出口よりも下方に、溶液排出口を備える、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の無害化処理装置。
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