JP2001066525A - 複数ビーム走査装置 - Google Patents
複数ビーム走査装置Info
- Publication number
- JP2001066525A JP2001066525A JP24321599A JP24321599A JP2001066525A JP 2001066525 A JP2001066525 A JP 2001066525A JP 24321599 A JP24321599 A JP 24321599A JP 24321599 A JP24321599 A JP 24321599A JP 2001066525 A JP2001066525 A JP 2001066525A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- cover
- deflector
- diffused
- semiconductor laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体レーザの裏面から発出された光が、モ
ニタ用フォトダイオードにより反射し、その反射拡散光
がレーザ窓を通過する場合に、拡散光が被走査面に到達
し、異常画像を発生させることを未然に防ぐことができ
る複数ビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 複数の発光点を有する光源１からの発散
光束を偏向器４の偏向面４ａ近傍に略線状に結像し、そ
の偏向器４により偏向された光束を被走査面上に光スポ
ットとして結像する複数ビーム走査装置に関する。光源
１は半導体レーザであり、半導体レーザはレーザ窓を有
するレーザチップケース内に収納された半導体レーザチ
ップから構成され、その半導体レーザチップの裏面から
発出された光がレーザチップケース内で拡散され、レー
ザ窓を通過した拡散光が被走査面の画像領域を除く部分
に到達するように、拡散光の射出方向を設定した。
ニタ用フォトダイオードにより反射し、その反射拡散光
がレーザ窓を通過する場合に、拡散光が被走査面に到達
し、異常画像を発生させることを未然に防ぐことができ
る複数ビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 複数の発光点を有する光源１からの発散
光束を偏向器４の偏向面４ａ近傍に略線状に結像し、そ
の偏向器４により偏向された光束を被走査面上に光スポ
ットとして結像する複数ビーム走査装置に関する。光源
１は半導体レーザであり、半導体レーザはレーザ窓を有
するレーザチップケース内に収納された半導体レーザチ
ップから構成され、その半導体レーザチップの裏面から
発出された光がレーザチップケース内で拡散され、レー
ザ窓を通過した拡散光が被走査面の画像領域を除く部分
に到達するように、拡散光の射出方向を設定した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像信号によって
変調される複数のビームを走査する光書込ユニットとし
ての複数ビーム走査装置における光学系レイアウトに関
し、特にレーザプリンタ、レーザ複写機等に用いる複数
ビーム走査装置に関する。
変調される複数のビームを走査する光書込ユニットとし
ての複数ビーム走査装置における光学系レイアウトに関
し、特にレーザプリンタ、レーザ複写機等に用いる複数
ビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、拡散光により結像用の感光体上に
照射される外乱光が生じない走査光学装置を提供するこ
とを目的として特開平５−２７１８９号が知られてい
る。この走査光学装置は、レーザチップの裏面から射出
された光のうち、レーザ基台の内壁で拡散されレーザ窓
を通過した拡散光をコリメートレンズと半導体レーザと
の間に設けられた遮光部材によって遮光し、コリメート
レンズへの到達を防止している。また、この特開平５−
２７１８９号では、半導体レーザのパッケージの内部に
遮蔽板を配置して拡散光の除去を試みている。
照射される外乱光が生じない走査光学装置を提供するこ
とを目的として特開平５−２７１８９号が知られてい
る。この走査光学装置は、レーザチップの裏面から射出
された光のうち、レーザ基台の内壁で拡散されレーザ窓
を通過した拡散光をコリメートレンズと半導体レーザと
の間に設けられた遮光部材によって遮光し、コリメート
レンズへの到達を防止している。また、この特開平５−
２７１８９号では、半導体レーザのパッケージの内部に
遮蔽板を配置して拡散光の除去を試みている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では発光点の近傍に遮蔽板を配置しているため正規の
必要な光、即ち走査光を遮蔽板でカットする（遮る）こ
とになったり、正規の光の妨げにならないように配置し
たため問題となっている拡散光を充分除去することが出
来ない等の問題があり、実用的かつ効果的ではない。
法では発光点の近傍に遮蔽板を配置しているため正規の
必要な光、即ち走査光を遮蔽板でカットする（遮る）こ
とになったり、正規の光の妨げにならないように配置し
たため問題となっている拡散光を充分除去することが出
来ない等の問題があり、実用的かつ効果的ではない。
【０００４】さらに、上記従来例では、この遮蔽板を開
口絞りの代わりに用いることを提案しているが、発光点
の近傍であるため、及び発散している光束の途中に配置
する必要があるため、その位置精度が非常に厳しくなり
現実的ではない。また、光源ユニット間での光量バラツ
キが大きく発生し、光量調整範囲を大きく取る必要が生
じユニット構成上の技術課題が増えるという問題もあ
る。
口絞りの代わりに用いることを提案しているが、発光点
の近傍であるため、及び発散している光束の途中に配置
する必要があるため、その位置精度が非常に厳しくなり
現実的ではない。また、光源ユニット間での光量バラツ
キが大きく発生し、光量調整範囲を大きく取る必要が生
じユニット構成上の技術課題が増えるという問題もあ
る。
【０００５】また、光源が複数の発光点を有する場合、
モニターを行うフォトダイオードの大きさは、発光点が
１つの場合の大きさの、約発光点数倍大きくする必要が
あり、より一層拡散光を発生させやすくなる。例えば発
光点が１つの場合のフォトダイオードの大きさが２０μ
ｍ角であったとすると、発光点が４つの場合はその４倍
の約８０μｍの長さが必要となる。さらに、レーザ窓に
関しても発光点が１つの場合に比べて大きくする必要が
あり、拡散光がレーザパッケージから射出される可能性
はより大きくなり、上述した拡散光除去はより困難にな
るという問題があった。
モニターを行うフォトダイオードの大きさは、発光点が
１つの場合の大きさの、約発光点数倍大きくする必要が
あり、より一層拡散光を発生させやすくなる。例えば発
光点が１つの場合のフォトダイオードの大きさが２０μ
ｍ角であったとすると、発光点が４つの場合はその４倍
の約８０μｍの長さが必要となる。さらに、レーザ窓に
関しても発光点が１つの場合に比べて大きくする必要が
あり、拡散光がレーザパッケージから射出される可能性
はより大きくなり、上述した拡散光除去はより困難にな
るという問題があった。
【０００６】そこで、本発明の目的は、複数の発光部を
有する光源部（半導体レーザ）において、発光部の発光
出力のモニターを行うフォトダイオードの表面での反射
により発生する拡散光（反射光、ゴースト光）が被走査
面に到達し、異常画像として現れることを未然に防ぐこ
とができる複数ビーム走査装置を提供することにある。
有する光源部（半導体レーザ）において、発光部の発光
出力のモニターを行うフォトダイオードの表面での反射
により発生する拡散光（反射光、ゴースト光）が被走査
面に到達し、異常画像として現れることを未然に防ぐこ
とができる複数ビーム走査装置を提供することにある。
【０００７】また、本発明の他の目的は、偏向器のカバ
ー面による反射を抑え、ゴースト光の新たな発生要因と
なることを未然に防ぐことができる複数ビーム走査装置
を提供することにある。
ー面による反射を抑え、ゴースト光の新たな発生要因と
なることを未然に防ぐことができる複数ビーム走査装置
を提供することにある。
【０００８】また、本発明のその他の目的は、偏向器の
カバー面での反射により発生する拡散光が被走査面に到
達し、異常画像を発生させることを未然に防ぐことがで
きる複数ビーム走査装置を提供することにある。
カバー面での反射により発生する拡散光が被走査面に到
達し、異常画像を発生させることを未然に防ぐことがで
きる複数ビーム走査装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１の発明は、複数の発光部を有する光源部から
の発散光束を偏向器の偏向面近傍に略線状に結像し、そ
の偏向器により偏向された光束を被走査面上に光スポッ
トとして結像する複数ビーム走査装置であって、前記光
源部は半導体レーザであり、該半導体レーザはレーザ窓
を有するレーザチップケース（パッケージ）内に収納さ
れた半導体レーザチップから構成され、その半導体レー
ザチップの裏面から発出されたモニタ用の光がモニタ用
フォトダイオードの表面での反射によりレーザチップケ
ース内で拡散され前記レーザ窓を通過した場合でも、拡
散光が前記被走査面の画像領域を除く部分に到達するよ
うに、拡散光の射出方向を設定したことを特徴とする複
数ビーム走査装置である。
に請求項１の発明は、複数の発光部を有する光源部から
の発散光束を偏向器の偏向面近傍に略線状に結像し、そ
の偏向器により偏向された光束を被走査面上に光スポッ
トとして結像する複数ビーム走査装置であって、前記光
源部は半導体レーザであり、該半導体レーザはレーザ窓
を有するレーザチップケース（パッケージ）内に収納さ
れた半導体レーザチップから構成され、その半導体レー
ザチップの裏面から発出されたモニタ用の光がモニタ用
フォトダイオードの表面での反射によりレーザチップケ
ース内で拡散され前記レーザ窓を通過した場合でも、拡
散光が前記被走査面の画像領域を除く部分に到達するよ
うに、拡散光の射出方向を設定したことを特徴とする複
数ビーム走査装置である。
【００１０】この構成では、半導体レーザの裏面から発
出されたモニタ用の光がレーザチップケース内で拡散さ
れレーザ窓を通過した場合でも、拡散光が被走査面に行
かないようにすることが出来、異常画像の発生を未然に
防ぐことができる。
出されたモニタ用の光がレーザチップケース内で拡散さ
れレーザ窓を通過した場合でも、拡散光が被走査面に行
かないようにすることが出来、異常画像の発生を未然に
防ぐことができる。
【００１１】また、請求項２の発明は、請求項１に記載
の複数ビーム走査装置において、前記レーザ窓を通過し
た拡散光の射出方向を偏向器のカバーの方向になるよう
に設定したことを特徴としている。
の複数ビーム走査装置において、前記レーザ窓を通過し
た拡散光の射出方向を偏向器のカバーの方向になるよう
に設定したことを特徴としている。
【００１２】この構成では、半導体レーザの裏面から発
出されたモニタ用の光がレーザチップケース内で拡散さ
れレーザ窓を通過した場合でも拡散光は偏向器のカバー
に向かい、偏向器のカバーが遮光を行うため、走査光束
を遮ることなく拡散光が被走査面に行かないようにする
ことが出来、異常画像の発生を未然に防ぐことができ
る。
出されたモニタ用の光がレーザチップケース内で拡散さ
れレーザ窓を通過した場合でも拡散光は偏向器のカバー
に向かい、偏向器のカバーが遮光を行うため、走査光束
を遮ることなく拡散光が被走査面に行かないようにする
ことが出来、異常画像の発生を未然に防ぐことができ
る。
【００１３】また、請求項３の発明は、請求項２に記載
の複数ビーム走査装置において、前記カバーは、反射防
止塗装または反射防止加工が施されていることを特徴と
している。
の複数ビーム走査装置において、前記カバーは、反射防
止塗装または反射防止加工が施されていることを特徴と
している。
【００１４】この構成では、半導体レーザの裏面から発
出されたモニタ用の光がレーザチップケース内で拡散さ
れレーザ窓を通過した場合でも、拡散光は偏向器の反射
防止塗装または反射防止加工が施されている偏向器のカ
バーに向かい、偏向器のカバーが遮光を行うため、走査
光束を遮ることなく拡散光が被走査面に行かないように
することが出来、異常画像の発生を未然に防ぐことがで
きる。さらに、カバーからの二次反射光を反射防止塗装
または反射防止加工により低減でき、二次反射光がゴー
スト光の新たな発生要因となることを未然に防ぐことが
できる。
出されたモニタ用の光がレーザチップケース内で拡散さ
れレーザ窓を通過した場合でも、拡散光は偏向器の反射
防止塗装または反射防止加工が施されている偏向器のカ
バーに向かい、偏向器のカバーが遮光を行うため、走査
光束を遮ることなく拡散光が被走査面に行かないように
することが出来、異常画像の発生を未然に防ぐことがで
きる。さらに、カバーからの二次反射光を反射防止塗装
または反射防止加工により低減でき、二次反射光がゴー
スト光の新たな発生要因となることを未然に防ぐことが
できる。
【００１５】また、請求項４の発明は、請求項２に記載
の複数ビーム走査装置において、前記カバーは、光源部
からの拡散光が照射される部分を含む部分に低反射率体
が取り付けられていることを特徴としている。
の複数ビーム走査装置において、前記カバーは、光源部
からの拡散光が照射される部分を含む部分に低反射率体
が取り付けられていることを特徴としている。
【００１６】この構成では、半導体レーザの裏面から発
出された光がレーザチップケース内で拡散されレーザ窓
を通過した場合でも、拡散光は偏向器の低反射率体が取
り付けられているカバーに向かい、偏向器のカバーが遮
光を行うため、走査光束を遮ることなく拡散光が被走査
面に行かないようにすることが出来、異常画像の発生を
未然に防ぐことができる。さらに、カバーからの二次反
射光を低反射率体により低減でき、二次反射光がゴース
ト光の新たな発生要因となることを未然に防ぐことがで
きる。
出された光がレーザチップケース内で拡散されレーザ窓
を通過した場合でも、拡散光は偏向器の低反射率体が取
り付けられているカバーに向かい、偏向器のカバーが遮
光を行うため、走査光束を遮ることなく拡散光が被走査
面に行かないようにすることが出来、異常画像の発生を
未然に防ぐことができる。さらに、カバーからの二次反
射光を低反射率体により低減でき、二次反射光がゴース
ト光の新たな発生要因となることを未然に防ぐことがで
きる。
【００１７】また、請求項５の発明は、請求項２に記載
の複数ビーム走査装置において、前記カバーは、前記拡
散光の前記カバーによる反射方向が主走査方向の画像領
域外側に到達するように配置されていることを特徴とし
ている。
の複数ビーム走査装置において、前記カバーは、前記拡
散光の前記カバーによる反射方向が主走査方向の画像領
域外側に到達するように配置されていることを特徴とし
ている。
【００１８】この構成では、半導体レーザの裏面から発
出された光がレーザチップケース内で拡散されレーザ窓
を通過した場合でも、拡散光は偏向器のカバーに向か
い、偏向器カバーが遮光を行うため、走査光束を遮るこ
となく拡散光が被走査面に行かないようにすることが出
来、異常画像の発生を未然に防ぐことができる。さら
に、偏向器のカバー面での反射により発生する拡散光が
主走査方向の画像領域外側に向かうので、偏向器のカバ
ー面での反射による異常画像の発生を未然に防ぐことが
できる。
出された光がレーザチップケース内で拡散されレーザ窓
を通過した場合でも、拡散光は偏向器のカバーに向か
い、偏向器カバーが遮光を行うため、走査光束を遮るこ
となく拡散光が被走査面に行かないようにすることが出
来、異常画像の発生を未然に防ぐことができる。さら
に、偏向器のカバー面での反射により発生する拡散光が
主走査方向の画像領域外側に向かうので、偏向器のカバ
ー面での反射による異常画像の発生を未然に防ぐことが
できる。
【００１９】また、請求項６の発明は、請求項２に記載
の複数ビーム走査装置において、前記カバーは、前記拡
散光の前記カバーによる反射方向が副走査方向の画像領
域外側に到達するように反射面に角度が付けられている
ことを特徴としている。
の複数ビーム走査装置において、前記カバーは、前記拡
散光の前記カバーによる反射方向が副走査方向の画像領
域外側に到達するように反射面に角度が付けられている
ことを特徴としている。
【００２０】この構成では、半導体レーザの裏面から発
出された光がレーザチップケース内で拡散されレーザ窓
を通過した場合でも、拡散光は偏向器のカバーに向か
い、偏向器カバーが遮光を行うため、走査光束を遮るこ
となく拡散光が被走査面に行かないようにすることが出
来、異常画像の発生を未然に防ぐことができる。さら
に、偏向器のカバー面での反射により発生する拡散光が
副走査方向の画像領域外側に向かうので、偏向器のカバ
ー面での反射による異常画像の発生を未然に防ぐことが
できる。
出された光がレーザチップケース内で拡散されレーザ窓
を通過した場合でも、拡散光は偏向器のカバーに向か
い、偏向器カバーが遮光を行うため、走査光束を遮るこ
となく拡散光が被走査面に行かないようにすることが出
来、異常画像の発生を未然に防ぐことができる。さら
に、偏向器のカバー面での反射により発生する拡散光が
副走査方向の画像領域外側に向かうので、偏向器のカバ
ー面での反射による異常画像の発生を未然に防ぐことが
できる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態におけ
る複数ビーム走査装置の走査光学系の全体構成を説明す
るための図である。
を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態におけ
る複数ビーム走査装置の走査光学系の全体構成を説明す
るための図である。
【００２２】図１に示すように、この走査光学系は、本
実施形態では書き込みユニットとして用いられ、複数の
発光点を有する光源１と、光源１から放射された発散性
の光束（ＦＢ１〜ＦＢ４）を集光するカップリングレン
ズ２と、カップリングレンズ２で集光した光束径を規制
する絞り１０と、この規制された光束を線状に結像する
線像結像光学系３と、この線像結像光学系３により結像
した線像の近傍に配置された偏向反射面４ａを有する偏
向器４と、感光体ドラム等の被走査媒体７と、偏向器４
と被走査媒体７との間に配置されている、ｆθレンズ５
及び長尺レンズ６と、被走査媒体７に向けて光路を折り
曲げて、レイアウトのコンパクト化等をする反射ミラー
８と、同期をとるための同期検知系１００とを備えてい
る。
実施形態では書き込みユニットとして用いられ、複数の
発光点を有する光源１と、光源１から放射された発散性
の光束（ＦＢ１〜ＦＢ４）を集光するカップリングレン
ズ２と、カップリングレンズ２で集光した光束径を規制
する絞り１０と、この規制された光束を線状に結像する
線像結像光学系３と、この線像結像光学系３により結像
した線像の近傍に配置された偏向反射面４ａを有する偏
向器４と、感光体ドラム等の被走査媒体７と、偏向器４
と被走査媒体７との間に配置されている、ｆθレンズ５
及び長尺レンズ６と、被走査媒体７に向けて光路を折り
曲げて、レイアウトのコンパクト化等をする反射ミラー
８と、同期をとるための同期検知系１００とを備えてい
る。
【００２３】前記光源１は、本実施形態では半導体レー
ザであり、発散性の光束を放射する。光源１からの光束
は、カップリングレンズ２を透過した後、絞り１０によ
り光束径を規制された後、線像結像光学系３により偏向
器４の偏向反射面４ａ近傍に線状に結像される。
ザであり、発散性の光束を放射する。光源１からの光束
は、カップリングレンズ２を透過した後、絞り１０によ
り光束径を規制された後、線像結像光学系３により偏向
器４の偏向反射面４ａ近傍に線状に結像される。
【００２４】前記偏向器４は、本実施形態では回転多面
鏡を有し、入射光束を等角速度的に偏向する。偏向器４
と被走査媒体７との間にｆθレンズ５と長尺レンズ６と
を配置し、それらの合成系により、ミラー８を介した
後、被走査媒体７上に結像スポットを形成する。この結
像スポットは偏向器４の回動によって被走査媒体７上を
走査する。
鏡を有し、入射光束を等角速度的に偏向する。偏向器４
と被走査媒体７との間にｆθレンズ５と長尺レンズ６と
を配置し、それらの合成系により、ミラー８を介した
後、被走査媒体７上に結像スポットを形成する。この結
像スポットは偏向器４の回動によって被走査媒体７上を
走査する。
【００２５】また、前記同期検知系１００は、本実施形
態では、同期検知センサ２３，同期検知センサ２３に光
束を導く結像素子２２，及びミラー２１から構成されて
いる。
態では、同期検知センサ２３，同期検知センサ２３に光
束を導く結像素子２２，及びミラー２１から構成されて
いる。
【００２６】前記複数の発光点を有する光源１は、図１
の例では各チャンネルｃｈ１〜ｃｈ４に対応した４つの
発光点を有しており、半導体レーザの構造からチップの
前後に光を放射する。前側（偏向器側）の発光光束をＦ
Ｂ１〜ＦＢ４で示し、後側の発光光束をＢＢ１〜ＢＢ４
で示す。後側に放射された光束は発光出力モニター用の
フォトダイオード３０によって発光出力のモニターが行
われる。
の例では各チャンネルｃｈ１〜ｃｈ４に対応した４つの
発光点を有しており、半導体レーザの構造からチップの
前後に光を放射する。前側（偏向器側）の発光光束をＦ
Ｂ１〜ＦＢ４で示し、後側の発光光束をＢＢ１〜ＢＢ４
で示す。後側に放射された光束は発光出力モニター用の
フォトダイオード３０によって発光出力のモニターが行
われる。
【００２７】図３は複数の発光点を有する光源１を半導
体レーザパッケージに展開した場合の模式図である。図
中、１ａ〜１ｄは上記複数の発光点、３０は発光出力の
モニターを行うためのフォトダイオードである。なお、
１Ａはレーザチップケース、１Ｂはレーザ窓、１Ｃは放
熱器、１Ｄはステムである。
体レーザパッケージに展開した場合の模式図である。図
中、１ａ〜１ｄは上記複数の発光点、３０は発光出力の
モニターを行うためのフォトダイオードである。なお、
１Ａはレーザチップケース、１Ｂはレーザ窓、１Ｃは放
熱器、１Ｄはステムである。
【００２８】図１に示すように半導体レーザチップに
は、光走査用に用いている光束ＦＢ（発光光束ＦＢ１〜
ＦＢ４）の他に出力モニターに用いられている後ろ側の
光束ＢＢ（発光光束ＢＢ１〜ＢＢ４）が存在する。この
光束ＢＢは、出力モニター用のフォトダイオード３０に
より出力モニターされ、フィードバック回路により発光
出力を正規の値に設定することに用いられている。
は、光走査用に用いている光束ＦＢ（発光光束ＦＢ１〜
ＦＢ４）の他に出力モニターに用いられている後ろ側の
光束ＢＢ（発光光束ＢＢ１〜ＢＢ４）が存在する。この
光束ＢＢは、出力モニター用のフォトダイオード３０に
より出力モニターされ、フィードバック回路により発光
出力を正規の値に設定することに用いられている。
【００２９】このフォトダイオード３０に当たった光
が、フォトダイオード３０の表面で反射し、レーザチッ
プケース１Ａ内で拡散光となってレーザパッケージの開
口であるレーザ窓１Ｂを通過していわゆるゴースト光
（図２のｇ参照）となり、その光が書き込みユニットの
光学ハウジング内を反射して被走査媒体７の被走査面７
ａ（図１参照）にたどり着き、異常画像（図２のＧ参
照）を引き起こすことがあった。これに対し一般的に
は、モニター用のフォトダイオード３０を傾けて配置す
ることにより、拡散光がパッケージの外にでないよう
に、もしくは書き込みとは関係ない方向に逃がすように
構成されている。しかし、フォトダイオードをあまり傾
けすぎると感度が鈍くなるため、フォトダイオードを傾
けることが可能な角度にも限度がある。
が、フォトダイオード３０の表面で反射し、レーザチッ
プケース１Ａ内で拡散光となってレーザパッケージの開
口であるレーザ窓１Ｂを通過していわゆるゴースト光
（図２のｇ参照）となり、その光が書き込みユニットの
光学ハウジング内を反射して被走査媒体７の被走査面７
ａ（図１参照）にたどり着き、異常画像（図２のＧ参
照）を引き起こすことがあった。これに対し一般的に
は、モニター用のフォトダイオード３０を傾けて配置す
ることにより、拡散光がパッケージの外にでないよう
に、もしくは書き込みとは関係ない方向に逃がすように
構成されている。しかし、フォトダイオードをあまり傾
けすぎると感度が鈍くなるため、フォトダイオードを傾
けることが可能な角度にも限度がある。
【００３０】図２は図１に示した走査光学系を主走査方
向から見た図である。図２の例では線像結像光学系３と
偏向器４との間にミラー９を配し、レイアウトのコンパ
クト化を図っている。複数の発光点１ａ〜１ｄを有する
半導体レーザの光源１から発光した光束が正規の光路を
通って被走査媒体７の被走査面７ａを走査する状態をＬ
で示す。これに対し、モニター用のフォトダイオード３
０（図１参照）に反射した光がゴースト光となり被走査
面７ａに到達する状態を示したものがｇである。モニタ
ー用のフォトダイオード３０（図１，３参照）は上記の
ように反射光が正規の走査光近傍を通らないように傾け
て配置されているため、この例では図に示すように斜め
に走査光学系を横切り、被走査面７ａに到達する。この
ゴースト光は偏向器４により偏向されないため、絶えず
同じ位置（図２の例では被走査面７ａ上のＧ）に光が当
たり続け、微量の光であってもそのエネルギーは被走査
媒体７上に蓄積され、画像を形成しうるに充分なエネル
ギー量となり、異常画像として現れてしまう。そこで、
複数の発光点を有する半導体レーザを光源１とした走査
光学系の上記のような不具合点・構造的な欠点を解決す
る方法を提案したのが本案である。
向から見た図である。図２の例では線像結像光学系３と
偏向器４との間にミラー９を配し、レイアウトのコンパ
クト化を図っている。複数の発光点１ａ〜１ｄを有する
半導体レーザの光源１から発光した光束が正規の光路を
通って被走査媒体７の被走査面７ａを走査する状態をＬ
で示す。これに対し、モニター用のフォトダイオード３
０（図１参照）に反射した光がゴースト光となり被走査
面７ａに到達する状態を示したものがｇである。モニタ
ー用のフォトダイオード３０（図１，３参照）は上記の
ように反射光が正規の走査光近傍を通らないように傾け
て配置されているため、この例では図に示すように斜め
に走査光学系を横切り、被走査面７ａに到達する。この
ゴースト光は偏向器４により偏向されないため、絶えず
同じ位置（図２の例では被走査面７ａ上のＧ）に光が当
たり続け、微量の光であってもそのエネルギーは被走査
媒体７上に蓄積され、画像を形成しうるに充分なエネル
ギー量となり、異常画像として現れてしまう。そこで、
複数の発光点を有する半導体レーザを光源１とした走査
光学系の上記のような不具合点・構造的な欠点を解決す
る方法を提案したのが本案である。
【００３１】複数の発光点を有する半導体レーザの光源
１における光出力モニター用のフォトダイオード３０の
傾け角度から、拡散光（ゴースト光ｇ）の発出する方向
は一義的に決定されるので、ゴースト光ｇの光路は容易
に予測可能であり、ゴースト光ｇが被走査面７ａの画像
領域に到らないような光学配置の導出は可能であり、そ
のような設計を行うことにより異常画像の発生を防ぐこ
とができる。また、ゴースト光ｇの光路は予測できるこ
とから、偏向器４のカバーを遮光部材の代わりとするよ
うな配置位置の導出も可能となる。
１における光出力モニター用のフォトダイオード３０の
傾け角度から、拡散光（ゴースト光ｇ）の発出する方向
は一義的に決定されるので、ゴースト光ｇの光路は容易
に予測可能であり、ゴースト光ｇが被走査面７ａの画像
領域に到らないような光学配置の導出は可能であり、そ
のような設計を行うことにより異常画像の発生を防ぐこ
とができる。また、ゴースト光ｇの光路は予測できるこ
とから、偏向器４のカバーを遮光部材の代わりとするよ
うな配置位置の導出も可能となる。
【００３２】図４は本発明の一実施形態に係わる複数ビ
ーム走査装置の偏向器の配置を示す図である。例えば、
図２の例のような場合では図４のように偏向器を配置す
れば、走査光束Ｌを遮ることなく、ゴースト光ｇのみ除
去することができる。更に、偏向器のカバー４１には反
射防止塗装または表面を荒らす等の反射防止加工を施
し、二次的な拡散光・反射光（ゴースト光）の発生を抑
える手段を講じておけば、偏向器カバー４１からの拡散
光による更なるゴースト光の発生要因となることを防止
することができる。
ーム走査装置の偏向器の配置を示す図である。例えば、
図２の例のような場合では図４のように偏向器を配置す
れば、走査光束Ｌを遮ることなく、ゴースト光ｇのみ除
去することができる。更に、偏向器のカバー４１には反
射防止塗装または表面を荒らす等の反射防止加工を施
し、二次的な拡散光・反射光（ゴースト光）の発生を抑
える手段を講じておけば、偏向器カバー４１からの拡散
光による更なるゴースト光の発生要因となることを防止
することができる。
【００３３】また、二次的な拡散光・反射光（ゴースト
光）の発生を抑える手段として、反射防止塗装または表
面を荒らす等の反射防止加工を施したプレート等の別部
材である低反射率体を偏向器カバー４１に貼り付けるよ
うにしてもよく、羅紗紙等の反射防止部材を取り付ける
ようにしてもよい。
光）の発生を抑える手段として、反射防止塗装または表
面を荒らす等の反射防止加工を施したプレート等の別部
材である低反射率体を偏向器カバー４１に貼り付けるよ
うにしてもよく、羅紗紙等の反射防止部材を取り付ける
ようにしてもよい。
【００３４】また、偏向器のカバー４１の角度を、偏向
器のカバー４１で反射した光束が被走査面７ａに到達し
ないように、例えば図５の如く設定することによっても
更なるゴースト光の発生を防止することができる。
器のカバー４１で反射した光束が被走査面７ａに到達し
ないように、例えば図５の如く設定することによっても
更なるゴースト光の発生を防止することができる。
【００３５】図５は、本発明の変形例に係わる偏向器カ
バーの一例を示す図である。例えば、図５に示すよう
に、遮光部材としての偏向器カバー４１に副走査方向の
角度を持たせ、遮光部材が仰角または俯角を有するよう
に設置すれば、仮に偏向器カバー４１で反射しても反射
光は被走査媒体７の画像領域から副走査方向外側に逃す
ことができる。
バーの一例を示す図である。例えば、図５に示すよう
に、遮光部材としての偏向器カバー４１に副走査方向の
角度を持たせ、遮光部材が仰角または俯角を有するよう
に設置すれば、仮に偏向器カバー４１で反射しても反射
光は被走査媒体７の画像領域から副走査方向外側に逃す
ことができる。
【００３６】また主走査方向についても、偏向器カバー
４１において、拡散光が当たる部分及びその近傍の面の
構成・形状を拡散光の反射する方向が被走査面７ａに光
が行かない方向、即ち被走査媒体７の画像領域から主走
査方向外側になるようにすれば、正規の走査光束を遮る
ことなく、更に効果的に確実に拡散光（ゴースト光）を
遮光でき望ましい。
４１において、拡散光が当たる部分及びその近傍の面の
構成・形状を拡散光の反射する方向が被走査面７ａに光
が行かない方向、即ち被走査媒体７の画像領域から主走
査方向外側になるようにすれば、正規の走査光束を遮る
ことなく、更に効果的に確実に拡散光（ゴースト光）を
遮光でき望ましい。
【００３７】さらに、偏向器カバー４１による画像領域
から外れた拡散光の到達する部分に、例えば、上記反射
防止処理、反射防止手段を設けておけば拡散光の悪影響
をより完全に防止することができる。なお、本発明は上
記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の
骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することがで
きる。
から外れた拡散光の到達する部分に、例えば、上記反射
防止処理、反射防止手段を設けておけば拡散光の悪影響
をより完全に防止することができる。なお、本発明は上
記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の
骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することがで
きる。
【００３８】
【発明の効果】以上、説明したように、請求項１の複数
ビーム走査装置によれば、半導体レーザのレーザチップ
ケースのレーザ窓を通過した拡散光が被走査面に行かな
いようにすることが出来、異常画像の発生を未然に防ぐ
ことができる。
ビーム走査装置によれば、半導体レーザのレーザチップ
ケースのレーザ窓を通過した拡散光が被走査面に行かな
いようにすることが出来、異常画像の発生を未然に防ぐ
ことができる。
【００３９】また、請求項２の複数ビーム走査装置によ
れば、レーザ窓を通過した拡散光が偏向器のカバーに向
かい、偏向器のカバーが遮光を行うため、走査光束を遮
ることなく拡散光が被走査面に行かないようにすること
が出来、異常画像の発生を未然に防ぐことができる。
れば、レーザ窓を通過した拡散光が偏向器のカバーに向
かい、偏向器のカバーが遮光を行うため、走査光束を遮
ることなく拡散光が被走査面に行かないようにすること
が出来、異常画像の発生を未然に防ぐことができる。
【００４０】また、請求項３の複数ビーム走査装置によ
れば、請求項２の効果に加えて、偏向器のカバーからの
二次反射光を反射防止塗装または反射防止加工により低
減でき、二次反射光がゴースト光の新たな発生要因とな
ることを未然に防ぐことができる。
れば、請求項２の効果に加えて、偏向器のカバーからの
二次反射光を反射防止塗装または反射防止加工により低
減でき、二次反射光がゴースト光の新たな発生要因とな
ることを未然に防ぐことができる。
【００４１】また、請求項４の複数ビーム走査装置によ
れば、請求項２の効果に加えて、偏向器のカバーからの
二次反射光を低反射率体により低減でき、二次反射光が
ゴースト光の新たな発生要因となることを未然に防ぐこ
とができる。
れば、請求項２の効果に加えて、偏向器のカバーからの
二次反射光を低反射率体により低減でき、二次反射光が
ゴースト光の新たな発生要因となることを未然に防ぐこ
とができる。
【００４２】また、請求項５の複数ビーム走査装置によ
れば、請求項２の効果に加えて、偏向器のカバー面での
反射により発生する拡散光が主走査方向の画像領域外側
に向かうので、偏向器のカバー面での反射による異常画
像の発生を未然に防ぐことができる。
れば、請求項２の効果に加えて、偏向器のカバー面での
反射により発生する拡散光が主走査方向の画像領域外側
に向かうので、偏向器のカバー面での反射による異常画
像の発生を未然に防ぐことができる。
【００４３】また、請求項６の複数ビーム走査装置によ
れば、請求項２の効果に加えて、偏向器のカバー面での
反射により発生する拡散光が副走査方向の画像領域外側
に向かうので、偏向器のカバー面での反射による異常画
像の発生を未然に防ぐことができる。
れば、請求項２の効果に加えて、偏向器のカバー面での
反射により発生する拡散光が副走査方向の画像領域外側
に向かうので、偏向器のカバー面での反射による異常画
像の発生を未然に防ぐことができる。
【図１】走査光学系の一例の全体構成を説明するための
図である。
図である。
【図２】図１に示した走査光学系を主走査方向から見た
図である。
図である。
【図３】複数の発光点を有する光源１を半導体レーザパ
ッケージに展開した場合の模式図である。
ッケージに展開した場合の模式図である。
【図４】本発明の一実施形態に係わる複数ビーム走査装
置の偏向器の配置を示す図である。
置の偏向器の配置を示す図である。
【図５】本発明の変形例に係わる偏向器カバーの一例を
示す図である。
示す図である。
１ａ〜１ｄ 発光点（発光部） １ 光源 ＦＢ１〜ＦＢ４ 光束 ４ 偏向器 ７ａ 被走査面 １Ｂ レーザ窓 １Ａ レーザチップケース ｇ ゴースト光（拡散光） ４１ 偏向器のカバー
Claims (6)
- 【請求項１】 複数の発光部を有する光源部からの発散
光束を偏向器の偏向面近傍に略線状に結像し、その偏向
器により偏向された光束を被走査面上に光スポットとし
て結像する複数ビーム走査装置であって、 前記光源部は半導体レーザであり、該半導体レーザはレ
ーザ窓を有するレーザチップケース内に収納された半導
体レーザチップから構成され、その半導体レーザチップ
の裏面から発出された光がレーザチップケース内で拡散
され、前記レーザ窓を通過した拡散光が前記被走査面の
画像領域を除く部分に到達するように、拡散光の射出方
向を設定したことを特徴とする複数ビーム走査装置。 - 【請求項２】 前記レーザ窓を通過した拡散光の射出方
向を偏向器のカバーの方向になるように設定したことを
特徴とする請求項１に記載の複数ビーム走査装置。 - 【請求項３】 前記カバーは、反射防止塗装または反射
防止加工が施されていることを特徴とする請求項２に記
載の複数ビーム走査装置。 - 【請求項４】 前記カバーは、光源部からの拡散光が照
射される部分を含む部分に低反射率体が取り付けられて
いることを特徴とする請求項２に記載の複数ビーム走査
装置。 - 【請求項５】 前記カバーは、前記拡散光の前記カバー
による反射方向が主走査方向の画像領域外側に到達する
ように配置されていることを特徴とする請求項２に記載
の複数ビーム走査装置。 - 【請求項６】 前記カバーは、前記拡散光の前記カバー
による反射方向が副走査方向の画像領域外側に到達する
ように反射面に角度が付けられていることを特徴とする
請求項２に記載の複数ビーム走査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24321599A JP3875813B2 (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | 複数ビーム走査装置及び画像形成装置 |
| US09/550,412 US6381057B1 (en) | 1999-08-30 | 2000-04-17 | Multi-beam scanning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24321599A JP3875813B2 (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | 複数ビーム走査装置及び画像形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001066525A true JP2001066525A (ja) | 2001-03-16 |
| JP3875813B2 JP3875813B2 (ja) | 2007-01-31 |
Family
ID=17100549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24321599A Expired - Fee Related JP3875813B2 (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | 複数ビーム走査装置及び画像形成装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6381057B1 (ja) |
| JP (1) | JP3875813B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012058481A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 照明装置、投射装置および投射型映像表示装置 |
| US8705157B2 (en) | 2011-06-02 | 2014-04-22 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical scanning device |
Families Citing this family (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3503929B2 (ja) | 1999-06-09 | 2004-03-08 | 株式会社リコー | 光走査用レンズおよび光走査装置および画像形成装置 |
| JP3504899B2 (ja) | 1999-11-29 | 2004-03-08 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
| JP3492971B2 (ja) | 2000-03-22 | 2004-02-03 | 株式会社リコー | 光走査装置・走査光学系・走査結像光学素子・光走査方法・ゴースト像防止方法・画像形成装置 |
| JP3463294B2 (ja) * | 2000-03-27 | 2003-11-05 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
| US7006271B2 (en) | 2000-04-13 | 2006-02-28 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device and image forming apparatus |
| US7050080B2 (en) * | 2000-06-05 | 2006-05-23 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus for controlling image writing by adjusting image clock |
| JP4113320B2 (ja) | 2000-06-26 | 2008-07-09 | 株式会社リコー | 光学エレメントの固定構造、読み取りユニット、画像走査装置 |
| JP2002127492A (ja) | 2000-10-27 | 2002-05-08 | Ricoh Co Ltd | 光書き込みユニットおよび光書き込みユニットの検査装置 |
| JP2002202472A (ja) | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP3453737B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2003-10-06 | 株式会社リコー | 走査結像光学系・光走査装置および画像形成装置 |
| JP3483141B2 (ja) | 2001-01-19 | 2004-01-06 | 株式会社リコー | 走査結像光学系・光走査装置および画像形成装置 |
| JP2002228956A (ja) | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| US7423787B2 (en) | 2001-03-01 | 2008-09-09 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning module, device, and method, and imaging apparatus |
| US6657765B2 (en) | 2001-03-01 | 2003-12-02 | Ricoh Company, Ltd. | Optical deflecting unit, optical scanning unit, image forming apparatus, and method of producing optical unit |
| JP2002351287A (ja) | 2001-03-23 | 2002-12-06 | Ricoh Co Ltd | 作像ユニット及び画像形成装置 |
| JP2002365570A (ja) | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置における像面調整方法および線像結像光学系、光走査装置および画像形成装置 |
| JP2002365532A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Ricoh Co Ltd | 樹脂非球面光学素子・光走査装置および画像形成装置 |
| US6791596B2 (en) * | 2001-06-28 | 2004-09-14 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for image forming capable of effectively generating pixel clock pulses |
| US7206014B2 (en) | 2001-07-24 | 2007-04-17 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam pitch adjusting apparatus and image forming apparatus |
| JP4495883B2 (ja) * | 2001-07-30 | 2010-07-07 | 株式会社リコー | 走査結像光学系・光走査装置および画像形成装置 |
| US7593029B2 (en) * | 2001-08-20 | 2009-09-22 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device and image forming apparatus using the same |
| JP3824528B2 (ja) * | 2001-12-14 | 2006-09-20 | 株式会社リコー | マルチビーム走査光学系および画像形成装置 |
| KR100452852B1 (ko) * | 2002-01-09 | 2004-10-14 | 삼성전자주식회사 | 확대 광학계 및 그것을 갖는 화상형성 장치 |
| JP2004012568A (ja) * | 2002-06-04 | 2004-01-15 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光走査装置 |
| JP4229637B2 (ja) * | 2002-06-06 | 2009-02-25 | フジノン株式会社 | 光源装置および光走査装置 |
| US7450274B2 (en) * | 2003-05-07 | 2008-11-11 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus, image forming apparatus, and beam positioning method |
| JP5013652B2 (ja) * | 2003-06-13 | 2012-08-29 | キヤノン株式会社 | 走査式光学装置 |
| JP2005088352A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Canon Inc | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| US7903134B2 (en) * | 2007-02-28 | 2011-03-08 | Ricoh Company, Ltd. | Laser scanning apparatus having a photodetector having first and second light receiving units |
| JP5847205B2 (ja) * | 2011-02-25 | 2016-01-20 | トライライト テクノロジーズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＴｒｉＬｉｔｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＧｍｂＨ | 高解像度および／または３ｄ効果を得るための、可動要素を有する表示装置 |
| CN105856854A (zh) * | 2016-03-30 | 2016-08-17 | 苏州恩欧西智能科技有限公司 | 一种激光雕刻机 |
| EP3349042B1 (de) * | 2017-01-11 | 2019-05-08 | Sick Ag | Überwachungssensor und flurgebundenes fahrzeug |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5816585A (ja) * | 1982-06-09 | 1983-01-31 | Canon Inc | 半導体レ−ザ−装置 |
| JPS58111387A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-02 | Hitachi Ltd | レ−ザ−ダイオ−ド |
| JPS6039880A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-01 | Hitachi Ltd | 発光装置 |
| JPH0527189A (ja) * | 1991-07-23 | 1993-02-05 | Canon Inc | 走査光学装置 |
| JPH0645363U (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-14 | シャープ株式会社 | 半導体レーザ素子 |
| JPH06258589A (ja) * | 1993-03-02 | 1994-09-16 | Canon Inc | 走査光学装置 |
| JPH0948152A (ja) * | 1995-08-07 | 1997-02-18 | Fuji Xerox Co Ltd | マルチビームレーザ画像記録装置における光量制御装置 |
| JPH09148680A (ja) * | 1995-11-29 | 1997-06-06 | Sharp Corp | 半導体レーザ装置 |
| JPH10148781A (ja) * | 1996-11-18 | 1998-06-02 | Ricoh Co Ltd | 光ビーム走査装置 |
| JP3773676B2 (ja) * | 1998-10-30 | 2006-05-10 | 株式会社リコー | 複数ビーム走査装置及び画像形成装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01105268A (ja) * | 1986-04-05 | 1989-04-21 | Ricoh Co Ltd | 情報記録用光ビ−ムの出力安定化方法及び装置 |
| US5543611A (en) * | 1995-02-06 | 1996-08-06 | Xerox Corporation | Method and apparatus for back facet monitoring of laser diode power output |
| US5600126A (en) * | 1995-06-20 | 1997-02-04 | Xerox Corporation | Method and apparatus for controlling the power output of multiple laser diodes |
| JPH09193450A (ja) * | 1996-01-22 | 1997-07-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像記録装置 |
-
1999
- 1999-08-30 JP JP24321599A patent/JP3875813B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-17 US US09/550,412 patent/US6381057B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58111387A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-02 | Hitachi Ltd | レ−ザ−ダイオ−ド |
| JPS5816585A (ja) * | 1982-06-09 | 1983-01-31 | Canon Inc | 半導体レ−ザ−装置 |
| JPS6039880A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-01 | Hitachi Ltd | 発光装置 |
| JPH0527189A (ja) * | 1991-07-23 | 1993-02-05 | Canon Inc | 走査光学装置 |
| JPH0645363U (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-14 | シャープ株式会社 | 半導体レーザ素子 |
| JPH06258589A (ja) * | 1993-03-02 | 1994-09-16 | Canon Inc | 走査光学装置 |
| JPH0948152A (ja) * | 1995-08-07 | 1997-02-18 | Fuji Xerox Co Ltd | マルチビームレーザ画像記録装置における光量制御装置 |
| JPH09148680A (ja) * | 1995-11-29 | 1997-06-06 | Sharp Corp | 半導体レーザ装置 |
| JPH10148781A (ja) * | 1996-11-18 | 1998-06-02 | Ricoh Co Ltd | 光ビーム走査装置 |
| JP3773676B2 (ja) * | 1998-10-30 | 2006-05-10 | 株式会社リコー | 複数ビーム走査装置及び画像形成装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012058481A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 照明装置、投射装置および投射型映像表示装置 |
| US8705157B2 (en) | 2011-06-02 | 2014-04-22 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical scanning device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3875813B2 (ja) | 2007-01-31 |
| US6381057B1 (en) | 2002-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3875813B2 (ja) | 複数ビーム走査装置及び画像形成装置 | |
| US20060209372A1 (en) | Scanning device | |
| JPH0631980A (ja) | 半導体レーザアレイ記録装置 | |
| US6313935B1 (en) | Scanning optical apparatus | |
| JP3197804B2 (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JP3681120B2 (ja) | マルチビーム走査装置、光源装置 | |
| JP3773676B2 (ja) | 複数ビーム走査装置及び画像形成装置 | |
| US6597486B2 (en) | Semiconductor laser and optical system having a collimator lens | |
| JP4365939B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JPH10142541A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2995108B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JPH05273481A (ja) | 光ビーム走査装置 | |
| JP2010164772A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2966562B2 (ja) | 走査式光学装置 | |
| JP2966560B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JP2003161903A (ja) | 複数ビーム走査装置 | |
| JPH0980342A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH06347712A (ja) | マルチビーム光源装置 | |
| JP2883362B2 (ja) | 光走査装置の同期検知装置 | |
| JP2006179769A (ja) | 半導体レーザ、光源装置、走査光学装置、画像形成装置 | |
| JPH1048554A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2000258716A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH10213767A (ja) | 光学走査装置 | |
| US6980344B2 (en) | Scanning optical system | |
| JPH10239609A (ja) | 光走査装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040317 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060630 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060718 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060919 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061017 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061027 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131102 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |